JP2828162B2 - 絶対測定用の干渉測定方法およびこの方法に適したレーザー干渉計装置 - Google Patents
絶対測定用の干渉測定方法およびこの方法に適したレーザー干渉計装置Info
- Publication number
- JP2828162B2 JP2828162B2 JP6092577A JP9257794A JP2828162B2 JP 2828162 B2 JP2828162 B2 JP 2828162B2 JP 6092577 A JP6092577 A JP 6092577A JP 9257794 A JP9257794 A JP 9257794A JP 2828162 B2 JP2828162 B2 JP 2828162B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measurement
- measuring
- laser
- wavelength
- light source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims abstract description 68
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000009191 jumping Effects 0.000 claims description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 3
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02002—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies
- G01B9/02004—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties using two or more frequencies using frequency scans
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02075—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
- G01B9/02078—Caused by ambiguity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、少なくとも波長範囲
でモードに飛びがない状態で可変できるレーザー光源を
使用して絶対測定用、特に絶対距離測定用の干渉測定方
法、および少なくとも或る波長範囲でモードに飛びがな
い状態で可変できるレーザー光源を備え、上記の測定方
法に適したレーザー干渉計装置に関する。
でモードに飛びがない状態で可変できるレーザー光源を
使用して絶対測定用、特に絶対距離測定用の干渉測定方
法、および少なくとも或る波長範囲でモードに飛びがな
い状態で可変できるレーザー光源を備え、上記の測定方
法に適したレーザー干渉計装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ドイツ特許第 36 08 075号明細書によ
り、測定干渉計と基準干渉計から成り、レーザービーム
を使用して対象物体の距離を測定する装置が知られてい
る。両方の干渉計には同じレーザー光源のビームが入射
する。このレーザービームを周波数変調して、互いに干
渉する２つの分割ビームから所謂基準唸り波が生じる。
この場合、測定唸り波あるいは基準唸り波の波の数を測
定装置で測定し、この波の数と基準区間の既知の距離と
の比の数から測定距離が求まる。
り、測定干渉計と基準干渉計から成り、レーザービーム
を使用して対象物体の距離を測定する装置が知られてい
る。両方の干渉計には同じレーザー光源のビームが入射
する。このレーザービームを周波数変調して、互いに干
渉する２つの分割ビームから所謂基準唸り波が生じる。
この場合、測定唸り波あるいは基準唸り波の波の数を測
定装置で測定し、この波の数と基準区間の既知の距離と
の比の数から測定距離が求まる。
【０００３】この測定方法には、一方で基準唸り波の位
相が高々唸り波の全波長の約 1/10の分解能でしか測定
できないと言う難点がある。この分解能は他の方法で達
成できる分解能にとても匹敵しない。他方、この方法は
極端な範囲内で変化する測定区間に対しては不適当であ
る。しかし、これ等の要請は、例えば製造処理の装置制
御でしばしば重要になる。
相が高々唸り波の全波長の約 1/10の分解能でしか測定
できないと言う難点がある。この分解能は他の方法で達
成できる分解能にとても匹敵しない。他方、この方法は
極端な範囲内で変化する測定区間に対しては不適当であ
る。しかし、これ等の要請は、例えば製造処理の装置制
御でしばしば重要になる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】それ故、上記の難点に
鑑み、この発明の課題は、冒頭に述べたタイプの距離測
定方法および距離測定用のレーザー干渉計装置にあっ
て、測定精度や検出できる測定範囲を向上ないしは拡大
することにある。
鑑み、この発明の課題は、冒頭に述べたタイプの距離測
定方法および距離測定用のレーザー干渉計装置にあっ
て、測定精度や検出できる測定範囲を向上ないしは拡大
することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、冒頭に述べたタイプの距離測定方法にあって、
同じレーザー光源のレーザービームが入射する、それ
ぞれ測定区間を備えた２つの測定干渉計を使用し、その
場合、２つの測定区間Ｌ1 あるいはＬ2 の算術的な加算
あるいは減算によって形成される基準区間ＬRef を一定
に維持し、干渉する２つの分割ビームから光検出器で測
定されるそれぞれ少なくとも１つの干渉信号を発生さ
せ、レーザービームの空気波長をモードに飛びかなく波
長範囲内で値λ1 とλ2 の間で連続的に可変し、波長を
変調する間に各干渉信号の積分位相変化Δφ1 とΔφ2
を検出し、測定区間の一方の長さを公式、
により、冒頭に述べたタイプの距離測定方法にあって、
同じレーザー光源のレーザービームが入射する、それ
ぞれ測定区間を備えた２つの測定干渉計を使用し、その
場合、２つの測定区間Ｌ1 あるいはＬ2 の算術的な加算
あるいは減算によって形成される基準区間ＬRef を一定
に維持し、干渉する２つの分割ビームから光検出器で測
定されるそれぞれ少なくとも１つの干渉信号を発生さ
せ、レーザービームの空気波長をモードに飛びかなく波
長範囲内で値λ1 とλ2 の間で連続的に可変し、波長を
変調する間に各干渉信号の積分位相変化Δφ1 とΔφ2
を検出し、測定区間の一方の長さを公式、
【０００６】
【外２】 により求めることによって解決されている。更に、上記
の課題は、この発明により、冒頭に述べたタイプのレー
ザー干渉計装置にあって、それぞれ１つの測定区間を有
する２つの測定干渉計を備え、これ等の測定干渉計で、
２つの測定区間の算術加算あるいは減算で形成される基
準区間が一定の長さを有し、前記２つの測定干渉計が、
それぞれ１つのビームスプリッタ、空間的に固定された
反射体および移動可能な反射体を有し、これ等の測定干
渉計に主ビームスプリッタおよび少なくとも１つの他の
反射体あるいは光導波路により、同じレーザー光源のビ
ームが入射し、それぞれ１つの干渉信号が形成され、光
検出器で検出されることによって解決されている。
の課題は、この発明により、冒頭に述べたタイプのレー
ザー干渉計装置にあって、それぞれ１つの測定区間を有
する２つの測定干渉計を備え、これ等の測定干渉計で、
２つの測定区間の算術加算あるいは減算で形成される基
準区間が一定の長さを有し、前記２つの測定干渉計が、
それぞれ１つのビームスプリッタ、空間的に固定された
反射体および移動可能な反射体を有し、これ等の測定干
渉計に主ビームスプリッタおよび少なくとも１つの他の
反射体あるいは光導波路により、同じレーザー光源のビ
ームが入射し、それぞれ１つの干渉信号が形成され、光
検出器で検出されることによって解決されている。
【０００７】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【０００８】
【作用】この測定方法には、周知の方法に比べて、基準
区間の長さを２つの測定区間の長さ、つまり測定すべき
測定間隔の大きさで校正するという利点がある。こうし
て、達成できる全測定分解能が非常に異なる測定距離で
あっても得られる。１測定期間の時間をできる限り短く
し、それによって誤差の影響を最小にするため、波長の
可変を電流の変調でのみ行うが、例えばレーザー光源、
好ましくは半導体レーザー光源の熱源の温度変化で行わ
ないと有利である。連続的な可変範囲は温度変化の場
合、電流変化の場合の範囲よりも係数が約５ほど大きい
が、この過程は電流変調の数ミリ秒に比べて数秒を必要
とする。
区間の長さを２つの測定区間の長さ、つまり測定すべき
測定間隔の大きさで校正するという利点がある。こうし
て、達成できる全測定分解能が非常に異なる測定距離で
あっても得られる。１測定期間の時間をできる限り短く
し、それによって誤差の影響を最小にするため、波長の
可変を電流の変調でのみ行うが、例えばレーザー光源、
好ましくは半導体レーザー光源の熱源の温度変化で行わ
ないと有利である。連続的な可変範囲は温度変化の場
合、電流変化の場合の範囲よりも係数が約５ほど大きい
が、この過程は電流変調の数ミリ秒に比べて数秒を必要
とする。
【０００９】位相測定での分解能の向上は、この発明に
より、位相変化の検出を 90 °位相のずれた２つの干渉
信号で形成される楕円状のリッサジュール図形に基づき
行って達成される。リッサジュール楕円の評価によっ
て、干渉信号の位相、特に残留位相を非常に正確に求め
ることができる。この評価を効果的に行うためには、も
ちろん、光検出器で検出された 90 °位相のずれた干渉
信号の光強度が二軸図形で円形リッサジュールになるこ
とを保証する必要がある。しかし、通常では、測定され
た位相値は円ではなく、楕円上にあり、この楕円は電流
変調を加えた時、出力特性のため閉じることなく、螺旋
状に広がる。楕円の形状には、主に位相差が正確に 90
°でないこと、90°位相のずれた２つの干渉信号の増幅
率が異なること、および両方の干渉信号の一方でオフセ
ットが生じることに原因がある。「ハイデマン」（Heyd
emann)の公知の方法が測定された位相値を補正する可能
性を与える。この方法では、リッサジュール曲線の楕円
率が主軸変換によって円に変換される。リッサジュール
曲線をこの方法で補正することにより約１°の角度分解
能を達成できる。
より、位相変化の検出を 90 °位相のずれた２つの干渉
信号で形成される楕円状のリッサジュール図形に基づき
行って達成される。リッサジュール楕円の評価によっ
て、干渉信号の位相、特に残留位相を非常に正確に求め
ることができる。この評価を効果的に行うためには、も
ちろん、光検出器で検出された 90 °位相のずれた干渉
信号の光強度が二軸図形で円形リッサジュールになるこ
とを保証する必要がある。しかし、通常では、測定され
た位相値は円ではなく、楕円上にあり、この楕円は電流
変調を加えた時、出力特性のため閉じることなく、螺旋
状に広がる。楕円の形状には、主に位相差が正確に 90
°でないこと、90°位相のずれた２つの干渉信号の増幅
率が異なること、および両方の干渉信号の一方でオフセ
ットが生じることに原因がある。「ハイデマン」（Heyd
emann)の公知の方法が測定された位相値を補正する可能
性を与える。この方法では、リッサジュール曲線の楕円
率が主軸変換によって円に変換される。リッサジュール
曲線をこの方法で補正することにより約１°の角度分解
能を達成できる。
【００１０】従って、絶対干渉法での測定の外に、更に
相対距離測定も行え、測定区間の少なくとも１つにλ/4
板を導入して周知のように測定すべき物体の相対運動方
向も判定できる。
相対距離測定も行え、測定区間の少なくとも１つにλ/4
板を導入して周知のように測定すべき物体の相対運動方
向も判定できる。
【００１１】更に、この発明による測定方法では、位相
変化ΔΦ1 とΔΦ2 を同じトリガパルスで過剰サンプリ
ングして求めている。積分位相変化は、一般に階段状の
デジタル曲線の形にして計測技術的に測定される。デジ
タルステップの数は市販の半導体レーザーを用いる絶対
干渉法で通常の干渉法の場合より一般に非常に少なく、
係数
変化ΔΦ1 とΔΦ2 を同じトリガパルスで過剰サンプリ
ングして求めている。積分位相変化は、一般に階段状の
デジタル曲線の形にして計測技術的に測定される。デジ
タルステップの数は市販の半導体レーザーを用いる絶対
干渉法で通常の干渉法の場合より一般に非常に少なく、
係数
【００１２】
【外３】 ほど少ない。位相分解能の向上は、デジタルによるデー
タ検出の場合、測定電子回路を一定のサンプリング速度
で過剰サンプリング（oversampling) して達成される。
この場合、分解能の向上はサンプリング間隔の長さに対
するステップの長さの比に比例する。過剰サンプリング
が行われる波長の終端範囲は全波長間隔の最大で 1/2に
相当する。
タ検出の場合、測定電子回路を一定のサンプリング速度
で過剰サンプリング（oversampling) して達成される。
この場合、分解能の向上はサンプリング間隔の長さに対
するステップの長さの比に比例する。過剰サンプリング
が行われる波長の終端範囲は全波長間隔の最大で 1/2に
相当する。
【００１３】更に、この発明による測定方法では、少な
くとも測定干渉計の一方で少なくとも２つの干渉分割ビ
ームからそれぞれ互いに位相のずれ干渉信号が発生し、
これ等の干渉信号がそれぞれ光検出器で測定される。
くとも測定干渉計の一方で少なくとも２つの干渉分割ビ
ームからそれぞれ互いに位相のずれ干渉信号が発生し、
これ等の干渉信号がそれぞれ光検出器で測定される。
【００１４】例えば 90 °位相のずれた干渉信号の発生
は、周知のようにビーム通路にλ/4板を挿入して行われ
る。この方法は一方で絶対干渉測定の外に、相対距離測
定も実行できる利点があり、測定区間の少なくとも１つ
にλ/4板を挿入して、周知のように測定すべき物体の相
対運動の方向も判定できる。
は、周知のようにビーム通路にλ/4板を挿入して行われ
る。この方法は一方で絶対干渉測定の外に、相対距離測
定も実行できる利点があり、測定区間の少なくとも１つ
にλ/4板を挿入して、周知のように測定すべき物体の相
対運動の方向も判定できる。
【００１５】最後に、この発明による測定方法では、少
なくとも１つの他の離散的な波長λ 3 を有するレーザー
ビームを放出する第二レーザー光源あるいは多波長レー
ザー光源を使用し、このレーザービームも同じように各
干渉計に入射する。その場合、レーザーの波長は交互に
切り換えて使用され、電子回路あるいは電算機により後
で行われる干渉信号を重ね合わせて特定の唸り波長を有
する合成唸りを形成するように、波長値λ3 を波長値λ
1 とλ2 に合わせる。
なくとも１つの他の離散的な波長λ 3 を有するレーザー
ビームを放出する第二レーザー光源あるいは多波長レー
ザー光源を使用し、このレーザービームも同じように各
干渉計に入射する。その場合、レーザーの波長は交互に
切り換えて使用され、電子回路あるいは電算機により後
で行われる干渉信号を重ね合わせて特定の唸り波長を有
する合成唸りを形成するように、波長値λ3 を波長値λ
1 とλ2 に合わせる。
【００１６】上記の処置により、この発明による測定方
法での長さの分解能が更に向上する。付加的な離散波長
により、例えば波長の連続可変法に基づく測定の不確実
さよりも長い唸り波長が生じる。
法での長さの分解能が更に向上する。付加的な離散波長
により、例えば波長の連続可変法に基づく測定の不確実
さよりも長い唸り波長が生じる。
【００１７】この発明による干渉計装置では、２つの干
渉計のビームスプリッタが基準区間の両端を決め、各測
定反射体は移動可能である。しかし、両方の干渉計のビ
ームスプリッタを移動可能にし、各測定反射体が基準区
間の両端を決める構成も可能である。
渉計のビームスプリッタが基準区間の両端を決め、各測
定反射体は移動可能である。しかし、両方の干渉計のビ
ームスプリッタを移動可能にし、各測定反射体が基準区
間の両端を決める構成も可能である。
【００１８】この発明による干渉計装置では、更にレー
ザー光源が半導体レーザー光源である。この発明による
レーザー干渉計装置では、更に測定干渉計の干渉信号に
対して初段増幅器が設けてあり、この増幅器の増幅率は
レーザー出力に逆比例する。このことは、初段増幅器の
後では信号レベルがレーザー出力、従って波長に無関係
になる。
ザー光源が半導体レーザー光源である。この発明による
レーザー干渉計装置では、更に測定干渉計の干渉信号に
対して初段増幅器が設けてあり、この増幅器の増幅率は
レーザー出力に逆比例する。このことは、初段増幅器の
後では信号レベルがレーザー出力、従って波長に無関係
になる。
【００１９】この発明によるレーザー干渉計装置では、
更に測定干渉計の少なくとも１つが90 °位相のずれた
２つの干渉信号を有し、これ等の干渉信号がそれぞれ光
検出器で検出される。
更に測定干渉計の少なくとも１つが90 °位相のずれた
２つの干渉信号を有し、これ等の干渉信号がそれぞれ光
検出器で検出される。
【００２０】この処置により、一方で、測定方法に応じ
て行うべき位相評価がリッサジュール曲線に基づき主に
可能になる。他方で、周知のように、測定区間の１つに
λ/4板を挿入して移動反射体の相対運動方向も求めるこ
とができる。
て行うべき位相評価がリッサジュール曲線に基づき主に
可能になる。他方で、周知のように、測定区間の１つに
λ/4板を挿入して移動反射体の相対運動方向も求めるこ
とができる。
【００２１】更に、この発明によるレーザー干渉計装置
は、測定区間が１つの軸に揃えて配設され、その場合、
移動可能な反射体がそれぞれ後ろ側で相互に固く連結
し、両方の測定干渉計のビームスプリッタの間で測定区
間に沿って直線的に移動可能に配設されていて、両方の
測定区間の算術加算で形成される基準区間が一定の長さ
を有するように構成されている。
は、測定区間が１つの軸に揃えて配設され、その場合、
移動可能な反射体がそれぞれ後ろ側で相互に固く連結
し、両方の測定干渉計のビームスプリッタの間で測定区
間に沿って直線的に移動可能に配設されていて、両方の
測定区間の算術加算で形成される基準区間が一定の長さ
を有するように構成されている。
【００２２】更に、この発明によるレーザー干渉計装置
は測定区間が平行に延びる２つの軸に沿って配設され、
その場合、２つの可動反射体が固く連結し、直線運動可
能に配設され、２つの測定区間の算術減算で形成される
基準区間が一定の長さを有するように構成されている。
は測定区間が平行に延びる２つの軸に沿って配設され、
その場合、２つの可動反射体が固く連結し、直線運動可
能に配設され、２つの測定区間の算術減算で形成される
基準区間が一定の長さを有するように構成されている。
【００２３】この発明によるレーザー干渉計装置では、
更に測定区間が１つの軸に揃えて配設され、その場合、
両方の測定干渉計のビームスプリッタの間に測定区間に
沿って直線運動可能な反射体を配設し、２つの測定区間
の算術加算で形成される基準区間が一定の長さを有す
る。この場合、干渉計のアームは共通の反射体を使用で
きるように配設されている。
更に測定区間が１つの軸に揃えて配設され、その場合、
両方の測定干渉計のビームスプリッタの間に測定区間に
沿って直線運動可能な反射体を配設し、２つの測定区間
の算術加算で形成される基準区間が一定の長さを有す
る。この場合、干渉計のアームは共通の反射体を使用で
きるように配設されている。
【００２４】この発明によるレーザー干渉計装置では、
更に位相評価を自動化するため、計数器あるいは計数電
子回路および評価電子回路あるいは電算機が設けてあ
る。これにより、測定処理での全ステップが自動化で
き、それ故に連続的に順次距離測定が行える。
更に位相評価を自動化するため、計数器あるいは計数電
子回路および評価電子回路あるいは電算機が設けてあ
る。これにより、測定処理での全ステップが自動化で
き、それ故に連続的に順次距離測定が行える。
【００２５】この発明によるレーザー干渉計装置では、
最後に装置の少なくとも一部を集積光学系で、また光通
路の複数の部分を光導波路で形成している。超小型化は
集積光学で周知の標準部品を優先的に使用して初めて可
能になり、この発明によるレーザー干渉計装置はもっと
広範な応用分野を開拓している。
最後に装置の少なくとも一部を集積光学系で、また光通
路の複数の部分を光導波路で形成している。超小型化は
集積光学で周知の標準部品を優先的に使用して初めて可
能になり、この発明によるレーザー干渉計装置はもっと
広範な応用分野を開拓している。
【００２６】
【実施例】以下、この発明によるレーザー干渉計装置の
実施例に基づきこの発明による測定方法をより詳しく説
明する。
実施例に基づきこの発明による測定方法をより詳しく説
明する。
【００２７】図１に示す絶対測定レーザー干渉計装置１
は少なくとも或る波長範囲内でモードに飛びのない状態
で可変できる半導体レーザー光源２を保有する。このレ
ーザー光源は図示していない駆動電源により特性曲線の
モードに飛びのない波長範囲内で変調される。更に、２
つの測定干渉計３，４が設けてあり、これ等の干渉計で
は、干渉計アーム５，６が本来の測定区間（５，６）を
形成する。２つの測定区間Ｌ1 とＬ2 ５，６の算術減算
で形成される基準区間ＬRef が一定の長さを有する。そ
れぞれ互いに干渉する少なくとも２つの分割ビーム７，
８あるいは９，１０を発生するため、それぞれビームス
プリッタ１１，１２および２つの逆行反射体１３1 と１
３2 で構成される移動可能な逆行反射体ユニット１３，
および２つの固定逆行反射体１４，１５が設けてある。
干渉性の各分割ビーム７，８あるいは９，１０の検出
は、それぞれ光検出器１６，１７あるいは１８，１９で
行われる。更に、光検出器１６，１７，１８，１９は図
示していない計数電子回路に、また半導体レーザー光源
２も同様に図示していないレーザー波長の制御装置に接
続している。２つの測定干渉計３，４には、主ビームス
プリッタ２０および１つの反射体あるいは鏡２１によっ
て同じ半導体レーザー光源２のビームが入射する。その
外、測定区間５，６は平行に延びる２つの軸に沿って配
設されている。その場合、可動逆行反射体１３は測定区
間５，６に平行に直線運動可能に配設されている。逆行
反射体１３が運動する場合、２つの測定区間５，６の算
術減算で形成される基準区間は一定の長さを有する。専
ら標準部品を使用しているので、全体のレーザー干渉計
装置３０は集積光学系として構成できる。
は少なくとも或る波長範囲内でモードに飛びのない状態
で可変できる半導体レーザー光源２を保有する。このレ
ーザー光源は図示していない駆動電源により特性曲線の
モードに飛びのない波長範囲内で変調される。更に、２
つの測定干渉計３，４が設けてあり、これ等の干渉計で
は、干渉計アーム５，６が本来の測定区間（５，６）を
形成する。２つの測定区間Ｌ1 とＬ2 ５，６の算術減算
で形成される基準区間ＬRef が一定の長さを有する。そ
れぞれ互いに干渉する少なくとも２つの分割ビーム７，
８あるいは９，１０を発生するため、それぞれビームス
プリッタ１１，１２および２つの逆行反射体１３1 と１
３2 で構成される移動可能な逆行反射体ユニット１３，
および２つの固定逆行反射体１４，１５が設けてある。
干渉性の各分割ビーム７，８あるいは９，１０の検出
は、それぞれ光検出器１６，１７あるいは１８，１９で
行われる。更に、光検出器１６，１７，１８，１９は図
示していない計数電子回路に、また半導体レーザー光源
２も同様に図示していないレーザー波長の制御装置に接
続している。２つの測定干渉計３，４には、主ビームス
プリッタ２０および１つの反射体あるいは鏡２１によっ
て同じ半導体レーザー光源２のビームが入射する。その
外、測定区間５，６は平行に延びる２つの軸に沿って配
設されている。その場合、可動逆行反射体１３は測定区
間５，６に平行に直線運動可能に配設されている。逆行
反射体１３が運動する場合、２つの測定区間５，６の算
術減算で形成される基準区間は一定の長さを有する。専
ら標準部品を使用しているので、全体のレーザー干渉計
装置３０は集積光学系として構成できる。
【００２８】図２に示す絶対測定レーザー干渉計装置３
０は少なくとも或る波長範囲内でモードに飛びがない状
態で可変できる半導体レーザー光源３１を有する。この
レーザー光源３１は図示していない駆動電源によってそ
の特性曲線のモードに飛びのない波長範囲内で変調され
る。更に、２つの測定区間３２，３３が設けてある。こ
れ等の測定区間では、干渉計アーム３４，３７が本来の
測定区間（３４，３７）を形成している。この例では、
２つの測定区間３４，３７の算術加算で形成される基準
区間が一定の長さを有する。それぞれが互いに干渉する
少なくとも２つの分割ビーム３５，３６あるいは３８，
３９を発生するため、それぞれビームスプリッタ４０，
４１および２つの逆行反射体４２，４３あるいは４４，
４５が設けてある。干渉する分割ビーム３５，３６ある
いは３８，３９の各々の検出は、それぞれ光検出器４
６，４７あるいは４８，４９で行われる。更に、光検出
器４６，４７，４８，４９は図示していない計数電子回
路に、また半導体レーザー光源３１も同様に図示してい
ないレーザー波長の制御装置に接続している。２つの測
定干渉計３２，３３には、主ビームスプリッタ５０およ
び３つの反射体あるいは鏡５１，５２，５３により同じ
半導体レーザー光源３１のビームが入射する。その外、
測定区間３４，３７は揃って延びる２つの軸の上に配設
されている。その場合、移動可能な逆行反射体４２，４
４は固定ユニットに連結し、測定区間３４，３７に沿っ
て直線運動可能に配設されている。そして、２つの測定
区間３４，３７の算術加算で形成される基準区間は一定
の長さを有する。専ら標準部品を使用しているので、こ
のレーザー干渉計装置３０も集積光学系として構成でき
る。
０は少なくとも或る波長範囲内でモードに飛びがない状
態で可変できる半導体レーザー光源３１を有する。この
レーザー光源３１は図示していない駆動電源によってそ
の特性曲線のモードに飛びのない波長範囲内で変調され
る。更に、２つの測定区間３２，３３が設けてある。こ
れ等の測定区間では、干渉計アーム３４，３７が本来の
測定区間（３４，３７）を形成している。この例では、
２つの測定区間３４，３７の算術加算で形成される基準
区間が一定の長さを有する。それぞれが互いに干渉する
少なくとも２つの分割ビーム３５，３６あるいは３８，
３９を発生するため、それぞれビームスプリッタ４０，
４１および２つの逆行反射体４２，４３あるいは４４，
４５が設けてある。干渉する分割ビーム３５，３６ある
いは３８，３９の各々の検出は、それぞれ光検出器４
６，４７あるいは４８，４９で行われる。更に、光検出
器４６，４７，４８，４９は図示していない計数電子回
路に、また半導体レーザー光源３１も同様に図示してい
ないレーザー波長の制御装置に接続している。２つの測
定干渉計３２，３３には、主ビームスプリッタ５０およ
び３つの反射体あるいは鏡５１，５２，５３により同じ
半導体レーザー光源３１のビームが入射する。その外、
測定区間３４，３７は揃って延びる２つの軸の上に配設
されている。その場合、移動可能な逆行反射体４２，４
４は固定ユニットに連結し、測定区間３４，３７に沿っ
て直線運動可能に配設されている。そして、２つの測定
区間３４，３７の算術加算で形成される基準区間は一定
の長さを有する。専ら標準部品を使用しているので、こ
のレーザー干渉計装置３０も集積光学系として構成でき
る。
【００２９】図３の上部には、測定期間が時点ｔ1 で波
長値λ1 に始まり、時点ｔ2 で波長値λ2 に終わる直線
変調された波長曲線６１が示してある。２つの波長値の
間にある波長間隔が半導体レーザー光源３１の特性曲線
にモードの飛びのない範囲内にあるように、取り分け前
記両方の波長値を選択する。測定干渉計３２，３３内で
波長変調中に生じる干渉信号３５，３６，３８，３９の
位相変化６２，６３は図３の下部に示してある。曲線６
２，６３の鋸歯波形は、レーザー波長を可変している場
合、位相が新しい干渉次数に飛び移るまで絶えず直線的
に変化する。２つの測定区間内で測定された干渉信号の
通過した位相の数が異なるのは、測定干渉計３２，３３
の測定区間の長さが異なるためである。積分位相変化Δ
Φは鋸歯の先端を数え、測定曲線６２，６３の終点で求
めた残留位相を計算して与えられる。測定区間３４（あ
るいは３７）の決定は、結局、両方の測定干渉計３２，
３３で測定された積分位相変化と基準区間の既知の長さ
から請求項１に規定する公式により行われる。各残留位
相を求めることに関しては、以下で説明する。
長値λ1 に始まり、時点ｔ2 で波長値λ2 に終わる直線
変調された波長曲線６１が示してある。２つの波長値の
間にある波長間隔が半導体レーザー光源３１の特性曲線
にモードの飛びのない範囲内にあるように、取り分け前
記両方の波長値を選択する。測定干渉計３２，３３内で
波長変調中に生じる干渉信号３５，３６，３８，３９の
位相変化６２，６３は図３の下部に示してある。曲線６
２，６３の鋸歯波形は、レーザー波長を可変している場
合、位相が新しい干渉次数に飛び移るまで絶えず直線的
に変化する。２つの測定区間内で測定された干渉信号の
通過した位相の数が異なるのは、測定干渉計３２，３３
の測定区間の長さが異なるためである。積分位相変化Δ
Φは鋸歯の先端を数え、測定曲線６２，６３の終点で求
めた残留位相を計算して与えられる。測定区間３４（あ
るいは３７）の決定は、結局、両方の測定干渉計３２，
３３で測定された積分位相変化と基準区間の既知の長さ
から請求項１に規定する公式により行われる。各残留位
相を求めることに関しては、以下で説明する。
【００３０】図４は、光検出器４６，４７あるいは４
８，４９で検出され 90 °位相のずれた２つの干渉信号
に解析的に合わせて得られる典型的なリッサジュール楕
円を示す。内側のリッサジュール曲線７１は測定期間の
最初に１波長周期の２つの干渉信号の位相変化を表し、
これに反して、外側の曲線７２は測定周期の終わりの位
相の変化を示す。異なった半径は波長と共に増加する半
導体レーザー光源３１の出力特性の結果である。残留位
相φ1 あるいはφ2 はそれぞれこれ等の曲線の１つの上
にあり、従って特に正確に決めることができる。もちろ
ん、通常楕円を既に述べた周知の方法で予め円に変換す
ると効果的である。
８，４９で検出され 90 °位相のずれた２つの干渉信号
に解析的に合わせて得られる典型的なリッサジュール楕
円を示す。内側のリッサジュール曲線７１は測定期間の
最初に１波長周期の２つの干渉信号の位相変化を表し、
これに反して、外側の曲線７２は測定周期の終わりの位
相の変化を示す。異なった半径は波長と共に増加する半
導体レーザー光源３１の出力特性の結果である。残留位
相φ1 あるいはφ2 はそれぞれこれ等の曲線の１つの上
にあり、従って特に正確に決めることができる。もちろ
ん、通常楕円を既に述べた周知の方法で予め円に変換す
ると効果的である。
【００３１】最後に、図５は波長値の範囲でレーザー波
長を可変する方法に応じて位相を求めるための信号波形
を示す。この場合、そこで静的に求めた位相値に加え
て、１全周期の位相が収録してある。図５のグラフは測
定周期の最初の時点で得られた90 °位相のずれた干渉
信号の位相データ８１，８２および対応する終わりで測
定されタデータ８３，８４に対するグラフを示す。曲線
８１，８２，８３，８４の収録は半導体レーザー光源３
１の駆動電流を可変して行われる。これにより、少なく
とも１周期にわたる位相変化が明らかになる。この方法
で求めたデータにリッサジュール楕円を合わせ、その
時、このリッサジュール楕円を図４の方法に応じて評価
できる。
長を可変する方法に応じて位相を求めるための信号波形
を示す。この場合、そこで静的に求めた位相値に加え
て、１全周期の位相が収録してある。図５のグラフは測
定周期の最初の時点で得られた90 °位相のずれた干渉
信号の位相データ８１，８２および対応する終わりで測
定されタデータ８３，８４に対するグラフを示す。曲線
８１，８２，８３，８４の収録は半導体レーザー光源３
１の駆動電流を可変して行われる。これにより、少なく
とも１周期にわたる位相変化が明らかになる。この方法
で求めたデータにリッサジュール楕円を合わせ、その
時、このリッサジュール楕円を図４の方法に応じて評価
できる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明による干
渉測定方法およびレーザー干渉計装置により、測定精度
や検出できる測定範囲を向上ないしは拡大できる。
渉測定方法およびレーザー干渉計装置により、測定精度
や検出できる測定範囲を向上ないしは拡大できる。
【図１】基準区間が２つの測定区間の差で形成されるこ
の発明によるレーザー干渉計装置実施例を示す図面であ
る。
の発明によるレーザー干渉計装置実施例を示す図面であ
る。
【図２】図１に相当するが、基準区間が２つの測定区間
の和で形成されるこの発明によるレーザー干渉計装置実
施例を示す図面である。
の和で形成されるこの発明によるレーザー干渉計装置実
施例を示す図面である。
【図３】波長変調とそれから生じる２つの測定干渉系内
で生じる干渉信号の２つの位相変化の図面を伴う測定方
法の例を示すグラフである。
で生じる干渉信号の２つの位相変化の図面を伴う測定方
法の例を示すグラフである。
【図４】90°位相のずれた２つの干渉信号のリッサジュ
ール楕円の図面である。
ール楕円の図面である。
【図５】残留位相の領域でレーザー波長を可変する方法
に相当する位相判定の信号波形を示すグラフである。
に相当する位相判定の信号波形を示すグラフである。
１ レーザー干渉計装置 ２ 可変半導体レーザー光源 ３，４ 測定干渉計 ５，６ 干渉計アーム（測定区間） ７，８，９，１０ 分割ビーム １１，１２ ビームスプリッタ １３ 逆行反射ユニット １４，１５ 固定逆行反射体 １６，１７，１８，１９ 光検出器 ２０ 主ビームスプリッタ ２１ 鏡 ３０ レーザー干渉計装置 ３１ レーザー光源 ３２，３３ 測定干渉計 ３４，３７ 干渉計アーム（測定区間） ３５，３６，３８，３９ 分割ビーム ４２，４３，４４，４５ 逆行反射体 ４６，４７，４８，４９ 光検出器 ５０ 主ビームスプリッタ ５１，５２，５３ 反射体（鏡）
フロントページの続き (73)特許権者 591125153 フラウンホ−フエル・ゲゼルシヤフト・ ツール・フエルデルング・デル・アンゲ ウアンテン・フオルシユング・エー・フ アウ ドイツ連邦共和国、80636 ミユンヘン、 レオンロートストラーセ、54 (72)発明者 ユルゲン・テイール ドイツ連邦共和国、52074 アーヒエン、 ジーメンスストラーセ、11 (72)発明者 デイーター・ミッヒエル ドイツ連邦共和国、83278 トラウンシ ユタイン、ラングアウエンストラーセ、 12 (72)発明者 アンドレアス・フランツ ドイツ連邦共和国、83361 キーンベル ク、ゾンネンライテ、21 (56)参考文献 特開 平４−505050（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−324304（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−121608（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−269302（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−146803（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−113302（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01B 9/00 - 9/10 G01B 11/00 - 11/30 G01J 9/02
Claims (16)
- 【請求項１】 少なくとも或る波長範囲でモードに飛び
がない状態で可変できるレーザー光源を使用して絶対測
定用、特に絶対距離測定用の干渉測定方法において、 同じレーザー光源のレーザービームが入射するそれぞれ
測定区間を備えた２つの測定干渉計を使用し、 その場合、２つの測定区間Ｌ1 あるいはＬ2 の算術的な
加算あるいは減算によって形成される基準区間ＬRef を
一定に維持し、 干渉する２つの分割ビームから光検出器で測定されるそ
れぞれ少なくとも１つの干渉信号を発生させ、 レーザービームの空気波長がモードに飛びのない波長範
囲内で値λ1 とλ2 の間で連続的に可変され、波長を変
調する間に各干渉信号の積分位相変化Δφ1 とΔφ2 を
検出し、測定区間の一方の長さを公式、 【外１】 により求めることを特徴とする測定方法。 - 【請求項２】 波長の変調はレーザー光源の駆動電流に
よって行われることを特徴とする請求項１に記載の測定
方法。 - 【請求項３】 残留位相の各々は波長値λ1 とλ2 の範
囲で測定されることを特徴とする請求項１または２に記
載の測定方法。 - 【請求項４】 位相の変化は 90 °位相のずれた２つの
干渉信号で形成される楕円状のリッサジュール図形によ
り得られることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１
項に記載の測定方法。 - 【請求項５】 位相変化ΔΦ1 とΔΦ2 は同じトリガ信
号を用いて過剰サンプリングにより求まることを特徴と
する請求項１〜４のいずれか１項に記載の測定方法。 - 【請求項６】 少なくとも測定干渉計の１つで、干渉す
る少なくとも２つの分割ビームからそれぞれ位相のずれ
た干渉信号を発生させ、これ等の干渉信号を光検出器で
それぞれ測定することを特徴とする請求項１〜５のいず
れか１項に記載の測定方法。 - 【請求項７】 少なくとも１つの他の離散的波長λ3 を
有するレーザービームを放出する第二レーザー光源ある
いは多波長レーザー光源を使用し、この光源のレーザー
ビームも同じように干渉計の各々に入射し、その場合、
レーザー波長を順次交互に切り換えて動作させ、電子回
路あるいは電算機により後で行う干渉信号の重ね合わせ
により一定の唸り波長を有する合成唸りを形成するよう
に波長値λ3 を波長値λ1 とλ2 に合わせることを特徴
とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の測定方法。 - 【請求項８】 少なくとも或る波長範囲でモードに飛び
がない状態で可変できるレーザー光源を備え、請求項１
〜７のいずれか１項の測定方法に適したレーザー干渉計
装置において、 それぞれ１つの測定区間を有する２つの測定干渉計を備
え、 これ等の測定干渉計で、２つの測定区間の算術加算ある
いは減算で形成される基準区間が一定の長さを有し、 前記２つの測定干渉計が、それぞれ１つのビームスプリ
ッタ、空間的に固定された反射体および移動可能な反射
体を有し、これ等の測定干渉計に主ビームスプリッタお
よび少なくとも１つの他の反射体あるいは光導波路によ
り、同じレーザー光源のビームが入射し、それぞれ１つ
の干渉信号が形成され、光検出器で検出されることを特
徴とするレーザー干渉計装置。 - 【請求項９】 レーザー光源は半導体レーザー光源であ
ることを特徴とする請求項８に記載のレーザー干渉計装
置。 - 【請求項１０】 測定干渉計の干渉信号に対して初段増
幅器が設けてあり、この増幅器の増幅率はレーザー出力
に逆比例することを特徴とする請求項８または９に記載
のレーザー干渉計装置。 - 【請求項１１】 測定干渉計の少なくとも１つが 90 °
位相のずれた２つの干渉信号を有し、これ等の干渉信号
が光検出器で検出されることを特徴とする請求項８〜１
０のいずれか１項に記載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項１２】 測定区間を１つの軸に揃えて配置し、
移動可能な反射体をそれぞれ裏側で互いに固定連結し、
２つの測定干渉計のビームスプリッタの間で測定区間に
沿って直線運動可能に配設し、両方の測定区間の算術加
算で形成される基準区間が一定の長さを有することを特
徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載のレーザ
ー干渉計装置。 - 【請求項１３】 測定区間を平行に延びる２つの軸に沿
って配設し、移動可能な逆行反射体を互いに固定連結
し、直線運動可能に配置し、２つの測定区間の算術減算
で構成される基準区間が一定の長さを有することを特徴
とする請求項８〜１１のいずれか１項に記載のレーザー
干渉計装置。 - 【請求項１４】 測定区間を１つの軸の上に揃えて配置
し、両方の測定干渉計のビームスプリッタの間に測定区
間に沿って直線運動可能な反射体を配設し、２つの測定
区間の算術加算で構成される基準区間が一定の長さを有
することを特徴とする請求項８〜１１のいずれか１項に
記載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項１５】 位相の評価を自動化するため、計数器
あるいは計数電子回路および評価電子回路あるいは電算
機が設けてあることを特徴とする請求項８〜１４のいず
れか１項に記載のレーザー干渉計装置。 - 【請求項１６】 装置の少なくとも一部が集積光学系
で、また光通路の複数の部分が光導波路で構成されてい
ることを特徴とする請求項８〜１５のいずれか１項に記
載のレーザー干渉計装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4314488:8 | 1993-05-03 | ||
| DE4314488A DE4314488C2 (de) | 1993-05-03 | 1993-05-03 | Interferometrisches Meßverfahren für Absolutmessungen sowie dafür geeignete Laserinterferometeranordnung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07198320A JPH07198320A (ja) | 1995-08-01 |
| JP2828162B2 true JP2828162B2 (ja) | 1998-11-25 |
Family
ID=6486983
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6092577A Expired - Fee Related JP2828162B2 (ja) | 1993-05-03 | 1994-04-28 | 絶対測定用の干渉測定方法およびこの方法に適したレーザー干渉計装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5521704A (ja) |
| EP (1) | EP0623801B1 (ja) |
| JP (1) | JP2828162B2 (ja) |
| AT (1) | ATE166451T1 (ja) |
| DE (2) | DE4314488C2 (ja) |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19542490C1 (de) * | 1995-11-15 | 1997-06-05 | Leica Ag | Elektro-optisches Meßgerät für absolute Distanzen |
| WO1997033205A1 (en) * | 1996-03-06 | 1997-09-12 | Philips Electronics N.V. | Differential interferometer system and lithographic step-and-scan apparatus provided with such a system |
| US5757491A (en) * | 1996-08-19 | 1998-05-26 | The Hong Kong University Of Science & Technology | Laser interferometer system for straightness measurements |
| US7110121B2 (en) * | 1997-03-04 | 2006-09-19 | Excel Precision, Inc. | Rotation and translation measurement |
| DE19857929A1 (de) * | 1998-12-16 | 2000-06-21 | Richard Hauck | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Abstandsmessung mit Etalon |
| EP1031868B1 (de) | 1999-02-26 | 2003-05-14 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Kompensierter Parallel-Strahlteiler mit zwei Platten sowie Interferometer |
| GB0206008D0 (en) * | 2002-03-14 | 2002-04-24 | Farfield Sensors Ltd | Optical interferometer |
| JP2005051245A (ja) * | 2003-07-30 | 2005-02-24 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置 |
| DE502004011107D1 (de) * | 2004-10-13 | 2010-06-10 | Leica Geosystems Ag | Verfahren und Messgerät zur Messung eines Absolutdistanzwertes |
| US20060126073A1 (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-15 | Intune Technologies Limited | Displacement measuring interferometer system and method using tunable lasers |
| US7292347B2 (en) * | 2005-08-01 | 2007-11-06 | Mitutoyo Corporation | Dual laser high precision interferometer |
| DE102005046605A1 (de) * | 2005-09-29 | 2007-04-05 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische Messeinrichtung |
| GB2516779B (en) | 2009-05-27 | 2015-04-01 | Silixa Ltd | Optical sensor |
| US8179534B2 (en) * | 2010-08-11 | 2012-05-15 | Mitutoyo Corporation | Fixed wavelength absolute distance interferometer |
| GB201013896D0 (en) | 2010-08-19 | 2010-10-06 | Isis Innovation | Apparatus and method for measuring distance |
| US9518816B2 (en) * | 2011-12-01 | 2016-12-13 | University Of Rochester | Dual beam splitter interferometer measuring 3 degrees of freedom, system and method of use |
| EP2662702A1 (de) * | 2012-05-07 | 2013-11-13 | Leica Geosystems AG | Lasertracker mit Interferometer und Absolutdistanzmesseinheit sowie Kalibrierverfahren für einen Lasertracker |
| CN104655290A (zh) * | 2013-11-20 | 2015-05-27 | 南京理工大学 | 斐索型双波长激光调谐移相干涉测试装置及其测试方法 |
| DE102015110362B4 (de) * | 2015-06-26 | 2018-01-18 | n-hands GmbH & Co. KG | Verfahren und Vorrichtung zur interferometrischen Absolutmessung einer Entfernung |
| CN105137444B (zh) * | 2015-07-14 | 2017-07-25 | 杭州电子科技大学 | 双干涉光路调频连续波激光测距信号处理方法 |
| DE102018118501A1 (de) * | 2018-07-31 | 2020-02-06 | Precitec Gmbh & Co. Kg | Messvorrichtung zur Bestimmung eines Abstands zwischen einem Laserbearbeitungskopf und einem Werkstück, Laserbearbeitungssystem mit derselben und Verfahren zur Bestimmung eines Abstands zwischen einem Laserbearbeitungskopf und einem Werkstück |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3647302A (en) * | 1970-05-18 | 1972-03-07 | Bendix Corp | Apparatus for and method of obtaining precision dimensional measurements |
| US3970389A (en) * | 1974-02-14 | 1976-07-20 | Mendrin Michael J | Variable frequency interferometer |
| DE3044183A1 (de) * | 1980-11-24 | 1982-06-24 | Reinhard Dipl.-Phys. Dr. 7250 Leonberg Ulrich | Verfahren zur optischen messung von laengen und laengenaenderungen und anordnung zur durchfuehrung des verfahrens |
| DE3404963C2 (de) * | 1984-02-11 | 1986-09-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Laser-Interferometer zur Längenmessung |
| DE3421213C2 (de) * | 1984-06-07 | 1986-08-28 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Zweikanal-Zweifrequenz-Laserinterferometer |
| DE8502346U1 (de) * | 1985-01-30 | 1989-08-24 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Interferometer-Meßeinrichtung zum Messen von geometrischen Größen |
| KR900002117B1 (ko) * | 1985-03-28 | 1990-04-02 | 시부야 고오교오 가부시끼가이샤 | 레이저 광선을 이용한 거리측정방법과 장치 |
| DE3528259A1 (de) * | 1985-08-07 | 1987-02-19 | Adolf Friedrich Prof D Fercher | Verfahren und anordnung zur interferometrischen laengenmessung mit halbleiterlasern als lichtquelle |
| US4974961A (en) * | 1986-09-12 | 1990-12-04 | Jackson David A | Optical fibre measuring system |
| DE3706347A1 (de) * | 1987-02-27 | 1988-09-08 | Fraunhofer Ges Forschung | Laserinterferometer zur interferometrischen laengenmessung |
| US4813783A (en) * | 1987-11-03 | 1989-03-21 | Carl-Zeiss-Stiftung | Interferometer system for making length or angle measurements |
| DE3918812A1 (de) * | 1988-06-13 | 1989-12-28 | Kerner Anna | Entfernungsmessendes heterodynes interferometer |
| DE3836174A1 (de) * | 1988-10-24 | 1990-05-03 | Hommelwerke Gmbh | Optoelektronische schaltungsanordnung, insbesondere zur laengenmessung, sowie verfahren zum betrieb eines interferometers |
| DE3841742A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-06-13 | Hueser Teuchert Dorothee | Koordinatenmesstaster mit absolutinterferometrischem beruehrungslosem messprinzip |
| GB8903725D0 (en) * | 1989-02-18 | 1989-04-05 | Cambridge Consultants | Coherent tracking sensor |
| DE4039955A1 (de) * | 1990-12-14 | 1992-06-17 | Zeiss Carl Fa | Anordnung mit zwei laserdioden zur erzeugung von licht mit zwei wellenlaengen |
| DE4100773C2 (de) * | 1991-01-12 | 1999-09-30 | Zeiss Carl Jena Gmbh | Interferometrische Längenmeßeinrichtung |
-
1993
- 1993-05-03 DE DE4314488A patent/DE4314488C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-04-28 JP JP6092577A patent/JP2828162B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-04-29 DE DE59405974T patent/DE59405974D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-04-29 AT AT94106729T patent/ATE166451T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-04-29 EP EP94106729A patent/EP0623801B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-05-02 US US08/237,354 patent/US5521704A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59405974D1 (de) | 1998-06-25 |
| EP0623801A3 (de) | 1996-03-27 |
| EP0623801A2 (de) | 1994-11-09 |
| DE4314488A1 (de) | 1994-11-10 |
| EP0623801B1 (de) | 1998-05-20 |
| US5521704A (en) | 1996-05-28 |
| JPH07198320A (ja) | 1995-08-01 |
| DE4314488C2 (de) | 1997-11-20 |
| ATE166451T1 (de) | 1998-06-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2828162B2 (ja) | 絶対測定用の干渉測定方法およびこの方法に適したレーザー干渉計装置 | |
| JP2810956B2 (ja) | 絶対干渉測定方法 | |
| JPS6039518A (ja) | 干渉計システム | |
| JP4995089B2 (ja) | 絶対距離値を測定する方法及び測定装置 | |
| JPH07181007A (ja) | 干渉計応用測定装置 | |
| JP2008516246A5 (ja) | ||
| US6462823B1 (en) | Wavelength meter adapted for averaging multiple measurements | |
| US5589641A (en) | Strain and fabry-perot etalon measurement system and method | |
| JP2725434B2 (ja) | Ｆｍヘテロダイン法を用いたアブソリュート測長方法およびアブソリュート測長器 | |
| US20230314122A1 (en) | Optical interferometric range sensor | |
| JP2554363B2 (ja) | 光干渉測定装置 | |
| JPH0781884B2 (ja) | 光学式変位測定装置 | |
| US5600442A (en) | Position detecting apparatus based on before and after mode-hop signals | |
| JP3874160B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JP4765140B2 (ja) | 干渉計測方法および干渉計測装置 | |
| JP3350093B2 (ja) | 測長装置 | |
| US5471302A (en) | Interferometric probe for distance measurement utilizing a diffraction reflecting element as a reference surface | |
| US6538746B1 (en) | Method and device for measuring absolute interferometric length | |
| US20230288562A1 (en) | Optical interferometric range sensor | |
| JP3149421B2 (ja) | リフレクトメータ | |
| WO2024070443A1 (ja) | コントローラ及び光干渉測距センサ | |
| JPH0763506A (ja) | 干渉測長器 | |
| US20230288185A1 (en) | Optical interference range sensor | |
| JP3914617B2 (ja) | 半導体レーザーの可干渉性解析方法 | |
| Wang et al. | An alternative to white light interferometric sensing |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19980804 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080918 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090918 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |