JP2941152B2 - 触媒表面形状検査方法および装置 - Google Patents
触媒表面形状検査方法および装置Info
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- JP2941152B2 JP2941152B2 JP5212797A JP21279793A JP2941152B2 JP 2941152 B2 JP2941152 B2 JP 2941152B2 JP 5212797 A JP5212797 A JP 5212797A JP 21279793 A JP21279793 A JP 21279793A JP 2941152 B2 JP2941152 B2 JP 2941152B2
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/008—Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Filling Or Emptying Of Bunkers, Hoppers, And Tanks (AREA)
- Auxiliary Methods And Devices For Loading And Unloading (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、触媒表面形状検査方法
およびその装置に関し、石油化学プラント等で使用され
る反応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する際に利用され
る。
およびその装置に関し、石油化学プラント等で使用され
る反応塔の内部に顆粒状の触媒を充填する際に利用され
る。
【0002】
【背景技術】石油化学プラント等で使用される反応塔に
は、反応液の反応促進のために必要に応じて適宜な触媒
が充填使用される。触媒は、反応液との接触性を高める
ために通常は顆粒状とされ、反応塔内に所定の密度で均
一に充填される。触媒の充填にあたっては、従来、外部
のホッパから触媒を供給されるホースを反応塔の上部開
口を通して導入し、塔内の作業員が適宜ホースを操作し
て触媒を散布し、表面を均す等の作業を行っていた。し
かし、このような従来方法では、作業員が反応塔内に入
って人手による作業を行うため、作業効率が低いうえ、
作業員に踏み固められて触媒の充填密度が不均一になる
等の不都合があった。
は、反応液の反応促進のために必要に応じて適宜な触媒
が充填使用される。触媒は、反応液との接触性を高める
ために通常は顆粒状とされ、反応塔内に所定の密度で均
一に充填される。触媒の充填にあたっては、従来、外部
のホッパから触媒を供給されるホースを反応塔の上部開
口を通して導入し、塔内の作業員が適宜ホースを操作し
て触媒を散布し、表面を均す等の作業を行っていた。し
かし、このような従来方法では、作業員が反応塔内に入
って人手による作業を行うため、作業効率が低いうえ、
作業員に踏み固められて触媒の充填密度が不均一になる
等の不都合があった。
【0003】このような不都合を解消するために、本願
出願人により、回転散布式の触媒放出器を用いる充填方
法が開発されている(特公平1−22807 号公報参照)。
この充填方法では、下部の回転式放出板から触媒を回転
散布する触媒放出器を反応塔の上部開口から吊り下ろ
し、この触媒放出器の吊り下げ高さや放出板の回転速度
などを適宜制御することで、触媒が反応塔内の中心部か
ら周辺部まで多重同心円状に散布され、これにより適切
かつ均一な散布密度および表面の平坦さを容易に確保す
ることができる。
出願人により、回転散布式の触媒放出器を用いる充填方
法が開発されている(特公平1−22807 号公報参照)。
この充填方法では、下部の回転式放出板から触媒を回転
散布する触媒放出器を反応塔の上部開口から吊り下ろ
し、この触媒放出器の吊り下げ高さや放出板の回転速度
などを適宜制御することで、触媒が反応塔内の中心部か
ら周辺部まで多重同心円状に散布され、これにより適切
かつ均一な散布密度および表面の平坦さを容易に確保す
ることができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した回
転散布による触媒充填を行えば、作業員が反応塔の内部
に入ることなく適切な散布状態が容易に確保できる。し
かし、作業員が直接操作しない自動散布であることか
ら、散布された触媒の表面に緩やかな凹凸が発生するこ
ともある。そして、緩やかであっても凹凸の程度によっ
ては機能上問題となる可能性がある。このため、前述し
た回転散布の後には、触媒表面の形状を適宜検査し、凹
凸が大きいようなら再度散布を行って修正する必要があ
る。
転散布による触媒充填を行えば、作業員が反応塔の内部
に入ることなく適切な散布状態が容易に確保できる。し
かし、作業員が直接操作しない自動散布であることか
ら、散布された触媒の表面に緩やかな凹凸が発生するこ
ともある。そして、緩やかであっても凹凸の程度によっ
ては機能上問題となる可能性がある。このため、前述し
た回転散布の後には、触媒表面の形状を適宜検査し、凹
凸が大きいようなら再度散布を行って修正する必要があ
る。
【0005】しかし、触媒は多孔質の一様な顆粒状であ
り、反応塔内にテレビカメラ等を導入して画像を撮影し
ても、触媒表面の形状を確実に判別することが困難なも
のである。このために、従来は触媒の充填後に作業員が
反応塔内に入り、直接目視により検査し、必要に応じて
凹凸を均す等の作業を行っており、作業効率の向上の点
で大きな障害となっていた。
り、反応塔内にテレビカメラ等を導入して画像を撮影し
ても、触媒表面の形状を確実に判別することが困難なも
のである。このために、従来は触媒の充填後に作業員が
反応塔内に入り、直接目視により検査し、必要に応じて
凹凸を均す等の作業を行っており、作業効率の向上の点
で大きな障害となっていた。
【0006】一方、触媒の充填後に精度の高い形状検査
装置を反応塔内に導入すれば外部からの監視が可能とな
り、前述した回転散布と組み合わることで触媒充填作業
の自動化が可能であるが、設備が大型化するうえ、作業
効率の点でも問題がある。つまり、検査のためには、散
布時に反応塔内に導入した触媒放出器を一旦取り出して
から検査装置を導入し、修正が必要な場合には再度触媒
放出器を導入する等、装置の取扱いの上で問題がある。
本発明の目的は、反応塔内に充填された触媒の表面形状
を外部から確実に検査できるとともに、装置を簡略化で
きかつ作業性を向上できる触媒表面形状検査方法および
その装置を提供することにある。
装置を反応塔内に導入すれば外部からの監視が可能とな
り、前述した回転散布と組み合わることで触媒充填作業
の自動化が可能であるが、設備が大型化するうえ、作業
効率の点でも問題がある。つまり、検査のためには、散
布時に反応塔内に導入した触媒放出器を一旦取り出して
から検査装置を導入し、修正が必要な場合には再度触媒
放出器を導入する等、装置の取扱いの上で問題がある。
本発明の目的は、反応塔内に充填された触媒の表面形状
を外部から確実に検査できるとともに、装置を簡略化で
きかつ作業性を向上できる触媒表面形状検査方法および
その装置を提供することにある。
【0007】本発明は、反応塔内に吊り下げられた触媒
放出器に支持した距離センサで触媒表面を走査すること
で、当該表面形状を監視しようとするものである。すな
わち、本発明の方法は、反応塔の内部に吊り下げられて
当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器に非接触式の
距離センサを支持しておき、前記触媒放出器による触媒
散布の後、前記距離センサで前記反応塔内に散布された
触媒の表面を走査し、前記距離センサが出力する前記触
媒の表面までの距離から当該表面の形状を検査すること
を特徴とする。
放出器に支持した距離センサで触媒表面を走査すること
で、当該表面形状を監視しようとするものである。すな
わち、本発明の方法は、反応塔の内部に吊り下げられて
当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器に非接触式の
距離センサを支持しておき、前記触媒放出器による触媒
散布の後、前記距離センサで前記反応塔内に散布された
触媒の表面を走査し、前記距離センサが出力する前記触
媒の表面までの距離から当該表面の形状を検査すること
を特徴とする。
【0008】また、前記距離センサを略水平に移動させ
ながら、前記距離センサから直下の触媒表面までの距離
を測定してゆくことにより、前記走査を行うことを特徴
とする。さらに、前記触媒放出器を前記反応塔の中心に
保持するために前記触媒放出器から径方向に伸縮しかつ
先端が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先端近傍
に前記距離センサを固定しておき、前記保持手段を伸縮
させることにより前記距離センサを移動させて前記走査
を行うことを特徴とする。
ながら、前記距離センサから直下の触媒表面までの距離
を測定してゆくことにより、前記走査を行うことを特徴
とする。さらに、前記触媒放出器を前記反応塔の中心に
保持するために前記触媒放出器から径方向に伸縮しかつ
先端が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先端近傍
に前記距離センサを固定しておき、前記保持手段を伸縮
させることにより前記距離センサを移動させて前記走査
を行うことを特徴とする。
【0009】一方、本発明の装置は、反応塔の内部に吊
り下げられて当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器
に支持されて下方の触媒表面を走査可能な非接触式の距
離センサと、前記距離センサの走査を制御しかつ前記距
離センサが出力する前記触媒表面までの距離から当該表
面の形状を検査する処理手段とを備えたことを特徴とす
る。また、前記距離センサは直下の触媒表面までの距離
を測定可能であり、前記触媒放出器から径方向に伸縮し
かつ先端が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先端
近傍に支持されていることを特徴とする。
り下げられて当該反応塔内に触媒を散布する触媒放出器
に支持されて下方の触媒表面を走査可能な非接触式の距
離センサと、前記距離センサの走査を制御しかつ前記距
離センサが出力する前記触媒表面までの距離から当該表
面の形状を検査する処理手段とを備えたことを特徴とす
る。また、前記距離センサは直下の触媒表面までの距離
を測定可能であり、前記触媒放出器から径方向に伸縮し
かつ先端が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先端
近傍に支持されていることを特徴とする。
【0010】
【作 用】このような本発明においては、触媒放出器に
よる触媒散布の後、この触媒散布器に支持された距離セ
ンサで触媒表面を径方向等に走査し、走査した表面の各
部高さを順次記録して輪郭形状を計測あるいは各部高さ
を基準値と比較等することにより、当該方向に沿った触
媒表面の凹凸を検査する。これにより、反応塔内に充填
された触媒の表面形状を外部から確実に監視できるよう
になる。そして、凹凸等があって修正が必要な場合、反
応塔内に吊り下げられたままになっている触媒放出器を
再度作動させ、触媒を散布して修正を行う。
よる触媒散布の後、この触媒散布器に支持された距離セ
ンサで触媒表面を径方向等に走査し、走査した表面の各
部高さを順次記録して輪郭形状を計測あるいは各部高さ
を基準値と比較等することにより、当該方向に沿った触
媒表面の凹凸を検査する。これにより、反応塔内に充填
された触媒の表面形状を外部から確実に監視できるよう
になる。そして、凹凸等があって修正が必要な場合、反
応塔内に吊り下げられたままになっている触媒放出器を
再度作動させ、触媒を散布して修正を行う。
【0011】従って、本発明においては、作業員が反応
塔内に入って検査や修正を行う際のような煩雑さや、触
媒放出器を一旦取り出して別の形状検査装置を導入する
等の煩雑さも回避でき、作業効率の低下を回避できる。
そして、本発明では、触媒散布器に支持される距離セン
サ以外には反応塔内に特殊な機構を設ける必要がないか
ら、装置構成も簡略化できる。
塔内に入って検査や修正を行う際のような煩雑さや、触
媒放出器を一旦取り出して別の形状検査装置を導入する
等の煩雑さも回避でき、作業効率の低下を回避できる。
そして、本発明では、触媒散布器に支持される距離セン
サ以外には反応塔内に特殊な機構を設ける必要がないか
ら、装置構成も簡略化できる。
【0012】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1において、反応塔10は、内部に触媒11が充
填される有底円筒状の大型反応塔であり、その上面中央
部には開口12が設けられ、底部は基礎13に固定支持され
ている。反応塔10の上部には架台14が組まれ、この架台
14内には本発明に基づく触媒充填装置20が構成されてい
る。
明する。図1において、反応塔10は、内部に触媒11が充
填される有底円筒状の大型反応塔であり、その上面中央
部には開口12が設けられ、底部は基礎13に固定支持され
ている。反応塔10の上部には架台14が組まれ、この架台
14内には本発明に基づく触媒充填装置20が構成されてい
る。
【0013】触媒充填装置20は、反応塔10内に吊り下げ
導入されて触媒の回転散布を行う触媒放出器30と、この
触媒放出器30を吊り下げるチェン41を巻き上げて触媒放
出器30を昇降させるチェン巻き上げ機構40と、散布すべ
き触媒を供給するホッパ機構50と、このホッパ機構50か
らの触媒を触媒放出器30に供給するホース61を巻き上げ
るホース巻き上げ機構60とを備えている。また、触媒充
填装置20は、反応塔10内に充填された触媒11の表面高さ
を検出するワイヤ状のレベル計71を含む各種センサから
の出力および各種設定に基づいて全体の動作制御を行う
制御手段70を備えている。
導入されて触媒の回転散布を行う触媒放出器30と、この
触媒放出器30を吊り下げるチェン41を巻き上げて触媒放
出器30を昇降させるチェン巻き上げ機構40と、散布すべ
き触媒を供給するホッパ機構50と、このホッパ機構50か
らの触媒を触媒放出器30に供給するホース61を巻き上げ
るホース巻き上げ機構60とを備えている。また、触媒充
填装置20は、反応塔10内に充填された触媒11の表面高さ
を検出するワイヤ状のレベル計71を含む各種センサから
の出力および各種設定に基づいて全体の動作制御を行う
制御手段70を備えている。
【0014】触媒放出器30は、図2および図3に示すよ
うに、下部に回転しながら触媒を放出する放出板31を有
し、内部に放出板31を回転駆動するモータ32およびシャ
フト33を備えている。また、触媒放出器30は内部にホー
ス61から供給された触媒を放出板31まで送る触媒通路34
を有し、外周に触媒放出器30を反応塔10の中心に保持す
るための保持手段として径方向に伸びる三本の保持アー
ム35を備えている。
うに、下部に回転しながら触媒を放出する放出板31を有
し、内部に放出板31を回転駆動するモータ32およびシャ
フト33を備えている。また、触媒放出器30は内部にホー
ス61から供給された触媒を放出板31まで送る触媒通路34
を有し、外周に触媒放出器30を反応塔10の中心に保持す
るための保持手段として径方向に伸びる三本の保持アー
ム35を備えている。
【0015】放出板31は、モータ32およびシャフト33で
回転駆動され、触媒通路34から供給される触媒を異なる
多数の径方向位置で放出することで多重同心円状に散布
するものである。放出板31の具体的な構造としては、例
えば本願出願人が特願昭63−165577号に開示したよう
な、径方向長さが異なる多数の触媒通路を多層に重ねた
ものが好適である。触媒通路34は、モータ32およびシャ
フト33を避けるように中間部分を三つに分岐され、各々
は下部で再び合流されて放出板31の中央部に触媒を供給
するように構成されている。
回転駆動され、触媒通路34から供給される触媒を異なる
多数の径方向位置で放出することで多重同心円状に散布
するものである。放出板31の具体的な構造としては、例
えば本願出願人が特願昭63−165577号に開示したよう
な、径方向長さが異なる多数の触媒通路を多層に重ねた
ものが好適である。触媒通路34は、モータ32およびシャ
フト33を避けるように中間部分を三つに分岐され、各々
は下部で再び合流されて放出板31の中央部に触媒を供給
するように構成されている。
【0016】保持アーム35は、各々複数の平行リンクを
連続させたパンタグラフ式の伸縮機構であり、触媒放出
器30の外周の三箇所に等間隔で配置されている。そし
て、収縮時には触媒通路34の三本の中間部の間に形成さ
れた格納部36に格納され、かつ互いに同量づつ伸長され
て先端部が反応塔10の内面に当接することで、触媒放出
器30を反応塔10の中心位置に保持するようになってい
る。
連続させたパンタグラフ式の伸縮機構であり、触媒放出
器30の外周の三箇所に等間隔で配置されている。そし
て、収縮時には触媒通路34の三本の中間部の間に形成さ
れた格納部36に格納され、かつ互いに同量づつ伸長され
て先端部が反応塔10の内面に当接することで、触媒放出
器30を反応塔10の中心位置に保持するようになってい
る。
【0017】詳述すると、保持アーム35は、相互の中央
部を回動連結された一対の軸材80を複数並べ、各対の端
部どうし順次回動連結することで構成され、各部が順次
平行リンク状に伸縮することで全体として伸縮するよう
になっている。各保持アーム35には、それぞれ基端側の
下側端部80A から先端側の他の軸材80まで延びるエアシ
リンダ83が接続され、このエアシリンダ83は制御手段70
に接続されており、制御手段70からの指令により各々の
エアシリンダ83が伸縮することで、各保持アーム35がそ
れぞれ伸縮するようになっている。
部を回動連結された一対の軸材80を複数並べ、各対の端
部どうし順次回動連結することで構成され、各部が順次
平行リンク状に伸縮することで全体として伸縮するよう
になっている。各保持アーム35には、それぞれ基端側の
下側端部80A から先端側の他の軸材80まで延びるエアシ
リンダ83が接続され、このエアシリンダ83は制御手段70
に接続されており、制御手段70からの指令により各々の
エアシリンダ83が伸縮することで、各保持アーム35がそ
れぞれ伸縮するようになっている。
【0018】保持アーム35基端側の一方の端部80A は触
媒放出器30の下部に回動連結されている。一方、触媒放
出器30の中心には内部にシャフト33が挿通される筒状の
スライドシャフト81が設けられ、その周囲には当該スラ
イドシャフト81に沿って触媒放出器30の上部から中間部
まで移動自在なスライド部材82が設けられ、他方の端部
80B はこのスライド部材82に回動連結されている。
媒放出器30の下部に回動連結されている。一方、触媒放
出器30の中心には内部にシャフト33が挿通される筒状の
スライドシャフト81が設けられ、その周囲には当該スラ
イドシャフト81に沿って触媒放出器30の上部から中間部
まで移動自在なスライド部材82が設けられ、他方の端部
80B はこのスライド部材82に回動連結されている。
【0019】従って、各保持アーム35は、それぞれのエ
アシリンダ83によって伸縮されるが、互いの基端側上下
端部80A,80B の近接離隔が共通のスライド部材82の昇降
により規制されているため、各保持アーム35の伸縮は互
いに同期され、各保持アーム35の先端側は触媒放出器30
の中心から等距離の位置に配置される。また、保持アー
ム35は基端側の下側端部80A が触媒放出器30に回動連結
され、その真上で上側端部80B が昇降されるため、保持
アーム35は伸縮方向が水平となり、かつ伸縮時には上側
位置が変動するが下側は一定の高さに維持される。
アシリンダ83によって伸縮されるが、互いの基端側上下
端部80A,80B の近接離隔が共通のスライド部材82の昇降
により規制されているため、各保持アーム35の伸縮は互
いに同期され、各保持アーム35の先端側は触媒放出器30
の中心から等距離の位置に配置される。また、保持アー
ム35は基端側の下側端部80A が触媒放出器30に回動連結
され、その真上で上側端部80B が昇降されるため、保持
アーム35は伸縮方向が水平となり、かつ伸縮時には上側
位置が変動するが下側は一定の高さに維持される。
【0020】保持アーム35の先端側には、水平に延びる
保持アーム35に対して上下方向に伸びる棒状の先端部材
84が装着されている。先端部材84の下端には保持アーム
35先端側の下側の端部80C が回動連結され、上側の端部
80D は先端部材84の上部から下方へ変位自在かつ回動自
在に係合されており、保持アーム35が伸縮した際には先
端部材84は一定の水平高さを維持しながら触媒放出器30
から径方向に移動される。先端部材84は保持アーム35の
収縮時には、保持アーム35とともに格納部36内に収容さ
れる。
保持アーム35に対して上下方向に伸びる棒状の先端部材
84が装着されている。先端部材84の下端には保持アーム
35先端側の下側の端部80C が回動連結され、上側の端部
80D は先端部材84の上部から下方へ変位自在かつ回動自
在に係合されており、保持アーム35が伸縮した際には先
端部材84は一定の水平高さを維持しながら触媒放出器30
から径方向に移動される。先端部材84は保持アーム35の
収縮時には、保持アーム35とともに格納部36内に収容さ
れる。
【0021】先端部材84の上下端部には、それぞれ保持
アーム35の伸長時に反応塔10の内面に当接される当接部
材であるローラ85が支持されている。各ローラ85は、そ
れぞれ揺動アーム86で支持されている。ローラ85は、反
応塔10の内面と平行かつ水平な軸まわりに回転自在に支
持されており、反応塔10の内面に対して上下方向に転動
可能である。従って、先端のローラ85を介して保持アー
ム35が反応塔10の内面に当接した状態でも触媒放出器30
を昇降させることが可能である。
アーム35の伸長時に反応塔10の内面に当接される当接部
材であるローラ85が支持されている。各ローラ85は、そ
れぞれ揺動アーム86で支持されている。ローラ85は、反
応塔10の内面と平行かつ水平な軸まわりに回転自在に支
持されており、反応塔10の内面に対して上下方向に転動
可能である。従って、先端のローラ85を介して保持アー
ム35が反応塔10の内面に当接した状態でも触媒放出器30
を昇降させることが可能である。
【0022】先端部材84の上端にはリミットスイッチを
用いた当接センサ87が配置され、下端には光学式や超音
波式等の遠隔測定可能な距離センサ88が配置されてい
る。当接センサ87は、ローラ85が反応塔10の内面に当接
した際の揺動アーム86の揺動を検出するものであり、そ
の検出出力は制御手段70に接続されている。距離センサ
88は、下方に向けて光または超音波のビームを発射し、
反応塔10内に充填された触媒11の表面からの反射を検出
することで、当該表面から触媒放出器30までの距離つま
り高さを検出するものであり、その検出出力は制御手段
70に接続されている。
用いた当接センサ87が配置され、下端には光学式や超音
波式等の遠隔測定可能な距離センサ88が配置されてい
る。当接センサ87は、ローラ85が反応塔10の内面に当接
した際の揺動アーム86の揺動を検出するものであり、そ
の検出出力は制御手段70に接続されている。距離センサ
88は、下方に向けて光または超音波のビームを発射し、
反応塔10内に充填された触媒11の表面からの反射を検出
することで、当該表面から触媒放出器30までの距離つま
り高さを検出するものであり、その検出出力は制御手段
70に接続されている。
【0023】制御手段70は、図4に示すように、基本的
な散布動作制御を行う散布制御部72と、その伸縮指令お
よび当接センサ87の出力に基づいて保持アーム35の伸縮
を制御する伸縮制御部73と、距離センサ88が出力する距
離および保持アーム35の伸縮位置から反応塔10内の触媒
11の表面形状を計測する表面形状計測部74とを備えてい
る。
な散布動作制御を行う散布制御部72と、その伸縮指令お
よび当接センサ87の出力に基づいて保持アーム35の伸縮
を制御する伸縮制御部73と、距離センサ88が出力する距
離および保持アーム35の伸縮位置から反応塔10内の触媒
11の表面形状を計測する表面形状計測部74とを備えてい
る。
【0024】散布制御部72は、予め設定されたパラメー
タおよび動作プログラムにより動作し、散布の際に伸縮
制御部73へ保持アーム35の伸縮を指令するとともに、前
述したレベル計71からの触媒11の表面高さに応じて巻き
上げ機構40を制御し、触媒放出器30の高さを調整して触
媒の散布高さを制御し、さらに触媒放出器30のモータ32
を制御し、放出板31の回転数を調整して触媒の散布範囲
を制御するように構成されている。なお、散布制御部72
は、ホース巻き上げ機構60によるホース61の巻き出し、
巻き上げ状態や、ホッパ機構50からの触媒供給状態など
を含む全体的な制御を行う機能を含むものとされてい
る。
タおよび動作プログラムにより動作し、散布の際に伸縮
制御部73へ保持アーム35の伸縮を指令するとともに、前
述したレベル計71からの触媒11の表面高さに応じて巻き
上げ機構40を制御し、触媒放出器30の高さを調整して触
媒の散布高さを制御し、さらに触媒放出器30のモータ32
を制御し、放出板31の回転数を調整して触媒の散布範囲
を制御するように構成されている。なお、散布制御部72
は、ホース巻き上げ機構60によるホース61の巻き出し、
巻き上げ状態や、ホッパ機構50からの触媒供給状態など
を含む全体的な制御を行う機能を含むものとされてい
る。
【0025】伸縮制御部73は、散布制御部72からの伸縮
指令に基づいてエアシリンダ83を制御して保持アーム35
を伸縮させるものであり、伸長動作時には当接センサ87
から当接が検出されるまで伸長を継続することで、反応
塔10の内面に対する保持アーム35の先端の当接を確実に
行えるようになっている。
指令に基づいてエアシリンダ83を制御して保持アーム35
を伸縮させるものであり、伸長動作時には当接センサ87
から当接が検出されるまで伸長を継続することで、反応
塔10の内面に対する保持アーム35の先端の当接を確実に
行えるようになっている。
【0026】表面形状計測部74は、伸縮制御部73から得
られる保持アーム35の伸縮量から距離センサ88の反応塔
10内における径方向位置を得るとともに、各位置におい
て距離センサ88が測定した距離を記録してゆくことによ
り、反応塔10内に散布された触媒11の表面高さを径方向
に走査し、触媒11表面の径方向の輪郭形状を計測するも
のである(図5参照)。表面形状計測部74は計測した表
面形状を図示しない操作コンソールに表示し、この表示
から作業員が触媒11の表面の平坦度を判定し、凹凸が大
きいと判断した際には散布制御部72に再度散布を指令す
る。または、表面形状計測部74において所定量以上の高
さ変動がある場合に平坦でないと判定し、自動的に散布
制御部72に再度散布を指令するようにしてもよい。本実
施例においては、前述した保持アーム35に支持された距
離センサ88、および制御手段70により、触媒表面形状検
査装置が構成されている。
られる保持アーム35の伸縮量から距離センサ88の反応塔
10内における径方向位置を得るとともに、各位置におい
て距離センサ88が測定した距離を記録してゆくことによ
り、反応塔10内に散布された触媒11の表面高さを径方向
に走査し、触媒11表面の径方向の輪郭形状を計測するも
のである(図5参照)。表面形状計測部74は計測した表
面形状を図示しない操作コンソールに表示し、この表示
から作業員が触媒11の表面の平坦度を判定し、凹凸が大
きいと判断した際には散布制御部72に再度散布を指令す
る。または、表面形状計測部74において所定量以上の高
さ変動がある場合に平坦でないと判定し、自動的に散布
制御部72に再度散布を指令するようにしてもよい。本実
施例においては、前述した保持アーム35に支持された距
離センサ88、および制御手段70により、触媒表面形状検
査装置が構成されている。
【0027】このような本実施例においては、次のよう
な手順で反応塔10内に触媒の散布を行う。先ず、架台14
に設置されたチェン巻き上げ機構40からのチェン41で触
媒放出器30を反応塔10の上部開口12の上方に吊るし、こ
の状態でホース巻き上げ機構60から引き出したホース61
を触媒放出器30の触媒通路34上端に接続する。この際、
触媒放出器30は保持アーム35が格納部36内に格納された
状態としておく。次に、制御手段70の指令によりチェン
巻き上げ機構40を作動させ、チェン41を延ばして触媒放
出器30を下降させ、上部開口12から反応塔10内に導入す
る。
な手順で反応塔10内に触媒の散布を行う。先ず、架台14
に設置されたチェン巻き上げ機構40からのチェン41で触
媒放出器30を反応塔10の上部開口12の上方に吊るし、こ
の状態でホース巻き上げ機構60から引き出したホース61
を触媒放出器30の触媒通路34上端に接続する。この際、
触媒放出器30は保持アーム35が格納部36内に格納された
状態としておく。次に、制御手段70の指令によりチェン
巻き上げ機構40を作動させ、チェン41を延ばして触媒放
出器30を下降させ、上部開口12から反応塔10内に導入す
る。
【0028】触媒放出器30が反応塔10内の底部近傍に達
したら、制御手段70の指令によりエアシリンダ83を作動
させて三本の保持アーム35を同時に伸長させる。保持ア
ーム35が伸長して先端のローラ85が反応塔10の内面に当
接すると、当接センサ87が作動する。この作動により、
制御手段70はエアシリンダ83を停止させる。これによ
り、各方向の保持アーム35が同じ長さで反応塔10の内面
に当接した状態となり、触媒放出器30は反応塔10の中央
に保持される。
したら、制御手段70の指令によりエアシリンダ83を作動
させて三本の保持アーム35を同時に伸長させる。保持ア
ーム35が伸長して先端のローラ85が反応塔10の内面に当
接すると、当接センサ87が作動する。この作動により、
制御手段70はエアシリンダ83を停止させる。これによ
り、各方向の保持アーム35が同じ長さで反応塔10の内面
に当接した状態となり、触媒放出器30は反応塔10の中央
に保持される。
【0029】触媒放出器30が反応塔10の中央に保持され
たら、制御手段70はモータ32を作動させ、シャフト33を
介して放出板31を所定回転数で回転される。放出板31に
は、触媒通路34およびホース61を介してホッパ機構50か
ら触媒が供給され、この触媒は回転する放出板31から多
重同心円状に散布される。この際、触媒放出器30の中心
位置は保持アーム35により反応塔10の中心位置に維持さ
れており、触媒散布範囲の中心は反応塔10も中心に一致
される。従って、制御手段70により触媒放出器30の高
さ、放出板31の回転速度、触媒の放出量を適宜調整し、
触媒散布範囲の最外周が反応塔10の内面位置に略一致す
るように制御すれば、反応塔10内に充填される触媒11の
密度が均一かつ表面が平坦なものになる。
たら、制御手段70はモータ32を作動させ、シャフト33を
介して放出板31を所定回転数で回転される。放出板31に
は、触媒通路34およびホース61を介してホッパ機構50か
ら触媒が供給され、この触媒は回転する放出板31から多
重同心円状に散布される。この際、触媒放出器30の中心
位置は保持アーム35により反応塔10の中心位置に維持さ
れており、触媒散布範囲の中心は反応塔10も中心に一致
される。従って、制御手段70により触媒放出器30の高
さ、放出板31の回転速度、触媒の放出量を適宜調整し、
触媒散布範囲の最外周が反応塔10の内面位置に略一致す
るように制御すれば、反応塔10内に充填される触媒11の
密度が均一かつ表面が平坦なものになる。
【0030】触媒散布に伴って、反応塔10内の触媒11の
表面位置が上昇する。制御手段70は、チェン巻き上げ機
構40のチェン41巻き出し長さから触媒放出器30の高さを
算出し、レベル計71による反応塔10内の触媒11の表面高
さを検出し、各々から触媒11の表面から触媒放出器30ま
での相対高さを算出する。この相対高さが所定高さ範囲
を超えた場合、制御手段70は、チェン巻き上げ機構40を
作動させて触媒放出器30を所定量上昇させ、触媒11の表
面から触媒放出器30までの相対高さが所定範囲内に収ま
るように調整する。この際、保持アーム35はローラ85が
反応塔10の内面に転動するため、触媒放出器30を保持し
たままでも触媒放出器30の上昇を妨げることはない。
表面位置が上昇する。制御手段70は、チェン巻き上げ機
構40のチェン41巻き出し長さから触媒放出器30の高さを
算出し、レベル計71による反応塔10内の触媒11の表面高
さを検出し、各々から触媒11の表面から触媒放出器30ま
での相対高さを算出する。この相対高さが所定高さ範囲
を超えた場合、制御手段70は、チェン巻き上げ機構40を
作動させて触媒放出器30を所定量上昇させ、触媒11の表
面から触媒放出器30までの相対高さが所定範囲内に収ま
るように調整する。この際、保持アーム35はローラ85が
反応塔10の内面に転動するため、触媒放出器30を保持し
たままでも触媒放出器30の上昇を妨げることはない。
【0031】前述した触媒散布および触媒放出器30の上
昇を繰り返し、触媒放出器30が反応塔10内の所定の高さ
に達したら、反応塔10内に充分な量の触媒11が充填され
たことになるので、制御手段70は、触媒放出器30による
触媒散布を停止させ、保持アーム35を収縮させて格納す
る。制御手段70は、保持アーム35を収縮させる間に、そ
の先端下部の距離センサ88で触媒11の表面までの距離を
測定し、触媒11の表面に対して径方向の走査を行うこと
で当該表面の平坦度を検査する。この検査の結果、表面
に凹凸等がある場合、再び保持アーム35を伸長させて触
媒放出器30による触媒散布を行う。この際、凹部分の径
方向位置に多量の触媒が落下するように触媒放出器30の
散布状態を適宜調整する。
昇を繰り返し、触媒放出器30が反応塔10内の所定の高さ
に達したら、反応塔10内に充分な量の触媒11が充填され
たことになるので、制御手段70は、触媒放出器30による
触媒散布を停止させ、保持アーム35を収縮させて格納す
る。制御手段70は、保持アーム35を収縮させる間に、そ
の先端下部の距離センサ88で触媒11の表面までの距離を
測定し、触媒11の表面に対して径方向の走査を行うこと
で当該表面の平坦度を検査する。この検査の結果、表面
に凹凸等がある場合、再び保持アーム35を伸長させて触
媒放出器30による触媒散布を行う。この際、凹部分の径
方向位置に多量の触媒が落下するように触媒放出器30の
散布状態を適宜調整する。
【0032】このような本実施例によれば、次に示すよ
うな効果がある。すなわち、保持手段として周方向に均
等配置された三本の保持アーム35を設けたので、触媒放
出器30の中心を反応塔10の中心に一致させることができ
る。このため、制御手段70の制御により触媒放出器30か
ら多重同心円状に散布される触媒の散布領域を反応塔10
内部形状に対応させておけば、各々の中心を保持アーム
35によって確実に一致させることができ、反応塔10底面
側に一様な状態で触媒を散布ないし充填させることがで
きる。
うな効果がある。すなわち、保持手段として周方向に均
等配置された三本の保持アーム35を設けたので、触媒放
出器30の中心を反応塔10の中心に一致させることができ
る。このため、制御手段70の制御により触媒放出器30か
ら多重同心円状に散布される触媒の散布領域を反応塔10
内部形状に対応させておけば、各々の中心を保持アーム
35によって確実に一致させることができ、反応塔10底面
側に一様な状態で触媒を散布ないし充填させることがで
きる。
【0033】つまり、触媒放出器30からの触媒の散布領
域形状が反応塔10内部形状に対応していても、触媒放出
器30が偏りを生じて反応塔10の中心からずれた場合に
は、反応塔10の一側内面近傍に多量の触媒が堆積し、反
対側内面近傍には触媒が不足する等の不都合が生じる可
能性があるが、本実施例では触媒放出器30は保持アーム
35により常に反応塔10の中心に保持されるため、このよ
うな不都合は確実に回避される。
域形状が反応塔10内部形状に対応していても、触媒放出
器30が偏りを生じて反応塔10の中心からずれた場合に
は、反応塔10の一側内面近傍に多量の触媒が堆積し、反
対側内面近傍には触媒が不足する等の不都合が生じる可
能性があるが、本実施例では触媒放出器30は保持アーム
35により常に反応塔10の中心に保持されるため、このよ
うな不都合は確実に回避される。
【0034】さらに、保持アーム35の先端に上下方向に
延びる先端部材84を設け、その上下端部のローラ85の二
点で反応塔10の内面に当接するようにしたため、各保持
アーム35は当接に伴って触媒放出器30の姿勢を垂直に保
持するように働き、その軸線方向を反応塔10の中心軸に
一致させることができる。このため、触媒放出器30の軸
線の傾きによる触媒散布状態の不均一をも未然に解消す
ることができ、前述した触媒散布の正確さを一層高める
ことができる。
延びる先端部材84を設け、その上下端部のローラ85の二
点で反応塔10の内面に当接するようにしたため、各保持
アーム35は当接に伴って触媒放出器30の姿勢を垂直に保
持するように働き、その軸線方向を反応塔10の中心軸に
一致させることができる。このため、触媒放出器30の軸
線の傾きによる触媒散布状態の不均一をも未然に解消す
ることができ、前述した触媒散布の正確さを一層高める
ことができる。
【0035】また、保持アーム35は触媒放出器30に一体
化され、かつ内部に格納可能であるため、触媒充填にあ
たっての設置作業が容易に行えるとともに、反応塔10内
に導入する際には格納状態とすることで触媒放出器30が
通過可能な開口があればどのような反応塔10にでも確実
に適用することができる。
化され、かつ内部に格納可能であるため、触媒充填にあ
たっての設置作業が容易に行えるとともに、反応塔10内
に導入する際には格納状態とすることで触媒放出器30が
通過可能な開口があればどのような反応塔10にでも確実
に適用することができる。
【0036】さらに、三本の保持アーム35は、同じエア
シリンダ83およびスライド部材82で一括駆動するように
したため、各々の動作を同期させて互いの伸縮量を等し
くすることができる。このため、各保持アーム35を伸長
させ、各々の先端を反応塔10の内面に当接させれば、そ
の状態は各保持アーム35の長さが等しく、つまり触媒放
出器30が反応塔10の中心に位置されていることになる。
従って、触媒放出器30の反応塔10中央への保持は制御が
容易かつ動作を確実に行うことができる。
シリンダ83およびスライド部材82で一括駆動するように
したため、各々の動作を同期させて互いの伸縮量を等し
くすることができる。このため、各保持アーム35を伸長
させ、各々の先端を反応塔10の内面に当接させれば、そ
の状態は各保持アーム35の長さが等しく、つまり触媒放
出器30が反応塔10の中心に位置されていることになる。
従って、触媒放出器30の反応塔10中央への保持は制御が
容易かつ動作を確実に行うことができる。
【0037】そして、保持アーム35の先端には当接部材
としてのローラ85を設け、その反応塔10への当接を当接
スイッチ87で検出するようにしたため、触媒放出器30を
反応塔10中央に保持するために保持アーム35を伸長させ
る場合、伸長長さ等を考慮することなく、当接スイッチ
87の作動があるまで伸長動作を続ければよいから、当該
動作の制御を容易にできる。また、反応塔10に当接する
までは伸長動作が継続されるため、伸長不足により触媒
放出器30の反応塔10中央保持が不十分になるといった不
都合を未然に回避することができる。
としてのローラ85を設け、その反応塔10への当接を当接
スイッチ87で検出するようにしたため、触媒放出器30を
反応塔10中央に保持するために保持アーム35を伸長させ
る場合、伸長長さ等を考慮することなく、当接スイッチ
87の作動があるまで伸長動作を続ければよいから、当該
動作の制御を容易にできる。また、反応塔10に当接する
までは伸長動作が継続されるため、伸長不足により触媒
放出器30の反応塔10中央保持が不十分になるといった不
都合を未然に回避することができる。
【0038】さらに、保持アーム35の先端のローラ85
は、反応塔10内面に上下方向に転動自在であるため、触
媒表面の上昇に伴って触媒放出器30を上昇させる場合で
も保持アーム35を解除する必要はなく、中央保持を行っ
た状態のまま上昇を行うことができる。このため、保持
アーム35の伸縮等の余計な作業が必要なく、散布作業の
中断による効率低下を未然に回避することができる。
は、反応塔10内面に上下方向に転動自在であるため、触
媒表面の上昇に伴って触媒放出器30を上昇させる場合で
も保持アーム35を解除する必要はなく、中央保持を行っ
た状態のまま上昇を行うことができる。このため、保持
アーム35の伸縮等の余計な作業が必要なく、散布作業の
中断による効率低下を未然に回避することができる。
【0039】一方、本実施例では、触媒放出器30の保持
アーム35先端に設けた距離センサ88で反応塔10内の触媒
11の表面を走査し、制御手段70において触媒11の表面形
状を計測するようにしたため、触媒11の表面の平坦度あ
るいは凹凸等の検査を簡単に行うことができる。このた
め、従来のように散布結果の検査のために作業員が反応
塔10内に入る必要がなく、かつ別途の監視装置等を反応
塔10内に導入する必要性も解消でき、散布後の検査の際
の作業性を向上できるとともに、検査のための装置構成
を簡略化することができる。
アーム35先端に設けた距離センサ88で反応塔10内の触媒
11の表面を走査し、制御手段70において触媒11の表面形
状を計測するようにしたため、触媒11の表面の平坦度あ
るいは凹凸等の検査を簡単に行うことができる。このた
め、従来のように散布結果の検査のために作業員が反応
塔10内に入る必要がなく、かつ別途の監視装置等を反応
塔10内に導入する必要性も解消でき、散布後の検査の際
の作業性を向上できるとともに、検査のための装置構成
を簡略化することができる。
【0040】そして、散布に用いた触媒放出器30を反応
塔10内に導入したままの状態で検査が行えるため、表面
形状の検査に続いてすぐに凹凸等を修正するための追加
散布を行うことができ、更に効率を向上することができ
とともに、良好な散布結果を確実にえることができる。
塔10内に導入したままの状態で検査が行えるため、表面
形状の検査に続いてすぐに凹凸等を修正するための追加
散布を行うことができ、更に効率を向上することができ
とともに、良好な散布結果を確実にえることができる。
【0041】また、本実施例では、距離センサ88を径方
向に伸縮する保持アーム35の先端に設けたため、保持ア
ーム35の伸縮に伴って走査を行うことができ、距離セン
サ88の走査を行わせるために別途の移動機構等を設ける
必要がなく、装置構成を更に簡略化することができる。
向に伸縮する保持アーム35の先端に設けたため、保持ア
ーム35の伸縮に伴って走査を行うことができ、距離セン
サ88の走査を行わせるために別途の移動機構等を設ける
必要がなく、装置構成を更に簡略化することができる。
【0042】そして、保持アーム35の伸縮方向は径方向
であるため、距離センサ88は触媒11の表面を径方向に走
査することになる。ここで、反応塔10内に散布された触
媒11は、散布が多重同心円状であることから、周方向に
連続した凹凸を生じることが多い。このため、前述のよ
うな径方向の走査を行うことで、触媒11の表面の周方向
に連続した凹凸に対する計測性能が最適となり、表面平
坦度を効率よく確実に検査することができる。
であるため、距離センサ88は触媒11の表面を径方向に走
査することになる。ここで、反応塔10内に散布された触
媒11は、散布が多重同心円状であることから、周方向に
連続した凹凸を生じることが多い。このため、前述のよ
うな径方向の走査を行うことで、触媒11の表面の周方向
に連続した凹凸に対する計測性能が最適となり、表面平
坦度を効率よく確実に検査することができる。
【0043】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、以下に示すような変形等も本発明に含まれ
るものである。すなわち、前記実施例では三本の各保持
アーム35のそれぞれに距離センサ88を設けるにではな
く、何れかのセンタのみに設けるようにしてもよい。た
だし、全ての保持アーム35に設けることで、検査範囲を
拡張することができ、検査結果を良好なものにできる。
また、距離センサ88としては、超音波あるいは赤外線等
を用いるセンサやレーザビーム等を用いるもの等、既存
の距離センサを適宜用いればよい。
のではなく、以下に示すような変形等も本発明に含まれ
るものである。すなわち、前記実施例では三本の各保持
アーム35のそれぞれに距離センサ88を設けるにではな
く、何れかのセンタのみに設けるようにしてもよい。た
だし、全ての保持アーム35に設けることで、検査範囲を
拡張することができ、検査結果を良好なものにできる。
また、距離センサ88としては、超音波あるいは赤外線等
を用いるセンサやレーザビーム等を用いるもの等、既存
の距離センサを適宜用いればよい。
【0044】そして、距離センサ88は、保持アーム35の
先端下部に設置されてその伸縮に伴って触媒11表面を走
査するものに限らず、他の方式であってもよい。例え
ば、伸縮する保持アーム35の先端下側と触媒放出器30の
下部に張られるワイヤ等に吊るされて当該ワイヤに沿っ
て移動するようにしてもよい。また、保持アーム35が伸
縮せず、触媒放出器30の側面から起立して水平方向に配
置される方式等である場合、距離センサ88をこの保持ア
ーム35の下側に沿って移動させてもよい。
先端下部に設置されてその伸縮に伴って触媒11表面を走
査するものに限らず、他の方式であってもよい。例え
ば、伸縮する保持アーム35の先端下側と触媒放出器30の
下部に張られるワイヤ等に吊るされて当該ワイヤに沿っ
て移動するようにしてもよい。また、保持アーム35が伸
縮せず、触媒放出器30の側面から起立して水平方向に配
置される方式等である場合、距離センサ88をこの保持ア
ーム35の下側に沿って移動させてもよい。
【0045】さらに、距離センサ88は保持アーム35以外
の支持機構等を用いて別個に支持してもよく、このよう
にすれば任意の方向の走査を自由に設定することができ
る。ただし、前記実施例のように構成すれば、保持アー
ム35を利用することで支持機構を簡略化でき、かつその
伸縮を利用することで走査のための移動機構をも省略で
き、触媒表面を検査するための装置構成を簡略にでき
る。
の支持機構等を用いて別個に支持してもよく、このよう
にすれば任意の方向の走査を自由に設定することができ
る。ただし、前記実施例のように構成すれば、保持アー
ム35を利用することで支持機構を簡略化でき、かつその
伸縮を利用することで走査のための移動機構をも省略で
き、触媒表面を検査するための装置構成を簡略にでき
る。
【0046】また、距離センサ88の走査にあたっては、
前述のような距離センサ88自体の移動によるものに限ら
ず、距離センサ88を触媒放出器30の下部外周面に回動自
在に支持し、その回動により検査ビームを触媒11の表面
の径方向部位に照射するようにしてもよい。さらに、距
離センサ88の走査方向は、前記実施例のような径方向に
限らず、他の方向であってもよく、反応塔10内の触媒11
の表面を面状にカバーできるような走査を行ってもよ
い。
前述のような距離センサ88自体の移動によるものに限ら
ず、距離センサ88を触媒放出器30の下部外周面に回動自
在に支持し、その回動により検査ビームを触媒11の表面
の径方向部位に照射するようにしてもよい。さらに、距
離センサ88の走査方向は、前記実施例のような径方向に
限らず、他の方向であってもよく、反応塔10内の触媒11
の表面を面状にカバーできるような走査を行ってもよ
い。
【0047】一方、距離センサ88からの距離から触媒11
の表面形状を検査する方式としては、走査した位置毎の
距離をまとめて走査方向の輪郭形状として凹凸を判定す
る方式のほか、各位置の距離を基準値、例えば前回の散
布の結果予定される表面高さなどと比較する方式等を適
宜利用すればよい。
の表面形状を検査する方式としては、走査した位置毎の
距離をまとめて走査方向の輪郭形状として凹凸を判定す
る方式のほか、各位置の距離を基準値、例えば前回の散
布の結果予定される表面高さなどと比較する方式等を適
宜利用すればよい。
【0048】さらに、検査結果に基づいて触媒11表面の
凹凸を修正する場合には、当該凹凸の位置および程度に
応じて再度散布する際の触媒放出器30の設定等を自動ま
たは手動で変更すればよい。例えば、触媒11表面の凹部
直径d 、触媒11表面から触媒放出器30の放出板31までの
高さh 、反応塔10の内径D 、定数C1,C2 として、放出板
31の回転数R をC1×(D-C2)/h1/2 とすることで、この凹
部を埋めるのに適当な設定を得ることができる。
凹凸を修正する場合には、当該凹凸の位置および程度に
応じて再度散布する際の触媒放出器30の設定等を自動ま
たは手動で変更すればよい。例えば、触媒11表面の凹部
直径d 、触媒11表面から触媒放出器30の放出板31までの
高さh 、反応塔10の内径D 、定数C1,C2 として、放出板
31の回転数R をC1×(D-C2)/h1/2 とすることで、この凹
部を埋めるのに適当な設定を得ることができる。
【0049】さらに、前記実施例において、保持アーム
35の構造や配置、駆動方式、ローラ85や当接センサ87等
の細部については、実施にあたって適宜選択すればよ
い。また、制御手段70は既存のコンピュータシステム等
を用い、前述した制御が行えるように適宜設定すればよ
い。さらに、触媒放出器30の他の部分の構造や方式、触
媒充填装置20のチェン巻き上げ機構40、ホッパ機構50、
ホース巻き上げ機構60等の構造なども実施にあたって適
宜選択すればよい。
35の構造や配置、駆動方式、ローラ85や当接センサ87等
の細部については、実施にあたって適宜選択すればよ
い。また、制御手段70は既存のコンピュータシステム等
を用い、前述した制御が行えるように適宜設定すればよ
い。さらに、触媒放出器30の他の部分の構造や方式、触
媒充填装置20のチェン巻き上げ機構40、ホッパ機構50、
ホース巻き上げ機構60等の構造なども実施にあたって適
宜選択すればよい。
【0050】
【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
触媒放出器に設けた距離センサで走査することで、反応
塔内に充填された触媒の表面形状を外部から確実に検査
することができ、検査のための装置を簡略化できるとと
もに、検査のための作業性を向上することができる。
触媒放出器に設けた距離センサで走査することで、反応
塔内に充填された触媒の表面形状を外部から確実に検査
することができ、検査のための装置を簡略化できるとと
もに、検査のための作業性を向上することができる。
【図1】本発明の一実施例の全体構成を示す概略側面
図。
図。
【図2】前記実施例の触媒放出器を示す縦断面図。
【図3】前記実施例の触媒放出器を示す横断面図。
【図4】前記実施例の制御手段を示すブロック図。
【図5】前記実施例の表面形状検査を示す横断面図。
10 反応塔 11 触媒 20 触媒充填装置 30 触媒放出器 35 保持手段である保持アーム 40 チェン巻き上げ機構 50 ホッパ機構 60 ホース巻き上げ機構 70 触媒表面形状検査装置を構成する制御手段 88 触媒表面形状検査装置を構成する距離センサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−113204(JP,A) 特開 平4−45839(JP,A) 特開 昭61−18430(JP,A) 特開 昭53−21086(JP,A) 特開 平2−14732(JP,A) 特開 昭61−141923(JP,A) 特開 平7−60101(JP,A) 実開 昭63−32838(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B01J 8/02 B01J 4/00 - 4/04 B65G 65/30 - 65/48
Claims (5)
- 【請求項1】 反応塔の内部に吊り下げられて当該反応
塔内に触媒を散布する触媒放出器に非接触式の距離セン
サを支持しておき、前記触媒放出器による触媒散布の
後、前記距離センサで前記反応塔内に散布された触媒の
表面を走査し、前記距離センサが出力する前記触媒の表
面までの距離から当該表面の形状を検査することを特徴
とする触媒表面形状検査方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載した触媒表面形状検査方
法において、前記距離センサを略水平に移動させなが
ら、前記距離センサから直下の触媒表面までの距離を測
定してゆくことにより、前記走査を行うことを特徴とす
る触媒表面形状検査方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載した触媒表面形状検査方
法において、前記触媒放出器を前記反応塔の中心に保持
するために前記触媒放出器から径方向に伸縮しかつ先端
が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先端近傍に前
記距離センサを固定しておき、前記保持手段を伸縮させ
ることにより前記距離センサを移動させて前記走査を行
うことを特徴とする触媒表面形状検査方法。 - 【請求項4】 反応塔の内部に吊り下げられて当該反応
塔内に触媒を散布する触媒放出器に支持されて下方の触
媒表面を走査可能な非接触式の距離センサと、前記距離
センサの走査を制御しかつ前記距離センサが出力する前
記触媒表面までの距離から当該表面の形状を検査する制
御手段とを備えたことを特徴とする触媒表面形状検査装
置。 - 【請求項5】 請求項4に記載した触媒表面形状検査装
置において、前記距離センサは直下の触媒表面までの距
離を測定可能であり、前記触媒放出器から径方向に伸縮
しかつ先端が前記反応塔内面に当接可能な保持手段の先
端近傍に支持されていることを特徴とする触媒表面形状
検査装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5212797A JP2941152B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒表面形状検査方法および装置 |
US08/598,911 US5795550A (en) | 1993-08-27 | 1996-02-09 | Apparatus for packing catalyst |
US08/884,799 US5753585A (en) | 1993-08-27 | 1997-06-30 | Method of packing catalyst |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5212797A JP2941152B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒表面形状検査方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0760104A JPH0760104A (ja) | 1995-03-07 |
JP2941152B2 true JP2941152B2 (ja) | 1999-08-25 |
Family
ID=16628544
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5212797A Expired - Fee Related JP2941152B2 (ja) | 1993-08-27 | 1993-08-27 | 触媒表面形状検査方法および装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2941152B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2923816B1 (fr) * | 2007-11-15 | 2010-04-23 | Total France | Dispositif et procede pour le chargement de particules solides dans une enceinte |
JP5358498B2 (ja) * | 2010-03-25 | 2013-12-04 | 住友化学株式会社 | 触媒の充填方法 |
FR2991884B1 (fr) * | 2012-06-13 | 2015-09-11 | Total Raffinage Marketing | Distribution de particules solides dans un reacteur |
CN109250535A (zh) * | 2018-09-06 | 2019-01-22 | 江苏哈工智能机器人股份有限公司 | 粮仓平粮***及方法 |
-
1993
- 1993-08-27 JP JP5212797A patent/JP2941152B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0760104A (ja) | 1995-03-07 |
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