JP2852097B2 - Manufacturing method of colored display device - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、電着および転写技術によって形成された着
色層を有する着色表示装置の製造方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a colored display device having a colored layer formed by an electrodeposition and transfer technique.

［従来の技術］ 着色表示装置の製造方法において注目されている方法
は電着により着色層を形成する方法である。[Prior Art] A method of forming a colored layer by electrodeposition is a method that has attracted attention in a method of manufacturing a colored display device.

特開昭61−279803号公報には透明基板上に透明電極を
設けポジ型感光性樹脂層で露光・現像し、電着すること
により着色層を形成するカラーフィルターの製造方法が
開示されている。この方法によれば、液晶の駆動電極で
もある透明電極が絶縁体である着色層を介して液晶を駆
動しなければならず、駆動電圧が非常に高くなる。従っ
て、現在上記方法に基づいて形成された着色層の上に更
に液晶駆動のための透明電極層を設け、駆動電力を確保
することがされている。しかしながら、もう一度電極層
を形成することは工程を複雑化すると共に、透明電極の
パターニングを必要とし経済的でない。更に、透明電極
は光の透過率が実際には80〜85％であり、これを二層形
成することは光の透過率が悪くなることを意味し、着色
表示装置としての性能を悪化する。JP-A-61-279803 discloses a method for manufacturing a color filter in which a transparent electrode is provided on a transparent substrate, exposed and developed with a positive photosensitive resin layer, and a colored layer is formed by electrodeposition. . According to this method, the transparent electrode, which is also the drive electrode for the liquid crystal, must drive the liquid crystal via the colored layer, which is an insulator, and the drive voltage becomes extremely high. Therefore, at present, a transparent electrode layer for driving a liquid crystal is further provided on the colored layer formed based on the above-mentioned method to secure the driving power. However, forming the electrode layer again complicates the process and requires patterning of the transparent electrode, which is not economical. Further, the transparent electrode actually has a light transmittance of 80 to 85%, and forming two layers of the transparent electrode means that the light transmittance is deteriorated, which deteriorates the performance as a colored display device.

本発明者等は、既に上記欠点を解決策として、一旦原
板上に着色層を電着により形成し、これを転写用基板に
転写し、更に透明基板上に再度転写する方法を提案した
（特開昭64−22379号公報）。この場合、多色に着色す
る場合は必要な種類の原板に上記操作を繰り返す必要が
ある。この方法では着色層と透明基板上との間に電極が
存在しない利点を有する。本発明者等はこの製法更に改
善して、工程を簡略化し、しかも高い精度の着色表示装
置を得るために検討を重ねた。The present inventors have already proposed a method of forming a colored layer on an original plate by electrodeposition, transferring the colored layer to a transfer substrate, and transferring the colored layer again to a transparent substrate, as a solution to the above-mentioned drawbacks. JP-A-64-22379). In this case, in the case of coloring in multiple colors, it is necessary to repeat the above-described operation on a required type of original plate. This method has an advantage that no electrode exists between the colored layer and the transparent substrate. The present inventors have further studied to improve the manufacturing method, simplify the process, and obtain a highly accurate colored display device.

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は着色表示装置の改善された製法を提供するこ
とを目的とする。[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to provide an improved method of manufacturing a colored display device.

［課題を解決するための手段］ 本発明者等は、導電層を有する基板上のフォトレジス
ト自体をパターニングし、その後電着により着色層を形
成し、この工程を多色毎にくり返すことにより、上記欠
点を解決することを見出した。即ち本発明は（ａ）基板
上に形成した導電層上にポジ型感光性樹脂層を設け、露
光・現像を行い所定の色に着色する部分の導電層を露出
し、（ｂ）その露出した導電層上に電着により着色層を
形成し、（ｃ）残るポジ型感光性樹脂層を露出・現像し
て前記着色部分と異なる色に着色する部分の導電層を露
出し、（ｄ）その露出した導電層上に電着により異なる
色の着色層を形成し、（ｅ）必要に応じて（ｃ）と
（ｄ）の工程を繰り返し、（ｆ）得られた着色層を透明
基板上に転写・定着することを特徴とする着色表示装置
の製造方法を提供する。[Means for Solving the Problems] The present inventors pattern the photoresist itself on a substrate having a conductive layer, form a colored layer by electrodeposition, and repeat this process for each of multiple colors. It has been found that the above disadvantages are solved. That is, according to the present invention, (a) a positive photosensitive resin layer is provided on a conductive layer formed on a substrate, exposed and developed to expose a portion of the conductive layer which is colored to a predetermined color, and (b) the exposed portion is exposed. Forming a colored layer on the conductive layer by electrodeposition; (c) exposing and developing the remaining positive-type photosensitive resin layer to expose a portion of the conductive layer colored in a color different from the colored portion; A colored layer of a different color is formed by electrodeposition on the exposed conductive layer, and (e) the steps (c) and (d) are repeated as necessary, and (f) the obtained colored layer is placed on a transparent substrate. Provided is a method for manufacturing a colored display device, which is characterized by transferring and fixing.

本発明を図面に基づいて説明する。 The present invention will be described with reference to the drawings.

第１図は本発明製造方法の工程を示す工程図であり、
第１図（ａ）〜（ｌ）図は断面から見た工程図であり、
第１図（イ）〜（ト）は平面から見た図である。FIG. 1 is a process chart showing the steps of the production method of the present invention,
1 (a) to 1 (l) are process diagrams viewed from a cross section.
1 (a) to 1 (g) are views as viewed from above.

本発明の製法は第１（ａ）〜（ｄ）図の導電層を有す
る基板上にフォトレジストをパターニングする工程と、
第１（ｅ）〜（ｊ）図までの着色層を基板上に形成する
工程と、第１（ｋ）〜（ｌ）図までの基板上の着色層を
転写法により着色表示装置を形成する工程との３工程に
大きく分けることができる。The method of the present invention comprises the steps of patterning a photoresist on a substrate having a conductive layer shown in FIGS. 1 (a) to 1 (d);
Steps of forming colored layers shown in FIGS. 1E to 1J on a substrate, and forming a colored display device by transferring the colored layers formed on the substrates shown in FIGS. 1K to 1L by a transfer method. The process can be roughly divided into three steps.

まず、第１（ａ）図のように基板１上に導電層２が形
成される。基板１はガラス又はプラスチック等の材質か
ら形成される。導電層２は銅その他の導電性金属あるい
は酸化錫又は酸化インジウム等よりなる透明導電膜から
形成される。導電層２は接着、メッキ、スプレーもしく
はスパッタリング等の方法により形成される。コストや
その他の面からプラスチック基板上に銅をスパッタリン
グしたものが好ましい。次に第１（ｂ）図に示すよう
に、該導電層２上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成
する。ポジ型感光性樹脂組成物は露光部分が現像液で溶
出するものであればよく、これらの例として特公昭38−
11365号、米国特許第1762033号、同第2679498号明細書
および「TAGA Proceedings」241〜244ページ（1967
年）のA.R.Materazziの論文等に記載されているジアゾ
ニウム塩とパラフォルムアルデヒド縮合重合物を含む感
光性樹脂組成物、特公昭37−3627号、特公昭43−28403
号、特公昭45−9610号各明細書等に記載されているオル
ト−キノンジアジド類（またはオルト−ジアゾオキシド
類）を含む感光性樹脂組成物、特公昭40−28499号、特
公昭45−22085号、英国特許第843541号各明細書等に記
載されているアルカリ可溶性アジドポリマーを含むか構
成樹脂組成物、特公昭41−7100号、特公昭44−28725
号、米国特許第2,692,826号、特公昭45−22082号各明細
書等に記載されている水またはアルカリ水溶液で現像可
能なアジド化合物を含む感光性樹脂組成物、または特開
昭59−45439号公報および特願平１−132126号明細書に
記載の感光性樹脂組成物が挙げられる。本発明では、同
じポジ型感光性樹脂組成物で複数回露光・現像する必要
があり、そのために必要な手段（例えば、現像液で変性
されないように保護層を設ける）を講じることができ
る。上記感光性樹脂組成物中にはそのような手段を必要
としないものもある。First, a conductive layer 2 is formed on a substrate 1 as shown in FIG. The substrate 1 is formed from a material such as glass or plastic. The conductive layer 2 is formed from a transparent conductive film made of copper or another conductive metal, or tin oxide or indium oxide. The conductive layer 2 is formed by a method such as adhesion, plating, spraying or sputtering. It is preferable to sputter copper on a plastic substrate from the viewpoint of cost and other aspects. Next, as shown in FIG. 1 (b), a positive photosensitive resin composition layer 3 is formed on the conductive layer 2. The positive-type photosensitive resin composition may be any as long as the exposed portion is eluted with a developing solution.
No. 11365, U.S. Pat. Nos. 1,620,033 and 2,679,498 and "TAGA Proceedings", pages 241-244 (1967
Resin compositions containing a diazonium salt and a paraformaldehyde condensate polymer described in ARMaterazzi's paper, JP-B-37-3627, JP-B-43-28403.
And JP-B-45-9610, photosensitive resin compositions containing ortho-quinonediazides (or ortho-diazooxides) described in each specification, JP-B-40-28499, JP-B-45-22085 Or a resin composition containing or comprising an alkali-soluble azide polymer described in British Patent No. 843541 and the like, JP-B-41-7100, JP-B-44-28725.
No. 2,692,826, JP-B-45-22082, a photosensitive resin composition containing an azide compound developable with water or an aqueous alkali solution described in JP-B-45-22082, or JP-A-59-45439. And the photosensitive resin composition described in Japanese Patent Application No. 1-132126. In the present invention, it is necessary to perform exposure and development with the same positive photosensitive resin composition a plurality of times. For this purpose, necessary means (for example, providing a protective layer so as not to be denatured by a developer) can be taken. Some of the photosensitive resin compositions do not require such means.

このポジ型感光性樹脂組成物３上に所定のパターンを
有するマスク４を載置し（第１（ｃ）図）、露光するこ
とにより露光部分の感光性樹脂組成物層を溶出可能に
し、次いで所定の溶出液により溶出することによりパタ
ーン化された基板を得る（第１（ｄ）図）。マスクや溶
出する技術は公知である。この基板は第１（イ）図に示
すように着色必要箇所に導電層２が露出している形とな
る。A mask 4 having a predetermined pattern is placed on the positive photosensitive resin composition 3 (FIG. 1 (c)), and by exposing the photosensitive resin composition layer, the exposed portion of the photosensitive resin composition layer can be eluted. A patterned substrate is obtained by elution with a predetermined eluate (FIG. 1 (d)). Techniques for masking and elution are known. This substrate has a shape in which the conductive layer 2 is exposed at a portion required to be colored as shown in FIG.

第１（ｅ）図に示されるように導電層２に通電して電
着浴中で電着により着色層（例えば赤（Ｒ）５が形成さ
れる。これを平面からみると第１（ロ）図のようにな
る。この製造方法に用いる電着浴の造膜成分として使用
される合成高分子樹脂はカチオン性、アニオン性または
両性のいずれであってもよく、従来公知の種々のもの、
例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポ
リブタジエン樹脂、ポリアミド樹脂、カルボキシル基導
入ポリブタジエン、カルボキシル基導入アルキド樹脂等
が挙げられる。尚、合成高分子樹脂のイオン性によって
は導電層２を侵すものもあり、この点を考慮して造膜成
分を選択する必要がある。例えば、導電層２が金属の場
合、造膜成分がアニオン性であると電極の溶出が起こり
適当でない。また、透明導電膜の場合、逆にカチオン性
であると好ましくない。電着浴その他の詳しい内容は特
開昭59−114592号および本発明者等による特願昭62−46
321号等に詳細に記載されている。この電着塗料は光硬
化性または熱硬化性のいずれであってもよい。As shown in FIG. 1 (e), the conductive layer 2 is energized to form a colored layer (for example, red (R) 5) by electrodeposition in an electrodeposition bath. The synthetic polymer resin used as a film-forming component of the electrodeposition bath used in this production method may be cationic, anionic or amphoteric, and various types of conventionally known resins may be used.
For example, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, polybutadiene resin, polyamide resin, carboxyl group-introduced polybutadiene, carboxyl group-introduced alkyd resin and the like can be mentioned. It should be noted that, depending on the ionicity of the synthetic polymer resin, some may affect the conductive layer 2, and it is necessary to select a film-forming component in consideration of this point. For example, when the conductive layer 2 is a metal, if the film forming component is anionic, elution of the electrode occurs, which is not appropriate. In the case of a transparent conductive film, on the contrary, it is not preferable that the conductive film is cationic. The details of the electrodeposition bath and other details are described in JP-A-59-114592 and Japanese Patent Application No. 62-46 by the present inventors.
No. 321 and the like. This electrodeposition paint may be either photocurable or thermosetting.

次に第１（ｆ）図に示すように基板１上に形成された
着色層とポジ型感光性樹脂層にポジマスク４を載置し
（第１（ｆ）図）、露光することにより前記と同様に露
光部分の感光性樹脂組成物層を溶出しパターン化された
基板を得る（第１（ｇ）図）。これを平面からみると第
１（ハ）図のようになる。Next, as shown in FIG. 1 (f), a positive mask 4 is placed on the colored layer and the positive photosensitive resin layer formed on the substrate 1 (FIG. 1 (f)), and by exposing, Similarly, the photosensitive resin composition layer in the exposed portion is eluted to obtain a patterned substrate (FIG. 1 (g)). This is shown in FIG. 1C when viewed from a plane.

更に第１（ｈ）図に示されるように導電層２に通電し
て電着浴中で電着により着色層（例えば、緑（Ｇ）６が
形成される。これを平面からみると第１（ニ）のように
なる。Further, as shown in Fig. 1 (h), the conductive layer 2 is energized to form a colored layer (for example, green (G) 6) by electrodeposition in an electrodeposition bath. (D).

次に３色目は第１（ｆ）〜（ｈ）図のくり返しにより
着色層（例えば、青（Ｂ））７が形成される。これを平
面からみると第１（ホ）図のようになる。Next, for the third color, a coloring layer (for example, blue (B)) 7 is formed by repeating FIG. 1 (f) to (h). This is shown in FIG. 1 (e) when viewed from a plane.

着色層（R.G.B）とポジ型感光性樹脂層の載った基板
に全面露光し、更に溶出することで着色層（R.G.B）以
外の導電層２を露出させる（第１（ｊ）図）。これを平
面からみると第１（ヘ）図のようになる。The entire surface of the substrate on which the coloring layer (RGB) and the positive photosensitive resin layer are mounted is exposed and further eluted to expose the conductive layer 2 other than the coloring layer (RGB) (FIG. 1 (j)). When this is viewed from a plane, it is as shown in FIG.

次に第１（ｋ）図に示すように基板１上に形成された
着色層に透明基板８を押し付けて（第１（ｋ）図）、第
１（ｌ）図または第１（ト）図に示すように透明基板８
に着色層を転写する。転写された基板１は第１（ｂ）図
の工程に再利用される。Next, as shown in FIG. 1 (k), the transparent substrate 8 is pressed against the colored layer formed on the substrate 1 (FIG. 1 (k)), and FIG. 1 (l) or FIG. As shown in FIG.
Transfer the colored layer to The transferred substrate 1 is reused in the step shown in FIG. 1 (b).

転写は着色層５、６、７の表面が透明基板８の表面と
接触するようにしてゴム被覆ローラを用いて転写を行っ
てもよい。電着層が光重合型の場合は露光処理後、基板
１を引き離してもよい。露光は空気中室温で通常200mJ/
cm²で行えば硬化するが、着色層の堅牢性を高めたい場
合には照射量を多くすることができる。又電着層が熱硬
化性の場合には基板１を引き離した後、加熱処理により
硬化させてもよい。The transfer may be performed using a rubber-coated roller such that the surfaces of the coloring layers 5, 6, and 7 are in contact with the surface of the transparent substrate 8. When the electrodeposition layer is of a photopolymerization type, the substrate 1 may be separated after the exposure treatment. Exposure is usually 200mJ / at room temperature in air.
Although curing is performed with cm ² , the irradiation amount can be increased when it is desired to increase the robustness of the colored layer. When the electrodeposition layer is thermosetting, the substrate 1 may be separated from the substrate 1 and then cured by heat treatment.

着色層の形成された透明基板８に蒸着又はスパッタリ
ング等の方法により透明電極が形成され着色表示装置と
して用いる。A transparent electrode is formed on the transparent substrate 8 on which the colored layer is formed by a method such as vapor deposition or sputtering, and is used as a colored display device.

（実施例） 本発明を実施例により更に詳細に説明する。本発明は
これら実施例に限定されるものではない。(Examples) The present invention will be described in more detail with reference to examples. The present invention is not limited to these examples.

参考例１ ［ポジ型感光性樹脂組成物の調製］ 0.5gのアゾビソイソブチロニトリルを含む50gのキシ
レン中にアクリル酸第３ブチル15.0g、アクリル酸第１
ブチル15.0gおよびメタクリル酸メチル20.0gを加え、窒
素気流中で60℃で10時間加熱攪拌を行った。冷却後反応
生成物をテトラヒドロフランで希釈し石油エーテル／メ
タノールで洗浄した。重合体は42.5g（収率85.0％）お
よび数平均分子量（GPC）は51,000であった。この重合
体をテトラヒドロフラン中に固型物が20重量％になる様
に溶解しトリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアン
チモネートを重合体に対して10重量％加えて、ポジ型感
光性樹脂組成物を得た。Reference Example 1 [Preparation of positive photosensitive resin composition] In 50 g of xylene containing 0.5 g of azobisoisobutyronitrile, 15.0 g of tert-butyl acrylate and 1 gram of acrylate
15.0 g of butyl and 20.0 g of methyl methacrylate were added, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 10 hours in a nitrogen stream. After cooling, the reaction product was diluted with tetrahydrofuran and washed with petroleum ether / methanol. The polymer was 42.5 g (yield 85.0%) and the number average molecular weight (GPC) was 51,000. This polymer was dissolved in tetrahydrofuran so that the solid was 20% by weight, and triphenylsulfonium hexafluoroantimonate was added at 10% by weight to the polymer to obtain a positive photosensitive resin composition.

参考例２ ［カラーフィルター形成様のカチオン性感光性電着樹脂
組成物の調製］ N,N−ジエチルアミノエチルメタクリレート、スチレ
ン、エチルアクリレートおよびｐ−ヒドロキシ安息香酸
とグリシジルアクリレートの等モル反応によって得られ
た化合物をモル比で3:2:4:1、重量平均分子量７万に共
重合した有機重合体バインダー80重量部、2,2−ジメト
キシ−２−フェニルアセトフェノン0.5重量部、トリメ
チロールプロパントリアクリレート14.5重量部からなる
カチオン性感光性樹脂組成物をエチレングリコールモノ
ブチルエーテルで揮発分80％に希釈し、0.5当量の酢酸
で中和し純水にて揮発分10％に調整した。Reference Example 2 [Preparation of a cationic photosensitive electrodeposition resin composition for forming a color filter] N, N-Diethylaminoethyl methacrylate, styrene, ethyl acrylate and a compound obtained by equimolar reaction of p-hydroxybenzoic acid and glycidyl acrylate are copolymerized to a molar ratio of 3: 2: 4: 1 and a weight average molecular weight of 70,000. A cationic photosensitive resin composition comprising 80 parts by weight of the obtained organic polymer binder, 0.5 parts by weight of 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and 14.5 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate is 80% volatile with ethylene glycol monobutyl ether. And neutralized with 0.5 equivalent of acetic acid, and adjusted to 10% volatile content with pure water.

上記のように調整した電着樹脂組成物に以下のように
顔料を配合することにより３色のカチオン電着浴液を作
成した。A three-color cation electrodeposition bath solution was prepared by blending a pigment with the electrodeposition resin composition adjusted as described above as follows.

実施例１ 銅箔２がのったポリイミドフィルム上に参考例１のポ
ジ型感光性樹脂組成物をスピナーにて塗布し、乾燥させ
て銅箔上にポジ型感光性樹脂組成物層３を形成した。Example 1 A positive photosensitive resin composition of Reference Example 1 was applied on a polyimide film on which a copper foil 2 was placed by a spinner, and dried to form a positive photosensitive resin composition layer 3 on the copper foil. did.

次に所定のパターンを有するマスクを介して高圧水銀
ランプで露光し、これをアルカリ水溶液で現像すると露
光部は塩を形成して溶出し、銅層２の表面が露光した。
次に前述の如く作成した赤色のカチオン性感光性電着樹
脂組成物の電着浴中に銅層２が露出された基板１を浸漬
し、銅層を負電極として10ボルトの直流電圧を１分間印
加した。その後基板を引き上げ十分に水洗した。この
際、銅層の上にあるポジ型感光性樹脂組成物の上には電
着樹脂組成物は付着しなく、水洗により洗い流されるが
電圧を印加した電極上に付着した高分子は水に不溶性と
なっているため、水洗で洗い流されない。水洗後、乾燥
させると電極上に透明性の良い着色高分子膜が形成され
る。Next, exposure was performed with a high-pressure mercury lamp through a mask having a predetermined pattern, and when this was developed with an alkaline aqueous solution, the exposed portion formed and eluted salt, and the surface of the copper layer 2 was exposed.
Next, the substrate 1 on which the copper layer 2 was exposed was immersed in an electrodeposition bath of the red cationic photosensitive electrodeposition resin composition prepared as described above, and a DC voltage of 10 volts was applied to the copper layer as a negative electrode by applying 1 volt. Min. Thereafter, the substrate was pulled up and sufficiently washed with water. At this time, the electrodeposition resin composition does not adhere to the positive photosensitive resin composition on the copper layer, and is washed away with water, but the polymer attached to the electrode to which a voltage is applied is insoluble in water. It is not washed off with water. After washing with water and drying, a colored polymer film with good transparency is formed on the electrode.

次にこの基板にパターンをずらしたマスク４を介して
高圧水銀ランプで露光し、更にアルカリ水溶液で現像す
ると同様に銅層２の表面が露出した。次に、前述の緑色
のカチオン性感光性電着樹脂組成物の電着浴中に銅層２
が露出された赤色着色層が形成された基板１を浸漬し、
銅極を負電極として10Vの直流電圧を１分間印加して、
その後基板を引き上げ十分に水洗した。この際、銅層の
上にあるポジ型感光性樹脂組成物と赤色着色層の上には
緑色電着組成物には付着しなく、水洗により洗い流され
る。水洗後、乾燥させると透明性の良い緑色高分子膜が
形成される。Next, the substrate was exposed to light with a high-pressure mercury lamp through a mask 4 whose pattern was shifted, and further developed with an alkaline aqueous solution, thereby similarly exposing the surface of the copper layer 2. Next, the copper layer 2 was placed in an electrodeposition bath of the above-mentioned green cationic photosensitive electrodeposition resin composition.
Is immersed in the substrate 1 on which the red colored layer is formed,
Apply a DC voltage of 10V for 1 minute using the copper electrode as the negative electrode,
Thereafter, the substrate was pulled up and sufficiently washed with water. At this time, the positive type photosensitive resin composition on the copper layer and the green electrodeposition composition do not adhere to the red coloring layer on the red coloring layer, but are washed away by water washing. After washing with water and drying, a green polymer film with good transparency is formed.

更に同様にこの基板にパターンをずらしたマスク４を
露光・現像し、青色電着を10Vの直流電圧で１分間印加
する。水洗乾燥後、青色高分子膜が同様に形成される。Similarly, a mask 4 having a shifted pattern is exposed and developed on this substrate, and blue electrodeposition is applied at a DC voltage of 10 V for 1 minute. After washing and drying, a blue polymer film is similarly formed.

残りのポジ型感光性樹脂組成物と赤、緑、青の着色層
の形成された基板１を全面に高圧水銀ランプで露光し、
アルカリ水溶液で現像すると着色層を残し、ポジ型感光
性樹脂組成物を溶出して銅層２の表面が露出した。The entire surface of the substrate 1 on which the remaining positive-type photosensitive resin composition and the red, green, and blue coloring layers are formed is exposed with a high-pressure mercury lamp,
When developed with an aqueous alkali solution, the colored layer was left, the positive photosensitive resin composition was eluted, and the surface of the copper layer 2 was exposed.

次に、基板上に形成された赤色、緑色、青色パターン
５、６、７の表面が透明基板８であるガラス基板に接触
させて高圧水銀ランプで全面にガラス基板より200mJ/cm
²、その後、剥離により着色層を転写された。Next, the surfaces of the red, green, and blue patterns 5, 6, and 7 formed on the substrate are brought into contact with a glass substrate, which is a transparent substrate 8, and a high-pressure mercury lamp is used to cover the entire surface with 200 mJ / cm from the glass substrate.
^2. Thereafter, the colored layer was transferred by peeling.

着色層の膜圧は2.0ミクロンであった。 The film pressure of the colored layer was 2.0 microns.

（発明の効果） 本発明の製法により得られるカラーフィルターは微細
なパターンであっても信頼性が高く、優れたカラー表示
装置が得られる。従来方法によると透明電極上にレジス
トと電着の組合せにより着色層を形成させているが、工
程の複雑化と光透過率の低下の問題がある。又、レジス
トと電着との組合せにより一旦転写用基板に転写させ更
に透明基板に再び転写させているが、この場合も工程の
複雑化と材料のくり返し使用にも限界がある。(Effect of the Invention) The color filter obtained by the production method of the present invention has high reliability even in a fine pattern, and an excellent color display device can be obtained. According to the conventional method, a colored layer is formed on a transparent electrode by a combination of a resist and electrodeposition. However, there is a problem that the process is complicated and the light transmittance is reduced. Further, the resist is once transferred to a transfer substrate by a combination of electrodeposition and electrodeposition, and then transferred again to a transparent substrate. In this case, however, the process is complicated and there is a limit to the repeated use of the material.

本発明によれば、透明電極の必要もなく、くり返し転
写する必要もなく、工程の簡素化と膜機能の向上が達成
できる。According to the present invention, simplification of the process and improvement of the film function can be achieved without the need for a transparent electrode and the need for repeated transfer.

更に感光性樹脂層の間隙に電着を施して着色層を形成
し、それを転写する為、その着色層は平坦でシャープな
形状を保ち、色の鮮映性も良好となる。Further, since a colored layer is formed by electrodeposition in the gap between the photosensitive resin layers and transferred, the colored layer keeps a flat and sharp shape, and the color sharpness is also improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第１図は本発明製造方法の工程を示す工程図であり、第
１（ａ）〜（ｌ）図は断面から見た図であり、第１
（イ）〜（ト）図は平面から見た図である。 図中、１……基板、２……導電層、３……感光性樹脂組
成物、４……ファトマスク、５……１色目着色層、６…
…２色目着色層、７……３色目着色層、８……透明基板
を示す。FIG. 1 is a process chart showing the steps of the manufacturing method of the present invention, and FIGS. 1 (a) to (l) are views seen from a cross section.
(A) to (G) are diagrams viewed from above. In the figure, 1 ... substrate, 2 ... conductive layer, 3 ... photosensitive resin composition, 4 ... fat mask, 5 ... first color layer, 6 ...
.. Represents a second color layer, 7 a third color layer, 8 a transparent substrate.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−50023（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−249106（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−210901（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−281220（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−279803（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−270730（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−11703（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G02F 1/1335 505 G02B 5/20 101──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-64-5023 (JP, A) JP-A-63-249106 (JP, A) JP-A-63-210901 (JP, A) JP-A-61-210 281220 (JP, A) JP-A-61-279803 (JP, A) JP-A-61-270730 (JP, A) JP-A-61-11703 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. ⁶ , DB name) G02F 1/1335 505 G02B 5/20 101

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】（ａ）基板上に形成した導電層上にポジ型
感光性樹脂層を設け、露光・現像を行い所定の色に着色
する部分の導電層を露出し、 （ｂ）その露出した導電層上に電着により着色層を形成
し、 （ｃ）残るポジ型感光性樹脂層を露光現像して前記着色
部分と異なる色に着色する部分の導電層を露出し、 （ｄ）その露出した導電層上に電着により異なる色の着
色層を形成し、 （ｅ）必要に応じて（ｃ）と（ｄ）の工程を繰り返し、 （ｆ）得られた着色層を透明基板上に転写・定着する ことを特徴とする着色表示装置の製造方法。(A) providing a positive photosensitive resin layer on a conductive layer formed on a substrate, exposing and developing to expose a portion of the conductive layer which is colored in a predetermined color, and (b) exposing the exposed portion. (C) exposing and developing the remaining positive-type photosensitive resin layer to expose a portion of the conductive layer that is colored in a different color from the colored portion; Forming a colored layer of a different color by electrodeposition on the exposed conductive layer, (e) repeating the steps (c) and (d) as necessary, and (f) placing the obtained colored layer on a transparent substrate. A method for producing a colored display device, comprising transferring and fixing.