JP2910276B2 - ジオールのモノエステル類の製造法 - Google Patents

ジオールのモノエステル類の製造法

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、下記一般式 化2で示
されるジオールのモノエステル類の製造法に関する。
上記ジオールのモノエステル類は、例えば、可塑性を有
するポリマーのモノマーとして用いられる有用な化合物
である。(ヨーロッパ公開特許 EP316918−A
2
【0002】
【従来の技術】ジオールのモノエステル類を得る方法と
してはカルボン酸またはその誘導体とジオールのカップ
リングによる方法がよく知られているが、目的のモノエ
ステル体以外にジエステル体がかなりの割合で生成する
ため工業的に有利な製法とは言いがたい。また、環状ア
セタールを酸化する方法(Can.J.Chem.,52,3651(1974))
およびJ.Chem.Soc.,Chem.Commun.,1245,(1983)) は、低
温を要したり、反応時間が長い等、これらの方法も工業
的に有利な製法とは言いがたい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の種々の問題点を解決するジオールのモノエステル類の
製造法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するため、種々検討の結果本発明に至った。すなわ
ち本発明は、一般式 化1
【0005】 (式中、Rは炭素数1〜15の直鎖状、分枝状もしくは
環状のアルキル基;またはフェニル基、フェニル低級ア
ルキル基もしくはフェニル低級アルケニル基(ここで、
フェニルは、置換基として低級アルキル基、ハロゲン原
子、もしくは低級アルコキシ基を有していてもよ
い。);または置換基としてシアノ基、低級アルキルカ
ルボニル基もしくは低級アルコキシカルボニル基を有す
る低級アルキル基を示し、nは2、3または4を表わ
す。)で示される環状アセタールとt−ブチルヒドロペ
ルオキシドとを、ルテニウム触媒の存在下反応させるこ
とを特徴とする一般式 化2
【0006】 (式中、Rおよびnは前記と同じ意味を表わす。)で示
されるジオールのモノエステル類の製造法を提供するも
のである。
【0007】本発明において原料としで用いられる上記
一般式 化1で示される環状アセタールとしては、例え
ば、2−メチル−1,3−ジオキソラン、2−n−ヘキ
シル−1,3−ジオキソラン、2−n−ヘプチル−1,
3−ジオキソラン、2−n−ペンタデシル−1,3−ジ
オキソラン、2−n−ヘキシル−1,3−ジオキサン、
2−n−ヘキシル−1,3−ジオキセパン、2−イソプ
ロピル−1,3−ジオキソラン、2−シクロヘキシル−
1,3−ジオキソラン、2−フェニル−1,3−ジオキ
ソラン、2−(4’−メトキシフェニル−1,3−ジオ
キソラン、2−(3’,4’−メチレンジオキシフェニ
ル)−1,3−ジオキソラン、2−p−トリル−1,3
−ジオキソラン、2−(4’−エチルフェニル)−1,
3−ジオキソラン、2−(4’−クロロフェニル)−
1,3−ジオキソラン、2−(4’−ブロモフェニル)
−1,3−ジオキソラン、2−(3’−クロロフェニ
ル)1,3−ジオキソラン、2−フェニル−1,3−ジ
オキサン、2−フェニル−1,3−ジオキセパン、2−
ベンジル−1,3−ジオキソラン、2−(4’−クロロ
ベンジル)−1,3−ジオキソラン、2−(2’−オキ
ソプロピル)−1,3−ジオキソラン、2−(2’−オ
キソプロピル)−1,3−ジオキサン、2−メトキシカ
ルボニルメチル−1,3−ジオキソラン、2−エトキシ
カルボニルメチル−1,3−ジオキソラン、2−シアノ
メチル−1,3−ジオキソラン、2−シアノメチル−
1,3−ジオキサン、2−(1’−プロペニル)−1,
3−ジオキソラン、2−(2’−フェニルビニル)−
1,3−ジオキソラン、2−(2’−フェニルビニル)
−1,3−ジオキサン等があげられる。
【0008】ルテニウム触媒としては、三塩化ルテニウ
ム水和物、ジヒドリドテラキス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウム、ドデカカルボニルトリルテニウム、ジ
クロロビス(2,2’ービピリジル)ルテニウムまたは
ジクロロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウム
等があげられ、その使用量は、特には制限されないが、
通常、環状アセタールに対し、0.1モル%〜20モル
%、好ましくは1モル%〜20モル%の範囲で用いられ
る。t−ブチルヒドロペルオキシドの使用量は、環状ア
セタールに対し、1〜5当量の範囲で用いられる。
【0009】本発明において、反応溶媒は特には必要と
しないが、溶媒を用いる場合には、不活性な溶媒例え
ば、ベンゼン、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン等
があげられる。溶媒の使用量は、特には制限されない
が、環状アセタールに対し、通常、0.5〜9重量倍の
範囲で用いられる。
【0010】反応温度は、通常、0℃から反応混合物の
還流温度の範囲であり、好ましくは20℃から50℃の
範囲である。反応時間は、特には制限されないが、反応
混合物をGC等で分析し、原料の環状アセタールが消失
した時点を反応終点とすればよい。通常、滴下終了後4
〜5時間で反応終点となる。
【0011】反応終了後、例えば、亜硫酸ナトリウム水
溶液を反応混合物に加え、攪拌し、残存する過酸化物を
分解した後、分液、洗浄、濃縮、必要によりカラムクロ
マトグラフィー等の操作により目的のジオールのモノエ
ステル類を得ることができる。
【0012】
【発明の効果】本発明は、低毒性でかつ調製が簡単なル
テニウム錯体を触媒として用い、入手容易なt−ブチル
ヒドロペルオキシドと環状アセタールとを温和な条件で
反応させる方法であり、反応時間は短く、ジエステル体
が生成しない優れたジオールのモノエステル類の製造法
である。
【0013】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0014】実施例1〜5および比較例1 2−フェニル−1,3−ジオキソラン300mg、2−
フェニル−1,3−ジオキソランに対して3モル%の触
媒およびベンゼン2.0mlの混合物に、25℃で3.
55M・t−ブチルヒドロペルオキシドのベンゼン溶液
0.56mlを1時間かけて滴下した。反応混合物を同
温度でさらに1時間攪拌後、GCで分析し、表−1に示
す結果を得た。生成物(安息香酸とエチレングリコール
とのモノエステル)については、GC−IS法による定
量をおこなった。
【0015】 〔表−1〕 ───────────────────────────────── 実施例 触媒 転化率*1(%) 収率*2(%) 1 Cat−1 93.3 76.8 2 Cat−2 75.7 64.2 3 Cat−3 78.0 59.6 4 Cat−4 59.7 55.7 5 Cat−5 75.3 51.5 比較例1 なし 0.0 0.0 ───────────────────────────────── 註) Cat−1:三塩化ルテニウム水和物 Cat−2:ジヒドリドテトラキス(トリフェニルホス
フィン)ルテニウム Cat−3:ドデカカルボニルトリルテニウム Cat−4:ジクロロビス(2,2’ービピリジル)ル
テニウム Cat−5:ジクロロトリス(トリフェニルホスフィ
ン)ルテニウム *1 対2−フェニル−1,3−ジオキソラン *2 対2−フェニル−1,3−ジオキソラン
【0016】実施例6 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソラン949m
g、三塩化ルテニウム水和物47mgおよびベンゼン
6.0mlの混合物に25℃で3.55M・t−ブチル
ヒドロペルオキシドのベンゼン溶液5.07mlを1時
間かけて滴下した。反応混合物を同温度でさらに4時間
攪拌後、反応混合物にエーテルを加えた溶液をフロリジ
ルカラムクロマトグラフィーに通し、エーテルで溶出し
た。エーテル溶液を減圧濃縮して得られる油状物を調整
的薄層クロマトグラフィーで精製し、ヘプタン酸とエチ
レングリコールとのモノエステル751mg(収率7
1.9%)を無色油状物とした得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 4.21(m,2H),3.82(m,2H),
2.44(m,1H)、2.35(t,2H、J=7.
6Hz)、1.63(m,2H),1.30(m,6
H)、0.89(t,3H,J=7.1Hz) IR(neat) 3460、1738、1173cm-1 MS(HRCI) m/z 175、1334(C9 183 としての計算
値 175、1334)
【0017】実施例7 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−フェニル−1,3−ジオキソラン901mgを用
いる以外は実施例6と同様の操作を行ない、安息香酸と
エチレングリコールとのモノエステル787mg(収率
78.9%)を無色油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 8.05(m,2H),7.38〜7.58(m,
3H),4.44(m,2H)、3.93(m,2
H),2.59(brs,1H)) IR(neat) 3444、1721、1279cm-1 MS(HRCI) m/z 167、0714(C9 103 としての計算
値 167、0708)
【0018】実施例8 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(4’−メトキシフェニル)1,3−ジオキソラ
ン1.08gを用いる以外は実施例6と同様の操作を行
ない、p−メトキシ安息香酸とエチレングリコールとの
モノエステル944mg(収率80.2%)を薄黄色油
状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 8.00(m,2H),6.90(m,2H),
4.42(m,2H)、3.93(m,2H),3.8
5(s,3H),2.48(brs,1H))IR(n
eat) 3450、1713、1279cm-1 MS(HRCI) m/z 197、0803(C10134 としての計算
値 197、0814)
【0019】実施例9 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(p−トリル)−1,3−ジオキソラン985m
gを用いる以外は実施例6と同様の操作を行ない、p−
メチル安息香酸とエチレングリコールとのモノエステル
927mg(収率85.7%)を無色油状物として得
た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.94(d,2H,J=8.3Hz),7.22
(d,2H,J=8.3Hz),4.43(ddd,2
H,J=5.9Hz,3.2Hz,1.2Hz),3.
93(ddd,2H,J=5.9Hz、3.2Hz,
1.2Hz),2.46(brs,1H),2.40
(s,3H) IR(neat) 3439、1715、1281cm-1 MS(HREI) m/z 180、0798(C10123 としての計算
値 180、0786)
【0020】実施例10 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(4’−クロロフェニル)ー1,3−ジオキソラ
ン1.11gを用いる以外は実施例6と同様の操作を行
ない、p−クロロ安息香酸とエチレングリコールとのモ
ノエステル1.05g(収率87.1%)を薄黄色油状
物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.97(m,2H),7.40(m,2H),
4.45(m,2H),3.94(m,2H),2.5
9(brs,1H)) IR(neat) 3432、1721、1275cm-1 MS(HRCI) m/z 201、0308(C9 103 Clとしての
計算値 201、0318)
【0021】実施例11 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(3’−クロロフェニル−1,3−ジオキソラン
1.11gを用いる以外は実施例6と同様の操作を行な
い、m−クロロ安息香酸とエチレングリコールとのモノ
エステル971mg(収率80.6%)を薄黄色油状物
として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 8.02(dd,1H、J=2.2Hz、1.5H
z),7.93(ddd,1H、J=7.8Hz、1.
5Hz、1.2Hz)、7.53(ddd,1H、J=
7.8Hz、2.2Hz、1.2Hz)、7.37
(t,1H、J=7.8Hz)、4.46(m,2
H)、3.96(m,2H)、2.37(brs,1
H) IR(neat) 3430、1725、1292、1260cm-1 MS(HREI) m/z 200、0218(C9 9 3 Clとしての
計算値 200、0240)
【0022】実施例12 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−フェニル−1,3−ジオキサン985mgを用い
る以外は実施例6と同様の操作を行ない、安息香酸と
1,3−プロパンジオールとのモノエステル624mg
(収率57.7%)を無色油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 8.03(m,2H)、7.54(m,1H)、
7.43(m,1H)、4.49(t,2H、J=6.
1Hz)、3.78(t,2H、J=6.1Hz)、
2.25(brs,1H)、2.01(tt,2H、J
=6.1Hz) IR(neat) 3420、1721、1277cm-1 MS(HRCI) m/z 181、0865(C10133 としての計算
値 181、0865)
【0023】実施例13 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−フェニル−1,3−ジオキセパン1.07gを用
いる以外は実施例6と同様の操作を行ない、安息香酸と
1,4−ブタンジオールとのモノエステル539mg
(収率46.3%)を薄黄色油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 8.03(m,2H)、7.55(m,1H)、
7.42(m,2H)、4.36(t,2H、J=6.
3Hz)、3.71(t,2H、J=6.6Hz)、
1.67〜1.92(m,5H) IR(neat) 3416、1719、1277cm-1 MS(HREI) m/z 194、0950(C11143 としての計算
値 194、0943)
【0024】実施例14 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−ベンジル−1,3−ジオキソラン985mgを用
いる以外は実施例6と同様の操作を行ない、フェニル酢
酸とエチレングリコールとのモノエステル666mg
(収率61.6%)を薄黄色油状物として得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.22〜7.35(m,5H)、4.21(m,
2H)、3.77(m,2H)、3.66(s,2
H)、2.22(brs、1H) IR(neat) 3460、1736、1161cm-1 MS(HRCI) m/z 181、0870(C10133 としての計算
値 181、0865)
【0025】実施例15 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(2’−オキソプロピル)−1,3−ジオキソラ
ン781mgを用いる以外は実施例6と同様の操作を行
ない、アセト酢酸とエチレングリコールとのモノエステ
ルが得られる。
【0026】実施例16 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−エトキシカルボニルメチル−1,3−ジオキソラ
ン961mgを用いる以外は実施例6と同様の操作を行
ない、マロン酸とエタノールおよびエチレングリコール
との混合エステル333mg(収率31.5%)を得
た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 4.30(m,2H)、4.22(q,2H,J=
7.3Hz)、3.83(m,2H)、3.42(s,
2H)、2.57(brs,1H)、1.29(t,3
H,J=7.3Hz)) IR(neat) 3507、1734cm-1 MS(HRCI) m/z 177、0757(C7 135 としての計算
値 177、0763)
【0027】実施例17 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−シアノメチル−1,3−ジオキソラン679mg
を用いる以外は実施例6と同様の操作を行ない、マロン
ニトリルとエチレングリコールとのモノエステルが得ら
れる。
【0028】実施例18 2−(n−ヘキシル)−1,3−ジオキソランの代わり
に2−(trans−2’−フェニルビニル)−1,3
−ジオキソラン1.06gを用いる以外は実施例6と同
様の操作を行ない、trans−桂皮酸とエチレングリ
コールとのモノエステルを898mg(収率77.9
%)得た。1 H−NMR(CDCl3 ) δ 7.72(d,1H,J=15.9Hz)、7.5
0(m,2H)、7.37(m,3H)、6.47
(d,1H,J=15.9Hz)、4.35(m,2
H)、3.89(m,2H)、2.62(brs,1
H) IR(neat) 3444、1713、1638cm-1 MS(HRCI) m/z 192、0766(C11123 としての計算
値 192、0786)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07C 67/39 C07C 67/39 69/38 69/38 69/614 69/614 69/618 69/618 69/716 69/716 Z 69/78 69/78 69/92 69/92 253/30 253/30 255/19 255/19 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (56)参考文献 特開 昭56−118041(JP,A) Takahiro Hosokaw a,J.Chem.Soc.,Che m.Commun.,1983,p.1245− 1246 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 69/28 C07C 67/39 C07C 69/38 C07C 69/614 C07C 69/618 C07C 69/716 C07C 69/78 C07C 69/92 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 化1 (式中、Rは炭素数1〜15の直鎖状、分枝状もしくは
    環状のアルキル基;またはフェニル基、フェニル低級ア
    ルキル基もしくはフェニル低級アルケニル基(ここで、
    フェニルは、置換基として低級アルキル基、ハロゲン原
    子、もしくは低級アルコキシ基を有していてもよ
    い。);または置換基としてシアノ基、低級アルキルカ
    ルボニル基もしくは低級アルコキシカルボニル基を有す
    る低級アルキル基を示し、nは2、3または4を表わ
    す。)で示される環状アセタールとt−ブチルヒドロペ
    ルオキシドとを、ルテニウム触媒の存在下反応させるこ
    とを特徴とする一般式 化2 (式中、Rおよびnは前記と同じ意味を表わす。)で示
    されるジオールのモノエステル類の製造法。
  2. 【請求項2】ルテニウム触媒が三塩化ルテニウム水和
    物、ジヒドリドテトラキス(トリフェニルホスフィン)
    ルテニウム、ドデカカルボニル三ルテニウム、ジクロロ
    ビス(2,2’ービピリジル)ルテニウムまたはジクロ
    ロトリス(トリフェニルホスフィン)ルテニウムである
    請求項1記載のジオールのモノエステル類の製造法。
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