JP2815822B2 - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents
液晶パネルの製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、液晶パネルの製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の液晶パネルの製造方法について説
明する。ガラス基板上にトランジスタ素子がマトリクス
状に配置されたＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板と、ブ
ラックマトリクスおよびＲ，Ｇ，Ｂ画素がマトリクス状
に配置されたＣＦ（カラーフィルタ）基板とに、ポリイ
ミドよりなる配向剤をフレキソ印刷法等により形成した
後、ラビング処理等により配向処理を施す。
明する。ガラス基板上にトランジスタ素子がマトリクス
状に配置されたＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板と、ブ
ラックマトリクスおよびＲ，Ｇ，Ｂ画素がマトリクス状
に配置されたＣＦ（カラーフィルタ）基板とに、ポリイ
ミドよりなる配向剤をフレキソ印刷法等により形成した
後、ラビング処理等により配向処理を施す。
【０００３】つぎに、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板のどち
らか一方に、スクリーン印刷法により、エポキシ樹脂等
よりなるシール剤をリング状に形成した後、球状のスペ
ーサを均一に複数個配置する。つぎに、ＴＦＴ基板とＣ
Ｆ基板を上下対向するように位置合わせ装置上に配置
し、位置合わせを行った後、加圧、貼合わせて空パネル
を作製する。
らか一方に、スクリーン印刷法により、エポキシ樹脂等
よりなるシール剤をリング状に形成した後、球状のスペ
ーサを均一に複数個配置する。つぎに、ＴＦＴ基板とＣ
Ｆ基板を上下対向するように位置合わせ装置上に配置
し、位置合わせを行った後、加圧、貼合わせて空パネル
を作製する。
【０００４】つぎに、空パネルを位置合わせ装置から取
り出し、均一に加圧しつつ、１５０℃に保たれたオーブ
ンに１時間程度放置してシール剤の硬化を行い、所定ギ
ャップを形成する。このシール剤の硬化工程時における
空パネルの姿勢（基板姿勢）を図２に示す。図２におい
て、１はＴＦＴ基板、２はＣＦ基板、３はシール剤、４
はスペーサである。この図２に示すように、シール剤の
硬化工程時におけるＴＦＴ基板１，ＣＦ基板２は、重力
方向と垂直な姿勢になっている。
り出し、均一に加圧しつつ、１５０℃に保たれたオーブ
ンに１時間程度放置してシール剤の硬化を行い、所定ギ
ャップを形成する。このシール剤の硬化工程時における
空パネルの姿勢（基板姿勢）を図２に示す。図２におい
て、１はＴＦＴ基板、２はＣＦ基板、３はシール剤、４
はスペーサである。この図２に示すように、シール剤の
硬化工程時におけるＴＦＴ基板１，ＣＦ基板２は、重力
方向と垂直な姿勢になっている。
【０００５】その後、空パネルに液晶を注入し、注入口
を封止して液晶パネルを得ていた。
を封止して液晶パネルを得ていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造方法で
は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板を正確に位置合わせした後、
位置合わせの精度を確保しつつシール剤を加熱し硬化す
るが、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とのガラス素材の違いによ
る線膨張率の違いや、基板の自重により貼り合わされた
基板に反りが生じる。この基板の反りにより、ＴＦＴ基
板とＣＦ基板のトータルピッチに差異が生じ、ＴＦＴ基
板とＣＦ基板の位置合わせ精度が悪くなったり、ギャッ
プ精度の低下を引き起こし、コントラスト等の表示品質
が劣化するるという問題点があった。
は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板を正確に位置合わせした後、
位置合わせの精度を確保しつつシール剤を加熱し硬化す
るが、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とのガラス素材の違いによ
る線膨張率の違いや、基板の自重により貼り合わされた
基板に反りが生じる。この基板の反りにより、ＴＦＴ基
板とＣＦ基板のトータルピッチに差異が生じ、ＴＦＴ基
板とＣＦ基板の位置合わせ精度が悪くなったり、ギャッ
プ精度の低下を引き起こし、コントラスト等の表示品質
が劣化するるという問題点があった。
【０００７】なお、このような問題点を解決するため
に、紫外線硬化型樹脂を使用し、ＴＦＴ基板とＣＦ基板
を仮固定する方法が考えられている。しかしこの方法
も、仮止め接着剤はパネル端部、すなわち有効画素外に
塗布されるため、基板の反りを防止することはできず、
トータルピッチの差異によって生ずる有効画面内の位置
精度の低下に対しては、有効ではなかった。
に、紫外線硬化型樹脂を使用し、ＴＦＴ基板とＣＦ基板
を仮固定する方法が考えられている。しかしこの方法
も、仮止め接着剤はパネル端部、すなわち有効画素外に
塗布されるため、基板の反りを防止することはできず、
トータルピッチの差異によって生ずる有効画面内の位置
精度の低下に対しては、有効ではなかった。
【０００８】また、シール剤として、紫外線硬化型の樹
脂を使用することも提案されているが、基板との接着性
や液晶への影響を考慮し、紫外線・熱硬化併用型である
ため、硬化時の熱の影響は避けられないものであり、自
重による基板の反りの防止に対しても、有効なものとは
言えなかった。この発明の目的は、シール剤硬化時にお
ける基板の反りに起因する２つの基板の位置合わせ精度
の低下を防止し、ギャップ精度が高く、コントラスト等
の表示品質の優れた液晶パネルの製造方法を提供するこ
とである。
脂を使用することも提案されているが、基板との接着性
や液晶への影響を考慮し、紫外線・熱硬化併用型である
ため、硬化時の熱の影響は避けられないものであり、自
重による基板の反りの防止に対しても、有効なものとは
言えなかった。この発明の目的は、シール剤硬化時にお
ける基板の反りに起因する２つの基板の位置合わせ精度
の低下を防止し、ギャップ精度が高く、コントラスト等
の表示品質の優れた液晶パネルの製造方法を提供するこ
とである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の液晶パネ
ルの製造方法は、第１の基板と第２の基板とをシール剤
を介して位置合わせして空パネルを作製し、シール剤を
硬化した後、空パネルに液晶を注入する液晶パネルの製
造方法であって、シール剤の硬化は、空パネルの姿勢を
重力方向と平行に保った状態で行うことを特徴とする。
ルの製造方法は、第１の基板と第２の基板とをシール剤
を介して位置合わせして空パネルを作製し、シール剤を
硬化した後、空パネルに液晶を注入する液晶パネルの製
造方法であって、シール剤の硬化は、空パネルの姿勢を
重力方向と平行に保った状態で行うことを特徴とする。
【００１０】請求項２記載の液晶パネルの製造方法は、
請求項１記載の液晶パネルの製造方法において、シール
剤の硬化時に、空パネル内を真空状態とし、大気圧によ
って加圧するようにしている。請求項３記載の液晶パネ
ルの製造方法は、請求項１記載の液晶パネルの製造方法
において、シール剤の硬化時に、空パネルをプレス機に
より加圧するようにしている。
請求項１記載の液晶パネルの製造方法において、シール
剤の硬化時に、空パネル内を真空状態とし、大気圧によ
って加圧するようにしている。請求項３記載の液晶パネ
ルの製造方法は、請求項１記載の液晶パネルの製造方法
において、シール剤の硬化時に、空パネルをプレス機に
より加圧するようにしている。
【００１１】
【作用】この発明によれば、第１の基板と第２の基板と
をシール剤を介して位置合わせした後、シール剤を硬化
する際に、空パネルの姿勢を重力方向と平行に保った状
態で行うことにより、基板の自重によって従来生じてい
た基板の反りを防止することができるため、基板の反り
に起因する位置合わせ精度の低下を防止し、有効画素部
のギャップを均一に形成し、コントラスト等の表示品質
の優れた液晶パネルを実現することができる。
をシール剤を介して位置合わせした後、シール剤を硬化
する際に、空パネルの姿勢を重力方向と平行に保った状
態で行うことにより、基板の自重によって従来生じてい
た基板の反りを防止することができるため、基板の反り
に起因する位置合わせ精度の低下を防止し、有効画素部
のギャップを均一に形成し、コントラスト等の表示品質
の優れた液晶パネルを実現することができる。
【００１２】
【実施例】以下、この発明の実施例について説明する。 〔第１の実施例〕まず、この発明の第１の実施例の液晶
パネルの製造方法を説明する。ガラス基板上にトランジ
スタ素子がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板と、ブ
ラックマトリクスおよびＲ，Ｇ，Ｂ画素がマトリクス状
に配置されたＣＦ基板とに、ポリアミック酸のＮ−メチ
ル２ピロリドン溶液を厚さ８００オングストロームにな
るようにフレキソ印刷法より形成する。これらの基板を
１９０℃，９０分加熱しポリイミドの皮膜を得た後、レ
ーヨン製の布にて配向処理を行う。
パネルの製造方法を説明する。ガラス基板上にトランジ
スタ素子がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板と、ブ
ラックマトリクスおよびＲ，Ｇ，Ｂ画素がマトリクス状
に配置されたＣＦ基板とに、ポリアミック酸のＮ−メチ
ル２ピロリドン溶液を厚さ８００オングストロームにな
るようにフレキソ印刷法より形成する。これらの基板を
１９０℃，９０分加熱しポリイミドの皮膜を得た後、レ
ーヨン製の布にて配向処理を行う。
【００１３】つぎに、ＴＦＴ基板およびＣＦ基板のどち
らか一方に、エポキシ樹脂等よりなるシール剤をスクリ
ーン印刷法によりリング状に形成し、平均粒子径５μｍ
のガラススペーサを１００個／ｍｍ2 の密度で分散す
る。この基板にディスペンサにて紫外線硬化型の樹脂か
らなる仮止め接着剤を有効画素エリア外の４箇所に塗布
した。
らか一方に、エポキシ樹脂等よりなるシール剤をスクリ
ーン印刷法によりリング状に形成し、平均粒子径５μｍ
のガラススペーサを１００個／ｍｍ2 の密度で分散す
る。この基板にディスペンサにて紫外線硬化型の樹脂か
らなる仮止め接着剤を有効画素エリア外の４箇所に塗布
した。
【００１４】この後、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とがシール
剤，スペーサを介して対向するように位置合わせ装置に
取付け、正確に位置合わせした後、０．３ｋｇ／ｃｍ2
の力で加圧しつつ、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2 の光量
で照射し、仮止め接着剤を硬化して貼り合わせ、空パネ
ルを作製する。貼り合わせの完了した空パネルを位置合
わせ装置から取出し、真空パック法により空パネル内を
真空状態にして大気圧によって均一に加圧しつつ、空パ
ネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と平行に保ち、１５
０℃，６０分間加熱することにより、シール剤の硬化を
行い、所定のギャップを形成する。このシール剤の硬化
工程時における空パネルの姿勢（基板姿勢）を図１に示
す。図１において、１はＴＦＴ基板、２はＣＦ基板、３
はシール剤、４はスペーサである。この図１に示すよう
に、シール剤の硬化工程時におけるＴＦＴ基板１，ＣＦ
基板２は、重力方向と平行な姿勢にしている。
剤，スペーサを介して対向するように位置合わせ装置に
取付け、正確に位置合わせした後、０．３ｋｇ／ｃｍ2
の力で加圧しつつ、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ2 の光量
で照射し、仮止め接着剤を硬化して貼り合わせ、空パネ
ルを作製する。貼り合わせの完了した空パネルを位置合
わせ装置から取出し、真空パック法により空パネル内を
真空状態にして大気圧によって均一に加圧しつつ、空パ
ネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と平行に保ち、１５
０℃，６０分間加熱することにより、シール剤の硬化を
行い、所定のギャップを形成する。このシール剤の硬化
工程時における空パネルの姿勢（基板姿勢）を図１に示
す。図１において、１はＴＦＴ基板、２はＣＦ基板、３
はシール剤、４はスペーサである。この図１に示すよう
に、シール剤の硬化工程時におけるＴＦＴ基板１，ＣＦ
基板２は、重力方向と平行な姿勢にしている。
【００１５】その後、空パネルに液晶を注入し、注入口
を封止して液晶パネルを得る。この実施例の液晶パネル
は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の位置合わせ精度が、±２μ
ｍ以内であり、面内ギャップも均一であった。また、液
晶注入口を封口した後、偏光板を貼付けて得られた液晶
パネルは、ブラックマトリクス端部より光漏のない、面
内ギャップ精度が±０．２μｍとギャップ精度の高い、
コントラストの低下のない、品質の優れた液晶パネルで
あった。
を封止して液晶パネルを得る。この実施例の液晶パネル
は、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の位置合わせ精度が、±２μ
ｍ以内であり、面内ギャップも均一であった。また、液
晶注入口を封口した後、偏光板を貼付けて得られた液晶
パネルは、ブラックマトリクス端部より光漏のない、面
内ギャップ精度が±０．２μｍとギャップ精度の高い、
コントラストの低下のない、品質の優れた液晶パネルで
あった。
【００１６】以上のようにこの実施例によれば、ＴＦＴ
基板とＣＦ基板の位置合わせを正確に行った後、シール
剤を硬化する際に、空パネルの姿勢を重力方向と平行に
保った状態で行うことにより、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の
自重による基板の反りを防止し、位置合わせ装置によっ
て得られたＴＦＴ基板とＣＦ基板の位置合わせ精度をシ
ール硬化工程後も確保することができ、有効画素部のギ
ャップを均一に形成することが可能となり、シール剤の
硬化時の収縮、基板の反りや熱膨張による応力等の影響
も緩和し、さらに位置合わせ精度の高いパネルの製造が
可能であり、色むら等の問題の無い、またコントラスト
の低下のない、品質の優れた液晶パネルを得ることがで
きる。
基板とＣＦ基板の位置合わせを正確に行った後、シール
剤を硬化する際に、空パネルの姿勢を重力方向と平行に
保った状態で行うことにより、ＴＦＴ基板とＣＦ基板の
自重による基板の反りを防止し、位置合わせ装置によっ
て得られたＴＦＴ基板とＣＦ基板の位置合わせ精度をシ
ール硬化工程後も確保することができ、有効画素部のギ
ャップを均一に形成することが可能となり、シール剤の
硬化時の収縮、基板の反りや熱膨張による応力等の影響
も緩和し、さらに位置合わせ精度の高いパネルの製造が
可能であり、色むら等の問題の無い、またコントラスト
の低下のない、品質の優れた液晶パネルを得ることがで
きる。
【００１７】〔第２の実施例〕つぎに、この発明の第２
の実施例の液晶パネルの製造方法を説明する。ＴＦＴ基
板とＣＦ基板とを紫外線硬化型の樹脂からなる仮止め接
着剤で貼り合わせるまでは、第１の実施例と同様であ
る。貼り合わせの完了した空パネルを位置合わせ装置か
ら取出し、プレス法により空パネルをプレス機で均一に
加圧しつつ、図１に示すように、空パネルの姿勢（基板
姿勢）を重力方向と平行に保ち、１５０℃，６０分間加
熱することにより、シール剤の硬化を行い、所定のギャ
ップを形成する。その後、空パネルに液晶を注入し、注
入口を封止して液晶パネルを得る。
の実施例の液晶パネルの製造方法を説明する。ＴＦＴ基
板とＣＦ基板とを紫外線硬化型の樹脂からなる仮止め接
着剤で貼り合わせるまでは、第１の実施例と同様であ
る。貼り合わせの完了した空パネルを位置合わせ装置か
ら取出し、プレス法により空パネルをプレス機で均一に
加圧しつつ、図１に示すように、空パネルの姿勢（基板
姿勢）を重力方向と平行に保ち、１５０℃，６０分間加
熱することにより、シール剤の硬化を行い、所定のギャ
ップを形成する。その後、空パネルに液晶を注入し、注
入口を封止して液晶パネルを得る。
【００１８】この実施例の液晶パネルは、ＴＦＴ基板と
ＣＦ基板の位置合わせ精度が、±２μｍ以内であり、面
内ギャップも均一であった。また、液晶注入口を封口し
た後、偏光板を貼付けて得られた液晶パネルは、ブラッ
クマトリクス端部より光漏のない、面内ギャップ精度が
±０．２μｍとギャップ精度の高い、コントラストの低
下のない、品質の優れた液晶パネルであった。
ＣＦ基板の位置合わせ精度が、±２μｍ以内であり、面
内ギャップも均一であった。また、液晶注入口を封口し
た後、偏光板を貼付けて得られた液晶パネルは、ブラッ
クマトリクス端部より光漏のない、面内ギャップ精度が
±０．２μｍとギャップ精度の高い、コントラストの低
下のない、品質の優れた液晶パネルであった。
【００１９】以上のようにこの実施例によれば、第１の
実施例同様、シール剤の硬化時に空パネルの姿勢（基板
姿勢）を重力方向と平行に保つことにより、第１の実施
例と同様の効果が得られる。 〔比較例〕つぎに、比較例を説明しておく。
実施例同様、シール剤の硬化時に空パネルの姿勢（基板
姿勢）を重力方向と平行に保つことにより、第１の実施
例と同様の効果が得られる。 〔比較例〕つぎに、比較例を説明しておく。
【００２０】ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを紫外線硬化型の
樹脂からなる仮止め接着剤で貼り合わせるまでは、第１
の実施例と同様である。貼り合わせの完了した空パネル
を位置合わせ装置から取出し、真空パック法により空パ
ネルを均一に加圧しつつ、図２に示す従来例と同様、空
パネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と垂直に保ち、１
５０℃，６０分間加熱することにより、シール剤の硬化
を行い、所定のギャップを形成する。その後、空パネル
に液晶を注入し、注入口を封止して液晶パネルを得る。
樹脂からなる仮止め接着剤で貼り合わせるまでは、第１
の実施例と同様である。貼り合わせの完了した空パネル
を位置合わせ装置から取出し、真空パック法により空パ
ネルを均一に加圧しつつ、図２に示す従来例と同様、空
パネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と垂直に保ち、１
５０℃，６０分間加熱することにより、シール剤の硬化
を行い、所定のギャップを形成する。その後、空パネル
に液晶を注入し、注入口を封止して液晶パネルを得る。
【００２１】この比較例によるＴＦＴ基板とＣＦ基板の
位置合わせ精度は、パネルの自重によりパネルの反りが
生じたため、±１０μｍ以上であった。また、液晶注入
口を封口した後、偏光板を貼付けて得られた液晶パネル
は、ブラックマトリクス端部より光漏れを生じ、面内ギ
ャップ精度が±０．６μｍとギャップ精度の低い、コン
トラストの低下した表示品質に劣る液晶パネルであっ
た。
位置合わせ精度は、パネルの自重によりパネルの反りが
生じたため、±１０μｍ以上であった。また、液晶注入
口を封口した後、偏光板を貼付けて得られた液晶パネル
は、ブラックマトリクス端部より光漏れを生じ、面内ギ
ャップ精度が±０．６μｍとギャップ精度の低い、コン
トラストの低下した表示品質に劣る液晶パネルであっ
た。
【００２２】この比較例より、シール剤の硬化時に空パ
ネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と平行に保つことに
より、上記実施例の効果が得られたことは明白である。
ネルの姿勢（基板姿勢）を重力方向と平行に保つことに
より、上記実施例の効果が得られたことは明白である。
【００２３】
【発明の効果】この発明の液晶パネルの製造方法は、第
１の基板と第２の基板とをシール剤を介して位置合わせ
した後、シール剤を硬化する際に、空パネルの姿勢を重
力方向と平行に保った状態で行うことにより、基板の自
重によって従来生じていた基板の反りを防止することが
できるため、基板の反りに起因する位置合わせ精度の低
下を防止し、有効画素部のギャップを均一に形成し、コ
ントラスト等の表示品質の優れた液晶パネルを実現する
ことができる。
１の基板と第２の基板とをシール剤を介して位置合わせ
した後、シール剤を硬化する際に、空パネルの姿勢を重
力方向と平行に保った状態で行うことにより、基板の自
重によって従来生じていた基板の反りを防止することが
できるため、基板の反りに起因する位置合わせ精度の低
下を防止し、有効画素部のギャップを均一に形成し、コ
ントラスト等の表示品質の優れた液晶パネルを実現する
ことができる。
【図１】この発明の実施例におけるシール剤の硬化工程
時における空パネルの姿勢（基板姿勢）を示す図であ
る。
時における空パネルの姿勢（基板姿勢）を示す図であ
る。
【図２】従来例におけるシール剤の硬化工程時における
空パネルの姿勢（基板姿勢）を示す図である。
空パネルの姿勢（基板姿勢）を示す図である。
１ ＴＦＴ基板 ２ ＣＦ基板 ３ シール剤 ４ スペーサ
Claims (3)
- 【請求項１】 第１の基板と第２の基板とをシール剤を
介して位置合わせして空パネルを作製し、前記シール剤
を硬化した後、前記空パネルに液晶を注入する液晶パネ
ルの製造方法であって、 前記シール剤の硬化は、前記空パネルの姿勢を重力方向
と平行に保った状態で行うことを特徴とする液晶パネル
の製造方法。 - 【請求項２】 シール剤の硬化時に、空パネル内を真空
状態とし、大気圧によって加圧する請求項１記載の液晶
パネルの製造方法。 - 【請求項３】 シール剤の硬化時に、空パネルをプレス
機により加圧する請求項１記載の液晶パネルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14309195A JP2815822B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 液晶パネルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14309195A JP2815822B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 液晶パネルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334772A JPH08334772A (ja) | 1996-12-17 |
| JP2815822B2 true JP2815822B2 (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=15330709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14309195A Expired - Fee Related JP2815822B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 液晶パネルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2815822B2 (ja) |
-
1995
- 1995-06-09 JP JP14309195A patent/JP2815822B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08334772A (ja) | 1996-12-17 |
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|---|---|---|---|
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