JP2809959B2 - レ−ザビ−ムによるアブレーション装置およびその方法 - Google Patents

レ−ザビ−ムによるアブレーション装置およびその方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レーザビームにより対
象物をアブレーションする装置および方法に係り、殊に
角膜をアブレーションしその屈折力を矯正する装置およ
び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザビームで対象物をアブレ−ション
する加工装置が知られている。微細加工用のレ−ザとし
ては主としてエキシマレ−ザ(ことに193nmのArF
レ−ザ)が適しているが、ヤグレ−ザ等の高調波を利用
することも試みられている。微細加工装置としては、角
膜の表面をアブレーションしその曲率を変化させること
によって眼球の屈折異常を矯正しようとする装置が知ら
れている。この装置ではアブレーション領域が均一な深
さになるように制御されることが重要である。そこで、
従来からこの均一な深さのアブレーションを行うため
に、種々の方法が採用されている。本出願人もこの目的
のために、特願平2−416767号において1つの提
案をしている。すなわち、1方向にほぼ均一でそれと直
交方向がガウス分布であるエキシマレ−ザビ−ムにおい
て光学素子を用いてガウス分布方向にスキャンさせ、均
一の深さのアブレーションを行うものである。このよう
な均一の深さにアブレーションする角膜手術装置は、可
変アパ−チャ、可変スリットにより照射領域を制限し、
その照射領域を制御することにより所期する曲率の角膜
形状に形成して、近視や乱視など角膜の屈折異常を矯正
する。
【0003】
【発明が解決すべき課題】しかしながら、1ショット
(後述する実施例記載の方式の場合は1スキャン)当た
りのアブレ−ション深さ(本明細書ではこれをアブレ−
ションレ−トという)は被加工物の種類、レ−ザ出力お
よびその他の加工環境等の要因により微妙に変化する。
エキシマレ−ザでは、レ−ザを継続して動作させたとき
のアブレ−ションレ−トはほぼ一定だと考えても差支え
ないが、加工環境が異なると同一のレ−ザ出力でもアブ
レ−ションレ−トはしばしば変化する。しかしながら、
このアブレ−ションレ−トの変化は、厳密な深さ制御を
要する加工装置、ことに角膜を所期する一定の形状に形
成する装置にとっては致命的である。アブレ−ションレ
−トの変化は、角膜を所期するものとは異なった形状に
形成してしまうからである。ところが、アブレ−ション
レ−ト、殊に角膜等の透明体のアブレ−ションレ−トの
測定は困難である。また、アブレ−ションレ−トの測定
自体は可能だとしても、アブレ−ションする都度に電子
顕微鏡等を使ってアブレ−ションレ−トを測定するのは
煩雑であり、コスト的にも到底堪え難い。本発明は、上
記問題点に鑑み案出されたもので、アブレ−ションレ−
トの変化による較正を容易に行うことができるレ−ザビ
−ムによるアブレーション装置及びその方法を提供する
ことを技術課題とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は次のような特徴を有している。 (1) 加工目的物を所期する形状にアブレーションす
るためにレーザビームを供給するレーザビーム供給手段
と、レーザビームを加工目的物まで導光する導光光学系
と、加工目的物に対してアブレーションする領域を変え
る領域変更手段と、該領域変更手段の動作を制御する制
御手段とを有するアブレーション装置において、前記加
工目的物のアブレーションレ−トに対して既知のアブレ
ーションレ−トを持つレ−ト基準物と、該レ−ト基準物
に対して第1の光学特性を持つ曲面を形成すべく前記制
御手段に指示する指示手段と、該制御手段の制御に基づ
いて実際に形成されたレ−ト基準物の曲面の第2の光学
特性を測定する測定手段と、該測定手段により測定され
た第2の光学特性を入力する入力手段と、該入力手段に
より入力された第2の光学特性と前記第1の光学特性の
比較に基づいて加工目的物に対するアブレ−ションレ−
トを算出し装置の駆動情報を較正する較正手段と、を持
つことを特徴とする。
【0005】(2) レーザビームによるアブレーショ
ン領域を変化させることにより、加工目的物を所期する
形状にアブレーションする方法において、加工目的物の
アブレーションレ−トに対して既知のアブレーションレ
−トを持つレ−ト比較物をレ−ザビームの光路に置く過
程と、該レ−ト基準物に対して第1の光学特性を持つ曲
面を形成すべく制御して前記レ−ト比較物に曲面を形成
する過程と、該レ−ト基準物に実際に形成された曲面の
第2の光学特性を測定する過程と、測定された第2の光
学特性を入力する過程と、入力された第2の光学特性と
前記第1の光学特性の比較から加工目的物に対するアブ
レ−ションレ−トを算出する過程と、算出されたアブレ
−ションレ−トに基づいて装置の駆動情報を較正する較
正過程と、較正された駆動情報に基づいて加工目的物を
加工する過程とからなることを特徴とする。
【0006】
【実施例1】以下、本発明の実施例について図面に基づ
いて説明する。図1は角膜アブレーション装置の構成図
である。その光学系は本出願人による特願平2−416
767号のアブレ−ション装置を採用している。10は
エキシマレーザ光源であり、そのレーザ光源から出射さ
れるレーザビームの断面形状は、図2に示すように、ビ
ームの水平方向(x軸方向)の強度分布がほぼ均一な分
布F(W)で、垂直方向(y軸方向)の強度分布がガウ
シアン分布(ガウス分布)F(H)となっている。1
1,12,15は平面ミラーでレーザビームを90°偏
向するためのものであり、レーザ光源10より水平方向
に出射されたレーザビームは、平面ミラー11により上
方へ90°偏向され、平面ミラー12で再び平行方向に
偏向される。平面ミラー12はz軸方向に平行移動し、
ビ−ムをガウシアン分布方向に平行移動する。平面ミラ
ー12はレーザパルスに同期して移動させるが、ある位
置で1パルス又は数パルス照射後に平面ミラー12を次
の位置に移動させ、再び1パルス又は数パルス照射後ミ
ラー12を移動させる。この動作を所定の間隔でアパー
チャ13の開口の1端から他端まで繰返し、そのパルス
を重ね合わせると(図3のa〜d参照)、図3の(e)
のように、ほぼ均一な深さのアブレーションを行うこと
ができる。なお、平面ミラー12の移動量は、総アブレ
ーション量、要求される均一性の程度やビ−ムの強度・
強度分布等の各要素の相関関係で決まる。
【0007】13はアブレーション領域を限定するアパ
ーチャで、開口径を変えることができる。14はアパー
チャ12を眼球角膜16の上に投影する投影レンズであ
る。投影レンズ14に対してアパーチャ13と眼球角膜
16は共役な位置関係にあり、投影レンズ14はアパー
チャ13の像を眼球角膜16上で結び、そのアブレーシ
ョン領域を限定することになっている(アパーチャ13
は角膜の直前に置いてもほぼ同様な効果が得られる)。
投影レンズ14を通ったレーザビームは平面ミラー15
で下方に偏向され、眼球角膜16へ到達する。眼球角膜
16は装置の光学系に対して所定の位置関係にくるよう
に位置決めされている(位置決め手段については特に図
示しないが、光学系全体をXY方向および軸方向に移動
させても良いし、手術眼を移動させても良い)。本出願
人が特願平4−286999号(発明の名称「レ−ザビ
−ムのアブレ−ション装置」)で提案したように、光路
中にイメ−ジロ−テ−タを配置して、ビ−ムの方向を回
転させることにより、レ−ザ共振器調整不良等による強
度分布のバラつきの問題を解決することができる。
【0008】17はドライブモ−タ、18は検出器、1
9は制御装置である。20は角膜をアブレ−ションする
ための各デ−タを入力したり、操作を指示するための入
力装置である。21は眼鏡レンズの屈折度数を測定する
レンズメ−タであり、アブレ−ションされた透明平板2
2の屈折度数を測定する。測定された屈折度数は操作者
により入力装置20を介して制御装置19に入力され
る。なお、測定された屈折度数はスイッチの操作により
自動的に入力するようにしても良い。レンズメ−タとし
ては周知の各種のレンズメ−タ、例えば本出願人が製造
販売するレンズメ−タLM−100等を使用することが
可能であるので、その説明は省略する。以上のような構
成の装置において、アブレ−ションレ−トの変動に対す
る較正について説明する。PMMAからなる透明平板2
2を所定の位置に配置して、平面ミラ−12およびアパ
−チャ13の動作を制御して透明平板22の表面に非球
面(または球面)のレンズ面を作る(図4参照)。一般
にAなる媒質の屈折率をnとし、Bなる媒質の屈折率を
n´とし、媒質Aと媒質Bの境界を非球面レンズ面とな
るようにする(図5参照)。この非球面レンズは、面上
の任意の点Cの深さdと径wは次の関係式を満足する。
fは焦点距離である。なお、本装置により形成される境
界面は厳密には階段状であるが、非球面レンズ面に近似
しており、市販のレンズメ−タにおいてもレンズ面とし
て屈折度数を測定できる。 w2 ={(n2 −n´2 )d2 +2n´(n−n´)fd}/n´2 したがって、深さdをアブレ−ションレ−トの整数倍に
とり、各アブレ−ション深さにおけるアパ−チャの投影
像の径wが上式を満足するようにアパ−チャ13の径の
大きさを制御することによって、透明平板表面にレンズ
面を形成することができる。仮に、アブレ−ションレ−
トが基準値(設定値)と一致するならば、任意の焦点距
離fのレンズ面を上式を満足するようにアパ−チャ13
の動きを制御するだけで自由に作り出すことができる。
ところが、実際のアブレ−ションレ−トが基準値とずれ
たままで透明平板を加工した場合、その形成されたレン
ズ度数の変化は次のようにして求めることができる。前
述の式をレンズ度数D(1/f)についての式に書換え
ると、
【数1】 となる。この式において、wをdに対して十分大きくと
ると、n´2 2 (n 2 −n´ 2 )d 2 に対して十分
大きいので、
【数2】 に近似され、レンズ屈折度数の大きさはアブレ−ション
深さdと比例する。つまり、アブレ−ションレ−トの変
化率とレンズ屈折度数の変化率は一致することになる。
したがって、透明平板22に形成された屈折度数を測定
して、その測定値をアブレ−ションレ−トが基準値のと
きに形成される屈折度数と比較することにより、現在の
アブレ−ションレ−トを知ることができる。すなわち、
レンズメ−タ21により測定された屈折度数は、入力装
置20により制御装置19に入力される。制御装置19
はレンズ度数の変化率からアブレ−ションレ−トの変化
率を演算する。被加工物と透明平板の各アブレ−ション
レ−トには、被加工物の材質(動物の種類)の違い等に
応じて、一定の関係が認められる。本発明者の豚眼や兎
眼等を使った実験によれば、それらのアブレ−ションレ
−トはPMMAの透明平板22のアブレ−ションレ−ト
に対する2〜3倍程度という値が得られている。したが
って、制御装置内に記憶された透明平板20に対する被
加工物のアブレ−ションレ−トの関係、および前記演算
されたアブレ−ションレ−トの変化率とから、被加工物
に対する現在のアブレ−ションレ−トを知ることができ
る。また、被加工物の基準アブレ−ションレ−トを記憶
し、これに対して前述のレンズ度数の変化率を単純に掛
けても通常の場合良い。このようにして、現在のアブレ
−ションレ−トが得られると、装置の制御を次のような
方法で較正する。第一の較正方法は、前述のようにアパ
−チャの径が切除深さに対する関数として表現されると
きは、現在のアブレ−ションレ−トの整数倍における各
アパ−チャの径を演算して、その演算結果に基づいてア
パ−チャを制御する方法である。第二の較正方法は、一
定の深さになるまでレ−ザパルスを重ね打ちする場合
は、加工深さをアブレ−ションレ−トで割ることにより
重ね打ちするパルス数を決定する方法である。勿論重ね
打ちするパルス数を変化率で割っても良い。第三の較正
方法は、アブレ−ションレ−トは一定の範囲内ではレ−
ザの出力自体を調整することによって一定にできるの
で、測定されたアブレ−ションレ−トに基づいてレ−ザ
の出力自体を調整する方法である。以上の実施例は種々
の変容が可能であり、例えば、透明平板の代りに非透過
物を使用し、コリメ−タ等による反射焦点距離の計測で
も勿論良い。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば、レ−ザの現実のアブレ
ーションレ−トを極めて容易に知ることができるので、
これを較正デ−タとして使用することにより目的物を正
確に加工できる。また、アブレーションレ−トの変動を
屈折度数に対する変化率として得ることができるので、
角膜の屈折矯正等曲面の形成への影響を的確に把握でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例である角膜アブレーション装置
の構成図である。
【図2】エキシマレ−ザのエネルギ−分布の例を説明す
る図である。
【図3】平面ミラー12の移動による均一な深さのアブ
レーションを説明する図である。
【図4】PMMAの透明平板22に形成された非球面の
レンズ面を示す図である。
【図5】アブレーションレ−トの変動の屈折度数に対す
る影響を説明する図である。
【符号の説明】
10 エキシマレ−ザ光源 12 平面ミラ− 13 アパ−チャ 14 投影レンズ 19 制御装置 21 レンズメ−タ

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加工目的物を所期する形状にアブレーシ
    ョンするためにレーザビームを供給するレーザビーム供
    給手段と、レーザビームを加工目的物まで導光する導光
    光学系と、加工目的物に対してアブレーションする領域
    を変える領域変更手段と、該領域変更手段の動作を制御
    する制御手段とを有するアブレーション装置において、
    前記加工目的物のアブレーションレートに対して既知の
    アブレーションレートを持つレート基準物と、該レート
    基準物に対して第1の光学特性を持つ曲面を形成すべく
    前記制御手段に指示する指示手段と、前記制御手段の制
    御に基づいて実際に形成されたレート基準物の曲面の第
    2の光学特性を測定する測定手段と、該測定手段により
    測定された第2の光学特性を入力する入力手段と、該入
    力手段により入力された第2の光学特性と前記第1の光
    学特性の比較に基づいて加工目的物に対するアブレーシ
    ョンレートを算出し装置の駆動情報を較正する較正手段
    と、を持つことを特徴とするレーザビームによるアブレ
    ーション装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の領域変更手段は開口径が可変
    のアパーチャであることを特徴とするレーザビームによ
    るアブレーション装置。
  3. 【請求項3】 請求項1のレート基準物は透光物である
    ことを特徴とするレーザビームによるアブレーション装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項3のレート基準物はPMMA製で
    あることを特徴とするレーザビームによるアブレーショ
    ン装置。
  5. 【請求項5】 請求項1の測定手段は屈折特性を測定す
    るレンズメータであることを特徴とするレーザビームに
    よるアブレーション装置。
  6. 【請求項6】 請求項1のレーザビームによるアブレー
    ション装置は角膜の曲率を変える角膜手術装置であるこ
    とを特徴とするレーザビームによるアブレーション装
    置。
  7. 【請求項7】 レーザビームによるアブレーション領域
    を変化させることにより、加工目的物を所期する形状に
    アブレーションする方法において、加工目的物のアブレ
    ーションレートに対して既知のアブレーションレートを
    持つレート比較物をレーザビームの光路に置く過程と、
    該レート基準物に対して第1の光学特性を持つ曲面を形
    成すべく制御して前記レート比較物に曲面を形成する過
    程と、該レート基準物に実際に形成された曲面の第2の
    光学特性を測定する過程と、測定された第2の光学特性
    を入力する過程と、入力された第2の光学特性と前記第
    1の光学特性の比較から加工目的物に対するアブレーシ
    ョンレートを算出する過程と、算出されたアブレーショ
    ンレートに基づいて装置の駆動情報を較正する較正過程
    と、較正された駆動情報に基づいて加工目的物を加工す
    る過程とからなることを特徴とするレーザビームによる
    アブレーション方法。
  8. 【請求項8】 請求項7のレート基準物は透光物である
    ことを特徴とするレーザビームによるアブレーション方
    法。
  9. 【請求項9】 請求項7の第2の光学特性を測定する過
    程はレンズメータによる屈折特性の測定であることを特
    徴とするレーザビームによるアブレーション方法。
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