JP2818630B2 - 感光体ドラム基盤及びその製造方法 - Google Patents
感光体ドラム基盤及びその製造方法Info
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- photosensitive drum
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- G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
- G03G5/102—Bases for charge-receiving or other layers consisting of or comprising metals
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- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複写機及びプリンタ等に
使用される感光体ドラム基盤及びこの感光体ドラム基盤
を製造する方法に関する。
使用される感光体ドラム基盤及びこの感光体ドラム基盤
を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の感光体ドラム基盤にはア
ルミニウム管が使用されており、高度な寸法精度が要求
されている。例えば、直径が30ｍｍの感光体ドラム基盤
は、その真円度を30μｍ以下にすると共にその真直度を
30μｍ以下にする必要がある。このような寸法精度を得
ようとする場合、旋盤及びダイヤモンド工具等を使用し
て、アルミニウム管（押出抽伸管）の表面を高精度で切
削している。また、アルミニウム管の押出及び抽伸を高
精度で行うことにより、その真円度及び真直度を夫々30
μｍ以下にする方法も開発され、実施されている。
ルミニウム管が使用されており、高度な寸法精度が要求
されている。例えば、直径が30ｍｍの感光体ドラム基盤
は、その真円度を30μｍ以下にすると共にその真直度を
30μｍ以下にする必要がある。このような寸法精度を得
ようとする場合、旋盤及びダイヤモンド工具等を使用し
て、アルミニウム管（押出抽伸管）の表面を高精度で切
削している。また、アルミニウム管の押出及び抽伸を高
精度で行うことにより、その真円度及び真直度を夫々30
μｍ以下にする方法も開発され、実施されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の感光体ドラム基盤の製造方法においては、以下
に示す問題点がある。
た従来の感光体ドラム基盤の製造方法においては、以下
に示す問題点がある。
【０００４】先ず、ダイヤモンド工具等を使用してアル
ミニウム管を切削する精密切削法では、感光体ドラム基
盤の製造コストが著しく増大すると共に、その生産性が
悪い。
ミニウム管を切削する精密切削法では、感光体ドラム基
盤の製造コストが著しく増大すると共に、その生産性が
悪い。
【０００５】一方、アルミニウム管の精密押出及び抽伸
を高精度で行う精密抽伸法では、切削等の後加工が不要
であるため製造コストが低いものの、アルミニウム管を
短尺に切断する必要があり、この切断時にアルミニウム
管の円筒度が悪化し、製品の歩留りが低下する。また、
抽伸時にアルミニウム管の表面に取り扱い傷が生じやす
い。
を高精度で行う精密抽伸法では、切削等の後加工が不要
であるため製造コストが低いものの、アルミニウム管を
短尺に切断する必要があり、この切断時にアルミニウム
管の円筒度が悪化し、製品の歩留りが低下する。また、
抽伸時にアルミニウム管の表面に取り扱い傷が生じやす
い。
【０００６】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、寸法精度が高い感光体ドラム基盤及びこの
感光体ドラム基盤を低コストで製造できる感光体ドラム
基盤の製造方法を提供することを目的とする。
のであって、寸法精度が高い感光体ドラム基盤及びこの
感光体ドラム基盤を低コストで製造できる感光体ドラム
基盤の製造方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る感光体ドラ
ム基盤は、センタレス研摩加工により表面が研摩された
アルミニウム又はアルミニウム合金の管材で構成され、
前記管材の表面に形成された厚さが８μｍ以下の陽極酸
化皮膜を有することを特徴とする。
ム基盤は、センタレス研摩加工により表面が研摩された
アルミニウム又はアルミニウム合金の管材で構成され、
前記管材の表面に形成された厚さが８μｍ以下の陽極酸
化皮膜を有することを特徴とする。
【０００８】また、本発明に係る感光体ドラム基盤の製
造方法は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる
素材を押出加工し、次いで抽伸加工することにより、全
長に対する曲がりが 0.1％以下であって肉厚ｔ、外径φ
及び耐力σ0.2 がｔ2 ×σ0. 2 ／φ≧ 0.2を満足する管
材を得た後、この管材の表面にセンタレス研摩加工を施
すことを特徴とする。
造方法は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる
素材を押出加工し、次いで抽伸加工することにより、全
長に対する曲がりが 0.1％以下であって肉厚ｔ、外径φ
及び耐力σ0.2 がｔ2 ×σ0. 2 ／φ≧ 0.2を満足する管
材を得た後、この管材の表面にセンタレス研摩加工を施
すことを特徴とする。
【０００９】
【作用】本願発明者等は真円度等の寸法精度が高い感光
体ドラム基盤を低コストで製造できる感光体ドラム基盤
の製造方法を開発すべく種々実験研究を行った結果、従
来からパイプ材又は棒材の表面の傷取り等に適用される
センタレス研摩（心無し研摩）加工により表面を研摩し
たアルミニウム又はアルミニウム合金の管材は、寸法精
度が高く、表面状態が良好であると共に、その製造コス
トが低いため、感光体ドラム基盤として好適であるとい
うことを知見した。また、このセンタレス研摩加工の場
合、アルミニウム又はアルミニウムの管材を短尺に切断
した後に、その表面を研摩することができるので、感光
体ドラム基盤の円筒度を従来の精密抽伸法に比して高め
ることができる。例えば、直径が30ｍｍであって真円度
及び円筒度が夫々50μｍである通常精度の管材でも、こ
の真円度及び円筒度を夫々20μｍにまで高めることがで
きる。
体ドラム基盤を低コストで製造できる感光体ドラム基盤
の製造方法を開発すべく種々実験研究を行った結果、従
来からパイプ材又は棒材の表面の傷取り等に適用される
センタレス研摩（心無し研摩）加工により表面を研摩し
たアルミニウム又はアルミニウム合金の管材は、寸法精
度が高く、表面状態が良好であると共に、その製造コス
トが低いため、感光体ドラム基盤として好適であるとい
うことを知見した。また、このセンタレス研摩加工の場
合、アルミニウム又はアルミニウムの管材を短尺に切断
した後に、その表面を研摩することができるので、感光
体ドラム基盤の円筒度を従来の精密抽伸法に比して高め
ることができる。例えば、直径が30ｍｍであって真円度
及び円筒度が夫々50μｍである通常精度の管材でも、こ
の真円度及び円筒度を夫々20μｍにまで高めることがで
きる。
【００１０】しかしながら、アルミニウム又はアルミニ
ウム合金の管材の表面をセンタレス研摩加工すると、そ
の削り粉が付着した部分、センタレス研摩加工時に焼き
付いた部分又は受板（ブレード）により傷ついた部分等
に酸化皮膜の乱れが生じ、これにより感光体ドラム基盤
の表面に電荷のリークが生じる虞がある。そして、感光
体ドラム基盤に電荷のリークが生じると、感光体に画像
欠陥が生じてしまう。このため、前記管材の表面に陽極
酸化処理を施して陽極酸化皮膜を形成することが好まし
い。この場合に、陽極酸化皮膜の厚さが 8μｍを超える
と、この陽極酸化皮膜にクラックが生じる。従って、前
記管材の表面に形成する陽極酸化皮膜の厚さは 8μｍ以
下にすることが好ましい。
ウム合金の管材の表面をセンタレス研摩加工すると、そ
の削り粉が付着した部分、センタレス研摩加工時に焼き
付いた部分又は受板（ブレード）により傷ついた部分等
に酸化皮膜の乱れが生じ、これにより感光体ドラム基盤
の表面に電荷のリークが生じる虞がある。そして、感光
体ドラム基盤に電荷のリークが生じると、感光体に画像
欠陥が生じてしまう。このため、前記管材の表面に陽極
酸化処理を施して陽極酸化皮膜を形成することが好まし
い。この場合に、陽極酸化皮膜の厚さが 8μｍを超える
と、この陽極酸化皮膜にクラックが生じる。従って、前
記管材の表面に形成する陽極酸化皮膜の厚さは 8μｍ以
下にすることが好ましい。
【００１１】次に、本発明に係る感光体ドラム基盤の製
造方法について説明する。先ず、アルミニウム又はアル
ミニウム合金からなる素材を押出加工し、次いで抽伸加
工することにより、アルミニウム又はアルミニウム合金
の管材を得る。その後、この管材にセンタレス研摩加工
を施すが、前記管材は全長に対する曲がりが 0.1％を超
えたものであると、センタレス研摩加工時にブレードと
の摩擦により前記管材の表面に螺旋模様が生じる。特
に、この螺旋模様は前記管材の表面に陽極酸化皮膜を設
けた場合に顕著に現われる。このように、前記管材の表
面に螺旋模様が生じると、この螺旋模様により感光体ド
ラム基盤の反射率が局所的に変化し、感光体に画像不良
が生じる。このため、センタレス研摩加工に供するアル
ミニウム又はアルミニウム合金の管材は、その全長に対
する曲がりが0.1％以下になるように抽伸加工する。こ
れにより、感光体の画像を高品質にすることができる。
造方法について説明する。先ず、アルミニウム又はアル
ミニウム合金からなる素材を押出加工し、次いで抽伸加
工することにより、アルミニウム又はアルミニウム合金
の管材を得る。その後、この管材にセンタレス研摩加工
を施すが、前記管材は全長に対する曲がりが 0.1％を超
えたものであると、センタレス研摩加工時にブレードと
の摩擦により前記管材の表面に螺旋模様が生じる。特
に、この螺旋模様は前記管材の表面に陽極酸化皮膜を設
けた場合に顕著に現われる。このように、前記管材の表
面に螺旋模様が生じると、この螺旋模様により感光体ド
ラム基盤の反射率が局所的に変化し、感光体に画像不良
が生じる。このため、センタレス研摩加工に供するアル
ミニウム又はアルミニウム合金の管材は、その全長に対
する曲がりが0.1％以下になるように抽伸加工する。こ
れにより、感光体の画像を高品質にすることができる。
【００１２】また、感光体ドラム基盤の寸法精度を高め
るには、センタレス研摩加工に供する前記管材の変形を
防止する必要がある。そこで、前記管材の肉厚ｔ及び耐
力σ0.2 を外径φに比例させて大きくする。実験研究の
結果、肉厚ｔと外径φと耐力σ0.2 との関係を以下に示
すものにすれば、前記管材の変形を防止できるというこ
とを見い出した。即ち、ｔ2 ×σ0.2 ／φの計算値が
0.2未満であると、前記管材がセンタレス研摩加工時に
変形するため、感光体ドラム基盤の寸法精度を高めるこ
とができない。従って、センタレス研摩加工に供する前
記管材はｔ2 ×σ0.2 ／φ≧ 0.2を満足するように抽伸
加工する。例えば、材料強度（耐力σ0.2）が 8ｋｇ／
ｍｍ2 であって、外径φが30ｍｍであるアルミニウム又
はアルミニウム合金の管材の場合は、その肉厚ｔを0.86
ｍｍ以上にする。
るには、センタレス研摩加工に供する前記管材の変形を
防止する必要がある。そこで、前記管材の肉厚ｔ及び耐
力σ0.2 を外径φに比例させて大きくする。実験研究の
結果、肉厚ｔと外径φと耐力σ0.2 との関係を以下に示
すものにすれば、前記管材の変形を防止できるというこ
とを見い出した。即ち、ｔ2 ×σ0.2 ／φの計算値が
0.2未満であると、前記管材がセンタレス研摩加工時に
変形するため、感光体ドラム基盤の寸法精度を高めるこ
とができない。従って、センタレス研摩加工に供する前
記管材はｔ2 ×σ0.2 ／φ≧ 0.2を満足するように抽伸
加工する。例えば、材料強度（耐力σ0.2）が 8ｋｇ／
ｍｍ2 であって、外径φが30ｍｍであるアルミニウム又
はアルミニウム合金の管材の場合は、その肉厚ｔを0.86
ｍｍ以上にする。
【００１３】なお、前記管材の耐力σ0.2 はアルミニウ
ム又はアルミニウム合金からなる素材にＭｇ、Ｍｎ又は
Ｃｕ等を添加することにより高めることができる。ま
た、抽伸冷間加工工程を設けて前記管材を加工硬化させ
ることにより、センタレス研摩加工に供する前記管材の
耐力σ0.2 を調整することもできる。
ム又はアルミニウム合金からなる素材にＭｇ、Ｍｎ又は
Ｃｕ等を添加することにより高めることができる。ま
た、抽伸冷間加工工程を設けて前記管材を加工硬化させ
ることにより、センタレス研摩加工に供する前記管材の
耐力σ0.2 を調整することもできる。
【００１４】更に、抽伸加工により得た前記管材の表面
には、深さが10μｍ以上の傷が形成される場合がある。
そこで、前記管材の表面に10μｍ以上の深さでセンタレ
ス研摩加工を施す必要があるが、この深さが 100μｍを
超えて研摩すると砥石の負荷が大きくなるため、前記管
材に変形が生じる虞がある。また、センタレス研摩加工
には、管材の形状を矯正するという作用があるが、前記
深さが10μｍ未満であると形状の矯正作用を得ることが
できず、前記深さが 100μｍを超えると砥石が目詰まり
する。このため、抽伸加工により得た前記管材の研摩代
は10乃至 100μｍにすることが好ましい。
には、深さが10μｍ以上の傷が形成される場合がある。
そこで、前記管材の表面に10μｍ以上の深さでセンタレ
ス研摩加工を施す必要があるが、この深さが 100μｍを
超えて研摩すると砥石の負荷が大きくなるため、前記管
材に変形が生じる虞がある。また、センタレス研摩加工
には、管材の形状を矯正するという作用があるが、前記
深さが10μｍ未満であると形状の矯正作用を得ることが
できず、前記深さが 100μｍを超えると砥石が目詰まり
する。このため、抽伸加工により得た前記管材の研摩代
は10乃至 100μｍにすることが好ましい。
【００１５】なお、本発明においては、前記管材を複数
のセンタレス研摩機に連続して通過させることが可能で
ある。このような場合には、研摩代の総量を10乃至 100
μｍにすることが好ましい。
のセンタレス研摩機に連続して通過させることが可能で
ある。このような場合には、研摩代の総量を10乃至 100
μｍにすることが好ましい。
【００１６】また、陽極酸化皮膜はセンタレス研摩加工
後の前記管材の表面に陽極酸化処理を施すことにより形
成することができる。
後の前記管材の表面に陽極酸化処理を施すことにより形
成することができる。
【００１７】このように、本発明によれば、寸法精度が
高い感光体ドラム基盤を低コストで製造することができ
る。
高い感光体ドラム基盤を低コストで製造することができ
る。
【００１８】
【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【００１９】図１はスルーフィールドのセンタレス研摩
機を示す斜視図である。ブレード１上にはアルミニウム
管４が配置される。送りロール２及び研摩ロール３はア
ルミニウム管４の長手方向に沿って配設されており、ア
ルミニウム管４を挟みつつ、その中心軸を回転軸として
相互に反対方向に回転するようになっている。アルミニ
ウム管４は高速回転の研摩ロール３と同じ回転速度で回
転しようとするが、低速回転の送りロール２及びブレー
ド１から受ける摩擦力により制動されるため、アルミニ
ウム管４は送りロール２と略同じ速度で回転する。これ
により、アルミニウム管４はその表面が研摩ロール３に
よって研摩される。また、送りロール２の中心軸が若干
傾斜しているため、アルミニウム管４はその長手方向に
搬送される。このようにして、アルミニウム管４は順次
研摩加工に供される。
機を示す斜視図である。ブレード１上にはアルミニウム
管４が配置される。送りロール２及び研摩ロール３はア
ルミニウム管４の長手方向に沿って配設されており、ア
ルミニウム管４を挟みつつ、その中心軸を回転軸として
相互に反対方向に回転するようになっている。アルミニ
ウム管４は高速回転の研摩ロール３と同じ回転速度で回
転しようとするが、低速回転の送りロール２及びブレー
ド１から受ける摩擦力により制動されるため、アルミニ
ウム管４は送りロール２と略同じ速度で回転する。これ
により、アルミニウム管４はその表面が研摩ロール３に
よって研摩される。また、送りロール２の中心軸が若干
傾斜しているため、アルミニウム管４はその長手方向に
搬送される。このようにして、アルミニウム管４は順次
研摩加工に供される。
【００２０】図２はインフィールドのセンタレス研摩機
を示す側面図である。ブレード１１上にはアルミニウム
管１４が配置される。研摩ロール１２，１３はアルミニ
ウム管１４の長手方向に沿って配設されており、アルミ
ニウム管１４を挟みつつ、その中心軸を回転軸として相
互に反対方向に回転するようになっている。この場合、
アルミニウム管４はその表面が研摩ロール１２，１３に
よって研摩される。研摩ロール１３はアルミニウム管１
４から離隔する方向に移動することができ、研摩後のア
ルミニウム管４はブレード１１の上方に搬送される。
を示す側面図である。ブレード１１上にはアルミニウム
管１４が配置される。研摩ロール１２，１３はアルミニ
ウム管１４の長手方向に沿って配設されており、アルミ
ニウム管１４を挟みつつ、その中心軸を回転軸として相
互に反対方向に回転するようになっている。この場合、
アルミニウム管４はその表面が研摩ロール１２，１３に
よって研摩される。研摩ロール１３はアルミニウム管１
４から離隔する方向に移動することができ、研摩後のア
ルミニウム管４はブレード１１の上方に搬送される。
【００２１】図３はスルーフィールドのセンタレス仕上
げ研摩機を示す斜視図である。送りロール２２，２３は
略平行に配設されており、その中心軸を回転軸として相
互に反対方向に回転するようになっている。アルミニウ
ム管４は送りロール２２，２３上に載置され、この送り
ロール２２，２３回転速度に応じて回転する。そして、
砥石２１によりアルミニウム管４の表面が仕上げ研摩さ
れる。研摩後のアルミニウム管４はその長手方向に搬送
される。
げ研摩機を示す斜視図である。送りロール２２，２３は
略平行に配設されており、その中心軸を回転軸として相
互に反対方向に回転するようになっている。アルミニウ
ム管４は送りロール２２，２３上に載置され、この送り
ロール２２，２３回転速度に応じて回転する。そして、
砥石２１によりアルミニウム管４の表面が仕上げ研摩さ
れる。研摩後のアルミニウム管４はその長手方向に搬送
される。
【００２２】図１乃至図３に示す研摩機を適宜組み合わ
せて使用することにより、アルミニウム管を所定の表面
粗度に研摩することができる。
せて使用することにより、アルミニウム管を所定の表面
粗度に研摩することができる。
【００２３】次に、上述の研摩機を使用して、実際に本
発明の実施例に係る感光体ドラム基盤を製造した場合に
ついて、従来例又は比較例と比較して説明する。
発明の実施例に係る感光体ドラム基盤を製造した場合に
ついて、従来例又は比較例と比較して説明する。
【００２４】先ず、通常の方法により外径が30.5ｍｍ、
内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアルミニウム管（JIS
3003材）を得た。次に、このアルミニウム管の表面に20
μｍの研摩代でセンタレス研摩加工を施した。このよう
にして、実施例１，２に係る感光体ドラム基盤を製造し
た。
内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアルミニウム管（JIS
3003材）を得た。次に、このアルミニウム管の表面に20
μｍの研摩代でセンタレス研摩加工を施した。このよう
にして、実施例１，２に係る感光体ドラム基盤を製造し
た。
【００２５】一方、従来例１として、精密抽伸法により
外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアル
ミニウム管からなる感光体ドラム基盤を製造した。ま
た、従来例２として、外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍｍ、
長さを 260ｍｍのアルミニウム管をダイヤモンド工具で
精密切削することにより感光体ドラム基盤を製造した。
更に、従来例３として、外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍ
ｍ、長さを 2ｍの長尺のアルミニウム管にセンタレス研
摩加工を施した後、このアルミニウム管を 260ｍｍの短
尺に切断することにより感光体ドラム基盤を製造した。
外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアル
ミニウム管からなる感光体ドラム基盤を製造した。ま
た、従来例２として、外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍｍ、
長さを 260ｍｍのアルミニウム管をダイヤモンド工具で
精密切削することにより感光体ドラム基盤を製造した。
更に、従来例３として、外径が30.5ｍｍ、内径が28ｍ
ｍ、長さを 2ｍの長尺のアルミニウム管にセンタレス研
摩加工を施した後、このアルミニウム管を 260ｍｍの短
尺に切断することにより感光体ドラム基盤を製造した。
【００２６】このようにして得た実施例１，２及び従来
例１乃至３に係る感光体ドラム基盤について、研摩前後
の寸法精度を測定し、この寸法精度を評価した。また、
ダイヤモンド切削による表面加工時間に対する表面加工
時間の比を求め、その生産性を評価した。その結果を下
記表１に示す。
例１乃至３に係る感光体ドラム基盤について、研摩前後
の寸法精度を測定し、この寸法精度を評価した。また、
ダイヤモンド切削による表面加工時間に対する表面加工
時間の比を求め、その生産性を評価した。その結果を下
記表１に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】この表１から明らかなように、実施例１，
２に係る感光体ドラム基盤はいずれも寸法精度が高く、
生産性が高いものであり、複写機等に使用する感光体ド
ラム基盤として好ましいものであった。
２に係る感光体ドラム基盤はいずれも寸法精度が高く、
生産性が高いものであり、複写機等に使用する感光体ド
ラム基盤として好ましいものであった。
【００２９】一方、精密抽伸法により得た従来例１に係
る感光体ドラム基盤は、表面加工が不要であるものの、
寸法精度が悪いものであった。また、アルミニウム管を
ダイヤモンド切削した従来例２に係る感光体ドラム基盤
は、表面加工時間が長く、生産性が悪いものであった。
更に、センタレス研摩加工後のアルミニウム管を短尺に
切断した従来例３に係る感光体ドラム基盤は、切断時に
円筒度が悪化し、寸法精度が悪いものであった。
る感光体ドラム基盤は、表面加工が不要であるものの、
寸法精度が悪いものであった。また、アルミニウム管を
ダイヤモンド切削した従来例２に係る感光体ドラム基盤
は、表面加工時間が長く、生産性が悪いものであった。
更に、センタレス研摩加工後のアルミニウム管を短尺に
切断した従来例３に係る感光体ドラム基盤は、切断時に
円筒度が悪化し、寸法精度が悪いものであった。
【００３０】次に、通常の方法により外径が30.5ｍｍ、
内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアルミニウム管（JIS
3003材）を得た。
内径が28ｍｍ、長さを 260ｍｍのアルミニウム管（JIS
3003材）を得た。
【００３１】そして、実施例３においては、全長に対す
る曲がりが0.08％であるアルミニウム管にセンタレス研
摩加工を施してその表面粗度Ｒmax を 1μｍとした後、
この表面に厚さが 4μｍの陽極酸化皮膜を形成すること
により感光体ドラム基盤を製造した。また、実施例４に
おいては、全長に対する曲がりが0.05％であるアルミニ
ウム管にセンタレス研摩加工を施してその表面粗度Ｒ
max を 0.5μｍとした後、この表面に厚さが 6μｍの陽
極酸化皮膜を形成することにより感光体ドラム基盤を製
造した。
る曲がりが0.08％であるアルミニウム管にセンタレス研
摩加工を施してその表面粗度Ｒmax を 1μｍとした後、
この表面に厚さが 4μｍの陽極酸化皮膜を形成すること
により感光体ドラム基盤を製造した。また、実施例４に
おいては、全長に対する曲がりが0.05％であるアルミニ
ウム管にセンタレス研摩加工を施してその表面粗度Ｒ
max を 0.5μｍとした後、この表面に厚さが 6μｍの陽
極酸化皮膜を形成することにより感光体ドラム基盤を製
造した。
【００３２】一方、比較例１においては、全長に対する
曲がりが0.08％であるアルミニウム管にセンタレス研摩
加工を施してその表面粗度Ｒmax を 1μｍすることによ
り感光体ドラム基盤を製造した。また、比較例２におい
ては、全長に対する曲がりが0.15％であるアルミニウム
管にセンタレス研摩加工を施してその表面粗度Ｒmaxを
1μｍとした後、この表面に厚さが 6μｍの陽極酸化皮
膜を形成することにより感光体ドラム基盤を製造した。
更に、比較例３においては、全長に対する曲がりが0.15
％であるアルミニウム管にセンタレス研摩加工を施して
その表面粗度Ｒmax を 0.5μｍとした後、この表面に厚
さが10μｍの陽極酸化皮膜を形成することにより感光体
ドラム基盤を製造した。
曲がりが0.08％であるアルミニウム管にセンタレス研摩
加工を施してその表面粗度Ｒmax を 1μｍすることによ
り感光体ドラム基盤を製造した。また、比較例２におい
ては、全長に対する曲がりが0.15％であるアルミニウム
管にセンタレス研摩加工を施してその表面粗度Ｒmaxを
1μｍとした後、この表面に厚さが 6μｍの陽極酸化皮
膜を形成することにより感光体ドラム基盤を製造した。
更に、比較例３においては、全長に対する曲がりが0.15
％であるアルミニウム管にセンタレス研摩加工を施して
その表面粗度Ｒmax を 0.5μｍとした後、この表面に厚
さが10μｍの陽極酸化皮膜を形成することにより感光体
ドラム基盤を製造した。
【００３３】このようにして得た実施例３，４及び比較
例１乃至３に係る感光体ドラム基盤について、表面の状
態を目視により評価した。その結果を表２に示す。
例１乃至３に係る感光体ドラム基盤について、表面の状
態を目視により評価した。その結果を表２に示す。
【００３４】なお、表２において、陽極酸化処理後のア
ルミニウム管の表面が良好であるものを○で示し、表面
に削り粉が付着し、又はクラックが生じる等の欠陥があ
るものを×で示す。また、陽極酸化処理後に、感光体ド
ラム基盤の表面にブレード模様がないものを○で示し、
表面にブレード模様が生じたものを×で示す。
ルミニウム管の表面が良好であるものを○で示し、表面
に削り粉が付着し、又はクラックが生じる等の欠陥があ
るものを×で示す。また、陽極酸化処理後に、感光体ド
ラム基盤の表面にブレード模様がないものを○で示し、
表面にブレード模様が生じたものを×で示す。
【００３５】
【表２】
【００３６】この表２から明らかなように、実施例３，
４に係る感光体ドラム基盤はいずれも表面欠陥及びブレ
ード模様は確認されず、複写機等に使用する感光体ドラ
ム基盤として優れた特性を有するものであった。
４に係る感光体ドラム基盤はいずれも表面欠陥及びブレ
ード模様は確認されず、複写機等に使用する感光体ドラ
ム基盤として優れた特性を有するものであった。
【００３７】一方、陽極酸化皮膜を設けていない比較例
１に係る感光体ドラム基盤は、アルミニウム管の表面に
欠陥が生じていた。また、センタレス研摩加工に供する
アルミニウム管の曲がりが0.15％である比較例２に係る
感光体ドラム基盤は、陽極酸化処理後に感光体ドラム基
盤の表面にブレード模様が生じていた。更に、センタレ
ス研摩加工に供するアルミニウム管の曲がりが0.15％で
あると共に陽極酸化皮膜の厚さが10μｍである比較例３
に係る感光体ドラム基盤は、陽極酸化処理後に感光体ド
ラム基盤の表面にブレード模様が生じ、この陽極酸化皮
膜にクラックが発生していた。
１に係る感光体ドラム基盤は、アルミニウム管の表面に
欠陥が生じていた。また、センタレス研摩加工に供する
アルミニウム管の曲がりが0.15％である比較例２に係る
感光体ドラム基盤は、陽極酸化処理後に感光体ドラム基
盤の表面にブレード模様が生じていた。更に、センタレ
ス研摩加工に供するアルミニウム管の曲がりが0.15％で
あると共に陽極酸化皮膜の厚さが10μｍである比較例３
に係る感光体ドラム基盤は、陽極酸化処理後に感光体ド
ラム基盤の表面にブレード模様が生じ、この陽極酸化皮
膜にクラックが発生していた。
【００３８】次に、通常の方法により、材種、肉厚ｔ2
（ｍｍ2 ）、外径φ（ｍｍ）及び耐力σ0.2 （ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を下記表３に示すアルミニウム管を得た。そし
て、このアルミニウム管の表面に30μｍの深さでセンタ
レス研摩加工を施すことにより、実施例５乃至８及び比
較例４乃至７に係る感光体ドラム基盤を製造した。な
お、アルミニウム管の送り速度は 2ｍ／分にした。
（ｍｍ2 ）、外径φ（ｍｍ）及び耐力σ0.2 （ｋｇ／ｍ
ｍ2 ）を下記表３に示すアルミニウム管を得た。そし
て、このアルミニウム管の表面に30μｍの深さでセンタ
レス研摩加工を施すことにより、実施例５乃至８及び比
較例４乃至７に係る感光体ドラム基盤を製造した。な
お、アルミニウム管の送り速度は 2ｍ／分にした。
【００３９】このようにして得た実施例５乃至８及び比
較例４乃至７に係る感光体ドラム基盤について、ｔ2 ×
σ0.2 ／φの計算値（ｋｇ／ｍｍ）を求め、その寸法精
度（真円度、振れ及び円筒度）を測定した。その結果を
下記表３に併せて示す。
較例４乃至７に係る感光体ドラム基盤について、ｔ2 ×
σ0.2 ／φの計算値（ｋｇ／ｍｍ）を求め、その寸法精
度（真円度、振れ及び円筒度）を測定した。その結果を
下記表３に併せて示す。
【００４０】なお、表３において、寸法精度は真円度、
振れ及び円筒度の全てが40μｍ以下であるものを○で示
し、真円度、振れ及び円筒度のいずれかが40μｍを超え
るものを△で示し、真円度、振れ及び円筒度の全てが40
μｍを超えるものを×で示した。
振れ及び円筒度の全てが40μｍ以下であるものを○で示
し、真円度、振れ及び円筒度のいずれかが40μｍを超え
るものを△で示し、真円度、振れ及び円筒度の全てが40
μｍを超えるものを×で示した。
【００４１】この表３から明らかなように、実施例５乃
至８に係る感光体ドラム基盤はいずれも寸法精度が高い
ものであった。
至８に係る感光体ドラム基盤はいずれも寸法精度が高い
ものであった。
【００４２】一方、ｔ2 ×σ0.2 ／φが 0.2未満である
比較例４乃至７はいずれも寸法精度が悪いものであっ
た。
比較例４乃至７はいずれも寸法精度が悪いものであっ
た。
【００４３】
【表３】
【００４４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る感光
体ドラム基盤はアルミニウム又はアルミニウム合金の管
材の表面をセンタレス研摩加工により研摩したものであ
るから、寸法精度が高く、表面状態が良好である。
体ドラム基盤はアルミニウム又はアルミニウム合金の管
材の表面をセンタレス研摩加工により研摩したものであ
るから、寸法精度が高く、表面状態が良好である。
【００４５】また、本発明に係る感光体ドラム基盤の製
造方法によれば、全長に対する曲がりを所定値に限定す
ると共に肉厚ｔと外径φと耐力σ0.2 との関係を所定の
ものにしたアルミニウム又はアルミニウム合金の管材を
得た後、この管材の表面にセンタレス研摩加工を施すか
ら、上述の如く優れた感光体ドラム基盤を低コストで製
造することができる。
造方法によれば、全長に対する曲がりを所定値に限定す
ると共に肉厚ｔと外径φと耐力σ0.2 との関係を所定の
ものにしたアルミニウム又はアルミニウム合金の管材を
得た後、この管材の表面にセンタレス研摩加工を施すか
ら、上述の如く優れた感光体ドラム基盤を低コストで製
造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】スルーフィールドのセンタレス研摩機を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】インフィールドのセンタレス研摩機を示す側面
図である。
図である。
【図３】スルーフィールドのセンタレス仕上げ研摩機を
示す斜視図である。
示す斜視図である。
１，１１；ブレード ２，２２，２３；送りロール ３，１２，１３；研摩ロール ４，１４，２４；アルミニウム管 ２１；砥石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−128553（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−147266（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03G 5/10 B24B 5/18
Claims (4)
- 【請求項１】 センタレス研摩加工により表面が研摩さ
れたアルミニウム又はアルミニウム合金の管材で構成さ
れ、前記管材の表面に形成された厚さが８μｍ以下の陽
極酸化皮膜を有することを特徴とする感光体ドラム基
盤。 - 【請求項２】アルミニウム又はアルミニウム合金からな
る素材を押出加工し、次いで抽伸加工することにより、
全長に対する曲がりが０．１％以下であって肉厚ｔ、外
径φ及び耐力σ0.2がｔ2×σ0.2／φ≧０．２を満足す
る管材を得た後、この管材の表面にセンタレス研摩加工
を施すことを特徴とする感光体ドラム基盤の製造方法。 - 【請求項３】 抽伸加工により得た前記管材の表面に１
０乃至１００μｍの深さでセンタレス研摩加工を施すこ
とを特徴とする請求項２に記載の感光体ドラムの製造方
法。 - 【請求項４】 センタレス研摩加工後の前記管材の表面
に陽極酸化処理を施して厚さが８μｍ以下の陽極酸化皮
膜を形成することを特徴とする請求項２又は３に記載の
感光体ドラム基盤の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3091292A JP2818630B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 感光体ドラム基盤及びその製造方法 |
| US07/858,866 US5316536A (en) | 1991-03-28 | 1992-03-27 | Photoreceptor drum substrate and a method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3091292A JP2818630B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 感光体ドラム基盤及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10167579A Division JP3034844B2 (ja) | 1998-06-15 | 1998-06-15 | 感光体ドラム基盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04301647A JPH04301647A (ja) | 1992-10-26 |
| JP2818630B2 true JP2818630B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=14022393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3091292A Expired - Fee Related JP2818630B2 (ja) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | 感光体ドラム基盤及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5316536A (ja) |
| JP (1) | JP2818630B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5764484A (en) * | 1996-11-15 | 1998-06-09 | Olin Corporation | Ground ring for a metal electronic package |
| US7429440B2 (en) | 2004-08-25 | 2008-09-30 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Electrophotographic photoreceptor, image forming apparatus and image forming method |
| JP2011126631A (ja) * | 2009-12-16 | 2011-06-30 | Seiko Epson Corp | 搬送ローラー、搬送ユニット、印刷装置及び搬送ローラーの製造方法 |
| CN202098125U (zh) * | 2009-12-29 | 2012-01-04 | 精工爱普生株式会社 | 输送辊、输送单元以及打印装置 |
| CN110109328A (zh) * | 2019-06-04 | 2019-08-09 | 深圳市科洛德打印耗材有限公司 | 一种长寿命高分辨率宽幅径打印机硒鼓的制造工艺 |
| CN116604452B (zh) * | 2023-05-15 | 2023-11-10 | 浙江樾筑科技有限公司 | 一种建筑施工组装爬架加工设备及其方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3937571A (en) * | 1974-05-06 | 1976-02-10 | Addressograph-Multigraph Corporation | Reproduction system utilizing ion modular and dielectric imaging surface |
| US4207059A (en) * | 1975-12-11 | 1980-06-10 | International Business Machines Corporation | Backup roll for heated fuser system |
| EP0131352B1 (en) * | 1983-07-04 | 1988-08-24 | Sanmeidenki Kabushikikaisha | Process for manufacturing cores of electromagnet |
| JPS61163366A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-24 | Canon Inc | 像保持部材 |
| JPH01170949A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-06 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真感光体の製造方法 |
-
1991
- 1991-03-28 JP JP3091292A patent/JP2818630B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-03-27 US US07/858,866 patent/US5316536A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04301647A (ja) | 1992-10-26 |
| US5316536A (en) | 1994-05-31 |
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