JP2810689B2 - 原稿濃度検出装置 - Google Patents
原稿濃度検出装置Info
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- JP2810689B2 JP2810689B2 JP1078197A JP7819789A JP2810689B2 JP 2810689 B2 JP2810689 B2 JP 2810689B2 JP 1078197 A JP1078197 A JP 1078197A JP 7819789 A JP7819789 A JP 7819789A JP 2810689 B2 JP2810689 B2 JP 2810689B2
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- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
- Control Or Security For Electrophotography (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、原稿濃度検出装置、詳しくは複写機、プリ
ンタ、ファクシミリ等の画像形成装置の原稿濃度検出装
置に関するものである。
ンタ、ファクシミリ等の画像形成装置の原稿濃度検出装
置に関するものである。
〔従来技術〕 複写機等におては、原稿を露光したときの反射光を光
学センサーにより検出し、光電変換したその値に基づい
て原稿濃度を判断し、作像条件、例えば現像バイアス電
圧等を調整することが従来行われていた。
学センサーにより検出し、光電変換したその値に基づい
て原稿濃度を判断し、作像条件、例えば現像バイアス電
圧等を調整することが従来行われていた。
このような原稿濃度検出は露光光が量一定している場
合はよいが、露光光量が変化すると、原稿濃度を正確に
検出できない。この問題を解消するために、基準パター
ンを設け、基準パターンの地肌濃度と、原稿の地肌濃度
についてのセンサーの出力の比較値を用いて判断すると
露光光量の変化の影響は受けない。
合はよいが、露光光量が変化すると、原稿濃度を正確に
検出できない。この問題を解消するために、基準パター
ンを設け、基準パターンの地肌濃度と、原稿の地肌濃度
についてのセンサーの出力の比較値を用いて判断すると
露光光量の変化の影響は受けない。
複写機等の画像形成装置においては、制御の方法によ
って、露光光源による露光位置を、エンコーダ等を用い
たパルス信号を用いて判断でき、制御装置において基準
パターンを露光しているか、原稿を露光しているかを判
断し、原稿濃度を検出することができるものもあるが、
制御装置においては露光光源が基準パターンを露光して
いるか、原稿を露光しているか区別する手段をもたない
ものがある。このような装置においては露光光源の一回
の露光走査により基準パターンと原稿の反射光を検出し
て濃度を判断することができない。
って、露光光源による露光位置を、エンコーダ等を用い
たパルス信号を用いて判断でき、制御装置において基準
パターンを露光しているか、原稿を露光しているかを判
断し、原稿濃度を検出することができるものもあるが、
制御装置においては露光光源が基準パターンを露光して
いるか、原稿を露光しているか区別する手段をもたない
ものがある。このような装置においては露光光源の一回
の露光走査により基準パターンと原稿の反射光を検出し
て濃度を判断することができない。
本発明は、上記の従来の問題点を解消し、露光位置を
認識できない制御方式においても基準パターンと原稿の
濃度から相対濃度を検出可能な原稿濃度検出装置を提供
することを課題としている。
認識できない制御方式においても基準パターンと原稿の
濃度から相対濃度を検出可能な原稿濃度検出装置を提供
することを課題としている。
本発明は、上記の課題を、基準パターンと原稿の露光
装置による露光走査方向の基準パターンの前後に設けた
区別パターンを有し、露光時の区別パターンにおけるセ
ンサーの出力変化により基準パターンと原稿とを区別す
ることを特徴とする原稿濃度検出装置により解決した。
装置による露光走査方向の基準パターンの前後に設けた
区別パターンを有し、露光時の区別パターンにおけるセ
ンサーの出力変化により基準パターンと原稿とを区別す
ることを特徴とする原稿濃度検出装置により解決した。
本発明により、露光光源は一回の露光走査により、区
別パターン、基準パターン、区別パターン、原稿の順に
露光をし、その反射光を光学センサーにより検出する。
別パターン、基準パターン、区別パターン、原稿の順に
露光をし、その反射光を光学センサーにより検出する。
センサーの検出出力は区別パターンから基準パターン
に移行する際及び区別パターンから原稿に移行する際に
上昇する。区別パターンと基準パターン及び原稿との検
出出力の差を識別するための閾値を設定しておけば、そ
の閾値を越えた時点で区別パターンから基準パターン又
は原稿に移行したことを識別できる。更に基準パターン
から区別パターンに移行する際にはセンサーの検出出力
は低下する。その際に基準パターンと区別パターンとの
境界を示す閾値を設定しておけば、その閾値を越えるこ
とにより基準パターンから区別パターンに移行したこと
が判る。夫々の閾値を越えた点で基準パターンのデータ
であるか原稿のデータであるかを識別でき、両者のデー
タより原稿の地肌の基準パターンの地肌に対する相対濃
度を検出でき、画像形成装置の濃度制御を正確に行うこ
とができる。
に移行する際及び区別パターンから原稿に移行する際に
上昇する。区別パターンと基準パターン及び原稿との検
出出力の差を識別するための閾値を設定しておけば、そ
の閾値を越えた時点で区別パターンから基準パターン又
は原稿に移行したことを識別できる。更に基準パターン
から区別パターンに移行する際にはセンサーの検出出力
は低下する。その際に基準パターンと区別パターンとの
境界を示す閾値を設定しておけば、その閾値を越えるこ
とにより基準パターンから区別パターンに移行したこと
が判る。夫々の閾値を越えた点で基準パターンのデータ
であるか原稿のデータであるかを識別でき、両者のデー
タより原稿の地肌の基準パターンの地肌に対する相対濃
度を検出でき、画像形成装置の濃度制御を正確に行うこ
とができる。
本発明の詳細を図に示す実施例に基づいて説明する。
第1図及び第2図において、コンタクトガラス1の上
に原稿2が置かれ下側より露光光源により露光される。
原稿2の位置は原稿先端押え3により決められる。原稿
領域外に、図ではコンタクトガラス1の外側に基準パタ
ーン4が設けられる。露光光源による露光走査方向にお
いて基準パターン4の前部に第1区別パターン5が、後
部に第2区別パターン6が設けられる。第2区別パター
ン6は丁度基準パターンと原稿との間の領域の全長にわ
たって拡がっている。区別パターン5、6は一例として
黒色パターンとすることができる。
に原稿2が置かれ下側より露光光源により露光される。
原稿2の位置は原稿先端押え3により決められる。原稿
領域外に、図ではコンタクトガラス1の外側に基準パタ
ーン4が設けられる。露光光源による露光走査方向にお
いて基準パターン4の前部に第1区別パターン5が、後
部に第2区別パターン6が設けられる。第2区別パター
ン6は丁度基準パターンと原稿との間の領域の全長にわ
たって拡がっている。区別パターン5、6は一例として
黒色パターンとすることができる。
露光光源による基準パターン4と原稿2の露光時、区
別パターン5、6と基準パターン4と原稿からの反射光
は第1ミラー7、第2ミラー8、第3ミラー9、を介し
て結像レンズ10に入射し、図示しない感光体等の像担持
体に結像され、一方第3ミラー9からの反射光が反射光
量センサー(AEセンサーと称す)11により検出される。
別パターン5、6と基準パターン4と原稿からの反射光
は第1ミラー7、第2ミラー8、第3ミラー9、を介し
て結像レンズ10に入射し、図示しない感光体等の像担持
体に結像され、一方第3ミラー9からの反射光が反射光
量センサー(AEセンサーと称す)11により検出される。
結像レンズ10に入射した光は像担持体、例えば感光体
ドラムに入射露光し、静電潜像を形成する。静電潜像は
現像剤により現像され、そのトナー像はトナー付着量検
出手段(Pセンサーと称す)としての光学センサーによ
り検出され、区別パターンと基準パターンと原稿とトナ
ー付着量即ちトナー濃度が検出される。
ドラムに入射露光し、静電潜像を形成する。静電潜像は
現像剤により現像され、そのトナー像はトナー付着量検
出手段(Pセンサーと称す)としての光学センサーによ
り検出され、区別パターンと基準パターンと原稿とトナ
ー付着量即ちトナー濃度が検出される。
1回の露光走査により、例えば第3図に示すような検
出データが得られる。第3図(a)はトナー付着量検出
手段による検出出力を示し、第3図(b)は反射光量セ
ンサー11の検出出力を示す。第3図(a)、(b)は基
準パターンと原稿の位置を対応するように並べて配置
し、理解しやすいように示した。
出データが得られる。第3図(a)はトナー付着量検出
手段による検出出力を示し、第3図(b)は反射光量セ
ンサー11の検出出力を示す。第3図(a)、(b)は基
準パターンと原稿の位置を対応するように並べて配置
し、理解しやすいように示した。
第3図(b)においてTH1は区別パターンから移行す
る際の閾値を、TH2は基準パターンから区別パターンへ
移行する際の閾値を示し、TH1との区別を容易にするた
め、TH2はTH1より低く設定してある。
る際の閾値を、TH2は基準パターンから区別パターンへ
移行する際の閾値を示し、TH1との区別を容易にするた
め、TH2はTH1より低く設定してある。
原稿濃度検出時の制御は例えば第4図に示すようなフ
ローに従って行われる。
ローに従って行われる。
第4図において、AEストローブ有であるか、つまりAE
センサー11による読み取りを指示する信号があるかをチ
エックし。YESであればメモリーの基準パターン及び区
別パターンのAEセンサー11による検出値(以下AEPと略
称)及び原稿のAEセンサー11による検出値(以下AEOと
略称)を0にクリヤーする。
センサー11による読み取りを指示する信号があるかをチ
エックし。YESであればメモリーの基準パターン及び区
別パターンのAEセンサー11による検出値(以下AEPと略
称)及び原稿のAEセンサー11による検出値(以下AEOと
略称)を0にクリヤーする。
次いでAEセンサー11の検出値のADコンバータによる出
力値ADが閾値TH1より大であるかチエックし、YESであれ
ば区別パターンから基準パターンへの移行したことを判
断し、そのときの出力値ADがAEPより大であるかチエッ
クし、大であればそのADをAEPにセーブする。つまり、
基準パターンのAEセンサーの検出値のピーク値をセーブ
する。その後ADが閾値TH2より小であるかをチエックす
る。AEP<ADでない場合はAD<TH2であるかチエックす
る。これにより基準パターンから区別パターンへの移行
をチエックする。
力値ADが閾値TH1より大であるかチエックし、YESであれ
ば区別パターンから基準パターンへの移行したことを判
断し、そのときの出力値ADがAEPより大であるかチエッ
クし、大であればそのADをAEPにセーブする。つまり、
基準パターンのAEセンサーの検出値のピーク値をセーブ
する。その後ADが閾値TH2より小であるかをチエックす
る。AEP<ADでない場合はAD<TH2であるかチエックす
る。これにより基準パターンから区別パターンへの移行
をチエックする。
AD<TH2となると区別パターンへ移行しているので次
いでAD≧TH1であるかチエックし、原稿に移行したかど
うかをチエックする。
いでAD≧TH1であるかチエックし、原稿に移行したかど
うかをチエックする。
AD≧TH1になると原稿に移行したと判断し、AEO<ADか
チエックし、YESであればAEOにADをセーブする。つまり
原稿部のAEセンサーの検出値のピーク値をセーブする。
その後サンプリング時間が所定時間、例えば150ms経過
したかどうかチエックし、経過すれば終了する。
チエックし、YESであればAEOにADをセーブする。つまり
原稿部のAEセンサーの検出値のピーク値をセーブする。
その後サンプリング時間が所定時間、例えば150ms経過
したかどうかチエックし、経過すれば終了する。
AEセンサー11の検出値によら上記の如く基準パターン
部と原稿部の検出が明確に区別されるので、基準パター
ン部と原稿部に対応する像担持体のPセンサーによる検
出量より相対濃度を算出することができる。
部と原稿部の検出が明確に区別されるので、基準パター
ン部と原稿部に対応する像担持体のPセンサーによる検
出量より相対濃度を算出することができる。
基準パターンと原稿のトナー濃度は、トナー付着量を
Pセンサーにより検出した値により検知する上記の例の
外にAEセンサーにより検出した基準パターンと原稿より
の反射光量により検出することもでき、又像担持体上の
静電潜像の電位により検出することもできる。
Pセンサーにより検出した値により検知する上記の例の
外にAEセンサーにより検出した基準パターンと原稿より
の反射光量により検出することもでき、又像担持体上の
静電潜像の電位により検出することもできる。
本発明により、露光光源の位置を認識することのでき
ない制御装置を有する画像形成装置においても、センサ
ーよりのアナログ出力値に基づいて容易に基準パターン
と原稿の区別をすることができ、基準パターンと原稿の
相対濃度を正確に検出することが可能になった。
ない制御装置を有する画像形成装置においても、センサ
ーよりのアナログ出力値に基づいて容易に基準パターン
と原稿の区別をすることができ、基準パターンと原稿の
相対濃度を正確に検出することが可能になった。
第1図は本発明を利用する画像形成装置の露光光学装置
の一例の斜視図、第2図は原稿載置部分の説明断面図、
第3図(a)はPセンサーの出力の変化の一例を第3図
(b)はAEセンサーの出力の変化の一例を示す図、第4
図は制御フローチャートである。 1……コンタクトガラス、2……原稿 3……原稿先端押え、4……基準パターン 5、6……区別パターン
の一例の斜視図、第2図は原稿載置部分の説明断面図、
第3図(a)はPセンサーの出力の変化の一例を第3図
(b)はAEセンサーの出力の変化の一例を示す図、第4
図は制御フローチャートである。 1……コンタクトガラス、2……原稿 3……原稿先端押え、4……基準パターン 5、6……区別パターン
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−85448(JP,A) 特開 昭57−23972(JP,A) 特開 昭53−103736(JP,A) 特開 昭61−35060(JP,A) 特開 昭59−93463(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G03G 15/04 111 - 120 G03G 15/00 303 G03G 21/00 370 - 502 G01N 21/47 G03B 27/72 - 27/80
Claims (1)
- 【請求項1】原稿と、原稿領域外に設けた基準パターン
とを光学センサーにより検出し、原稿と基準パターンの
濃度比により検出する原稿濃度検出装置において、 基準パターンと原稿に対する露光装置による露光走査方
向の基準パターンの前後に設けた区別パターンを有し、
露光時の区別パターンにおけるセンサーの出力変化によ
り基準パターンと原稿とを区別することを特徴とする原
稿濃度検出装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1078197A JP2810689B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 原稿濃度検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1078197A JP2810689B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 原稿濃度検出装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02259674A JPH02259674A (ja) | 1990-10-22 |
JP2810689B2 true JP2810689B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=13655287
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1078197A Expired - Lifetime JP2810689B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 原稿濃度検出装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2810689B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06300691A (ja) * | 1993-04-15 | 1994-10-28 | Stanley Electric Co Ltd | 濃度センサ |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53103736A (en) * | 1977-02-23 | 1978-09-09 | Ricoh Co Ltd | Auto-bias development for xerographic copying machine |
JPS5723972A (en) * | 1980-07-21 | 1982-02-08 | Ricoh Co Ltd | Control method for development bias |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP1078197A patent/JP2810689B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02259674A (ja) | 1990-10-22 |
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