JP2922194B1 - 洗浄物の乾燥装置 - Google Patents
洗浄物の乾燥装置Info
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Abstract
【要約】
【課題】 短時間で洗浄物の乾燥が行え、かつ洗浄物の
汚染のおそれがなく、省エネ、省薬剤を目的とした洗浄
物の乾燥装置の提供にある。 【解決手段】 純水と窒素ガスのそれぞれを給排水、給
排気自在に構成した純水槽２０と、該純水槽２０と上部
で開閉自在に連通３８し、内部に投入した有機溶剤を高
周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生さ
せる有機溶剤ミスト発生槽３０とを備え、有機溶剤ミス
ト発生槽３０で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物５０
を純水槽２０に浸漬した後、純水槽２０と有機溶剤ミス
ト発生槽３０とを連通させて、ゆっくりと純水を排出口
２２から排出し、洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き
換え、さらに窒素ガス供給口２４から窒素ガスを供給し
て有機溶剤ミストを置換排気するように構成した。
汚染のおそれがなく、省エネ、省薬剤を目的とした洗浄
物の乾燥装置の提供にある。 【解決手段】 純水と窒素ガスのそれぞれを給排水、給
排気自在に構成した純水槽２０と、該純水槽２０と上部
で開閉自在に連通３８し、内部に投入した有機溶剤を高
周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生さ
せる有機溶剤ミスト発生槽３０とを備え、有機溶剤ミス
ト発生槽３０で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物５０
を純水槽２０に浸漬した後、純水槽２０と有機溶剤ミス
ト発生槽３０とを連通させて、ゆっくりと純水を排出口
２２から排出し、洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き
換え、さらに窒素ガス供給口２４から窒素ガスを供給し
て有機溶剤ミストを置換排気するように構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄物の乾燥装置
に関し、特に洗浄が終了した半導体ウエハやガラス基板
等をすすいで乾燥させる乾燥装置に関するものである。
に関し、特に洗浄が終了した半導体ウエハやガラス基板
等をすすいで乾燥させる乾燥装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】微細化したウエハやガラス基板等の精密
基板洗浄後の乾燥は、トレンチに入り込んだ水分をいか
にきれいに取り除くかが重要である。このため、有機溶
剤ベーパー（蒸気）を用いた乾燥装置が使用されてい
る。この有機溶剤ベーパーを用いた乾燥装置としては、
従来から図４に示すような構造のものが知られている。
すなわち、乾燥槽４０の底面に加熱装置（ヒータ）４１
を取り付け、乾燥槽４０に注入した有機溶剤４２をヒー
タ４１により沸点まで加熱上昇させて上層に有機溶剤ベ
ーパーを作り、そのベーパー中に例えば水等で洗浄すす
ぎを行った洗浄物（ウエハ等）４３を投入させる。する
と、洗浄物４３の表面で有機溶剤の凝縮が起こり、洗浄
物４３の表面に付着していた水分はより蒸発しやすい有
機溶剤で置換されて乾燥が進行する。
基板洗浄後の乾燥は、トレンチに入り込んだ水分をいか
にきれいに取り除くかが重要である。このため、有機溶
剤ベーパー（蒸気）を用いた乾燥装置が使用されてい
る。この有機溶剤ベーパーを用いた乾燥装置としては、
従来から図４に示すような構造のものが知られている。
すなわち、乾燥槽４０の底面に加熱装置（ヒータ）４１
を取り付け、乾燥槽４０に注入した有機溶剤４２をヒー
タ４１により沸点まで加熱上昇させて上層に有機溶剤ベ
ーパーを作り、そのベーパー中に例えば水等で洗浄すす
ぎを行った洗浄物（ウエハ等）４３を投入させる。する
と、洗浄物４３の表面で有機溶剤の凝縮が起こり、洗浄
物４３の表面に付着していた水分はより蒸発しやすい有
機溶剤で置換されて乾燥が進行する。
【０００３】ベーパー中の洗浄物は次第にベーパー温度
（沸点）に達し、ミスト雰囲気外に取り出すことによ
り、付着した溶剤成分はその低い蒸発潜熱のため急速に
蒸発して乾燥が終了する。なお、乾燥槽４０の上部には
冷却コイル４４が配置されていて、加熱されてベーパー
となった有機溶剤を凝縮させて溶液受け皿４５に滴下さ
せ回収再利用している。同様に、洗浄物４３から滴下し
た水分を含む溶液も溶液受け皿４６で回収している。
（沸点）に達し、ミスト雰囲気外に取り出すことによ
り、付着した溶剤成分はその低い蒸発潜熱のため急速に
蒸発して乾燥が終了する。なお、乾燥槽４０の上部には
冷却コイル４４が配置されていて、加熱されてベーパー
となった有機溶剤を凝縮させて溶液受け皿４５に滴下さ
せ回収再利用している。同様に、洗浄物４３から滴下し
た水分を含む溶液も溶液受け皿４６で回収している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この装置の
場合、溶剤をヒータ加熱するので火気に十分なる注意を
必要とするのみならず、加熱冷却を行うのでエネルギー
の消費が大である。また、加熱によりベーパー層を形成
するので時間がかかるとともに、蒸発による有機溶剤の
消耗量が多い。また、洗浄物がミスト層に触れると、ベ
ーパー（気相）の熱が洗浄物に奪われ急激な相変化（気
体→液体）が起こりベーパー層が減少し洗浄物が大気に
曝露され、汚染、乾燥不良等が起こる。この大気中に含
まれる塵芥により有機溶剤が汚染されるおそれがあり、
有機溶剤の汚染は洗浄物の汚染へと連関する。
場合、溶剤をヒータ加熱するので火気に十分なる注意を
必要とするのみならず、加熱冷却を行うのでエネルギー
の消費が大である。また、加熱によりベーパー層を形成
するので時間がかかるとともに、蒸発による有機溶剤の
消耗量が多い。また、洗浄物がミスト層に触れると、ベ
ーパー（気相）の熱が洗浄物に奪われ急激な相変化（気
体→液体）が起こりベーパー層が減少し洗浄物が大気に
曝露され、汚染、乾燥不良等が起こる。この大気中に含
まれる塵芥により有機溶剤が汚染されるおそれがあり、
有機溶剤の汚染は洗浄物の汚染へと連関する。
【０００５】本発明は、短時間で洗浄物の乾燥が行え、
かつ洗浄物の汚染のおそれがなく、省エネ、省薬剤を目
的とした洗浄物の乾燥装置の提供を、その課題としてい
る。
かつ洗浄物の汚染のおそれがなく、省エネ、省薬剤を目
的とした洗浄物の乾燥装置の提供を、その課題としてい
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述課題を解決するため
に、本発明は、次のような手段を採用した。請求項１に
記載の洗浄物の乾燥装置は、純水と窒素ガスのそれぞれ
を給排水、給排気自在に構成した純水槽と、該純水槽と
上部で開閉自在に連通し、内部に投入した有機溶剤を高
周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生さ
せる有機溶剤ミスト発生槽とを備え、有機溶剤ミスト発
生槽で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物を純水槽に浸
漬した後、純水槽と有機溶剤ミスト発生槽とを連通させ
て、ゆっくりと純水を排水し、洗浄物を有機溶剤ミスト
雰囲気に置き換え、さらに窒素ガスを供給して有機溶剤
ミストを置換排気するように構成したことを特徴として
いる。
に、本発明は、次のような手段を採用した。請求項１に
記載の洗浄物の乾燥装置は、純水と窒素ガスのそれぞれ
を給排水、給排気自在に構成した純水槽と、該純水槽と
上部で開閉自在に連通し、内部に投入した有機溶剤を高
周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミストを発生さ
せる有機溶剤ミスト発生槽とを備え、有機溶剤ミスト発
生槽で有機溶剤ミストを発生させ、洗浄物を純水槽に浸
漬した後、純水槽と有機溶剤ミスト発生槽とを連通させ
て、ゆっくりと純水を排水し、洗浄物を有機溶剤ミスト
雰囲気に置き換え、さらに窒素ガスを供給して有機溶剤
ミストを置換排気するように構成したことを特徴として
いる。
【０００７】請求項２に記載の洗浄物の乾燥装置は、請
求項１に記載の発明において、有機溶剤ミスト発生槽を
内槽と外槽の２重構造にすると共に、外槽の槽底面に超
音波振動子を接着した振動板を組み込み、内槽の槽底厚
さを超音波エネルギーを通過させるに適した厚さとし
て、さらに内槽と外槽との間に循環冷却水を流せるよう
に構成すると共に、内槽に投入した有機溶剤を循環冷却
水中に配置された配管により循環させるように構成した
ことを特徴としている。
求項１に記載の発明において、有機溶剤ミスト発生槽を
内槽と外槽の２重構造にすると共に、外槽の槽底面に超
音波振動子を接着した振動板を組み込み、内槽の槽底厚
さを超音波エネルギーを通過させるに適した厚さとし
て、さらに内槽と外槽との間に循環冷却水を流せるよう
に構成すると共に、内槽に投入した有機溶剤を循環冷却
水中に配置された配管により循環させるように構成した
ことを特徴としている。
【０００８】請求項３に記載の洗浄物の乾燥装置は、請
求項１又は２に記載の発明において、純水槽の上部を可
変密閉できるように構成したことを特徴としている。
求項１又は２に記載の発明において、純水槽の上部を可
変密閉できるように構成したことを特徴としている。
【０００９】
【作用】本発明は、上述のように構成したので、洗浄物
の乾燥にあたり、先ず有機溶剤ミスト発生槽で常温の有
機溶剤ミストを多量に発生させておき、純水槽の蓋を開
けて、洗浄あるいは予備すすぎが終了した洗浄物を投入
する。次に、純水を供給して洗浄物を純水に浸漬させて
仕上げすすぎを行う。続いて、純水槽と有機溶剤ミスト
発生槽とを連通させ、純水槽内の純水をゆるやかに排水
する。純水が排出されるにしたがって、純水槽内には有
機溶剤ミスト発生槽から有機溶剤ミストが侵入し、洗浄
物の表面上の水膜は有機溶剤ミストに置換される。洗浄
物の表面上の水膜は有機溶剤と混じり凝縮して下方に落
下する。次に、窒素ガスを供給してミスト化した有機溶
剤雰囲気を置換排気して洗浄物上の水分を取り除いた
後、蓋を開けて洗浄物を取り出す。
の乾燥にあたり、先ず有機溶剤ミスト発生槽で常温の有
機溶剤ミストを多量に発生させておき、純水槽の蓋を開
けて、洗浄あるいは予備すすぎが終了した洗浄物を投入
する。次に、純水を供給して洗浄物を純水に浸漬させて
仕上げすすぎを行う。続いて、純水槽と有機溶剤ミスト
発生槽とを連通させ、純水槽内の純水をゆるやかに排水
する。純水が排出されるにしたがって、純水槽内には有
機溶剤ミスト発生槽から有機溶剤ミストが侵入し、洗浄
物の表面上の水膜は有機溶剤ミストに置換される。洗浄
物の表面上の水膜は有機溶剤と混じり凝縮して下方に落
下する。次に、窒素ガスを供給してミスト化した有機溶
剤雰囲気を置換排気して洗浄物上の水分を取り除いた
後、蓋を開けて洗浄物を取り出す。
【００１０】なお、有機溶剤ミスト発生槽が、内槽と外
槽とで形成されていて、内槽と外槽との間に循環冷却水
を流すようにした場合、内槽の温度上昇が抑えられ、か
つ内槽内の有機溶剤が空になった状態でも、超音波振動
子が空焚きの状態にはならない。また、内槽に入れてい
る有機溶剤は、超音波のエネルギー等で加温されてしま
うので、配管で冷却水中を循環させ温度の上昇を押さえ
る。
槽とで形成されていて、内槽と外槽との間に循環冷却水
を流すようにした場合、内槽の温度上昇が抑えられ、か
つ内槽内の有機溶剤が空になった状態でも、超音波振動
子が空焚きの状態にはならない。また、内槽に入れてい
る有機溶剤は、超音波のエネルギー等で加温されてしま
うので、配管で冷却水中を循環させ温度の上昇を押さえ
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る洗浄物の洗浄乾燥方法及びその装置についの実施の
形態を説明する。図１に、本発明の実施の形態を示す。
洗浄物の乾燥装置１０は、図に示すように、純水槽２０
と有機溶剤ミスト発生槽３０とを備えている。有機溶剤
ミスト発生槽３０は、内槽３１ａと外槽３１ｂの２重構
造になっており、外槽３１ｂの槽底面には超音波振動子
を接着した振動板３２が組み込まれていて、内槽３１ａ
の槽底厚さは超音波エネルギーを通過させるに適した厚
さとし、さらに内槽３１ａと外槽３１ｂとの間に循環冷
却水３３が流せるように構成されている。
係る洗浄物の洗浄乾燥方法及びその装置についの実施の
形態を説明する。図１に、本発明の実施の形態を示す。
洗浄物の乾燥装置１０は、図に示すように、純水槽２０
と有機溶剤ミスト発生槽３０とを備えている。有機溶剤
ミスト発生槽３０は、内槽３１ａと外槽３１ｂの２重構
造になっており、外槽３１ｂの槽底面には超音波振動子
を接着した振動板３２が組み込まれていて、内槽３１ａ
の槽底厚さは超音波エネルギーを通過させるに適した厚
さとし、さらに内槽３１ａと外槽３１ｂとの間に循環冷
却水３３が流せるように構成されている。
【００１２】内槽３１ａには有機溶剤（ＩＰＡ：Iso-pr
opil alcohl）３４が注入されており、この有機溶剤３
４は循環冷却水３３中に配置された配管３５内を通って
循環冷却されている。また、内槽３１ａ内の中央部には
飛沫防止板３６が設けられていると共に、中央やや下側
には窒素ガス供給口３７が設けられている。また、内槽
３１ａの上部は、前記純水槽２０の上部と連通路３８で
連通しており、該連通路３８内には内槽３１ａから純水
槽２０の方向のみ開となる弁３９が設けられている。
opil alcohl）３４が注入されており、この有機溶剤３
４は循環冷却水３３中に配置された配管３５内を通って
循環冷却されている。また、内槽３１ａ内の中央部には
飛沫防止板３６が設けられていると共に、中央やや下側
には窒素ガス供給口３７が設けられている。また、内槽
３１ａの上部は、前記純水槽２０の上部と連通路３８で
連通しており、該連通路３８内には内槽３１ａから純水
槽２０の方向のみ開となる弁３９が設けられている。
【００１３】一方、純水槽２０は、下部に三方弁（もし
くは四方弁）からなる純水供給排出弁２１（２１１、２
１２、２１３） と純水を低速度で排出するため低速排
水弁２２ａ、２２ｂが設けられており、純水槽２０内部
には純水供給排出弁２１１、２１２から純水を供給し、
純水槽２０内の水が一定量に達するとそれ以上はオーバ
ーフローするように構成されている。従って、純水槽２
０内の上部には気層部２３が形成されることになり、該
気層部２３には窒素ガス供給口２４が設けられていると
共に、外気に連通する排気管２５が設けられている。こ
の排気管２５内には弁２６が取り付けられていて、該弁
２６は純水槽２０から外気方向にのみ開となるように構
成されている。また、純水槽２０の上部には、洗浄物の
出し入れを行うための完全密閉型の開閉蓋２７が設けら
れており、また純水槽２０の内部には、図に示すよう
に、洗浄物５０を支持する支持台２８が備えられてい
る。
くは四方弁）からなる純水供給排出弁２１（２１１、２
１２、２１３） と純水を低速度で排出するため低速排
水弁２２ａ、２２ｂが設けられており、純水槽２０内部
には純水供給排出弁２１１、２１２から純水を供給し、
純水槽２０内の水が一定量に達するとそれ以上はオーバ
ーフローするように構成されている。従って、純水槽２
０内の上部には気層部２３が形成されることになり、該
気層部２３には窒素ガス供給口２４が設けられていると
共に、外気に連通する排気管２５が設けられている。こ
の排気管２５内には弁２６が取り付けられていて、該弁
２６は純水槽２０から外気方向にのみ開となるように構
成されている。また、純水槽２０の上部には、洗浄物の
出し入れを行うための完全密閉型の開閉蓋２７が設けら
れており、また純水槽２０の内部には、図に示すよう
に、洗浄物５０を支持する支持台２８が備えられてい
る。
【００１４】また、純水槽２０内部の下部には、液面セ
ンサー２９が配置されており、液面センサー２９の位置
は、低速排水弁２２ａから純水槽２０内部に延出開口す
る配管の開口部にほぼ一致すると共に、内部に投入され
たウエハ５０の下端部にもほぼ一致するかあるいは僅か
に下側である。なお、もう一方の低速排水弁２２ｂから
純水槽２０内部に延出開口する配管の開口部は低速排水
弁２２ａの配管の開口部よりも１〜２ｍｍ高くなってい
る。
ンサー２９が配置されており、液面センサー２９の位置
は、低速排水弁２２ａから純水槽２０内部に延出開口す
る配管の開口部にほぼ一致すると共に、内部に投入され
たウエハ５０の下端部にもほぼ一致するかあるいは僅か
に下側である。なお、もう一方の低速排水弁２２ｂから
純水槽２０内部に延出開口する配管の開口部は低速排水
弁２２ａの配管の開口部よりも１〜２ｍｍ高くなってい
る。
【００１５】次に、この乾燥装置１０の実際の使用方法
について説明する。先ず、有機溶剤（ＩＰＡ）３４を有
機溶剤ミスト発生槽３０の内槽３１ａ内に所定量投入
し、外槽３１ｂの振動板３２の超音波振動子に５００ｋ
Ｈｚ以上の高周波超音波を加えて振動させ、超音波キャ
ビテーション現象により、内槽３１ａ内に常温の有機溶
剤ミストを発生させておく。内槽３１ａと外槽３１ｂと
の間には、冷却水３３を循環させておき、有機溶剤３４
を底面から冷却させると共に、配管３５内を循環させる
ことによっても冷却させている。このようにしたので、
長時間運転でも内槽３１ａ内の有機溶剤３４の温度上昇
が抑えられ、かつ内槽３１ａ内の有機溶剤が空になった
状態でも、超音波振動子が空焚きの状態になるおそれは
ない。
について説明する。先ず、有機溶剤（ＩＰＡ）３４を有
機溶剤ミスト発生槽３０の内槽３１ａ内に所定量投入
し、外槽３１ｂの振動板３２の超音波振動子に５００ｋ
Ｈｚ以上の高周波超音波を加えて振動させ、超音波キャ
ビテーション現象により、内槽３１ａ内に常温の有機溶
剤ミストを発生させておく。内槽３１ａと外槽３１ｂと
の間には、冷却水３３を循環させておき、有機溶剤３４
を底面から冷却させると共に、配管３５内を循環させる
ことによっても冷却させている。このようにしたので、
長時間運転でも内槽３１ａ内の有機溶剤３４の温度上昇
が抑えられ、かつ内槽３１ａ内の有機溶剤が空になった
状態でも、超音波振動子が空焚きの状態になるおそれは
ない。
【００１６】次に、純水槽２０の蓋２７を開けて、洗浄
あるいは予備すすぎが終了した洗浄物（ウエハ）５０を
支持台２８に支持させる。なお、この支持台２８は、予
め洗浄物５０を支持した状態になっていて、その状態の
まま純水槽２０に投入するように構成してもよい。
あるいは予備すすぎが終了した洗浄物（ウエハ）５０を
支持台２８に支持させる。なお、この支持台２８は、予
め洗浄物５０を支持した状態になっていて、その状態の
まま純水槽２０に投入するように構成してもよい。
【００１７】続いて、純水を供給して洗浄物５０を純水
に浸漬させて仕上げすすぎを行う。次に、純水槽２０内
の純水を低速排出弁２２ａ、２２ｂからゆるやかに排水
する。純水が排出されるにしたがって純水槽２０内の内
圧が下がり、純水槽２０と有機溶剤ミスト発生槽３０と
の間を連通している連通路３８の弁３９が自動的に開い
て有機溶剤ミスト発生槽３０から純水槽２０内に濃度の
高い有機溶剤ミストが入り込む。有機溶剤ミストの侵入
によって、洗浄物５０の表面上の水膜は有機溶剤ミスト
に置換され、有機溶剤と混じり凝縮して下方に落下す
る。
に浸漬させて仕上げすすぎを行う。次に、純水槽２０内
の純水を低速排出弁２２ａ、２２ｂからゆるやかに排水
する。純水が排出されるにしたがって純水槽２０内の内
圧が下がり、純水槽２０と有機溶剤ミスト発生槽３０と
の間を連通している連通路３８の弁３９が自動的に開い
て有機溶剤ミスト発生槽３０から純水槽２０内に濃度の
高い有機溶剤ミストが入り込む。有機溶剤ミストの侵入
によって、洗浄物５０の表面上の水膜は有機溶剤ミスト
に置換され、有機溶剤と混じり凝縮して下方に落下す
る。
【００１８】純水槽２０内の液面が、低速排水弁２２ｂ
の配管の開口部位置より下がると、低速排水弁２２ｂか
らの排水は停止し、排水は低速排水弁２２ａのみからと
なり、排水速度が遅くなる。なお、低速排水弁２２ａ、
２２ｂ両方からの排水の場合、液面の下降速度は２〜４
ｍｍ／ｓｅｃ前後で、低速排水弁２２ａのみによる排水
の場合は１ｍｍ／ｓｅｃ前後である。さらに液面が下が
り、液面センサー２９が液面を検知すると、三方弁２１
２、２１３ を開いて高速排水を行う。
の配管の開口部位置より下がると、低速排水弁２２ｂか
らの排水は停止し、排水は低速排水弁２２ａのみからと
なり、排水速度が遅くなる。なお、低速排水弁２２ａ、
２２ｂ両方からの排水の場合、液面の下降速度は２〜４
ｍｍ／ｓｅｃ前後で、低速排水弁２２ａのみによる排水
の場合は１ｍｍ／ｓｅｃ前後である。さらに液面が下が
り、液面センサー２９が液面を検知すると、三方弁２１
２、２１３ を開いて高速排水を行う。
【００１９】このように、排水速度を制御したのは、乾
燥性を確実にするためである。ウエハの下端部は液が残
りやすいため、ウエハの下端部での排水速度を遅くした
のである。ウエハが液中から完全に出れば、排水を遅く
する必要がないので、三方弁を開いて高速に排水するよ
うにした。
燥性を確実にするためである。ウエハの下端部は液が残
りやすいため、ウエハの下端部での排水速度を遅くした
のである。ウエハが液中から完全に出れば、排水を遅く
する必要がないので、三方弁を開いて高速に排水するよ
うにした。
【００２０】所定時間経過後、窒素ガス供給口２４から
窒素ガスを供給して、純水槽２０内の有機溶剤ミストを
窒素ガスに置換して、有機溶剤ミストを排気管２５から
弁２６を介して外部に排気する。窒素ガス雰囲気中に置
かれた洗浄物５０は、表面上の水分が取り除かれるの
で、その後、蓋２７を開けて洗浄物５０を取り出す。
窒素ガスを供給して、純水槽２０内の有機溶剤ミストを
窒素ガスに置換して、有機溶剤ミストを排気管２５から
弁２６を介して外部に排気する。窒素ガス雰囲気中に置
かれた洗浄物５０は、表面上の水分が取り除かれるの
で、その後、蓋２７を開けて洗浄物５０を取り出す。
【００２１】なお、この方法を実施すると、洗浄物５０
の支持部に液滴が残りやすいので、図２に示すように、
先端部６０ａが鋭角に尖ったエッジナイフ６０を設け
て、図３に示すように、洗浄物５０のエッジ部に残る液
滴５０ａに、その先端部６０ａが離接自在になるように
構成する。この場合に、エッジナイフ６０を親水性の材
料または表面を親水性に加工した材料で構成すれば、洗
浄物５０のエッジ部に残る液を積極的に下方に導くこと
ができ、液滴を素早くなくすことができる。
の支持部に液滴が残りやすいので、図２に示すように、
先端部６０ａが鋭角に尖ったエッジナイフ６０を設け
て、図３に示すように、洗浄物５０のエッジ部に残る液
滴５０ａに、その先端部６０ａが離接自在になるように
構成する。この場合に、エッジナイフ６０を親水性の材
料または表面を親水性に加工した材料で構成すれば、洗
浄物５０のエッジ部に残る液を積極的に下方に導くこと
ができ、液滴を素早くなくすことができる。
【００２２】このように、本乾燥装置によれば、洗浄物
５０の乾燥を有機溶剤による常温乾燥で行うので、加熱
冷却が必要なく、省エネルギーが図られ、かつ有機溶剤
の消費も少なく、また火気への注意をする必要がないの
で作業が容易となる。さらに、常温処理なので、洗浄物
がミスト層に触れても、ミストの熱が洗浄物に奪われる
という事態が発生せず、ミストに相変化が無く、洗浄物
が大気に曝露されるおそれがない。また、高濃度の有機
溶剤雰囲気で水分を一気に凝縮させるので、優れた乾燥
性を発揮することができる。さらに、有機溶剤ミスト雰
囲気を、窒素による不活性ガス雰囲気にするので、酸素
が排除され、ウォーターマークの防止が行えるととも
に、ヒータ加熱でないので短時間での処理が可能ゆえ、
生産性の向上が図れる。また、密閉構造で処理するの
で、洗浄物への汚染がない。
５０の乾燥を有機溶剤による常温乾燥で行うので、加熱
冷却が必要なく、省エネルギーが図られ、かつ有機溶剤
の消費も少なく、また火気への注意をする必要がないの
で作業が容易となる。さらに、常温処理なので、洗浄物
がミスト層に触れても、ミストの熱が洗浄物に奪われる
という事態が発生せず、ミストに相変化が無く、洗浄物
が大気に曝露されるおそれがない。また、高濃度の有機
溶剤雰囲気で水分を一気に凝縮させるので、優れた乾燥
性を発揮することができる。さらに、有機溶剤ミスト雰
囲気を、窒素による不活性ガス雰囲気にするので、酸素
が排除され、ウォーターマークの防止が行えるととも
に、ヒータ加熱でないので短時間での処理が可能ゆえ、
生産性の向上が図れる。また、密閉構造で処理するの
で、洗浄物への汚染がない。
【００２３】なお、上述の実施形態例では、洗浄物５０
として、ウエハを例に挙げたが、液晶ガラスなどの平板
形状物やハードディスク基板、レンズ等の小型形状物の
乾燥ができることはいうまでもないことである。また、
純水供給排出弁２１を三方弁（もしくは四方弁）とした
のは、四方弁を用いて、純水以外に薬剤を供給して薬剤
処理を行う場合も考慮したものである。
として、ウエハを例に挙げたが、液晶ガラスなどの平板
形状物やハードディスク基板、レンズ等の小型形状物の
乾燥ができることはいうまでもないことである。また、
純水供給排出弁２１を三方弁（もしくは四方弁）とした
のは、四方弁を用いて、純水以外に薬剤を供給して薬剤
処理を行う場合も考慮したものである。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
有機溶剤ミスト発生槽で超音波により常温の有機溶剤ミ
ストを発生させ、洗浄物を純水槽に浸漬した後、純水を
排水して洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き換え、さ
らに窒素ガスを供給して有機溶剤ミストを置換排気する
ようにしたので、加熱冷却が必要なく、省エネルギーが
図れるとともに、火気への注意をする必要がないので作
業が容易となり、さらにヒータ加熱を行わないので短時
間での処理が可能ゆえ、生産性の向上が図れる。また、
密閉型なので有機溶剤の消費も少なく、省薬剤化が図れ
るとともに、洗浄物への汚染がない。さらに、高濃度の
有機溶剤雰囲気で水分を一気に凝縮させるので、優れた
乾燥性を発揮することができる。さらに、有機溶剤ミス
ト雰囲気を、窒素による不活性ガス雰囲気にするので、
酸素が排除され、ウォーターマークの防止が行える。
有機溶剤ミスト発生槽で超音波により常温の有機溶剤ミ
ストを発生させ、洗浄物を純水槽に浸漬した後、純水を
排水して洗浄物を有機溶剤ミスト雰囲気に置き換え、さ
らに窒素ガスを供給して有機溶剤ミストを置換排気する
ようにしたので、加熱冷却が必要なく、省エネルギーが
図れるとともに、火気への注意をする必要がないので作
業が容易となり、さらにヒータ加熱を行わないので短時
間での処理が可能ゆえ、生産性の向上が図れる。また、
密閉型なので有機溶剤の消費も少なく、省薬剤化が図れ
るとともに、洗浄物への汚染がない。さらに、高濃度の
有機溶剤雰囲気で水分を一気に凝縮させるので、優れた
乾燥性を発揮することができる。さらに、有機溶剤ミス
ト雰囲気を、窒素による不活性ガス雰囲気にするので、
酸素が排除され、ウォーターマークの防止が行える。
【図１】本発明に係る洗浄物の乾燥装置の実施形態を模
式的に示す図である。
式的に示す図である。
【図２】エッジナイフの斜視図である。
【図３】洗浄物のエッジ部の液滴にエッジナイフを接触
させた状態を示す図である。
させた状態を示す図である。
【図４】従来の乾燥装置を示す図である。
【符号の説明】 １０ 洗浄物の乾燥装置 ２０ 純水槽 ２１ 純水給排水弁 ２２ 排水弁 ２３ 気層部 ２４ 窒素ガス供給口 ２５ 排気管 ２６ 弁 ２７ 蓋 ２８ 支持台 ３０ 有機溶剤ミスト発生槽 ３１ａ 内槽 ３１ｂ 外槽 ３２ 超音波振動板 ３３ 循環冷却水 ３４ 有機溶剤 ３５ 配管 ３６ 飛沫防止板 ３７ 窒素ガス供給口 ３８ 連通路 ３９ 弁 ５０ 洗浄物（ウエハ） ６０ エッジナイフ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/304 F26B 9/06 F26B 21/14
Claims (3)
- 【請求項１】 純水と窒素ガスのそれぞれを給排水、給
排気自在に構成した純水槽と、 該純水槽と上部で開閉自在に連通し、内部に投入した有
機溶剤を高周波超音波で励振させて常温の有機溶剤ミス
トを発生させる有機溶剤ミスト発生槽とを備え、 有機溶剤ミスト発生槽で有機溶剤ミストを発生させ、洗
浄物を純水槽に浸漬した後、純水槽と有機溶剤ミスト発
生槽とを連通させて、ゆっくりと純水を排水し、洗浄物
を有機溶剤ミスト雰囲気に置き換え、さらに窒素ガスを
供給して有機溶剤ミストを置換排気するように構成した
ことを特徴とする洗浄物の乾燥装置。 - 【請求項２】 前記有機溶剤ミスト発生槽を、内槽と外
槽の２重構造にすると共に、外槽の槽底面に超音波振動
子を接着した振動板を組み込み、内槽の槽底厚さを超音
波エネルギーを通過させるに適した厚さとして、さらに
内槽と外槽との間に循環冷却水を流せるように構成する
と共に、内槽に投入した有機溶剤を循環冷却水中に配置
された配管により循環させるように構成したことを特徴
とする請求項１に記載の洗浄物の乾燥装置。 - 【請求項３】 純水槽の上部を可変密閉できるように構
成したことを特徴とする請求項１又は２に記載の洗浄物
の乾燥装置
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10252998A JP2922194B1 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 洗浄物の乾燥装置 |
| SG9901665A SG81975A1 (en) | 1998-04-14 | 1999-04-13 | Method and apparatus for drying washed objects |
| KR10-1999-0012972A KR100452542B1 (ko) | 1998-04-14 | 1999-04-13 | 세정물 건조장치 및 건조방법 |
| TW088105895A TW452876B (en) | 1998-04-14 | 1999-04-14 | Method and apparatus for drying washed objects |
| US09/291,860 US6216364B1 (en) | 1998-04-14 | 1999-04-14 | Method and apparatus for drying washed objects |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10252998A JP2922194B1 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 洗浄物の乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2922194B1 true JP2922194B1 (ja) | 1999-07-19 |
| JPH11297663A JPH11297663A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14329847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10252998A Expired - Fee Related JP2922194B1 (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 洗浄物の乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2922194B1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19934300C2 (de) * | 1999-07-21 | 2002-02-07 | Steag Micro Tech Gmbh | Vorrichtung zum Behandeln von Substraten |
| JP5923300B2 (ja) * | 2011-12-28 | 2016-05-24 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置および基板処理方法 |
| KR101932410B1 (ko) | 2015-08-18 | 2018-12-31 | 주식회사 엘지화학 | 일체형 세척 및 건조 장치 |
-
1998
- 1998-04-14 JP JP10252998A patent/JP2922194B1/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11297663A (ja) | 1999-10-29 |
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Legal Events
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