JP2825992B2 - セラミック繊維の製造方法 - Google Patents

セラミック繊維の製造方法

Info

Publication number
JP2825992B2
JP2825992B2 JP8923891A JP8923891A JP2825992B2 JP 2825992 B2 JP2825992 B2 JP 2825992B2 JP 8923891 A JP8923891 A JP 8923891A JP 8923891 A JP8923891 A JP 8923891A JP 2825992 B2 JP2825992 B2 JP 2825992B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
coating
gas
chloroform
hydrocarbon
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP8923891A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05156569A (ja
Inventor
ジェームズ グリフィン クリストファー
ニール モス レニー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SEKURETARII OBU SUTEITO FUOA DEFUENSU ZA
Original Assignee
SEKURETARII OBU SUTEITO FUOA DEFUENSU ZA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SEKURETARII OBU SUTEITO FUOA DEFUENSU ZA filed Critical SEKURETARII OBU SUTEITO FUOA DEFUENSU ZA
Publication of JPH05156569A publication Critical patent/JPH05156569A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2825992B2 publication Critical patent/JP2825992B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
    • C23C16/545Apparatus specially adapted for continuous coating for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、セラミック繊維の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】化学蒸着技術を使用してセラミック被覆
をフィラメント上に蒸着させることは周知である。典型
的な方法では、フィラメントにガス(これは熱フィラメ
ントと接触すると所望の被覆を蒸着する)を含有する蒸
着室を連続的に通過させる。フィラメントは通常は電流
を通過させることにより加熱される。
【0003】ハロゲン化炭化水素を含む蒸着室にフィラ
メントを通過させることが知られている。典型的には、
EP−A−353934号は、繊維上に炭素被覆を蒸着
させるに際し、繊維と少なくとも1つのハロゲン化脂肪
族炭化水素とを接触させる方法を開示している。
【0004】また、炭化水素を含む蒸着室にフィラメン
トを通過させることが知られている。典型的には、JP
−A−61219708号およびJP−A−60145
375号は、種々の気体炭化水素の使用を開示する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】驚くべきことに、蒸着
室がハロゲン化炭化水素および炭化水素の両者を含むも
のとすると、公知の先行技術の被覆フィラメントを越え
る改良された品質を有する炭素被覆フィラメントが得ら
れることを突き止めた。
【0006】
【課題を解決するための手段】よって、本発明によれ
ば、フィラメント上に被覆を蒸着させるに際し、フィラ
メントを加熱し、加熱したフィラメントにガス(これは
熱フィラメントと接触すると被覆を蒸着する)を含有す
る蒸着室を通過させることからなり、前記ガスがクロロ
ホルムと1〜6の炭素原子を有する炭化水素からなり、
炭素被覆を製造することを特徴とする被覆の蒸着方法が
提供される。
【0007】全ゆる適切なC(1〜6)炭化水素、例え
ばプロパン、または特にプロペンを使用することができ
る。
【0008】蒸着室中のガスは更なる成分、例えば、ア
ルゴンまたはネオンのような不活性キャリヤガスを含有
し得る。所望に応じて水素を存在させることもでき、ま
たは水素の非存在下で反応を行うことができる。
【0009】クロロホルム対C(1〜6)炭化水素の容
積比は広範に変化させ得るが、好ましくは3:1〜1:
8、特に2:1〜1:4の範囲とする。不活性キャリヤ
ガスを使用する場合、C(1〜6)炭化水素対キャリヤ
ガスの容積比は、好ましくは1:6〜1:40、特に
1:10〜1:20の範囲とする。
【0010】蒸着室は好ましくは縦型のチューブとす
る。ガス入口をチューブの下端とし、出口を上端とする
と特に良好な結果が得られることが認められた。
【0011】本発明による方法は、全ゆる所望のフィラ
メント上に炭素被覆を蒸着させるのに使用することがで
きる。フィラメントは例えば、タングステン、または更
に炭素層を必要とする炭素とすることができる。しかし
好ましくは、フィラメントは、セラミックフィラメン
ト、例えばホウ素、または特にシリコンカーバイドとす
る。この種のフィラメントは周知であり、その製造は多
くの刊行物、例えばUS4127659号およびUS3
622369号に記載されている。
【0012】効率的な蒸着を促進するため、フィラメン
トを好ましくは800〜1300°C、特に900〜1
100°Cの範囲の温度に加熱する。最も便利には、2
つの液体金属電極(これを介してフィラメントが通過す
る)を介して供給される電流の通過によりフィラメント
を加熱する。これらの電極は純粋水銀、または水銀/イ
ンジウム、水銀/カドミウムまたはガリウム/インジウ
ムから選択される液体金属混合物を含有し得る。
【0013】本発明の方法により製造されたフィラメン
トは、チタン基材複合体の調製に特に有用である。この
種の複合体は、熱の作用下にチタン、チタン合金または
チタン金属間化合物のマトリックスにフィラメントを埋
設することにより調製することができる。
【0014】市販のクロロホルムを使用して本発明を実
施することができる。クロロホルムはあるレベルの不純
物、例えばアルコール(これは保存の際に分子の解離を
防止する安定化剤として機能する)を含有してもよい。
典型的な安定化剤にはエタノールおよび/またはアミレ
ン(第3アミルアルコール)が包含され、これらはそれ
ぞれ典型的には1〜3%容量および20〜40ppmの
濃度で存在する。
【0015】
【実施例】ここに本発明を更に詳細に説明する。1.一般的方法 添付図面の図1は、本発明を実施するのに使用し得る装
置を示す。例えばタングステン核を有するシリコンカー
バイドとするフィラメント1を、チューブ3を介して供
給体2から保存体4に供給する。フィラメント1は、チ
ューブ3の端部で水銀電極5および6を通過する。電極
5および6は電気回路(図示せず)の一部を形成し、こ
れによりフィラメントに電気的加熱電流が供給され、典
型的には800〜1100°C、例えば900〜110
0°Cの温度にこれを昇温する。アルゴン(流速毎分1
000〜2000標準立方センチ(sscm))、プロ
ペン(流速5〜125sscm)および例えばBDHの
ような1〜3%エタノールを含有する市販のクロロホル
ム(40〜160sccm、例えば30〜70scc
m)を入口7を介してチューブ2に供給し、使用したガ
スは出口8を介して除去する。保存体4に入るフィラメ
ントは、高品質の炭素被覆を有する。
【0016】2.試験 繊維強度試験 被覆繊維を25mmゲージ長さに渡り引張試験した。試
験中はアルミニウムの握りを使用して繊維を把持し保護
した。張力を加え、繊維の破断を結果的に起こした力を
記録した。10の試験の平均を使用して繊維強度を計算
した。
【0017】3.例 比較例1.プロペンのみ プロペンのみを使用して前記した手順を実施した。プロ
ペンを流速200cmmin−1で、アルゴンを流速
1400cmmin−1で蒸着室に供給した。フィラ
メントを800〜1100°Cに加熱した。走査型電子
顕微鏡(SEM)を使用して被覆を同定することはでき
なかった。二次イオン質量分析(SIMS)を使用して
50nmの薄い被覆を同定した。
【0018】比較例2.クロロホルムのみ プロペンの非存在下に、クロロホルムを流速80cm
min−1として、比較例1の手順を繰り返した。得ら
れた被覆は厚さ0.8μmであり、これを図2に示す。
この被覆は一見してこぶのあるものであり、乏しい付着
を示し、3.33GPaの繊維強度を与える。
【0019】実施例1.プロペンとクロロホルム プロペンの存在下(流速75cmmin−1)に比較
例2の手順を繰り返した。得られた被覆は厚さ0.5μ
mであり、これを図3に示す。この被覆はクロロホルム
のみを使用して得られたものより一見して滑らかであ
り、良好な付着を示し、4.02GPaの繊維強度を与
える。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を実施するのに使用し得る装置。
【図2】クロロホルムのみを使用して得られた被覆の走
査型電子顕微鏡写真。
【図3】プロペンとクロロホルムとを使用して得られた
被覆の走査型電子顕微鏡写真。
【符号の説明】
1 フィラメント 2 供給体 3 チューブ 4 保存体 5 水銀電極 6 水銀電極 7 入口 8 出口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レニー ニール モス イギリス国、ケイテイー22 8テイーエ イ、サリー、レザーヘッド、エプソム ロード 18番 (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) D06M 11/73 C23C 16/54 D01F 9/00 - 11/16

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フィラメント上に被覆を蒸着させるに際
    し、フィラメントを加熱し、加熱したフィラメントにガ
    ス(これは熱フィラメントと接触すると被覆を蒸着す
    る)を含有する蒸着室を通過させることからなり、前記
    ガスがクロロホルムと1〜6の炭素原子を有する炭化水
    素からなり、炭素被覆を製造することを特徴とする被覆
    の蒸着方法。
  2. 【請求項2】 C(1〜6)炭化水素をプロペンとする
    請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 クロロホルム対C(1〜6)炭化水素の
    容積比を3:1〜1:8の範囲とする請求項1または2
    記載の方法。
  4. 【請求項4】 クロロホルム対C(1〜6)炭化水素の
    容積比を2:1〜1:4の範囲とする請求項3記載の方
    法。
  5. 【請求項5】 蒸着室中のガスが不活性キャリヤガスを
    含有する請求項1乃至4いずれかに記載の方法。
  6. 【請求項6】 フィラメントを800〜1300°Cの
    範囲の温度に加熱する請求項1乃至5いずれかに記載の
    方法。
  7. 【請求項7】 フィラメントを900〜1100°Cの
    範囲の温度に加熱する請求項6記載の方法。
  8. 【請求項8】 蒸着室を縦型のチューブとし、ガス入口
    をチューブの下端とし、ガス出口を上端とする請求項1
    乃至7いずれかに記載の方法。
  9. 【請求項9】 炭素被覆をセラミックフィラメント上に
    蒸着する請求項1乃至8いずれかに記載の方法。
  10. 【請求項10】炭素被覆をシリコンカーバイドフィラメ
    ント上に蒸着する請求項9記載の方法。
JP8923891A 1990-03-31 1991-03-29 セラミック繊維の製造方法 Expired - Fee Related JP2825992B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB909007273A GB9007273D0 (en) 1990-03-31 1990-03-31 Process for the manufacture of ceramic fibres
GB9007273.7 1990-03-31

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05156569A JPH05156569A (ja) 1993-06-22
JP2825992B2 true JP2825992B2 (ja) 1998-11-18

Family

ID=10673629

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8923891A Expired - Fee Related JP2825992B2 (ja) 1990-03-31 1991-03-29 セラミック繊維の製造方法

Country Status (6)

Country Link
EP (1) EP0450760B1 (ja)
JP (1) JP2825992B2 (ja)
AU (1) AU630021B2 (ja)
CA (1) CA2036768C (ja)
DE (1) DE69116915T2 (ja)
GB (1) GB9007273D0 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW514557B (en) 2000-09-15 2002-12-21 Shipley Co Llc Continuous feed coater
GB2462843B (en) 2008-08-22 2013-03-20 Tisics Ltd Coated filaments and their manufacture

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3130073A (en) * 1960-04-02 1964-04-21 Philips Corp Method of providing molybdenum wire with a carbon coating
US3177094A (en) * 1961-07-14 1965-04-06 Philips Corp Method for coating a molybdenum wire with a carbon layer and the coated article
GB2031954B (en) * 1978-09-18 1983-02-09 Secr Defence Methods of forming pyrolitic carbon coatings
US4863760A (en) * 1987-12-04 1989-09-05 Hewlett-Packard Company High speed chemical vapor deposition process utilizing a reactor having a fiber coating liquid seal and a gas sea;

Also Published As

Publication number Publication date
AU7135691A (en) 1991-10-03
EP0450760A1 (en) 1991-10-09
DE69116915T2 (de) 1996-08-08
EP0450760B1 (en) 1996-02-07
CA2036768C (en) 2001-06-05
DE69116915D1 (de) 1996-03-21
CA2036768A1 (en) 1991-10-01
JPH05156569A (ja) 1993-06-22
AU630021B2 (en) 1992-10-15
GB9007273D0 (en) 1990-05-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3344723B2 (ja) ダイヤモンド状導電性電子放出性炭素ベース薄膜の堆積方法
US6416820B1 (en) Method for forming carbonaceous hard film
US4188426A (en) Cold plasma modification of organic and inorganic surfaces
JPS6117907B2 (ja)
KR940011007B1 (ko) 플라즈마 가공방법 및 이 방법으로 처리한 제품
JP2002506786A (ja) ホット・フィラメントdcプラズマを用いたダイヤモンドの核形成および堆積のための装置および方法
US5527559A (en) Method of depositing a diamond film on a graphite substrate
JP2001514328A (ja) コーティングのジェットプラズマ蒸着方法と装置、および、そのコーティング
EP0479907A1 (en) Process for making diamond, doped diamond, diamond-cubic boron nitride composite films at low temperature
JPH05270983A (ja) 水素化物生成金属基体上におけるcvdダイヤモンドの成長
JP2825992B2 (ja) セラミック繊維の製造方法
CN1157641A (zh) 金刚相碳管及其化学气相沉积制造方法
US5252359A (en) CVD process for the manufacture of ceramic fibers
JP2966035B2 (ja) フィラメント上に炭化ケイ素コーティング蒸着方法
JP2966034B2 (ja) フィラメント上にセラミックコーティング蒸着方法
Michau et al. Influence on diamond nucleation of the carbon concentration near the substrate surface
JP2002523331A (ja) グラファイト上への改良されたホウ素被覆の製造方法および該方法で得られる物品
JPS6229550B2 (ja)
JPH03146489A (ja) 複合材用被覆フィラメント
JPS60184652A (ja) 繊維強化金属の製造方法
JPS6330397A (ja) ダイヤモンドの合成方法
US5221353A (en) Apparatus for depositing a ceramic coating on a filament
JPS6261109B2 (ja)
JPS60204695A (ja) 人工ダイヤモンド皮膜の析出形成方法
RU2254397C2 (ru) Способ получения алмазоподобной пленки

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070911

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080911

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080911

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090911

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees