JP2885255B2 - 光学活性アルコール及びその製造法 - Google Patents
光学活性アルコール及びその製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は不斉炭素上にトリフルオ
ロメチル基、末端にアルコキシ基を有する新規な光学活
性アルコール及びその製造法に関するものである。
ロメチル基、末端にアルコキシ基を有する新規な光学活
性アルコール及びその製造法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学活性物質は従来より医薬品、農薬の
分野に於て使用されてきたが近年強誘電性液晶、有機非
線形材料などの機能性材料として注目を集めている。例
えば有機非線形材料の分野においては有機材料が二次の
非線形光学効果を生ずるためには分子内に不斉中心が存
在することが望ましい〔例えば、山口、中野、笛野;化
学、42卷、11号、757頁(1987)〕。また強
誘電性液晶の分野においては液晶が強誘電性を示すため
には液晶分子が光学活性体であることが不可欠である
〔例えば城野、福田;有機合成化学協会誌、47卷、6
号、568頁(1989)〕。従来このような分野にお
いては光学活性源として、2−ブタノール、2−オクタ
ノール、2−メチル−1−ブタノール、アミノ酸誘導体
などの光学活性物質が用いられてきた。しかしながらこ
の様な光学活性物質を使用していたのでは、得られる材
料の特性は限定されたものであり更に新しい光学活性物
質を見出すことが望まれる。
分野に於て使用されてきたが近年強誘電性液晶、有機非
線形材料などの機能性材料として注目を集めている。例
えば有機非線形材料の分野においては有機材料が二次の
非線形光学効果を生ずるためには分子内に不斉中心が存
在することが望ましい〔例えば、山口、中野、笛野;化
学、42卷、11号、757頁(1987)〕。また強
誘電性液晶の分野においては液晶が強誘電性を示すため
には液晶分子が光学活性体であることが不可欠である
〔例えば城野、福田;有機合成化学協会誌、47卷、6
号、568頁(1989)〕。従来このような分野にお
いては光学活性源として、2−ブタノール、2−オクタ
ノール、2−メチル−1−ブタノール、アミノ酸誘導体
などの光学活性物質が用いられてきた。しかしながらこ
の様な光学活性物質を使用していたのでは、得られる材
料の特性は限定されたものであり更に新しい光学活性物
質を見出すことが望まれる。
【0003】最近強誘電性液晶の分野において、光学活
性源として不斉炭素上にフッ素を置換した、CF3C*H(OH)
CH2COOC2H5、CF3C*H(OH)CH2CH2OC2H5 、CF3C*H(OH)CH2C
H2CH2OC2H5、CF3C*H(OH)CH2CH2CH2CH2OC2H5 、CF3C*H(O
H)C6H13、CF3C*H(OH)C8H17 、C2F5C*H(OH)C8H17等のア
ルコールを使用して強誘電性液晶を製造する試みが盛ん
に行われている(例えば、特開昭64−3154号、特
開平1−316339号、特開平1−316367号、
特開平1−316372号、特開平2−225434
号、特開平2−229128号の各公報参照。)。これ
らのアルコールを用いて製造された強誘電性液晶はいず
れも不斉炭素上に電気陰性度の大きいフッ素原子が置換
されているため大きい自発分極を有しかつ比較的速い応
答速度を与える。更に、CF3C*H(OH)C6H13,CF3C*H(OH)C8
H17,C2F5C*H(OH)C8H17等を用いて製造された液晶は反強
誘電相を有する強誘電性液晶を与え易いことが認められ
ており、このためにこれらのアルコールは非常に特徴あ
るアルコールとして注目を集めている。反強誘電相を有
する強誘電性液晶は極く最近見出されたもので〔(A.D.
L.Chandani,E.Gorecka,Y.Ouchi,H.Takezoe,A.Furukawa:
Jpn.Appl.Phys.,28,(1989)〕従来の強誘電性液晶に比べ
配向が容易である、配向の自己修復能力がある、高いコ
ントラスト比が実現できる、明確な直流しきい値を持つ
など様々の有利な点を持っているため大きな注目を集め
ている。
性源として不斉炭素上にフッ素を置換した、CF3C*H(OH)
CH2COOC2H5、CF3C*H(OH)CH2CH2OC2H5 、CF3C*H(OH)CH2C
H2CH2OC2H5、CF3C*H(OH)CH2CH2CH2CH2OC2H5 、CF3C*H(O
H)C6H13、CF3C*H(OH)C8H17 、C2F5C*H(OH)C8H17等のア
ルコールを使用して強誘電性液晶を製造する試みが盛ん
に行われている(例えば、特開昭64−3154号、特
開平1−316339号、特開平1−316367号、
特開平1−316372号、特開平2−225434
号、特開平2−229128号の各公報参照。)。これ
らのアルコールを用いて製造された強誘電性液晶はいず
れも不斉炭素上に電気陰性度の大きいフッ素原子が置換
されているため大きい自発分極を有しかつ比較的速い応
答速度を与える。更に、CF3C*H(OH)C6H13,CF3C*H(OH)C8
H17,C2F5C*H(OH)C8H17等を用いて製造された液晶は反強
誘電相を有する強誘電性液晶を与え易いことが認められ
ており、このためにこれらのアルコールは非常に特徴あ
るアルコールとして注目を集めている。反強誘電相を有
する強誘電性液晶は極く最近見出されたもので〔(A.D.
L.Chandani,E.Gorecka,Y.Ouchi,H.Takezoe,A.Furukawa:
Jpn.Appl.Phys.,28,(1989)〕従来の強誘電性液晶に比べ
配向が容易である、配向の自己修復能力がある、高いコ
ントラスト比が実現できる、明確な直流しきい値を持つ
など様々の有利な点を持っているため大きな注目を集め
ている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この様に不斉炭素上に
フッ素置換した構造を分子中に有するアルコール(以
後、フッ素置換アルコールと略称することがある。)は
反強誘電相を有する強誘電性液晶(以後、反強誘電性液
晶と略称することがある。)の製造原料として注目を集
めているが、前述のような公知のフッ素置換アルコール
を用いて得られた反強誘電性液晶は応答速度や実用温度
範囲等の点で未だ十分でなく、更に優れた性能の液晶を
与えるようなフッ素置換アルコールが望まれている。ま
た本発明の光学活性アルコールを製造する方法として
は、次に示したように本発明類似のアルコールである C
F3C*H(OH)(CH2)4OC2H5の製造法に準じて製造することが
考えられるが、この方法は極めて煩雑な方法であり更に
効率的な製造法の開発が望まれる。
フッ素置換した構造を分子中に有するアルコール(以
後、フッ素置換アルコールと略称することがある。)は
反強誘電相を有する強誘電性液晶(以後、反強誘電性液
晶と略称することがある。)の製造原料として注目を集
めているが、前述のような公知のフッ素置換アルコール
を用いて得られた反強誘電性液晶は応答速度や実用温度
範囲等の点で未だ十分でなく、更に優れた性能の液晶を
与えるようなフッ素置換アルコールが望まれている。ま
た本発明の光学活性アルコールを製造する方法として
は、次に示したように本発明類似のアルコールである C
F3C*H(OH)(CH2)4OC2H5の製造法に準じて製造することが
考えられるが、この方法は極めて煩雑な方法であり更に
効率的な製造法の開発が望まれる。
【0005】
【化8】
【0006】本発明は前述のような状況に鑑みて行われ
たものであり、優れた性能を有する液晶物質の製造に使
用しうる不斉炭素上にトリフルオロメチル基を有しかつ
末端にアルコシ基を有する新規な光学活性アルコールと
それの簡便な製造法を提供するものである。
たものであり、優れた性能を有する液晶物質の製造に使
用しうる不斉炭素上にトリフルオロメチル基を有しかつ
末端にアルコシ基を有する新規な光学活性アルコールと
それの簡便な製造法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式(I)で
表される新規な光学活性アルコールを提供するものであ
って、一般式(I)において例えば、mが4以下の光学
活性アルコールを
表される新規な光学活性アルコールを提供するものであ
って、一般式(I)において例えば、mが4以下の光学
活性アルコールを
【0008】
【化9】
【0009】(上式中、mは5以上、nは1以上の整数
を表す。またC*は不斉炭素原子を表す。) 使用して例えば、特開昭64─3154号公報に示され
ているような液晶化合物を製造した場合、その液晶化合
物は反強誘電相を有しないのに対し本発明の光学活性ア
ルコールを使用した場合には反強誘電相を有する液晶化
合物が得られるという大きな特徴を有するもので、本発
明の光学活性アルコールは特にこのような反強誘電性液
晶の製造原料として極めて有用なものである。また本発
明は光学活性4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチルの水酸基を保護した後、エステル部分
を還元し、得られたアルコールをスルホン酸エステルと
し、このスルホン酸エステル部分をアルキルアルコシ基
と置換した後、最初に保護した水酸基保護基を外すとい
う方法によって従来法では困難であった一般式(I)に
おいてmが5以上、nが1以上の任意のm、nを有する
光学活性アルコールを極めて容易に製造することができ
ることを本発明者らが見出したことに基づき、本発明の
光学活性アルコールの新しい製造法を提供するものであ
る。即ち、本発明の光学活性アルコールの製造法は、
(1)下記一般式(I−1)、
を表す。またC*は不斉炭素原子を表す。) 使用して例えば、特開昭64─3154号公報に示され
ているような液晶化合物を製造した場合、その液晶化合
物は反強誘電相を有しないのに対し本発明の光学活性ア
ルコールを使用した場合には反強誘電相を有する液晶化
合物が得られるという大きな特徴を有するもので、本発
明の光学活性アルコールは特にこのような反強誘電性液
晶の製造原料として極めて有用なものである。また本発
明は光学活性4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチルの水酸基を保護した後、エステル部分
を還元し、得られたアルコールをスルホン酸エステルと
し、このスルホン酸エステル部分をアルキルアルコシ基
と置換した後、最初に保護した水酸基保護基を外すとい
う方法によって従来法では困難であった一般式(I)に
おいてmが5以上、nが1以上の任意のm、nを有する
光学活性アルコールを極めて容易に製造することができ
ることを本発明者らが見出したことに基づき、本発明の
光学活性アルコールの新しい製造法を提供するものであ
る。即ち、本発明の光学活性アルコールの製造法は、
(1)下記一般式(I−1)、
【0010】
【化10】
【0011】(上式中、Wは水酸基保護基を表し、Yは
スルフォニル基を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)
で表されるスルフォン酸エステルに、下記一般式(I−
2)、
スルフォニル基を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)
で表されるスルフォン酸エステルに、下記一般式(I−
2)、
【0012】
【化11】
【0013】(上式中、mは5以上の整数を表し、nは
1以上の整数を表す。)で表されるグリニヤール試薬を
反応させ、下記一般式(I−3)、
1以上の整数を表す。)で表されるグリニヤール試薬を
反応させ、下記一般式(I−3)、
【0014】
【化12】
【0015】(上式中、W、nおよびC*は前記と同じ
意味を有し、mは5以上の整数を示す。)で表されるエ
ーテル化合物を得て、次いで、(2)前記一般式(I−
3)のエーテル化合物の水酸基保護基(W)を脱離せし
めることを特徴とする下記一般式(I)で表される光学
活性アルコールの製造法である。
意味を有し、mは5以上の整数を示す。)で表されるエ
ーテル化合物を得て、次いで、(2)前記一般式(I−
3)のエーテル化合物の水酸基保護基(W)を脱離せし
めることを特徴とする下記一般式(I)で表される光学
活性アルコールの製造法である。
【0016】
【化13】
【0017】(上式中、mは5以上、nは1以上の整数
を表す。またC*は不斉炭素原子を表す。) また、前記一般式(I−1)で表されるスルフォン酸エ
ステルは(a)下記一般式(I−4)、
を表す。またC*は不斉炭素原子を表す。) また、前記一般式(I−1)で表されるスルフォン酸エ
ステルは(a)下記一般式(I−4)、
【0018】
【化14】
【0019】(上式中、Aは低級アルキルを表し、Wは
水酸基保護基を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)で
表される光学活性4、4、4−トリフルオロ−3−ヒド
ロキシブタン酸エステルを還元して下記一般式(I−
5)、
水酸基保護基を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)で
表される光学活性4、4、4−トリフルオロ−3−ヒド
ロキシブタン酸エステルを還元して下記一般式(I−
5)、
【0020】
【化15】
【0021】(上式中、WおよびC*は前記と同じ意味
を有する。)で表されるアルコールを得、次いで、
(b)このアルコールとスルフォン化剤とを反応させる
ことにより製造されたものである。次に本発明の光学活
性アルコールの製造法を更に具体的に説明すると下記反
応式で示したようになる。
を有する。)で表されるアルコールを得、次いで、
(b)このアルコールとスルフォン化剤とを反応させる
ことにより製造されたものである。次に本発明の光学活
性アルコールの製造法を更に具体的に説明すると下記反
応式で示したようになる。
【0022】
【化16】
【0023】更に、上記反応式にしたがって説明する。 (1)まず、4、4、4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチルの水酸基の保護であるが、この反応は
公知の方法に従って容易に行うことができる。保護剤と
してはジヒドロピラン(DHP)のほか塩化ベンジルな
どの公知の保護剤のいずれも使用し得る。次にエステル
部分の還元であるが、これも水素化リチウムアルミニウ
ム等を使用した公知の還元方法で還元することができ
る。尚、生成したアルコールは比較的不安定な化合物で
あるので精製することなく直ちに次の工程で用いられ
る。還元によって得られたアルコールのスルフォン酸エ
ステルの製造はこれもp−トルエンスルフォニルクロラ
イド(TsCl)を使用した公知の方法に従って容易に
行われる。 (2)もう一つの原料であるグリニヤール試薬はアルコ
キシアルコールを一般的な臭素化の方法によって臭素化
し次いでこれも公知の方法で窒素気流中でグリニヤール
試薬とする。 (3)次いで(1)で得られたスルフォン酸エステル<
1>と(2)で得られたグリニヤール試薬<2>とでカ
ップリング反応を行わせて本発明の光学活性アルコール
を得る。この反応は反応温度の制御が特に重要で−15
℃以下の温度では反応の進行は遅くなる。また−5℃以
上の温度では副反応が多くなり好ましくない。最適の温
度は−10℃を中心とする狭い範囲で反応中は温度を±
2℃以内に保つのが好ましい。またこのカップリング反
応においては触媒としてヨウ化第1銅を使用するが、こ
のものは反応原料であるスルフォン酸エステル1モルに
対して、1モルから0.5モルが用いられるが、好まし
くは0.2モルから0.35モルである。またヨウ化第
1銅の添加の仕方としては、少量ずつ反応時間の全体に
わたって添加することが望ましい。反応は5〜25時間
好ましくは8〜14時間行われる。尚、本発明で用いら
れる原料の一つである4,4,4−トリフルオロ−3−
ヒドロキシブタン酸エチルは4,4,4−トリフルオロ
アセト酢酸エチルのパン酵母による還元によってR−体
が、またルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒と
して不斉水素化することによってR,S−体のいずれで
も容易に製造することができる(特開昭63−3108
47号公報)。本発明で用いられるグリニヤール試薬の
原料であるアルコキシアルコールはジオールを原料とし
て次の反応式にしたがって公知の方法により容易に製造
することができる。
シブタン酸エチルの水酸基の保護であるが、この反応は
公知の方法に従って容易に行うことができる。保護剤と
してはジヒドロピラン(DHP)のほか塩化ベンジルな
どの公知の保護剤のいずれも使用し得る。次にエステル
部分の還元であるが、これも水素化リチウムアルミニウ
ム等を使用した公知の還元方法で還元することができ
る。尚、生成したアルコールは比較的不安定な化合物で
あるので精製することなく直ちに次の工程で用いられ
る。還元によって得られたアルコールのスルフォン酸エ
ステルの製造はこれもp−トルエンスルフォニルクロラ
イド(TsCl)を使用した公知の方法に従って容易に
行われる。 (2)もう一つの原料であるグリニヤール試薬はアルコ
キシアルコールを一般的な臭素化の方法によって臭素化
し次いでこれも公知の方法で窒素気流中でグリニヤール
試薬とする。 (3)次いで(1)で得られたスルフォン酸エステル<
1>と(2)で得られたグリニヤール試薬<2>とでカ
ップリング反応を行わせて本発明の光学活性アルコール
を得る。この反応は反応温度の制御が特に重要で−15
℃以下の温度では反応の進行は遅くなる。また−5℃以
上の温度では副反応が多くなり好ましくない。最適の温
度は−10℃を中心とする狭い範囲で反応中は温度を±
2℃以内に保つのが好ましい。またこのカップリング反
応においては触媒としてヨウ化第1銅を使用するが、こ
のものは反応原料であるスルフォン酸エステル1モルに
対して、1モルから0.5モルが用いられるが、好まし
くは0.2モルから0.35モルである。またヨウ化第
1銅の添加の仕方としては、少量ずつ反応時間の全体に
わたって添加することが望ましい。反応は5〜25時間
好ましくは8〜14時間行われる。尚、本発明で用いら
れる原料の一つである4,4,4−トリフルオロ−3−
ヒドロキシブタン酸エチルは4,4,4−トリフルオロ
アセト酢酸エチルのパン酵母による還元によってR−体
が、またルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒と
して不斉水素化することによってR,S−体のいずれで
も容易に製造することができる(特開昭63−3108
47号公報)。本発明で用いられるグリニヤール試薬の
原料であるアルコキシアルコールはジオールを原料とし
て次の反応式にしたがって公知の方法により容易に製造
することができる。
【0024】
【発明の効果】本発明の不斉炭素上にトリフルオロメチ
ル基、末端にアルコキシ基を有する新規な光学活性アル
コールは強誘電性液晶、医薬品、農薬、その他の機能性
材料の製造原料として有用なものである。
ル基、末端にアルコキシ基を有する新規な光学活性アル
コールは強誘電性液晶、医薬品、農薬、その他の機能性
材料の製造原料として有用なものである。
【0025】
【実施例】次に実施例によって本発明を更に詳細に説明
するが本発明はこれに限定されるものではない。
するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0026】実施例1 R−(+)−1,1,1−トリフルオロ−7−エトキシ
−2−ヘプタノールの製造〔一般式(I)に於てm=
5、n=2の場合〕 (1)ジヒドロピランによる4,4,4−トリフルオロ
−3−ヒドロキシブタン酸エチルの水酸基の保護 R−(+)−4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチル33.4gとジヒドロピラン22.6
gの混合物に濃塩酸、7mlを氷冷下撹拌しながら滴下
した。滴下終了後更に5時間室温で撹拌を続けた。反応
混合物を氷水に注ぎ炭酸水素ナトリウムで中和した後塩
化メチレンで抽出した。乾燥後溶媒を留去し6mmHg
の減圧下蒸留して目的物4、4、4−トリフルオロ−3
−テトラヒドロピラニールオキシブタン酸エチル(1)
を41.3g(収率85%)得た。
−2−ヘプタノールの製造〔一般式(I)に於てm=
5、n=2の場合〕 (1)ジヒドロピランによる4,4,4−トリフルオロ
−3−ヒドロキシブタン酸エチルの水酸基の保護 R−(+)−4,4,4−トリフルオロ−3−ヒドロキ
シブタン酸エチル33.4gとジヒドロピラン22.6
gの混合物に濃塩酸、7mlを氷冷下撹拌しながら滴下
した。滴下終了後更に5時間室温で撹拌を続けた。反応
混合物を氷水に注ぎ炭酸水素ナトリウムで中和した後塩
化メチレンで抽出した。乾燥後溶媒を留去し6mmHg
の減圧下蒸留して目的物4、4、4−トリフルオロ−3
−テトラヒドロピラニールオキシブタン酸エチル(1)
を41.3g(収率85%)得た。
【0027】(2)水素化リチウムアルミニウムによる
4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニー
ルオキシブタン酸エチルの還元 水素化リチウムアルミニウム4.2gのエーテル懸濁溶
液に4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラ
ニールオキシブタン酸エチル(1)30.1gのエーテ
ル溶液50mlを1.5時間かけて滴下した。さらに3
0分間還流した後、氷冷下に水8gとテトラヒドロフラ
ン50mlの混合溶液を滴下し、固体をろ別しエーテル
抽出した。乾燥後、エーテルを留去し28.1gの4,
4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニールオ
キシブタノール(2)を65%の純度で得た。(2)は
比較的熱、酸に対して不安定であったので精製を行わず
ピリジン中でモレキュラーシーブ4Aで乾燥したのみで
次工程に用いた。
4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニー
ルオキシブタン酸エチルの還元 水素化リチウムアルミニウム4.2gのエーテル懸濁溶
液に4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラ
ニールオキシブタン酸エチル(1)30.1gのエーテ
ル溶液50mlを1.5時間かけて滴下した。さらに3
0分間還流した後、氷冷下に水8gとテトラヒドロフラ
ン50mlの混合溶液を滴下し、固体をろ別しエーテル
抽出した。乾燥後、エーテルを留去し28.1gの4,
4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニールオ
キシブタノール(2)を65%の純度で得た。(2)は
比較的熱、酸に対して不安定であったので精製を行わず
ピリジン中でモレキュラーシーブ4Aで乾燥したのみで
次工程に用いた。
【0028】(3)4,4,4−トリフルオロ−3−テ
トラヒドロピラニールオキシ−ブタノールのスルフォン
酸エステル化 化合物(2)(純度65%)の28.1gのピリジン溶
液50mlを−10℃に冷却しp−トルエンスルフォニ
ルクロライド23.3gを加え1.5時間攪拌した。そ
の後室温で減圧下ピリジンを留去した後、析出した固体
に塩化メチレンを加えて溶解した。ついで塩化メチレン
溶液を酢酸アンモニウム飽和水溶液で洗浄した。乾燥
後、室温で塩化メチレンを除き、減圧下低沸点物を除去
した。ついでベンゼンを溶媒とするシリカゲルカラムに
より精製して純度83%のスルフォン酸エステル(3)
を4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニ
ールオキシブタン酸エチル(1)からの収率35%で得
た。
トラヒドロピラニールオキシ−ブタノールのスルフォン
酸エステル化 化合物(2)(純度65%)の28.1gのピリジン溶
液50mlを−10℃に冷却しp−トルエンスルフォニ
ルクロライド23.3gを加え1.5時間攪拌した。そ
の後室温で減圧下ピリジンを留去した後、析出した固体
に塩化メチレンを加えて溶解した。ついで塩化メチレン
溶液を酢酸アンモニウム飽和水溶液で洗浄した。乾燥
後、室温で塩化メチレンを除き、減圧下低沸点物を除去
した。ついでベンゼンを溶媒とするシリカゲルカラムに
より精製して純度83%のスルフォン酸エステル(3)
を4,4,4−トリフルオロ−3−テトラヒドロピラニ
ールオキシブタン酸エチル(1)からの収率35%で得
た。
【0029】(4)3−エトキシ−1−ブロモプロパン
の製造 3−エトキシ−1−プロパノール16.8gに三臭化リ
ン14.5gをゆっくり滴下した。30分後90mmH
g,150℃で減圧蒸留し、留出分に塩化メチレンを加
え飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。乾燥後溶
媒を除き減圧蒸留して純度94%の3−エトキシ−1−
ブロモプロパン(4)14.8g(収率55%)を得
た。
の製造 3−エトキシ−1−プロパノール16.8gに三臭化リ
ン14.5gをゆっくり滴下した。30分後90mmH
g,150℃で減圧蒸留し、留出分に塩化メチレンを加
え飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。乾燥後溶
媒を除き減圧蒸留して純度94%の3−エトキシ−1−
ブロモプロパン(4)14.8g(収率55%)を得
た。
【0030】(5)1,1,1−トリフルオロ−7−エ
トキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシヘプタンの
製造 窒素雰囲気下マグネシウム片1.5gにテトラヒドロフ
ラン10mlを加え、少量のヨウ素を加えてマグネシウ
ムを活性化した後、化合物(4)の9.4gのテトラヒ
ドロフラン20ml溶液を室温で滴下し系内でグリニヤ
ール試薬を調製した。この溶液を−10℃に冷却しスル
フォン酸エステル(3)をゆっくり滴下した。また触媒
であるヨウ化銅1gをほぼ1時間に1回の割合で14回
加えた。約14時間の反応後反応混合物を酢酸アンモニ
ウム4.4gの水溶液100gに注ぎ、ヘキサン、エー
テルで抽出した。乾燥後溶媒を留去しエーテル50ml
を加え水素化リチウムアルミニウムのエーテル懸濁液に
滴下して1時間還流した。放冷後氷冷下に水を加え過剰
の水素化リチウムアルミニウムを分解した後固体をろ別
し、ヘキサン、エーテルで抽出した。乾燥後、溶媒を留
去し減圧蒸留し4.5gの目的物(5)を純度70%で
得た(収率54%)。
トキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシヘプタンの
製造 窒素雰囲気下マグネシウム片1.5gにテトラヒドロフ
ラン10mlを加え、少量のヨウ素を加えてマグネシウ
ムを活性化した後、化合物(4)の9.4gのテトラヒ
ドロフラン20ml溶液を室温で滴下し系内でグリニヤ
ール試薬を調製した。この溶液を−10℃に冷却しスル
フォン酸エステル(3)をゆっくり滴下した。また触媒
であるヨウ化銅1gをほぼ1時間に1回の割合で14回
加えた。約14時間の反応後反応混合物を酢酸アンモニ
ウム4.4gの水溶液100gに注ぎ、ヘキサン、エー
テルで抽出した。乾燥後溶媒を留去しエーテル50ml
を加え水素化リチウムアルミニウムのエーテル懸濁液に
滴下して1時間還流した。放冷後氷冷下に水を加え過剰
の水素化リチウムアルミニウムを分解した後固体をろ別
し、ヘキサン、エーテルで抽出した。乾燥後、溶媒を留
去し減圧蒸留し4.5gの目的物(5)を純度70%で
得た(収率54%)。
【0031】(6)1,1,1−トリフルオロ−7−エ
トキシ−2−ヘプタノールの製造 化合物(5)の4.5gのメタノール溶液10mlに濃
塩酸、1mlを加え終夜放置した。この溶液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に注ぎヘキサン及びエーテルで抽
出した。乾燥後溶媒を留去して2.2gの最終目的物を
純度86%で得た。収率72%、〔α〕D28=+12°
(C=1.5、CHCl3 )。最終目的物である1,1,1
−トリフルオロ−7−エトキシ−2−ヘプタノールのN
MRスペクトルを図1に示した。
トキシ−2−ヘプタノールの製造 化合物(5)の4.5gのメタノール溶液10mlに濃
塩酸、1mlを加え終夜放置した。この溶液を飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液に注ぎヘキサン及びエーテルで抽
出した。乾燥後溶媒を留去して2.2gの最終目的物を
純度86%で得た。収率72%、〔α〕D28=+12°
(C=1.5、CHCl3 )。最終目的物である1,1,1
−トリフルオロ−7−エトキシ−2−ヘプタノールのN
MRスペクトルを図1に示した。
【0032】(7)(6)で得られた光学活性アルコー
ルを使用して下記の液晶化合物を製造しその相系列を測
定した。
ルを使用して下記の液晶化合物を製造しその相系列を測
定した。
【0033】
【化17】
【0034】相系列は次のようであった。 (ここでSCA*は反強誘電性カイラルスメクチックC 相を
示す。また、SAはスメクチックA 相を、SXは未同定のス
メクチック相を示す。)一方これと類似の公知の反強誘
電性液晶である下記の化合物、
示す。また、SAはスメクチックA 相を、SXは未同定のス
メクチック相を示す。)一方これと類似の公知の反強誘
電性液晶である下記の化合物、
【0035】
【化18】
【0036】この化合物の相系列は次のようであった (ここでSC* はカイラルスメクチックC 相を示す。)と
比較すると、SCA*相の温度領域が更に低温域にあること
が分かる。従って、液晶化合物のブレンドを考える場合
本発明の光学活性アルコールを使用して得られた液晶化
合物は室温以下の温度領域の拡張に非常に有利に使用し
得るものである。
比較すると、SCA*相の温度領域が更に低温域にあること
が分かる。従って、液晶化合物のブレンドを考える場合
本発明の光学活性アルコールを使用して得られた液晶化
合物は室温以下の温度領域の拡張に非常に有利に使用し
得るものである。
【0037】実施例2 R−(+)−1,1,1−トリフルオロ−9−エトキシ
−2−ノナノールの製造〔一般式(I)において、m=
7、n=2の場合〕
−2−ノナノールの製造〔一般式(I)において、m=
7、n=2の場合〕
【0038】(1) 実施例1の(1)、(2)、
(3)と全く同様にして4,4,4−トリフルオロ−3
−テトラヒドロピラニールオキシ−ブタノールのスルフ
ォン酸エステルを製造した。
(3)と全く同様にして4,4,4−トリフルオロ−3
−テトラヒドロピラニールオキシ−ブタノールのスルフ
ォン酸エステルを製造した。
【0039】(2) 1,1,1−トリフルオロ−9−
エトキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシノナンの
製造 実施例1の(5)における3−エトキシ−1−ブロモプ
ロパンの代わりに5−エトキシ−1−ブロモペンタンを
用いた以外は実施例1の(5)と全く同様にして1,
1,1−トリフルオロ−9−エトキシ−2−テトラヒド
ロピラニールオキシノナンを製造した。収率65%。
エトキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシノナンの
製造 実施例1の(5)における3−エトキシ−1−ブロモプ
ロパンの代わりに5−エトキシ−1−ブロモペンタンを
用いた以外は実施例1の(5)と全く同様にして1,
1,1−トリフルオロ−9−エトキシ−2−テトラヒド
ロピラニールオキシノナンを製造した。収率65%。
【0040】(3) 1,1,1−トリフルオロ−9−
エトキシ−2−ノナノールの製造 実施例1の(6)における1,1,1−トリフルオロ−
7−エトキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシヘプ
タンの代わりに1,1,1−トリフルオロ−9−エトキ
シ−2−テトラヒドロピラニールオキシノナンを用いた
以外は実施例1の(6)と全く同様にして1,1,1−
トリフルオロ−9−エトキシ−2−ノナノールを製造し
た。純度89%、収率87%、〔α〕D26=+11°
(C=1.2、CHCl3 )であった。なお、このもののN
MRスペクトルを図2に示した。
エトキシ−2−ノナノールの製造 実施例1の(6)における1,1,1−トリフルオロ−
7−エトキシ−2−テトラヒドロピラニールオキシヘプ
タンの代わりに1,1,1−トリフルオロ−9−エトキ
シ−2−テトラヒドロピラニールオキシノナンを用いた
以外は実施例1の(6)と全く同様にして1,1,1−
トリフルオロ−9−エトキシ−2−ノナノールを製造し
た。純度89%、収率87%、〔α〕D26=+11°
(C=1.2、CHCl3 )であった。なお、このもののN
MRスペクトルを図2に示した。
【0041】
【図1】図1は実施例1の1,1,1−トリフルオロ−
7−エトキシ−2−ヘプタノールのNMRスペクトルを
示す図である。
7−エトキシ−2−ヘプタノールのNMRスペクトルを
示す図である。
【図2】図2は実施例2の1,1,1−トリフルオロ−
9−エトキシ−2−ノナノールのNMRスペクトルを示
す図である。
9−エトキシ−2−ノナノールのNMRスペクトルを示
す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式(I)、 【化1】 (上式中、mは5以上、nは1以上の整数を表す。また
C*は不斉炭素原子を表す。)で表される光学活性アル
コール。 - 【請求項2】(1)下記一般式(I−1)、 【化2】 (上式中、Wは水酸基保護基を表し、Yはスルフォニル
基を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)で表されるス
ルフォン酸エステルに、下記一般式(I−2)、 【化3】 (上式中、mは5以上の整数を表し、nは1以上の整数
を表す。)で表されるグリニヤール試薬を反応させ、下
記一般式(I−3)、 【化4】 (上式中、W、nおよびC*は前記と同じ意味を有し、
mは5以上の整数を示す。)で表されるエーテル化合物
を得て、次いで、(2)前記一般式(I−3)のエーテ
ル化合物の水酸基保護基(W)を脱離せしめることを特
徴とする下記一般式(I)で表される光学活性アルコー
ルの製造法。 【化5】 (上式中、mは5以上、nは1以上の整数を表す。また
C*は不斉炭素原子を表す。) - 【請求項3】 前記一般式(I−1)で表されるスルフ
ォン酸エステルは、(a)下記一般式(I−4)、 【化6】 (上式中、Aは低級アルキルを表し、Wは水酸基保護基
を表し、C*は不斉炭素原子を表す。)で表される光学
活性4、4、4−トリフルオロ−3−ヒドロキシブタン
酸エステルを還元して下記一般式(I−5)、 【化7】 (上式中、WおよびC*は前記と同じ意味を有する。)
で表されるアルコールを得、次いで、(b)このアルコ
ールとスルフォン化剤とを反応させることにより製造さ
れたものである請求項2記載の光学活性アルコールの製
造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3310008A JP2885255B2 (ja) | 1990-11-05 | 1991-10-29 | 光学活性アルコール及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29712590 | 1990-11-05 | ||
JP2-297125 | 1990-11-05 | ||
JP3310008A JP2885255B2 (ja) | 1990-11-05 | 1991-10-29 | 光学活性アルコール及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05983A JPH05983A (ja) | 1993-01-08 |
JP2885255B2 true JP2885255B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=26561007
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3310008A Expired - Lifetime JP2885255B2 (ja) | 1990-11-05 | 1991-10-29 | 光学活性アルコール及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2885255B2 (ja) |
-
1991
- 1991-10-29 JP JP3310008A patent/JP2885255B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05983A (ja) | 1993-01-08 |
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