JP2818722B2 - Transfer device - Google Patents
Transfer deviceInfo
- Publication number
- JP2818722B2 JP2818722B2 JP4360501A JP36050192A JP2818722B2 JP 2818722 B2 JP2818722 B2 JP 2818722B2 JP 4360501 A JP4360501 A JP 4360501A JP 36050192 A JP36050192 A JP 36050192A JP 2818722 B2 JP2818722 B2 JP 2818722B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer device
- work
- substantially trapezoidal
- loading
- semiconductor wafer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハ、磁気ディ
スク、光ディスク、コンパクトディスク、液晶等の製造
等の工程で半導体ウエハ等を収納するカセット等のワー
ク（本明細書において、単に「ワーク」という場合があ
る。）をクリーンな環境の下で搬送するのに適した搬送
装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a work such as a cassette for accommodating a semiconductor wafer or the like in a process of manufacturing a semiconductor wafer, a magnetic disk, an optical disk, a compact disk, a liquid crystal or the like (hereinafter simply referred to as "work"). ) In a clean environment.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、例えば、半導体工場において使用
されている半導体ウエハ搬送装置は、走行体と該走行体
に連設されたアーム部と半導体ウエハを収納したカセッ
トを把持するチャック部からなり、複数の工程の各製造
装置に設けられた受渡口において半導体ウエハを収納し
たカセットを把持及び開放する機能と、受渡口から半導
体ウエハを収納したカセットを他の工程の製造装置等の
所定位置まで搬送する機能を有している。また、半導体
ウエハ搬送装置が走行するいわゆるクリーンルームは、
一般的には、天井から清浄空気が噴出、流下し、床下か
ら排気されるようになっているため、発塵した微細粒子
は、この気流によって速やかに排出されるようになって
いる。しかしながら、前記半導体ウエハ搬送装置の走行
中において、半導体ウエハ搬送装置自体が複雑な形状を
していたり、高速で走行すると、半導体ウエハ搬送装置
の走行動作により、清浄空気の流れに乱流を発生させる
こととなり、この乱流によって、半導体ウエハ表面のほ
か、走行路付近の設備の表面に塵埃が付着する不都合が
あった。2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a semiconductor wafer transfer apparatus used in a semiconductor factory comprises a traveling body, an arm connected to the traveling body, and a chuck section for holding a cassette containing semiconductor wafers. A function of gripping and releasing a cassette containing semiconductor wafers at a delivery port provided in each manufacturing apparatus in a plurality of processes, and transporting a cassette containing semiconductor wafers from a delivery port to a predetermined position of a manufacturing apparatus in another process. It has the function to do. Also, the so-called clean room where the semiconductor wafer transfer device travels,
Generally, since clean air is blown out and flows down from the ceiling and is exhausted from under the floor, the generated fine particles are quickly discharged by this air flow. However, when the semiconductor wafer transport device itself has a complicated shape or travels at a high speed during the travel of the semiconductor wafer transport device, the traveling operation of the semiconductor wafer transport device causes turbulence in the flow of clean air. As a result, the turbulent flow has a disadvantage that dust adheres to the surface of the equipment near the traveling path in addition to the surface of the semiconductor wafer.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題点を解決し、清浄空気の流れに乱流を発生させること
とがなく、製品その他設備を清浄に保つことができる搬
送装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a transfer apparatus capable of keeping products and other facilities clean without generating turbulence in the flow of clean air. The purpose is to do.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の搬送装置は、クリーンルーム内でワークを
搬送する搬送装置において、搬送装置の走行方向に対す
る前面及び後面を吸気面とし、下部に排気孔を設けたこ
とを特徴とする。In order to achieve the above object, a transfer device according to the present invention is a transfer device for transferring a work in a clean room, wherein a front surface and a rear surface with respect to a traveling direction of the transfer device are taken as intake surfaces, An exhaust hole is provided.
【０００５】この場合において、搬送装置の横断面形状
を略台形とし、略台形の平行面を搬送装置の走行方向と
平行になるように、かつ略台形の平行面のうち長辺側を
ワークの主なる搬入、搬出側に構成することができる。In this case, the cross section of the transfer device is substantially trapezoidal, the substantially trapezoidal parallel surface is parallel to the traveling direction of the transfer device, and the long side of the substantially trapezoidal parallel surface is the work side. It can be configured on the main loading / unloading side.
【０００６】また、搬送装置の走行方向に対する先端部
にアール部を形成することができる。[0006] Further, a round portion can be formed at a tip end portion in the traveling direction of the transfer device.
【０００７】[0007]
【作用】本発明の搬送装置によれば、搬送装置が走行す
る際、搬送装置の前面及び後面から空気を吸込むことに
より、清浄空気の流れに対する乱流の発生を防止するこ
とができる。According to the transfer device of the present invention, when the transfer device travels, air is sucked in from the front and rear surfaces of the transfer device, thereby preventing generation of turbulence in the flow of clean air.
【０００８】さらに、搬送装置の横断面形状を略台形と
し、略台形の平行面を搬送装置の走行方向と平行になる
ように、かつ略台形の平行面のうち長辺側をワークの主
なる搬入、搬出側に構成することにより、ワークの主な
る搬入、搬出側の清浄空気の流れに対する乱流の発生を
低減でき、製品その他設備を清浄に保ちながらワークを
搬送することができる。Further, the cross section of the transfer device is substantially trapezoidal, the substantially trapezoidal parallel surface is parallel to the traveling direction of the transfer device, and the longer side of the substantially trapezoidal parallel surface is the main part of the work. With the configuration on the carry-in and carry-out sides, it is possible to reduce the generation of turbulent flow with respect to the flow of clean air on the main carry-in and carry-out sides of the work, and to convey the work while keeping products and other facilities clean.
【０００９】また、搬送装置の走行方向に対する先端部
にアール部を形成することにより、搬送装置の先端部に
おける境界層の剥離する位置が後方にずれるため、ワー
クの主なる搬入、搬出側の清浄空気の流れに対する乱流
の発生をより有効に防止することができる。[0009] Further, by forming a round portion at the leading end in the traveling direction of the transfer device, the exfoliation position of the boundary layer at the leading end of the transfer device shifts backward, so that the cleaning of the main loading and unloading sides of the work is performed. Generation of turbulence in the air flow can be more effectively prevented.
【００１０】[0010]
【実施例】以下本発明を図示の実施例に基づいて説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on the illustrated embodiment.
【００１１】図１は、搬送装置の横断面の概念図を、図
２は、それぞれの搬送装置の横断面方向の気流シュミレ
ーションを示す。なお、図２に示す気流シュミレーショ
ンの解析条件は以下のとおりである。 ・搬送装置の走行速度：１ｍ／ｓ ・搬送装置の前面及び後面からの空気の吸込速度：０．
４ｍ／ｓFIG. 1 is a conceptual diagram of a cross section of a transfer device, and FIG. 2 shows an air flow simulation in a cross section direction of each transfer device. The analysis conditions of the airflow simulation shown in FIG. 2 are as follows. -Traveling speed of the transfer device: 1 m / s-Air suction speed from the front and rear surfaces of the transfer device: 0.
4m / s
【００１２】図１及び図２の（ａ）は、第１参考例であ
る搬送装置Ａを示したもので、搬送装置Ａの横断面形状
を略台形とし、略台形の平行面を搬送装置の走行方向と
平行になるように、かつ略台形の平行面のうち長辺側Ａ
１をワークの主なる搬入、搬出側に構成する。この場
合、図２（ａ）に示すとおり、先端部で若干の境界層の
剥離が生じ、境界層の成長により略台形の平行面のうち
長辺側Ａ１、すなわちワークの主なる搬入、搬出側にわ
ずかではあるが乱流域が生じていることがわかる。な
お、ワークの搬入、搬出は、略台形の平行面のうち長辺
側Ａ１に限定する必要のないことはいうまでもなく、例
えば、清浄空気の流れに乱流を発生させるおそれのない
場所でワークの搬入、搬出を行う場合には、搬送装置の
他の面からワークの搬入、搬出を行うように搬送装置を
構成することも可能である。FIGS. 1 and 2A show a transfer device A according to a first reference example. The transfer device A has a substantially trapezoidal cross-sectional shape, and the substantially trapezoidal parallel surface of the transfer device A is shown in FIG. The long side A of the substantially trapezoidal parallel surface so as to be parallel to the running direction
1 is configured on the main loading / unloading side of the work. In this case, as shown in FIG. 2A, a slight separation of the boundary layer occurs at the tip end, and the growth of the boundary layer causes the longer side A1 of the substantially trapezoidal parallel surface, that is, the main loading / unloading side of the work. It can be seen that a turbulent flow area has occurred, albeit slightly. Needless to say, the loading and unloading of the workpiece need not be limited to the long side A1 of the substantially trapezoidal parallel surface. For example, in a place where there is no risk of generating a turbulent flow in the flow of clean air. When loading and unloading a work, the transfer device may be configured to load and unload a work from another surface of the transfer device.
【００１３】図１及び図２の（ｂ）は、第２参考例であ
る搬送装置Ｂを示したもので、上記第１参考例の搬送装
置Ａを改良し、搬送装置Ｂの走行方向に対する先端部に
アール部Ｂ２を形成する。ここで、略台形の平行面のう
ち長辺側Ｂ１をワークの主なる搬入、搬出側に構成する
ことは上記の例と同様である。この場合、図２（ｂ）に
示すとおり、搬送装置Ａと比べて境界層の剥離する位置
が後方にずれ、これにより略台形の平行面のうち長辺側
Ｂ１、すなわちワークの主なる搬入、搬出側の乱流域が
減少していることがわかる。なお、アール部Ｂ２の曲率
は、第２参考例に示されているものの０．２〜３倍程度
の範囲で設定することにより、略台形の平行面のうち長
辺側Ｂ１、すなわちワークの主なる搬入、搬出側の清浄
空気の流れに対する乱流の発生をより有効に防止するこ
とができる。FIGS. 1 and 2 (b) show a transfer device B according to a second embodiment, which is a modification of the transfer device A of the first embodiment, and has a front end in the running direction of the transfer device B. A round portion B2 is formed in the portion. Here, it is the same as the above-mentioned example that the long side B1 of the substantially trapezoidal parallel surface is formed on the main loading / unloading side of the work. In this case, as shown in FIG. 2B, the position at which the boundary layer is separated is shifted rearward as compared with the transfer device A, whereby the longer side B1 of the substantially trapezoidal parallel surface, that is, the main loading of the work, It can be seen that the turbulence area on the unloading side has decreased. The curvature of the round portion B2 is set in the range of about 0.2 to 3 times the curvature shown in the second reference example, so that the longer side B1 of the substantially trapezoidal parallel surface, that is, the main side of the work, The generation of turbulence with respect to the flow of clean air on the carry-in and carry-out sides can be more effectively prevented.
【００１４】図１及び図２の（ｃ）は、本発明の一実施
例である搬送装置Ｃを示したもので、搬送装置Ｃの走行
方向に対する前面及び後面を吸気面Ｃ２とし、下部に排
気孔（図示せず）を設ける。ここで、略台形の平行面の
うち長辺側Ｃ１をワークの主なる搬入、搬出側に構成す
ることは上記の参考例と同様である。この場合、図２
（ｃ）に示すとおり、搬送装置Ｂと比べて略台形の平行
面のうち長辺側Ｃ１、すなわちワークの主なる搬入、搬
出側の乱流域が減少していることがわかる。なお、本実
施例は、第２参考例である搬送装置Ｂに本発明を適用し
たものであるが、本発明単独でも清浄空気の流れに対す
る乱流の発生を防止するのに十分効果を奏するものであ
り、例えば、搬送装置の横断面形状が略矩形のものに適
用することも可能である。FIGS. 1 and 2 (c) show a transfer device C according to an embodiment of the present invention. The front and rear surfaces of the transfer device C with respect to the traveling direction are taken as an intake surface C2, and the exhaust is placed below. A hole (not shown) is provided. Here, the configuration in which the long side C1 of the substantially trapezoidal parallel surface is the main loading / unloading side of the workpiece is the same as in the above-described reference example. In this case, FIG.
As shown in (c), the turbulent flow area on the long side C1, that is, the main loading / unloading side of the work, of the substantially trapezoidal parallel surface is smaller than that of the transfer device B. In the present embodiment, the present invention is applied to the transport device B of the second reference example. However, the present invention alone has a sufficient effect to prevent the occurrence of turbulence in the flow of clean air. For example, the present invention can be applied to a transfer device having a substantially rectangular cross section.
【００１５】次に、本発明をより具体化した実施例を図
３〜図５に示す。図３は搬送装置をワークの搬入、搬出
側、すなわち各種の製造装置（図示せず）側から見た外
観斜視図、図４はその逆側から見た外観斜視図であり、
図５はロボット部の外観斜視図である。搬送装置は、走
行体１と、走行体１の上部に設けた昇降部２と昇降部２
に連設したアーム部３とワーク４を把持するチャック部
５からなるロボット部と、ロボット部を覆い、搬送装置
の外郭を形成するカバー６で構成される。Next, FIGS. 3 to 5 show embodiments embodying the present invention. FIG. 3 is an external perspective view of the transfer device as viewed from the side of loading and unloading the work, ie, various manufacturing devices (not shown), and FIG. 4 is an external perspective view of the transfer device as viewed from the opposite side.
FIG. 5 is an external perspective view of the robot unit. The transport device includes a traveling unit 1, a lifting unit 2 provided above the traveling unit 1, and a lifting unit 2.
The robot unit includes an arm unit 3 and a chuck unit 5 for gripping a work 4, and a cover 6 that covers the robot unit and forms an outer shell of the transfer device.
【００１６】走行部１は、複数の工程の各製造装置等の
設備を連絡するように施設されたレール７上をガイドさ
れ、走行駆動装置（図示せず）の牽引等によって矢印方
向に走行するように構成されている。昇降部２は走行体
１の上部に設けられ、昇降部駆動モータ２１、タイミン
グベルト２２、減速機２３、昇降部リンク２４，２５及
び昇降枠２６よりなる。アーム部３は昇降部２の昇降枠
２６に連設され、アーム部駆動モータ３１、アーム部リ
ンク３２，３３及び傾転用モータ３４よりなる。ワーク
４を把持するチャック部５はアーム部３の先端に設けら
れ、チャック部材５１及び係止爪５２よりなる。カバー
６は昇降部２、アーム部３及びチャック部５からなるロ
ボット部全体をを覆い、走行部１と一体化されている。
カバー６の上部には、上面フィルター付ファン６１ａ、
前面フィルター付ファン６１ｂ、後面フィルター付ファ
ン６１ｃをそれぞれ設け、下部には、排気孔６２ａ，６
２ｂ，６２ｃを設けてなる。また、カバー６は、横断面
形状を角部にアールを形成した略台形に形成するととも
に、平行面が搬送装置の走行方向と平行になるように
し、さらに平行面の長辺側をワークの搬入、搬出側とす
ることによって、ワークの搬入、搬出側をほぼ平坦面と
するとともに、このワークの搬入、搬出側には、スライ
ド方式等により開閉可能とした扉６３を設ける。なお、
図３は、この扉６３を開放した状態を示しているが、扉
６３を開放した場合の開口の６４の大きさは、ワーク６
の大きさ等に応じて適宜変更することができる。The traveling section 1 is guided on a rail 7 provided to communicate facilities such as manufacturing apparatuses in a plurality of processes, and travels in the direction of the arrow by pulling of a traveling drive device (not shown) or the like. It is configured as follows. The elevating unit 2 is provided above the traveling body 1 and includes an elevating unit driving motor 21, a timing belt 22, a speed reducer 23, elevating unit links 24 and 25, and an elevating frame 26. The arm 3 is connected to the lift frame 26 of the lift 2 and includes an arm drive motor 31, arm links 32 and 33, and a tilt motor 34. A chuck 5 for gripping the work 4 is provided at the tip of the arm 3 and includes a chuck member 51 and a locking claw 52. The cover 6 covers the entire robot unit including the elevating unit 2, the arm unit 3, and the chuck unit 5, and is integrated with the traveling unit 1.
On the upper part of the cover 6, a fan 61a with a top filter,
A front filter-equipped fan 61b and a rear filter-equipped fan 61c are provided.
2b and 62c are provided. The cover 6 has a substantially trapezoidal cross-sectional shape with rounded corners, a parallel surface parallel to the traveling direction of the transfer device, and a long side of the parallel surface is used to carry in the workpiece. The work loading / unloading side is substantially flat, and a door 63 is provided on the work loading / unloading side which can be opened and closed by a slide method or the like. In addition,
FIG. 3 shows a state in which the door 63 is opened. When the door 63 is opened, the size of the opening 64 is equal to the work 6.
Can be changed as appropriate according to the size of the device.
【００１７】上記のように構成された搬送装置を半導体
ウエハ搬送装置として使用する場合について以下説明す
る。この場合、ワーク４として、半導体ウエハ（図示せ
ず）を直立して挿置するカセットを使用する。ワーク４
は、複数の工程の各製造装置に設けられた受渡口に半導
体ウエハを収納した状態で整列されている。受渡口の前
面に半導体ウエハ搬送装置を停止させ、扉を開き、昇降
部駆動モータ２１を駆動し、タイミングベルト２２、減
速機２３、昇降部リンク２４，２５及び昇降枠２６を介
してアーム部３の水準を調節し、アーム部駆動モータ３
１及び傾動用モータ３４を駆動し、アーム部リンク３
２，３３を介してチャック部５をワーク４の受渡口に移
動し、チャック部材５１及び係止爪５２によりワーク４
を把持し、アーム部駆動モータ３１及び傾動用モータ３
４を駆動し、アーム部リンク３２，３３を介してチャッ
ク部５、すなわちをワーク４をカバー６内部に収容した
後、扉を閉じる。その後、半導体ウエハ搬送装置は、次
の工程の製造装置までレール７上をガイドされながら走
行駆動装置に牽引されて走行し、上記と同様の作業を繰
り返す。なお、上記使用方法は、製造装置に設けられた
受渡口に整列されているワーク４を半導体ウエハ搬送装
置内部に収容する工程についてのみ説明したが、半導体
ウエハ搬送装置内部に収容されているワーク４を製造装
置に設けられた受渡口に放出する場合も、昇降部２、ア
ーム部３及びチャック部５を順に作動させることにより
行うが、この操作は、ワーク４を収容する工程とほぼ同
様であるので、説明は省略する。The case where the transfer device constructed as described above is used as a semiconductor wafer transfer device will be described below. In this case, a cassette in which a semiconductor wafer (not shown) is inserted upright is used as the work 4. Work 4
Are arranged in a state where semiconductor wafers are stored in delivery ports provided in each manufacturing apparatus in a plurality of processes. The semiconductor wafer transfer device is stopped in front of the delivery port, the door is opened, the elevator drive motor 21 is driven, and the arm 3 is moved via the timing belt 22, the speed reducer 23, the elevator links 24 and 25, and the elevator frame 26. The level of the arm drive motor 3
1 and the tilting motor 34 are driven to
The chuck part 5 is moved to the delivery port of the work 4 via the workpieces 2 and 33, and the work piece 4 is moved by the chuck member 51 and the locking claw 52.
And the arm drive motor 31 and the tilting motor 3
Then, the door 4 is closed after the chuck 4, that is, the work 4 is accommodated in the cover 6 via the arm links 32 and 33. Thereafter, the semiconductor wafer transfer device is pulled and traveled by the traveling drive device while being guided on the rail 7 to the manufacturing device in the next step, and repeats the same operation as described above. The above-mentioned method of use has been described only for the step of accommodating the work 4 aligned in the delivery port provided in the manufacturing apparatus in the semiconductor wafer transfer device. Is also discharged to the delivery port provided in the manufacturing apparatus by sequentially operating the elevating unit 2, the arm unit 3, and the chuck unit 5, but this operation is substantially the same as the step of accommodating the work 4. Therefore, the description is omitted.
【００１８】また、半導体ウエハ搬送装置が走行するい
わゆるクリーンルームは、一般的には、天井から清浄空
気が噴出、流下し、床下から排気されるようになってい
るため、発塵した微細粒子は、この気流によって速やか
に排出されるようになっているが、この半導体ウエハ搬
送装置が走行する際、カバー６により、また、カバーの
走行方向に対する前面及び後面に設けたフィルター付フ
ァン６１ｂ，６１ｃによりカバーの前面及び後面の空気
を吸込むことにより、また、カバー６は、横断面形状を
走行方向先端角部にアールを形成した略台形に形成する
とともに、平行面が搬送装置の走行方向と平行になるよ
うにし、さらに平行面の長辺側をワークの搬入、搬出側
とすることによって、カバー６のワークの搬入、搬出側
をほぼ平坦面としたことから、半導体ウエハ搬送装置、
特にワークの搬入、搬出側周辺の気流はカバー６に沿っ
てほぼ層流状態となり、半導体ウエハ搬送装置の走行に
よる清浄空気の流れに対する乱流の発生を防止する。In a so-called clean room in which a semiconductor wafer transfer device travels, generally, clean air is blown out from the ceiling, flows down, and is exhausted from under the floor. When the semiconductor wafer transfer device travels, it is quickly discharged by the airflow. However, the cover is covered by the cover 6 and by the fans 61b and 61c with filters provided on the front and rear surfaces in the traveling direction of the cover. The cover 6 is formed into a substantially trapezoidal shape in which a cross-sectional shape is formed at a tip corner in the traveling direction, and the parallel surface is parallel to the traveling direction of the transfer device by sucking the air on the front surface and the rear surface of the transfer device. In addition, by setting the long side of the parallel surface to the work loading / unloading side, the work loading / unloading side of the cover 6 is made almost flat. Since, a semiconductor wafer carrier,
In particular, the airflow around the loading / unloading side of the work becomes substantially laminar along the cover 6, thereby preventing turbulence in the flow of clean air due to the travel of the semiconductor wafer transfer device.
【００１９】なお、ここでは、本発明の搬送装置を半導
体ウエハ搬送装置として使用する場合について説明した
が、本発明の対象は、半導体ウエハのほか、磁気ディス
ク、光ディスク、コンパクトディスク、液晶等の製造等
の工程で対象製品を収納するカセット等のワークをクリ
ーンな環境の下で搬送するために広範囲に使用できるも
のである。Here, the case where the transfer device of the present invention is used as a semiconductor wafer transfer device has been described. However, the present invention is not limited to the manufacture of magnetic disks, optical disks, compact disks, liquid crystals, etc., in addition to semiconductor wafers. It can be used in a wide range for transporting a work such as a cassette for accommodating a target product in a clean environment in such a process.
【００２０】[0020]
【発明の効果】本発明の搬送装置によれば、搬送装置が
走行する際、搬送装置の前面及び後面から空気を吸込む
ことにより、搬送装置周辺の気流は搬送装置に沿ってほ
ぼ層流状態となり、清清浄空気の流れに対する乱流の発
生を防止することができ、製品その他設備を清浄に保ち
ながらワークを搬送することができる。According to the transfer device of the present invention, when the transfer device travels, air is suctioned from the front and rear surfaces of the transfer device, so that the airflow around the transfer device becomes substantially laminar along the transfer device. In addition, it is possible to prevent turbulence from occurring in the flow of the clean air, and to convey the work while keeping the products and other facilities clean.
【００２１】さらに、搬送装置の横断面形状を略台形と
し、略台形の平行面を搬送装置の走行方向と平行になる
ように、かつ略台形の平行面のうち長辺側をワークの主
なる搬入、搬出側に構成することにより、ワークの主な
る搬入、搬出側の清浄空気の流れに対する乱流の発生を
低減することができ、製品その他設備を清浄に保ちなが
らワークを搬送することができる。Further, the cross section of the transfer device is substantially trapezoidal, the substantially trapezoidal parallel surface is parallel to the traveling direction of the transfer device, and the longer side of the substantially trapezoidal parallel surface is the main side of the work. By configuring on the loading and unloading sides, it is possible to reduce the occurrence of turbulence with respect to the flow of clean air on the main loading and unloading sides of the workpiece, and to transport the workpiece while keeping products and other equipment clean. .
【００２２】また、搬送装置の走行方向に対する先端部
にアール部を形成することにより、搬送装置の先端部に
おける境界層の剥離する位置が後方にずれるため、ワー
クの主なる搬入、搬出側の清浄空気の流れに対する乱流
の発生をより有効に防止することができる。Further, by forming a round portion at the tip of the transfer device in the running direction, the position at which the boundary layer is peeled off at the tip of the transfer device is shifted backward, so that the cleaning of the main loading and unloading sides of the work is performed. Generation of turbulence in the air flow can be more effectively prevented.
【図１】搬送装置の横断面の概念図を示し、（ａ）は第
１参考例、（ｂ）は第２参考例、（ｃ）は本発明の一実
施例である。FIGS. 1A and 1B are conceptual views of a cross section of a transfer device, wherein FIG. 1A is a first reference example, FIG. 1B is a second reference example, and FIG. 1C is an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の搬送装置の横断面方向の気流シュミレ
ーションの図を示し、（ａ）は第１参考例、（ｂ）は第
２参考例、（ｃ）は本発明の一実施例である。FIGS. 2A and 2B are diagrams showing airflow simulations in the cross-sectional direction of the transfer device of the present invention, wherein FIG. 2A is a first reference example, FIG. 2B is a second reference example, and FIG. is there.
【図３】本発明を実施した搬送装置の外観斜視図であ
る。FIG. 3 is an external perspective view of a transfer device embodying the present invention.
【図４】本発明を実施した搬送装置の他方向から見た外
観斜視図である。FIG. 4 is an external perspective view of the transfer device embodying the present invention as viewed from another direction.
【図５】本発明を実施した搬送装置に用いるロボット部
の外観斜視図である。FIG. 5 is an external perspective view of a robot unit used in the transfer device embodying the present invention.
Ａ 搬送装置 Ａ１ ワークの主なる搬入、搬出側 Ｂ 搬送装置 Ｂ１ ワークの主なる搬入、搬出側 Ｂ２ アール部 Ｃ 搬送装置 Ｃ１ ワークの主なる搬入、搬出側 Ｃ２ 吸気面 １ 走行体 ２ 昇降部 ３ アーム部 ４ ワーク ５ チャック部 ６ カバー ６１ａ 上面フィルター付ファン ６１ｂ 前面フィルター付ファン ６１ｃ 後面フィルター付ファン ６２ａ 排気孔 ６２ｂ 排気孔 ６２ｃ 排気孔 Reference Signs List A transport device A1 main loading / unloading side of work B transport device B1 primary loading / unloading side of workpiece B2 R section C transport device C1 primary loading / unloading side of workpiece C2 suction surface 1 traveling body 2 elevating unit 3 arm Part 4 Work 5 Chuck 6 Cover 61a Fan with top filter 61b Fan with front filter 61c Fan with rear filter 62a Exhaust hole 62b Exhaust hole 62c Exhaust hole
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊東 徹雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292 株式 会社日立画像情報システム内 (72)発明者 関 守 兵庫県尼崎市下坂部３丁目11番１号 日 立機電工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−175426（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−219135（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B65G 49/00 H01L 21/68──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Tetsuo Ito 292 Yoshida-cho, Totsuka-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Hitachi Image Information Systems Co., Ltd. (72) Inventor Mamoru Seki 3-1-1, Shimosakabe, Amagasaki-shi, Hyogo Sun (56) References JP-A-61-175426 (JP, A) JP-A-63-219135 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) B65G 49/00 H01L 21/68
Claims (3)
送装置において、搬送装置の走行方向に対する前面及び
後面を吸気面とし、下部に排気孔を設けたことを特徴と
する搬送装置。1. A transfer device for transferring a work in a clean room, wherein a front surface and a rear surface with respect to a traveling direction of the transfer device are used as an intake surface, and an exhaust hole is provided at a lower portion.
台形の平行面を搬送装置の走行方向と平行になるよう
に、かつ略台形の平行面のうち長辺側をワークの主なる
搬入、搬出側に構成してなることを特徴とする請求項１
記載の搬送装置。2. A cross-sectional shape of the transfer device is substantially trapezoidal, the substantially trapezoidal parallel surface is parallel to the traveling direction of the transfer device, and a long side of the substantially trapezoidal parallel surface is a main part of the work. 2. The apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is configured on a loading side and a loading side.
The transfer device as described in the above.
ール部を形成してなることを特徴とする請求項１又は２
記載の搬送装置。3. The method according to claim 1, wherein a rounded portion is formed at a leading end of the conveying device in a running direction.
The transfer device as described in the above.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360501A JP2818722B2 (en) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | Transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4360501A JP2818722B2 (en) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | Transfer device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199418A JPH06199418A (en) | 1994-07-19 |
| JP2818722B2 true JP2818722B2 (en) | 1998-10-30 |
Family
ID=18469674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4360501A Expired - Fee Related JP2818722B2 (en) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | Transfer device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2818722B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4545076B2 (en) * | 2004-10-08 | 2010-09-15 | 三星電子株式会社 | Flat panel display manufacturing system |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61175426A (en) * | 1985-01-31 | 1986-08-07 | Nec Corp | Clean carrying device |
| JPS63219135A (en) * | 1987-03-06 | 1988-09-12 | Daifuku Co Ltd | Material-handling equipment in clean room |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP4360501A patent/JP2818722B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06199418A (en) | 1994-07-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3425592B2 (en) | Processing equipment | |
| JP4541232B2 (en) | Processing system and processing method | |
| JP4354675B2 (en) | Thin plate electronic component clean transfer device and thin plate electronic product manufacturing system | |
| KR100687008B1 (en) | Apparatus for transporting substrates capable of sucking and exhausting particles effectively | |
| JP4029968B2 (en) | Transport vehicle, manufacturing apparatus and transport system | |
| JP2004119488A (en) | Vacuum suction apparatus, substrate transport plate, and substrate processing equipment | |
| JP2818722B2 (en) | Transfer device | |
| JP2004207279A (en) | Sheet-shaped object manufacturing facility | |
| JP4790326B2 (en) | Processing system and processing method | |
| JPH06340304A (en) | Storage rack, conveying method, and washing device for box body | |
| JP2975792B2 (en) | Transfer robot with cover | |
| JPH08293534A (en) | Conveying device for material to be treated | |
| JPH06302487A (en) | Air filter device for semiconductor manufacture | |
| JP2876250B2 (en) | Vertical heat treatment equipment | |
| JP2004299813A (en) | Method and structure for controlling air current | |
| JP3082784B2 (en) | Method and apparatus for cleaning object to be cleaned | |
| JPH07235468A (en) | Resist coater | |
| JP4067703B2 (en) | Transport cart | |
| JP2004363207A (en) | Carrier system, and conveyance vehicle and station used therefor | |
| JP3057945B2 (en) | Substrate support device | |
| JP3458083B2 (en) | Substrate storage jig transport system | |
| JPH06183663A (en) | Elevator for clean room | |
| JPH05226457A (en) | Transfer device | |
| JPH10284457A (en) | Washing system | |
| JP2645357B2 (en) | Processing equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080821 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090821 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100821 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110821 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120821 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |