JP2886733B2 - ホログラム作成方法及び作成装置 - Google Patents

ホログラム作成方法及び作成装置

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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はホログラム作成方法及び
作成装置に係り、特に非球面波を記録するホログラム作
成方法及び作成装置に関する。
【0002】ホログラムは、レーザ走査光学系やホログ
ラムレンズ等の光学素子に用いることができる。近年、
ホログラム光学素子においては、複雑な非球面波を記録
する要求が大きくなってきている。ホログラム作成方
法、及び作成装置においては、この複雑な非球面波を記
録したホログラムを、高精度に、短時間で作成できるこ
とが必要とされている。
【0003】
【従来の技術】従来、複雑な非球面波をホログラムに記
録するには、ホログラムの干渉縞を計算で求め、電子ビ
ーム等でこの干渉縞を直接描きホログラムを作成する方
法等が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、従来の、ホ
ログラムの干渉縞を計算で求め、電子ビーム等でこの干
渉縞を直接描きホログラムを作成する方法では、複雑な
干渉縞を高精度に描くことが難しく、また、時間がかか
るという問題点があった。
【0005】本発明は、上記の点に鑑みてなされたもの
で、複雑な非球面波を記録したホログラムを、高精度
に、短時間で作成できるホログラム作成方法及び作成装
置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、ホログラム記
録材に2つの作成波を照射してホログラムを作成するホ
ログラム作成方法において、一方の作成波を点光源より
出射される球面波とし、他方の作成波をミラーマトリク
ス群により位相を変調した非球面波とする。
【0007】
【作用】本発明では、ホログラム記録材に2つの作成波
を照射してホログラムを作成するホログラム作成方法に
おいて、一方の作成波を球面波とし、他方の作成波を、
ミラーマトリクス群により位相を変調した非球面波とす
るため、複雑な非球面波を高精度に記録することを可能
にできる。また、作成波である球面波と非球面波の設定
が短時間で行えるため、ホログラムの作成を短時間で行
うことを可能にできる。
【0008】
【実施例】図1は本発明の第1実施例を適用したホログ
ラム作成装置の構成図を示す。同図中、10は光源であ
るレーザ、11はレーザ光を2つの作成波に分けるため
のビームスプリッタ、12、14は反射鏡、13はレー
ザ光を収束して球面波に変換するためのレンズ、6は点
光源位置を調整するためのピンホールを示す。また、1
5はレーザ光を広げるビームエクスパンダ、16はハー
フミラーを示す。7はミラーマトリクス群(Defor
mable Mirror Device:DMD)を
示す。DMD7は微小なミラーをマトリクス状に配置し
ており、圧電素子を用いて各ミラーの高さ位置を可変す
ることにより、反射光の位相を変調することができる。
【0009】1はホログラム記録材、2はホログラム記
録材1を分割したセル、8はセル2のみに作成波を照射
するためのマスク、3は作成波の球面波、4は作成波の
非球面波を示す。
【0010】9はホログラム記録材1のセル2をマスク
8に合わせるために、ホログラム記録材1を移動するス
テージである。17は制御回路であり、ステージ9、D
MD7、及び、ピンホール駆動手段であるピンホール駆
動回路18を制御する。制御回路17の制御によりステ
ージ9のX、Y方向の位置、DMD7を構成する各ミラ
ーの高さ、及び、ピンホール6の光軸方向(A 1 、A 2
方向)の位置が設定される。光源10から出射されたレ
ーザ光は、ビームスプリッタ11を通り、反射鏡12に
より反射され、レンズ13によりピンホール6の位置に
収束され、点光源5から出射する球面波3に変換され
る。一方、ビームスプリッタ11により反射された光
は、反射鏡14で反射され、ビームエクスパンダー15
により所定の大きさに広げられた平面波にされる。この
平面波はハーフミラー16により反射され、DMD7に
入射される。DMD7に入射された平面波は、DMD7
の微小な各ミラーにより位相を変調されて、非球面波4
に変換される。ホログラム記録材1のセル2のホログラ
ムは、前記の球面波3と非球面波4とにより作成され
る。
【0011】図1において、X軸、Y軸の原点は、マス
ク8の中心とし、Y軸は原点から図1の左方向、X軸は
原点から図1の紙面の表から裏に向かう方向とする。
【0012】次に本実施例のホログラム作成方法につい
て説明する。作成したいホログラムの波面の位相φ
(X,Y)は、与えられているものとする。ホログラム
は、この与えられた波面の位相φ(X,Y)を、球面波
3の位相で近似することで作成する。位相φ(X,Y)
を球面波3の位相で近似できるように、ホログラム記録
材1をマスク8の寸法で定まる所定寸法のセル2に分割
し、分割したセル2ごとにホログラムを作成する。
【0013】図2はホログラム記録材1の分割の説明図
を示す。図2では、ホログラム記録材1を縦横共に8等
分して64個のセル2に分割した場合を示しているが、
セル2の縦横の各寸法は100μm程度で、ホログラム
記録材1の寸法に応じて分割数は変わる。
【0014】先ず、ステージ9を動かして、ホログラム
を作成するセル2をマスク8に合わせる。ここで、この
セル2を、ホログラム記録材1を分割した内のn番目の
セル2とする。図3はホログラム記録材1のセル2の説
明図を示す。同図では、セル2をマスク8に合わせて、
セル2の中心を、X軸、Y軸の原点に置いたときの様子
を示している。同図に示されるセル2の区画32は、後
に述べるように、DMD7の微小な各ミラーに対応して
おり、作成波の一方の平面波がDMD7により位相変調
を受けるときの単位領域を示している。また、図4はセ
ル2における、作成したいホログラムの干渉縞31の分
布の一例を示す。
【0015】次に、作成したいホログラムの波面の位相
と、近似する球面波3の位相の差が最小になるように、
点光源5の位置を定める。n番目のセル2の作成したい
ホログラムの波面の位相をφn (X,Y)とし、φ
n (X,Y)を近似する作成波である球面波3の位相を
φR n (X,Y)とする。点光源5のセル2に対する位
置を、図1のFn 、Hn で規定すると、φR n (X,
Y)は、φR n (X,Y)=K√(Fn 2 +X2 +(H
n −Y)2 )で表せる。ここで、作成したいホログラム
の位相φn (X,Y)と球面波3の位相φR n (X,
Y)の差をできるだけ小さくする必要がある。このため
には、下式で示される、作成したいホログラムの位相φ
n (X,Y)と球面波3の位相φR n (X,Y)の差の
自乗平均Eが最小となるFn とHn の値を算出する。
【0016】 E=∬(φn (X,Y)−φR n (X,Y))2 dX dY 上式より算出した、Eが最小となるFn とHn の値を、
それぞれFnm、Hnmとする。ピンホール6を制御回路1
7によりピンホール駆動回路18を介して移動すること
で、Fn とHn を、算出したFnmとHnmの値に設定す
る。これにより、n番目のセル2における点光源5の位
置が定まる。ピンホール6の移動は、制御回路17とピ
ンホール駆動回路18により短時間で行うことができ
る。
【0017】次に、DMD7の微小な各ミラーに対応す
るセル2の分割した各区画32における、作成したい波
面と実際の波面との差を無くすように、DMD7の各ミ
ラーの高さ位置を定める。
【0018】図5はDMDの説明図を示す。図5(A)
はDMD7を横から見た図を示し、図5(B)はDMD
7を下から見た図を示す。同図に示すように、DMD7
は微小なミラーが5μm程度のピッチでマトリクス状に
配置されており、各ミラーは高さ位置(図5(A)で上
下方向)が微小な単位で可変できるようになっている。
【0019】図5に示すようにDMD7の各ミラーを区
分する番号を、X軸方向の区分番号をp、Y軸方向の区
分番号をqとし(図5の例では、p、qは、1〜10の
整数)、X軸方向の区分番号がp、Y軸方向の区分番号
がqのミラーを、ミラー(p,q)とする。
【0020】セル2を図3に示すように、DMD7の各
ミラーに対応する区画32に区分して、X軸方向、Y軸
方向の区分の番号をそれぞれ、p、q(図3の例では、
p、qは、1〜10の整数)とし、X軸方向の区分番号
がp、Y軸方向の区分番号がqの区画32を区画(p,
q)とし、この座標を(Xp ,Yq )とする。
【0021】n番目のセル2における作成したいホログ
ラムの波面の位相φn (X,Y)と、近似する球面波3
の位相φR n (X,Y)の位相差、即ち作成したいホロ
グラムの非球面成分をφA n (X,Y)とすると、下記
式が成り立つ。
【0022】 φA n (X,Y)=−(φn (X,Y)−φR n (X,Y)) −− 従って、(Xp ,Yq )においては、 φA n (Xp ,Yq )= −(φn (Xp ,Yq )−φR n (Xp ,Yq )) −− の式が成り立つ。式の右辺より、セル2の各区画
(p,q)における作成したいホログラムの波面と球面
波3の位相差が求められる。この位相差を、DMD7の
各ミラー(p,q)における位相差に換算し、換算した
位相差に対応する各ミラー(p,q)の高さ位置を算出
する。
【0023】各ミラー(p,q)の高さ位置を算出した
後、制御回路17により、DMD7の各ミラーを駆動す
る圧電素子に電圧を印加して、各ミラー(p,q)の高
さ位置を、この算出した値に設定する。各ミラー(p,
q)の高さ位置の設定は、制御回路17により短時間で
行うことができる。
【0024】なお、セル2の各区画(p,q)における
作成したいホログラムの波面と球面波3の位相差の算出
は、下記式を導入して行うのが計算時間等で有利であ
る。以下にこの算出方法について記す。
【0025】セル2の(X,Y)での作成したいホログ
ラムの波面と球面波3の位相差、即ち作成したいホログ
ラムの非球面成分φA n (X,Y)を下記式の級数形
式の式として表す。
【0026】 φA n (X,Y)=KΣCi+j n ・X i・Y j −− 式と式より、下記式が成り立つ。
【0027】 −(φn (X,Y)−φR n (X,Y)) =KΣCi+j n ・X i・Y j −− この式から、級数の係数Ci+j n を適切な近似を行っ
て求める。Ci+j n が求められると、セル2の(X,
Y)での作成したいホログラムの波面と球面波3の位相
差、即ち作成したいホログラムの非球面成分φ
A n (X,Y)は式から算出できる。従って、セル2
の各区画(p,q)における作成したいホログラムの波
面と球面波3の位相差の算出は、式に(Xp ,Yq
の値を代入することで行える。
【0028】以上により、点光源5の位置と、DMD7
の各ミラーの高さ位置が設定でき、作成するn番目のセ
ル2の作成波である、球面波3と非球面波4の位相が定
められる。この状態で、光源10よりレーザ光を射出
し、上記のように位相を定められた球面波3と非球面波
4を照射して、n番目のセル2のホログラムを作成する
ことができる。
【0029】上記のように、第1実施例の方法によれ
ば、作成したいホログラムの波面の位相を球面波3の位
相で近似し、かつ、DMD7により非球面成分を補正す
る非球面波4を生成するため、複雑な非球面波を記録し
たホログラムを、高精度で作成することができる。ま
た、点光源5の位置の設定、DMD7の各ミラーの高さ
位置の設定が短時間で行えるため、ホログラムを短時間
で作成できる。
【0030】図6は本発明の第2実施例を適用したホロ
グラム作成装置の構成図を示す。同図において、図1と
同一構成部分には同一符号を付し、適宜説明を省略す
る。同図の第2実施例では、ホログラム記録材1とDM
D7の間に望遠鏡系21を配置している。図の、DMD
7とレンズ系22の距離L1 と、ホログラム記録材1と
レンズ系22の距離L2 を等しく設定すると、この望遠
鏡系21(倍率1:1)により、ホログラム記録材1の
セル2での非球面波4の位相と、DMD7のミラーにお
ける非球面波4の位相が等しくなる。このため、セル2
の各区画(p,q)における位相からDMD7の各ミラ
ー(p,q)の高さ位置への換算を、極めて容易とする
ことができる。
【0031】また、この望遠鏡系21は、DMD7の寸
法とセル2の寸法に差がある場合、倍率を変えて、この
寸法比の変換を行う機能を持たせることも可能である。
例えば、セル2の寸法がDMD7より小さい場合、望遠
鏡系の倍率を1より小さくすることで、倍率が1のとき
よりも微細なパターンのホログラムを、セル2に作成す
ることができる。
【0032】第2実施例の方法でも、第1実施例の方法
と同様に、複雑な非球面波を記録したホログラムを、高
精度で、また、短時間で作成することができる。
【0033】
【発明の効果】上述の如く、本発明によれば、ホログラ
ムの一方の作成波を球面波とし、他方の作成波を、ミラ
ーマトリクス群により位相を変調した非球面波とするた
め、複雑な非球面波を記録したホログラムを高精度に作
成でき、また、作成波である球面波と非球面波の設定が
短時間で行えるため、ホログラムの作成を短時間で行う
ことができる等の特長を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例を適用したホログラム作成
装置の構成図である。
【図2】ホログラムの分割の説明図である。
【図3】ホログラムのセルの説明図である。
【図4】セルの干渉縞分布の一例を示す図である。
【図5】DMDの説明図である。
【図6】本発明の第2実施例を適用したホログラム作成
装置の構成図である。
【符号の説明】
1 ホログラム記録材 2 セル 3 球面波 4 非球面波 5 点光源 6 ピンホール 7 DMD 8 マスク 9 ステージ 10 光源 11 ビームスプリッタ 12、14 反射鏡 13 レンズ 15 ビームエクスパンダ 16 ハーフミラー 17 制御回路 18 ピンホール駆動回路 21 望遠鏡系 22、23 レンズ系 31 干渉縞 32 区画

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ホログラム記録材に2つの作成波を照射
    してホログラムを作成するホログラム作成方法におい
    て、 一方の作成波を点光源より出射される球面波とし、他方
    の作成波をミラーマトリクス群により位相を変調した非
    球面波とすることを特徴とするホログラム作成方法。
  2. 【請求項2】 前記ホログラム記録材上で、作成すべき
    ホログラムの位相と前記球面波の位相の差の自乗平均が
    最小となる該球面波の最小誤差位相を算出し、該最小誤
    差位相となるように該ホログラム記録材に対する点光
    位置を移動させることを特徴とする請求項1記載のホ
    ログラム作成方法。
  3. 【請求項3】 前記非球面波は、望遠鏡系を通して前記
    ホログラム記録材に照射されることを特徴とする請求項
    1又は2記載のホログラム作成方法。
  4. 【請求項4】 光源よりのレーザ光をビーム分割手段に
    より分割し、該分割した2つのレーザ光をステージ上
    ホログラム記録材に照射してホログラムを作成するホロ
    グラム作成装置において、 前記分割したレーザ光の一方を球面波に変換するピンホ
    ルと、 該ピンホールの位置を可変するピンホール駆動手段と前記 分割したレーザ光の他方の位相をマトリクス状に配
    置した複数のミラーにより変調して非球面波とするミラ
    ーマトリクス群と前記 ピンホール駆動手段及前記ミラーマトリクス群を
    構成する複数のミラーのそれぞれの高さを制御する制御
    路とを有する構成としたことを特徴とするホログラム
    作成装置。
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