JP2849359B2 - ゲート−ドレイン重畳素子の製造方法 - Google Patents
ゲート−ドレイン重畳素子の製造方法Info
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Description
方法に係るもので、詳しくは、ゲート−ドレイン重畳素
子(gate-drain overlapped device:GOLD)のゲート伝
導線の抵抗を減少させ、電気的特性を均一化し得るゲー
ト−ドレイン重畳素子の製造方法に関するものである。
OS FETのゲート長さが漸次縮小され、該ゲートの
長さが0.5μm以下になると、そのMOS FETの
降伏内圧が低下して製品の信頼性が低下するため、その
MOS FETの構造を改善し動作電圧を改良すべきで
あった。それで、二重拡散領域(DDD;double diffused
drain)または低濃度イオン注入(LDD : lightly doped
drain )のようなドレインエンジニアリング法(drain
engineering method)をMOS FETに適用し製品
の信頼性を図っていたが、該ドレインエンジニアリング
法は相互コンダクタンス(transconductance)と降伏電
圧間に色々な妥協(tradeoff)すべき点があるため、5
Vの動作電圧でMOS FETの信頼性を図る場合、n
- 形拡散領域の長さLn及びn- 形拡散領域の濃度Nd
を改良するだけでは、該MOS FETの信頼性を充分
に向上することが出来なかった。
レインエンジニアリング法を使用せずに、ゲート−ドレ
イン重畳素子(GOLD)の製造方法として、逆TLD
D法を使用し、相互コンダクタンスと降伏電圧間の妥協
点を良好に解決する精巧なゲート−ドレイン重畳素子が
開発され、このような従来ゲート−ドレイン重畳素子及
びその製造方法を説明すると次のようである。即ち、図
5(A)に示したように、例えば、単結晶シリコン基板
1上に、ゲート酸化膜2が熱酸化法により成層され、該
ゲート酸化膜2上にゲート電極として利用するゲート多
結晶シリコン層3が厚く成層され、該多結晶シリコン層
3上に酸化膜4が成層される。次いで、図5(B)に示
したように、該酸化膜4上に感光膜(図示されず)が形
成された後、該感光膜パターン以外の酸化膜4と多結晶
シリコン層3の一部とが食刻され、該多結晶シリコン層
3は100〜500Åの厚さだけ残留される。次いで、
該感光膜パターンが除去され、n- 形のLDD領域を形
成するため、以前の厚さの多結晶シリコン層3領域(図
5(B)の突出部位)以外の該多結晶シリコン層3の他
領域(図5(B)の水平部位)の基板1内に、n形の不
純物の燐がイオン注入される。次いで、図5(C)に示
したように、それら酸化膜4及び多結晶シリコン層3表
面上に酸化膜が化学蒸着法により成層された後エッチバ
ックされ、前記以前の厚さの多結晶シリコン層3領域の
側壁に酸化膜のスペーサー5が形成される。
ペーサー5によりマスキングされない領域の多結晶シリ
コン層3がプラズマ食刻法により食刻され、多結晶シリ
コン層のゲート7が逆T字状に形成される。その後、n
+ 形のドレイン/ソース領域を形成するため前記多結晶
シリコンゲート7以外の他領域の基板1内にn形不純物
として例えば、砒素がイオン注入され、図5(E)に示
したように、金属熱処理を施すと前記の注入イオンが活
性化してn+ 形拡散領域8が形成され、該n+形拡散領
域8の周囲にn- 形拡散領域9が被覆されてドレイン/
ソース領域が形成される。従って、前記n+ 形ドレイン
/ソース領域と前記ゲート間のオフセットは、該n+ 形
ドレイン/ソース領域を形成するため注入されたイオン
が前記T字状のゲート7に自己整合されて除去される。
且つ、最適の長さLn- は前記スペーサー5の幅により
容易に設定される。
来ゲート−ドレイン重畳素子及びその製造方法において
は、基板上にn- 形拡散領域を形成するため薄い厚さの
多結晶シリコン層が残るように該多結晶シリコン層を食
刻するようになっているが、通常、該薄い厚さの多結晶
シリコン層は食刻の特性上一様にならず不均一になるの
で、該不均一な厚さの多結晶シリコン層を通って基板内
に注入されたイオンの活性化が悪くなり、LDDのドー
ピング濃度及び整合の深さが不均一になって、トランジ
スターの電気的特性が不均一になるという不都合な点が
あった。
によりゲートの抵抗が増加することを解決するため、該
ゲートとドレイン/ソース間にシリサイド層を形成する
シリサイド(silicide)工程を行うべきである
が、該シリサイド工程を行うことが出来ないので、トラ
ンジスターの性能を向上し得ないという不都合な点があ
った。
シリコン層のゲート伝導線の抵抗を減少させ、ゲート及
びソース/ドレインの重畳された領域の基板内にn- 形
拡散領域を均一に形成し、GOLDトランジスターの電
気的特性を均一化し得るゲート−ドレイン重畳素子の製
造方法を提供しようとするものである。
畳素子の製造方法は、第1導電形の基板上にゲート絶縁
膜を形成し、該ゲート絶縁膜上にゲート伝導線を形成す
る段階と、該ゲート伝導線を含んだ基板上面に第1導電
層を形成する段階と、該第1導電層に水素イオンまたは
窒素イオンで第1次イオン注入する段階と、第1導電層
を熱処理して第2導電層に変換させた後、ゲート伝導線
を被覆してゲート絶縁膜上面部位まで拡張された第2導
電層パターンを形成する段階と、第2導電層パターン側
面に絶縁膜スペーサーを形成する段階と、第2導電層パ
ターン以外の他領域の基板内に第2導電形の不純物を第
2次イオン注入する段階と、を順次行うことを特徴とす
るしている。請求項2の発明によるゲート−ドレイン重
畳素子の製造方法は、請求項1の発明の構成において、
第2次イオン注入する段階は、第2導電層パターン以外
の他領域の第1導電層を除去した後、第2次イオンを注
入することを特徴としている。請求項3の発明によるゲ
ート−ドレイン重畳素子の製造方法は、請求項1または
請求項2の発明の構成において、第1導電層を熱処理し
て第2導電層に変換させた後、該第2導電層の結晶粒界
が水素イオンまたは窒素イオンでパッシベーションする
ことを特徴としている。請求項4の発明によるゲート−
ドレイン重畳素子の製造方法は、請求項1または請求項
3の発明の構成において、第1導電層に第1次イオン注
入する段階は、水素プラズマ処理法、窒素イオン注入
法、窒素プラズマ処理法および窒素熱処理法のいずれか
によるものであることを特徴としている。
図面を用いて説明する。本発明に係る製造方法により得
られるゲート−ドレイン重畳素子においては、図1に示
したように、基板11と、該基板11上に形成されたゲ
ート絶縁膜12と、該ゲート絶縁膜12上所望の領域に
形成された多結晶シリコン層のゲート伝導線13と、該
ゲート伝導線13の表面を被覆し前記ゲート絶縁膜12
上所定領域まで拡張されたシリサイド層15と、でなる
ゲートと、該ゲートのシリサイド層15の拡張領域の基
板11内両方側に夫々形成されたn- 形拡散領域16
と、それらn- 形拡散領域16の外方側壁に接し前記ゲ
ート以外の他領域の基板11内に夫々形成されたn+ 拡
散領域18と、を備えている。
−ドレイン重畳素子の製造方法の第1実施例を説明する
と次のようである。
ば、第1導電形のp形ウエルを有する単結晶シリコンの
基板11上に、熱酸化法によりゲート絶縁膜12が10
0Åの厚さに成層される。次いで、該ゲート絶縁膜12
上に、200Å厚さの多結晶シリコン層が成層された後
食刻され、所定パターンのゲート伝導線13が形成され
る。次いで、図2(B)に示したように、それらゲート
伝導線13及びゲート絶縁膜12上面に、金属層14と
して、例えば、Ti、Co、Mo、Ta、Ni、Wの高
融点金属層が金属有機化学蒸着法により500Åの厚さ
に成層され、n-形の低濃度イオン注入領域LDDを形
成するため、前記ゲート伝導線13以外の他領域の基板
11内に、第2導電形のn形不純物、例えば燐が2.4
E13ions/cm2 の供与量(dose)及び60
keVのエネルギーにてイオン注入される。次いで、図
2(C)に示したように、前記金属層14上面に水素を
イオン注入し、該金属層14の粒界をパッシベーション
させる。この場合、パッシベーション方法としては、水
素プラズマ処理法、窒素イオン注入法、窒素プラズマ処
理法及び窒素熱処理法中のいずれか一つを用いる。
属層14を不活性雰囲気及び500−800℃の温度下
で熱処理してシリサイド層15を形成し、前記n- 形の
LDDにて注入されたイオンを活性化させ、前記ゲート
伝導線13以外の他領域の基板11内にn- 形拡散領域
16を形成する。この場合、前記金属層14の物質に従
って該金属層14をシリサイド化させる温度を異にし、
熱処理時間を調節して該金属層14の厚さだけシリサイ
ド層15に変換させる。且つ、該金属層14両方側の水
平方向に延長された領域はシリサイド層15に変換され
ず、元の金属層14状態を維持するが、継続熱処理を施
して所望の領域までシリサイド層15を拡張させる。ま
た、前記ゲート伝導線13の多結晶シリコン層のシリコ
ン原子が該多結晶シリコン層に接した前記金属層14内
に拡散し、金属シリサイド層を形成する金属層14の物
質はTi、Zr、Hr、V、Nb、Ta、Cr、No、
Wであり、該金属層14の原子が該金属層14に接した
多結晶シリコン層内に拡散し、金属シリサイド層を形成
させる金属層14の物質はCo、Ni、Pd、Ptであ
る。従って、本発明においては、Ti、Zr、Hr、
V、Nb、Ta、Cr、No、Wが水平方向に過度に成
長し、オフセットされるシリサイド層の長さを有効に制
御することができる。次いで、図2(E)に示したよう
に、シリサイドされない金属層14の領域を湿式食刻を
施して除去し、前記ゲート伝導線13の上部及び両方側
を覆って下部両方水平方向に所定長さ拡張されたシリサ
イド層15を形成する。
成するため該シリサイド層15以外の領域の基板11内
に、第2導電形のn形不純物として例えば砒素を5.0
E15ions/cm2 の供与量及び40keVのエネ
ルギーにてイオン注入する。その後、図2(F)に示し
たように、該シリサイド層15及び基板11表面に絶縁
膜17を成層し、該基板11を熱処理して前記注入され
た砒素イオンを活性化させ、n+ 形のドレイン/ソース
領域を形成するための拡散領域を形成する。従って、ド
レイン/ソース領域はシリサイド層の延長された領域の
下部基板11内に形成されたn- 形の拡散領域16と、
該n- 形拡散領域16の側方に接して基板内に水平方向
に延長形成されたn+ 形拡散領域18と、を備えてい
る。次いで、前記ゲート絶縁膜12のコンタクトホール
を介して、前記ドレイン/ソース領域のn+ 形拡散領域
18に電気的接続されるドレイン/ソース電極19を夫
々形成する。
素子の製造方法の第2実施例を説明すると次のようであ
る。即ち、図3(A)に示したように、前記第1実施例
と同様に、基板11上にゲート絶縁膜12及びゲート伝
導線13を夫々形成した後、n- 形のLDD領域を形成
するため該ゲート伝導線13以外の他領域の基板11内
に、n形の不純物として例えば燐を2.4E13ion
s/cm2 の供与量及び40keVのエネルギーにてイ
オン注入する。次いで、図3(B)に示したように、前
記第1実施例と同様に、それらゲート絶縁膜12及びゲ
ート伝導線13上面に金属層14を500Åの厚さに成
層し、該金属層14上面内に水素をイオン注入して該金
属層14の粒界をパッシベーションさせる。次いで、図
3(C)に示したように、前記第1実施例と同様にドレ
イン/ソース領域を形成し、ドレイン/ソース電極を形
成する。
素子の製造方法の第3実施例を説明すると次のようであ
る。即ち、図4(A)に示したように、前記第2実施例
と同様に、基板11上面にゲート絶縁膜12、ゲート伝
導線13及び金属層14を夫々形成する。次いで、図4
(B)に示したように、前記第1実施例と同様に、該金
属層14を熱処理してシリサイド層15を形成し、前記
ゲート絶縁膜12をエッチバックし、図4(C)に示し
たように、該シリサイド層15の側面に絶縁膜のスペー
サー25を夫々形成する。次いで、図4(D)に示した
ように、シリサイド化されない金属層14領域を湿式食
刻して除去し、前記ゲート伝導線13の上部及び両方側
を覆って下部両方水平方向に所定長さ拡張されたシリサ
イド層15を形成する。その後、該シリサイド層15以
外の他領域の基板11内に、n形の不純物として例え
ば、砒素を5.0E15ions/cm2 の供与量及び
40keVのエネルギーにてイオン注入する。次いで、
図4(E)に示したように、前記第1実施例と同様に、
該シリサイド層15下部基板11内両方側にn- 形拡散
領域16及びn+ 形拡散領域18を形成する。この場
合、前記金属層14がシリサイド層15に変換されない
状態で、n- 形拡散領域16及びn+ 形拡散領域18を
形成することもできる。
ト−ドレイン重畳素子の製造方法においては、多結晶シ
リコン層のゲート伝導線表面上にシリサイド層を形成
し、該シリサイド層側面下方に該シリサイド層を所定長
さ拡張させ、ゲートとソース/ドレインとが重畳された
領域下部基板内にn- 形拡散領域を均一に形成するよう
になっているため、ゲート伝導線の抵抗を減少させ、G
OLDトランジスターの電気的特性を均一化し得るとい
う効果がある。
ドレイン重畳素子の構造を示した縦断面図である。
ン重畳素子の製造方法の第1実施例を示した工程図であ
る。
ン重畳素子の製造方法の第2実施例を示した工程図であ
る。
ン重畳素子の製造方法の第3実施例を示した工程図であ
る。
子及びその製造方法を示した図面である。
Claims (4)
- 【請求項1】 ゲート−ドレイン重畳素子の製造方法で
あって、 第1導電形の基板上にゲート絶縁膜を形成し、該ゲート
絶縁膜上にゲート伝導線を形成する段階と、 該ゲート伝導線を含んだ基板上面に第1導電層を形成す
る段階と、 該第1導電層に水素イオンまたは窒素イオンで第1次イ
オン注入する段階と、 前記第1導電層を熱処理して第2導電層に変換させた
後、前記ゲート伝導線を被覆して前記ゲート絶縁膜上面
部位まで拡張された第2導電層パターンを形成する段階
と、 該第2導電層パターン側面に絶縁膜スペーサーを形成す
る段階と、 前記第2導電層パターン以外の他領域の基板内に第2導
電形の不純物を第2次イオン注入する段階と、 を順次行う、ゲート−ドレイン重畳素子の製造方法。 - 【請求項2】 前記第2次イオン注入する段階は、前記
第2導電層パターン以外の他領域の前記第1導電層を除
去した後、第2次イオンを注入する、請求項1記載のゲ
ート−ドレイン重畳素子の製造方法。 - 【請求項3】 前記第1導電層を熱処理して第2導電層
に変換させた後、該第2導電層の結晶粒界が水素イオン
または窒素イオンでパッシベーションすることを特徴と
する、請求項1または請求項2に記載のゲート−ドレイ
ン重畳素子の製造方法。 - 【請求項4】 前記第1導電層に第1次イオン注入する
段階は、水素プラズマ処理法、窒素イオン注入法、窒素
プラズマ処理法および窒素熱処理法のいずれかによるも
のであることを特徴とする、請求項1または請求項3に
記載のゲート−ドレイン重畳素子の製造方法。
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