JP2001353176A - レーザ治療装置 - Google Patents

レーザ治療装置

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JP2001353176A
JP2001353176A JP2001078636A JP2001078636A JP2001353176A JP 2001353176 A JP2001353176 A JP 2001353176A JP 2001078636 A JP2001078636 A JP 2001078636A JP 2001078636 A JP2001078636 A JP 2001078636A JP 2001353176 A JP2001353176 A JP 2001353176A
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Tomoko Otsuki
朋子 大槻
Soichi Yamato
壮一 大和
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンスが容易であり、且つ小型軽量な
構成となる固体レーザ装置を用いた、特に角膜治療に適
したレーザ治療装置を得る。 【解決手段】 所定ののレーザ光を発生させる固体レー
ザ１２を有するレーザ光発生器１１、このレーザ光発生
器によって発生されたレーザ光を増幅するファイバー光
増幅器２０およびこのように増幅されたレーザ光を非線
形光学結晶を用いて波長が略１９３ｎｍの治療用レーザ
光に波長変換する波長変換器４０を備えて構成されるレ
ーザ装置１０と、このレーザ装置により発生された治療
用レーザ光を、角膜表面に導いて照射させる照射光学装
置６０とを有してレーザ治療装置が構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いた
治療装置に関し、より詳しくは、レーザ光を角膜に照射
して表面のアブレーション（ＰＲＫ: Photorefractive
Keratectomy）あるいは切開した角膜内部のアブレーシ
ョン（ＬＡＳＩＫ: Laser Intrastromal Keratomileusi
s）を行い、角膜の曲率もしくは凹凸を矯正して近眼、
乱視などの治療を行うことができるレーザ治療装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光は近年において種々の用途に用
いられており、例えば、金属の切断や加工を行ったり、
半導体製造装置におけるフォトリソグラフィー装置の光
源として用いられたり、各種測定装置に用いられたり、
外科、眼科、歯科等の手術および治療装置に用いられた
りしている。特に最近において、レーザ光を角膜に照射
して角膜表面のアブレーション（ＰＲＫ）あるいは切開
した角膜内部のアブレーション（ＬＡＳＩＫ）を行い、
角膜の曲率および凹凸を矯正して近視、遠視、乱視の治
療を行うことが注目されており、一部実用化されつつあ
る。このような角膜治療装置としては、ＡｒＦエキシマ
レーザ光（波長１９３ｎｍ）を角膜に照射して、角膜表
面のアブレーション（削り取り）を行うものが知られて
いる（例えば、特許第２８０９９５９号公報、特公平７
−１２１２６８号公報、特開平５−２２０１８９号公報
等）。
【０００３】ＡｒＦエキシマレーザ光を用いた角膜表面
のアブレーションは、ＡｒＦレーザ光を構成する波長１
９３ｎｍの光子はＣ−Ｎ，Ｃ−Ｃ，Ｃ−Ｏ，Ｃ−Ｈ，Ｃ
＝Ｃ結合等の物質結合を切断するエネルギーを持ってお
り、蛋白質の基本単位であるペプチドを分解できるとい
うことを利用するもので、レーザ光を角膜表面に照射し
てペプチドを分解させて蒸散させることにより表面のア
ブレーションを行うものである。
【０００４】但し、この場合に、角膜の透明性を保つた
め、熱凝固層のない精密な蒸散を行う必要があり、この
ような観点から物質結合切断による蒸散が主として生
じ、熱蒸散の発生の少ない波長１９３ｎｍのＡｒＦエキ
シマレーザ光が用いられている。なお、波長がこれより
長いＫｒＦレーザ光（波長２４８ｎｍ）や、ＸｅＣｌレ
ーザ光（波長３０８ｎｍ）によっても角膜表面の蒸散を
行わせることが可能であるが、物質結合切断による蒸散
のみならず熱蒸散の発生率が高くなり、熱凝固層が発生
しやすいという問題がある。
【０００５】また、レーザ光の照射を受けると細胞内に
おいてＤＮＡが損傷を受け、突然変異を誘発するおそれ
があるという問題がある。ＤＮＡの吸収スペクトルは紫
外領域の光で波長が短いものほど大きくなるという傾向
があるが、実効的な突然変異誘発性は細胞質を透過して
核に到達する光量と核での吸収により決まり、波長２４
０〜２８０ｎｍで突然変異誘発性が極大となり、これよ
り短波長側でも長波長側でも低くなる。特に短波長側で
は細胞質での光吸収が波長が短くなるに従い急激に増加
するため、短波長になるほど核に到達する光は急激に減
少し、波長１９３ｎｍの光では核に到達する光量はほと
んど０になる。また、波長が１９３ｎｍより短い光は空
気中を伝播中に吸収されて伝播効率が低くなるという問
題がある。このような事情から、ＫｒＦレーザ光やＸｅ
Ｃｌレーザ光ではなく、波長１９３ｎｍのＡｒＦエキシ
マレーザ光が角膜治療用として最も適していると考えら
れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ＡｒＦエキ
シマレーザ発振装置は、チャンバー内にアルゴンガス、
フッ素ガス、ネオンガス等を封入して構成されるもので
あり、これらガスを密封する必要があり、さらに、各ガ
スの充填、回収を行う必要もあり、装置が大型化且つ複
雑化しやすいという問題がある。ＡｒＦエキシマレーザ
発振装置はまた、所定のレーザ光発生性能を保持するた
めに、定期的に内部ガスの交換を行ったり、オーバーホ
ールを行ったりする必要があるという問題もある。
【０００７】本発明はこのような問題に鑑みたもので、
メンテナンスが容易であり、且つ小型軽量な構成となる
固体レーザ装置を用いたレーザ治療装置を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】このような目的達成のた
め、本発明においては、所定の波長のレーザ光を発生さ
せる固体レーザを有するレーザ光発生器、このレーザ光
発生器によって発生されたレーザ光を増幅する光増幅器
および光増幅器により増幅されたレーザ光を非線形光学
結晶を用いて波長が略１９３ｎｍの治療用レーザ光に波
長変換する波長変換器を備えて構成されるレーザ装置
と、このレーザ装置により発生された治療用レーザ光
を、治療部位に導いて照射させる照射光学装置とを有し
てレーザ治療装置が構成される。なお、本発明のレーザ
治療装置は角膜の治療に用いるのが適している。
【０００９】このような構成のレーザ治療装置は、固体
レーザを有するレーザ光発生器を用いて構成されるた
め、エキシマレーザのような気体レーザのように大型化
することなく、小型・軽量な装置構成とすることがで
き、エキシマレーザ装置のように定期的にガスを交換す
る必要が無く、オーバーホールなしに長期にわたって所
期の性能を維持できるという特徴を有しており、メンテ
ナンスをあまり必要とせず、且つメンテナンスが容易で
ある。さらに、レーザ光発生器の作動制御が容易であ
り、レーザ光の照射位置制御、照射強度制御等も容易で
ある。その上で、波長が約１９３ｎｍというＡｒＦエキ
シマレーザ光とほぼ同一の波長のレーザ光を発生するた
め、このレーザ光を角膜表面に照射することにより、角
膜表面を物質結合切断により蒸散させて角膜の曲率およ
び凹凸の矯正を効果的に行うことができる。このとき、
熱蒸散の発生は低く、治療後の角膜の透明性を確保で
き、且つ波長が約１９３ｎｍであるので、細胞内のＤＮ
Ａに損傷を与えることがない。
【００１０】なお、本発明に係るレーザ治療装置におい
て、固体レーザを１．５１μｍ〜１．５９μｍの範囲内
に発振波長を持つＤＦＢ半導体レーザ、半導体レーザも
しくはファイバーレーザから構成し、波長変換器によ
り、固体レーザからの上記波長のレーザ光を１８９ｎｍ
〜１９９ｎｍの範囲内となる８倍高調波に変換させるよ
うに構成するのが好ましい。
【００１１】本発明のレーザ治療装置において、治療部
位への治療用レーザ光の照射状況を観察可能な治療部位
観察装置を設けるのが望ましい。
【００１２】また、照射光学装置による治療用レーザ光
の治療部位への照射状態を制御する照射制御装置を設け
るのが好ましい。この場合に、照射光学装置により治療
用レーザ光がスポット光として治療部位に照射されるよ
うに構成し、照射制御装置はスポット光を治療部位に対
して走査させるように構成することができる。もしく
は、照射光学装置により治療用レーザ光が治療部位の所
定範囲に広がって照射されるように構成し、照射制御装
置は治療部位と照射光学装置との間に配設されて治療用
レーザ光の治療部位に対する照射領域を可変調整するよ
うに構成しても良い。さらに、照射光学装置により治療
用レーザ光が治療部位の所定範囲に広がって照射される
ように構成し、照射制御装置は治療部位と照射光学装置
との間に配設されて治療用レーザ光の治療部位に対する
照射強度を可変調整するように構成しても良い。
【００１３】本発明においては、治療部位の形状を測定
する形状測定装置を設け、形状測定装置により測定され
た治療部位の形状に基づいて照射制御装置による治療用
レーザ光の照射制御を行うように構成することができ
る。
【００１４】本発明においてはまた、上記レーザ装置
に、レーザ装置から発生される治療用レーザ光の強度を
調整する強度調整器を設けても良い。さらに、レーザ装
置から発生される治療用レーザ光の強度を測定するレー
ザ光強度測定器と、レーザ光強度測定器により測定され
た治療用レーザ光の強度を所定の強度に較正するレーザ
光強度較正器とを設けても良い。
【００１５】なお、レーザ装置により発生される治療用
レーザ光としてはパルス光を用いるのが好ましく、この
ときのパルス光のパルス幅を０．５ｎｓ〜３ｎｓとし、
その繰り返し周波数を１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚとする
のが好ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の好
ましい実施形態について説明する。本発明に係るレーザ
治療装置の全体構成例を図１に示しており、このレーザ
治療装置は、基本的には、装置筐体１内に、レーザ装置
１０と、このレーザ装置１０から発生したレーザ光を眼
球ＥＹの角膜ＨＣの表面（治療部位）に導いて照射させ
る照射光学装置６０と、治療部位の観察を行う観察光学
装置８０とを備えて構成される。装置筐体１のベース部
２はＸ−Ｙ移動テーブル３の上に配設されており、Ｘ−
Ｙ移動テーブル３により装置筐体１全体が、図１におい
て矢印Ｘ方向すなわち図面左右方向と、紙面に垂直なＹ
方向とに移動させることが可能となっている。
【００１７】まず、レーザ装置１０について図２を参照
して説明する。レーザ装置１０は、レーザ光を発生する
レーザ光発生部１１と、レーザ光発生部１１から発生さ
れたレーザ光を増幅するファイバー光増幅器部２０と、
ファイバー光増幅器部２０において増幅されたレーザ光
を波長が約１９３ｎｍのレーザ光に変換する波長変換部
４０とから構成される。
【００１８】レーザ光発生部１１は、所望の波長で発振
するレーザ１２を有し、このレーザ１２は、例えば、発
振波長１．５４４μｍ、InGaAsP，ＤＦＢ半導体レーザ
をパルス駆動したものから構成される。
【００１９】レーザ光の発振波長制御手段としては、例
えば、レーザとしてＤＦＢ半導体レーザを用いる場合に
は、ＤＦＢ半導体レーザの温度制御を行うことにより達
成することができ、この方法により発振波長をさらに安
定化して一定の波長に制御したり、あるいは出力波長を
微調整することができる。
【００２０】通常、ＤＦＢ半導体レーザなどはヒートシ
ンクの上に設けられ、これらが筐体内に収納されてい
る。そこで本例では、発振レーザ (ＤＦＢ半導体レーザ
など)１２に付設されるヒートシンクに設けられた温度
調整器（例えばペルチェ素子など）を用いてその温度を
制御して発振波長を調整する。ここで、ＤＦＢ半導体レ
ーザなどではその温度を０．００１℃単位で制御するこ
とが可能である。
【００２１】また、ＤＦＢ半導体レーザの発振波長は
０．１ｎｍ／℃程度の温度依存性を持つ。例えば、ＤＦ
Ｂ半導体レーザの温度を１℃変化させると、基本波（波
長１５４４ｎｍ）ではその波長が０．１ｎｍ変化するの
で、８倍波（波長１９３ｎｍ）ではその波長が０．０１
２５ｎｍ変化することになる。
【００２２】そして、この発振波長を所定の波長に制御
する際のフィードバック制御のモニター波長としては、
ＤＦＢ半導体レーザの発振波長で行う。この半導体レー
ザ１２においては、その電流制御を行うことなどにより
パルス発振させるパルス制御手段１３を備えている。こ
れにより、作り出すパルス光のパルス幅を０．５ｎｓ〜
３ｎｓの範囲で制御可能であり、その繰り返し周波数を
１００ｋＨｚ以下の範囲（例えば、１０ｋＨｚ〜１００
ｋＨｚの範囲）で制御可能である。本構成例では一例と
して、パルス制御手段１３によりパルス幅１ｎｓ、繰り
返し周波数１００ｋＨｚのパルス光を作り出す。
【００２３】このようにして得たパルスレーザ光出力
が、光アイソレータ１４を通ってファイバー光増幅器部
２０に導かれ、ファイバー光増幅器部２０において増幅
される。このファイバー光増幅部２０においては、ま
ず、第１段ファイバー光増幅器２１による増幅が行われ
る。この第１段ファイバー光増幅器２１はエルビウム
（Ｅｒ）・ドープ・ファイバー光増幅器（ＥＤＦＡ）か
ら構成され、励起用の半導体レーザ２１ａからの出力が
波長分割多重化装置（Wavelength Division Multiplexe
r:ＷＤＭと称する）２１ｂを通してドープファイバーが
励起され、第１段ファイバー光増幅器２１による光増幅
を行う。
【００２４】第１段ファイバー光増幅器２１の出力は、
狭帯域フィルタ２２ａおよび光アイソレータ２２ｂを通
って光スプリッタ２３に導かれ、光スプリッタ２３によ
りチャンネル０〜３の四つの出力に並列分割される。こ
れら四つに分割された各チャンネル毎に第２段ファイバ
ー光増幅器２５が接続されている。但し、図２において
は、一つのチャンネルのみ代表して示している。
【００２５】なお、狭帯域フィルタ２２ａは、ファイバ
ー光増幅器２１で発生するＡＳＥ光をカットし、かつＤ
ＦＢ半導体レーザ１２の出力波長（波長幅は１ｐｍ程度
以下）を透過させることで、透過光の波長幅を実質的に
狭帯化するものである。これにより、ＡＳＥ光が後段の
ファイバー光増幅器に入射してレーザ光の増幅利得を低
下させるのを防止することができる。ここで、狭帯域フ
ィルタはその透過波長幅が１ｐｍ程度であることが好ま
しいが、ＡＳＥ光の波長幅は数十ｎｍ程度であるので、
現時点で得られる透過波長幅が１００ｐｍ程度の狭帯域
フィルタを用いても実用上問題がない程度にＡＳＥ光を
カットすることができる。ＤＦＢ半導体レーザ１２の出
力波長を積極的に変化させる場合、その出力波長に応じ
て狭帯域フィルタを交換するようにしてもよいが、その
出力波長の可変幅（露光装置では一例として前述した±
２０ｐｍ程度）に応じた透過波長幅（可変幅と同程度以
上）を持つ狭帯域フィルタを用いておくことが好まし
い。
【００２６】以上の構成では、レーザとしてＤＦＢ半導
体レーザを用い、光分岐手段の分岐要素として平板導波
路型スプリッタを用いた例について説明したが、レーザ
光源としては、所望の波長で発振するレーザであれば良
く、例えばエルビウム（Ｅｒ）・ドープ・ファイバー・
レーザであっても同様の効果を奏する。また、光分岐手
段の分岐要素としては、平板導波路スプリッタと同様
に、光を並列に分岐するものであれば良く、例えばファ
イバースプリッタや、部分透過鏡を用いたビームスプリ
ッタであっても同様の効果を奏する。
【００２７】第２段ファイバー光増幅器２５もエルビウ
ム（Ｅｒ）・ドープ・ファイバー光増幅器（ＥＤＦＡ）
から構成され、励起用の半導体レーザ２５ａからの出力
がＷＤＭ２５ｂを等してドープファイバーが励起され、
第２段ファイバー光増幅器２５による光増幅を行う。第
２段ファイバー光増幅器２５の出力は、狭帯域フィルタ
２６ａおよび光アイソレータ２６ｂを通って第３段ファ
イバー光増幅器３０に導かれる。
【００２８】この第３段ファイバー光増幅器３０は、最
終段の光増幅を行う装置であり高ピーク出力光増幅器と
なる。このため、ファイバー中での非線形効果による増
幅光のスペクトル幅の増加を避けるべく、ファイバーモ
ード径が通常通信で用いられているもの（５〜６μｍ）
よりも広い、例えば１５〜２５μｍの大モード径ファイ
バー光増幅器を使用することが望ましい。
【００２９】また、第３段ファイバー光増幅器３０にお
いて高出力を得るためには、大モード径ファイバー３５
に代えて、ファイバー・クラッドが二重構造となったダ
ブル・クラッド・ファイバー３８を用いるようにしても
よい。このファイバー３８の断面図の一例を図３に示
す。この構造では、コア３８ａの部分にレーザ光の増幅
に寄与するイオンがドープされており、増幅されるレー
ザ光（信号）がこのコア内を伝搬する。コアを取り巻く
第１クラッド３８ｂに励起用半導体レーザをカップリン
グする。この第１クラッド３８ｂはマルチモードであ
り、断面積も大きいため高出力の励起用半導体レーザ光
の伝導が容易であり、マルチモード発振の半導体レーザ
を効率よくカップリングし、励起用光源を効率よく使用
することができる。第１クラッド３８ｂの外周には第１
クラッドの導波路を形成するための第２クラッド３８ｃ
が形成されている。
【００３０】この大モード径ファイバーを用いた第３段
ファイバー光増幅器３０で増幅されたレーザ光は波長変
換部４０に入射し、ここで波長がエキシマレーザ光の波
長と同一の略１９３ｎｍの紫外レーザ光に波長変換され
る。この大モード径ファイバーを伝播する増幅されるべ
きレーザ光（信号）は、主に基本モードであることが望
ましく、これは、シングルモードあるいはモード次数の
低いマルチモードファイバーにおいて、主に基本モード
を選択的に励起することにより実現できる。大モード径
ファイバー光増幅器３０の入射側に設けられたアイソレ
ータ２６ｂによって、戻り光の影響が低減される。
【００３１】また、標準的なモード径を持つ第２段ファ
イバー光増幅器２５と大モード径（第３段）ファイバー
光増幅器３０との間に、第３段ファイバー光増幅器３０
から発生するＡＳＥ光を除去するために狭帯域フィルタ
２６ａが設けられている。
【００３２】標準的なモード径を持つ前段のファイバー
光増幅器２５と、上記モード径の広い最終段のファイバ
ー光増幅器３０との接続は、テーパ状にモード径が増加
するファイバーを用いて行う。
【００３３】上記ファイバー光増幅器２１，２５，３０
用の光ファイバーとして石英ファイバー、又はシリケイ
ト系ファイバーを用いることができるが、これらの他に
フッ化物系ファイバー、例えばＺＢＬＡＮファイバーを
用いるようにしてもよい。このフッ化物系ファイバーで
は、石英やシリケイト系などに比べてエルビウム・ドー
プ濃度を大きくすることができ、これにより増幅に必要
なファイバー長を短縮することができる。
【００３４】このフッ化物系ファイバーは、特に最終段
のファイバー光増幅器３０に適用することが望ましく、
ファイバー長の短縮により、パルス光のファイバー伝播
中の非線形効果による光散乱（例えば、Stimulated Ram
an Scattering）を抑えることができ、所望の波長を保
った光ピークパワーのパルス増幅が可能となる。
【００３５】ところで、前述のように二重構造のクラッ
ドを持つファイバー光増幅器の出力波長として１．５１
〜１．５９μｍを使用する場合には、ドープするイオン
としてエルビウムに加えイットリビウムを共にドープす
ることが好ましい。これは半導体レーザによる励起効率
を向上させる効果があるためである。すなわち、エルビ
ウムとイットリビウムの両方をドープする場合、イット
リビウムの強い吸収波長が９１５〜９７５ｎｍ付近に広
がっており、この近傍の波長で各々異なる発振波長を持
つ複数の半導体レーザをＷＤＭにより結合させて第１ク
ラッドにカップリングすることで、その複数の半導体レ
ーザを励起光として使用できるため大きな励起強度を実
現することができる。
【００３６】また、ファイバー光増幅器のドープ・ファ
イバーの設計については、本発明のようにあらかじめ定
められた一定の波長で動作する装置では、所望の波長に
おけるファイバー光増幅器の利得が大きくなるように材
質を選択する。本発明では、ＡｒＦエキシマレーザと同
じ出力波長（１９３〜１９４ｎｍ）を得るものであり、
このような装置において、光増幅器用ファイバーを用い
る場合には所望の波長、例えば１．５４８μｍで利得が
大きくなる材質を選ぶことが望ましい。
【００３７】第３段すなわち最終段のファイバー光増幅
器３０の出力端３６は四つのチャンネル全てが集められ
て束ねられ、図４に示すように、矩形状もしくは直線状
（図４（ａ）もしくは図４（ｂ）参照）に成形される。
なお、図５に示すように、光増幅器における最終段の各
ファイバー３５の出力端部３６では、そのファイバー３
５内のコア３５ａの径を出力端に向けてテーパ状に徐々
に広げて配設し、出力端面３６での光のパワー密度（単
位面積当たりの光強度）を小さくしてやることが好まし
い。このとき、テーパの形状はコア径の広がりが出力端
面３６に向けて十分緩やかに増加し、増幅されたレーザ
光がテーパ部を伝搬する際にファイバー中での伝搬横モ
ードが保存され、他の横モードの励起が十分無視できる
程度（例えば数ｍrad程度）となるように設定する。
【００３８】このように設定することにより、ファイバ
ーの出力端面３６における光のパワー密度を低下させる
ことができ、ファイバーの損傷において最も問題である
ファイバー出力端部のレーザ光による損傷を大幅に抑制
する効果が得られる。この効果は、ファイバー光増幅器
の出力端から射出されるレーザ光のパワー密度が高いほ
ど（例えば光強度が高いほど、また同一パワーに対する
コア径が小さいほど）大きな効果が得られる。
【００３９】なお、以上の各実施形態では、戻り光の影
響を避けるため、各接続部に適宜アイソレータ等を挿入
し、また良好なＥＤＦＡ増幅特性を得るために狭帯域フ
ィルタを挿入する構成例を示した。但し、アイソレータ
又は狭帯域フィルターを配置する箇所、あるいはその数
は前述の実施形態に限定されるものではなく、例えば本
発明によるレーザ治療装置の要求精度などに応じて適宜
決定すればよく、アイソレータと狭帯域フィルターとの
少なくとも一方を一切設けないこともある。
【００４０】なお狭帯域フィルターは、所望の波長のみ
に対して高透過率が得られればよく、フィルターの透過
波長幅は１ｐｍ以下で十分である。このように狭帯域フ
ィルターを用いることにより、ファイバー光増幅器で発
生する自然放出光ＡＳＥ（Amplified Spontaneous Emis
sion）によるノイズを軽減でき、また、前段のファイバ
ー光増幅器からのＡＳＥによる、基本波出力の増幅率低
下を押さえることができる。
【００４１】以上の構成ではスプリッターによって４列
に分岐する例を示したが、これをスプリッターを用いず
に図６に示すように１列のファイバー増幅器を用いて構
成することもできる。図６では、ファイバー光増幅器１
２０において光アイソレータ２２ｂとＷＤＭ２５ｂとの
間にスプリッターは設置されていない。
【００４２】以上のようにしてファイバー光増幅器２
０，１２０において増幅されて出力端３６から出力され
る波長１．５４４μｍのパルス光は、非線形光学結晶を
用いた波長変換部４０において、スペクトル線幅の狭い
紫外光パルス出力に変換される。この波長変換部４０の
構成について以下に説明する。
【００４３】図７に波長変換部４０の第１の実施形態を
示しており、ファイバー３５の出力端３６から射出され
る波長１．５４４μｍの基本波を、非線形光学結晶を用
いて８倍波（高調波）に波長変換して、ＡｒＦエキシマ
レーザと同じ波長である１９３ｎｍの紫外光を発生する
構成例を示している。ファイバー３５の出力端３６から
出力される波長１．５４４μｍ（周波数ω）の基本波
は、非線形光学結晶４１，４２，４３を図中左から右に
向かって透過して出力される。なお、非線形光学結晶４
１，４２，４３の間には、図示のように集光レンズ４
４，４５が配設されている。
【００４４】これら基本波が非線形光学結晶４１を通る
際に、２次高調波発生により基本波の周波数ωの２倍、
すなわち周波数２ω（波長は１／２の７７２ｎｍ）の２
倍波が発生する。発生した２倍波は右方向へ進み、次の
非線形光学結晶４２に入射する。ここで再び第２次高調
波発生を行い、入射波の周波数２ωの２倍、すなわち基
本波に対し４倍の周波数４ω（波長は１／４の３８６ｎ
ｍ）をもつ４倍波が発生する。発生した４倍波はさらに
右の非線形光学結晶４３に進み、ここで再び第２次高調
波発生を行い、入射波の周波数４ωの２倍、すなわち基
本波に対し８倍の周波数８ωを有する８倍波（波長は１
／８の１９３ｎｍ）を発生する。
【００４５】前記波長変換に使用する非線形光学結晶と
しては、例えば基本波から２倍波への変換を行う非線形
光学結晶４１にはLiB3O5（ＬＢＯ）結晶を、２倍波から
４倍波への変換を行う非線形光学結晶４２にはLiB3O
5（ＬＢＯ）結晶を、４倍波から８倍波への変換を行う
非線形光学結晶４３にはSr2Be2B2O7（ＳＢＢＯ）結晶を
使用する。ここで、ＬＢＯ結晶を使用した基本波から２
倍波への変換には、波長変換のための位相整合にＬＢＯ
結晶の温度調節による方法、Non-Critical Phase Match
ing：ＮＣＰＭを使用する。ＮＣＰＭは、非線形光学結
晶内での基本波と第二高調波との角度ずれ(Walk-off)が
起こらないため高効率で２倍波への変換を可能にし、ま
た発生した２倍波はWalk-offによるビームの変形も受け
ないため有利である。
【００４６】波長変換部は上記の構成に限られず、種々
の構成があり、例えば、図８に第２の実施形態に係る波
長変換部１４０の構成を示している。この波長変換部に
おいては、基本波（波長１．５４４μｍ）→２倍波（波
長７７２ｎｍ）→３倍波（波長５１５ｎｍ）→４倍波
（波長３８６ｎｍ）→７倍波（波長２２１ｎｍ）→８倍
波（波長１９３ｎｍ）の順に波長変換する。
【００４７】第１の波長変換部１４１では、基本波から
２倍波への２次高調波発生の変換にＬＢＯ結晶が前述し
たＮＣＰＭで使用される。第１波長変換部（ＬＢＯ結
晶）１４１は、基本波の一部を波長変換せずに透過させ
るとともに、基本波を波長変換して２倍波を発生し、こ
の基本波と２倍波はともに第２波長変換部１４２に入射
する。
【００４８】第２波長変換部１４２では、第１波長変換
部１４１で発生した２倍波と、変換せずに透過した基本
波とから和周波発生により３倍波（波長５１５ｎｍ）を
得る。波長変換結晶としてはＬＢＯ結晶が用いられる
が、第１波長変換部（ＬＢＯ結晶）１４１とは温度が異
なるＮＣＰＭで使用される。このようにして得られた３
倍波と、波長変換されずに透過した２倍波および基本波
は、第１ダイクロイック・ミラー１５１により分離さ
れ、第１ダイクロイック・ミラー１５１で反射された３
倍波は、レンズを通って全反射ミラー１６１で反射され
た後、第３ダイクロイック・ミラー１５３に入射する。
【００４９】一方、第１ダイクロイック・ミラー１５１
を通過した２倍波および基本波は、第２ダイクロイック
・ミラー１５２において分離され、第２ダイクロイック
・ミラー１５２により反射された２倍波はＬＢＯ結晶を
用いた第３波長変換部１４３において入射波の周波数２
ωの２倍、すなわち基本波に対し４倍の周波数４ω（波
長は１／４の３８６ｎｍ）をもつ４倍波に変換される。
この４倍波は第３ダイクロイック・ミラー１５３におい
て反射され、全反射ミラー１６１により反射されるとと
もに第３ダイクロイック・ミラー１５３を通過した３倍
波と一緒になってＢＢＯ結晶を用いた第４波長変換部１
４４に入射する。第４波長変換部１４４においては、こ
のように入射された３倍波と４倍波との和周波発生によ
り７倍波を形成し、この７倍波は第４ダイクロイック・
ミラー１５４に入射される。
【００５０】また、第２ダイクロイック・ミラー１５２
を通過した基本波は、第２全反射ミラー１６２により反
射されて第４ダイクロイック・ミラー１５４に入射す
る。第４ダイクロイック・ミラー１５４においては、上
記のように入射された７倍波と基本波とを、ＣＬＢＯ結
晶を用いた第５波長変換部１４５に入射させる。第５波
長変換部１４５においては、このように入射された基本
波と７倍波との和周波発生により８倍波を形成し、この
８倍波が出力レーザ光として出力される。
【００５１】図９には、第３の実施形態に係る波長変換
部２４０の構成を示している。この波長変換部において
は、基本波（波長１．５４４μｍ）→２倍波（波長７７
２ｎｍ）→３倍波（波長５１５ｎｍ）→６倍波（波長２
５７ｎｍ）→７倍波（波長２２１ｎｍ）→８倍波（波長
１９３ｎｍ）の順に波長変換する。
【００５２】第１の波長変換部２４１では、基本波から
２倍波への２次高調波発生の変換にＬＢＯ結晶が前述し
たＮＣＰＭで使用される。第１波長変換部（ＬＢＯ結
晶）２４１は、基本波の一部を波長変換せずに透過させ
るとともに、基本波を波長変換して２倍波を発生し、こ
の基本波と２倍波はともに第２波長変換部２４２に入射
する。
【００５３】第２波長変換部２４２では、第１波長変換
部２４１で発生した２倍波と、変換せずに透過した基本
波とから和周波発生により３倍波（波長５１５ｎｍ）を
得る。波長変換結晶としてはＬＢＯ結晶が用いられる
が、第１波長変換部（ＬＢＯ結晶）２４１とは温度が異
なるＮＣＰＭで使用される。このようにして得られた３
倍波と、波長変換されずに透過した基本波は、第１ダイ
クロイック・ミラー２５１により分離され、第１ダイク
ロイック・ミラー２５１で反射された３倍波は、ＢＢＯ
結晶を用いた第３波長変換部２４３に入射され、ここで
６倍波に変換される。この６倍波は第１全反射ミラー２
６１で反射されて第２ダイクロイック・ミラー２５２に
入射する。
【００５４】一方、第１ダイクロイック・ミラー２５１
を通過した基本波は、第２全反射ミラー２６２で反射さ
れて第２ダイクロイック・ミラー２５２に入射する。こ
のようにして第２ダイクロイック・ミラー２５２に入射
された６倍波および基本波は、第２ダイクロイック・ミ
ラー２５２において合流してＣＬＢＯ結晶を用いた第４
波長変換部２４４に入射される。第４波長変換部２４４
においては、このように入射された６倍波と基本波とを
合成して７倍波を形成するとともに基本波の一部はその
まま通過させる。このようして第４波長変換部２４４か
ら出力された７倍波はダイクロイックミラー２５４で反
射され、基本波はダイクロイックミラー２５４を透過
し、それぞれ、レンズで集光された後、第３ダイクロイ
ック・ミラー２５３において合流されてＣＬＢＯ結晶を
用いた第５波長変換部２４５に入射されて合成され、こ
こで８倍波が形成され、この８倍波が出力レーザ光とし
て出力される。
【００５５】なお、以上説明した図７〜図９の各例にお
いて図示の如く光学レンズが配設されている。また、偏
光方向を所望の方向に合わせるため、波長板を適宜配設
しても良い。また、波長変換部の構成は上記のものに限
られず、基本波である１．５４４μｍの８倍波を発生さ
せる構成であれば良い。例えば、基本波（波長１．５４
４μｍ）→２倍波（波長７７２ｎｍ）→３倍波（波長５
１５ｎｍ）→４倍波（波長３８６ｎｍ）→６倍波（波長
２５７ｎｍ）→７倍波（波長２２１ｎｍ）→８倍波（波
長１９３ｎｍ）の順に波長変換することによっても同様
の効果を奏する。
【００５６】このとき、この波長変換に使用する非線形
光学結晶としては、例えば基本波から２倍波への変換結
晶にはＬＢＯ結晶を、２倍波から４倍波への変換結晶に
はＬＢＯ結晶を、２倍波と４倍波との和周波発生による
６倍波発生にはＢＢＯ結晶を、基本波と６倍波との和周
波発生による７倍波発生にはＢＢＯ結晶を、基本波と７
倍波との和周波発生による８倍波発生にはＬＢＯ結晶を
使用することで達成できる。この場合にも８倍波発生に
ＬＢＯ結晶を使用できるため結晶の損傷が問題とならな
い点で有利である。
【００５７】以上、１列のファイバーを用いて波長変換
する場合の例を示したが、バンドルの場合も同様の方法
で行い、レンズ部分にバンドルの波長変換が可能なレン
ズアレイ等を用いる。
【００５８】次に、以上のように構成されたレーザ装置
１０から発生した、波長がＡｒＦエキシマレーザ光の波
長１９３ｎｍと同一となるレーザ光を、眼球ＥＹの角膜
ＨＣの表面に導いてここに照射させる照射光学装置６０
および観察光学装置８０について、説明する。なお、前
述したように、レーザ装置１０においては、固体レーザ
を１．５１μｍ〜１．５９μｍの範囲内に発振波長を持
つＤＦＢ半導体レーザもしくはファイバーレーザから構
成しているので、波長変換器により、固体レーザからの
上記波長のレーザ光は、１８９ｎｍ〜１９９ｎｍの範囲
内となる８倍高調波を有したレーザ光に変換されて出力
される。このようにこのレーザ光はＡｒＦエキシマレー
ザ光と略同一の波長のレーザ光であるが、そのパルス発
振の繰り返し周波数は１００ｋＨｚと非常に高いものと
なっている。
【００５９】この照射光学装置６０および観察光学装置
８０の第１実施形態を図１０に示している。照射光学装
置６０は、上記レーザ装置１０から射出される波長１９
３ｎｍのレーザ光を細いビーム状に集光する集光レンズ
６１と、このように集光されたビーム状レーザ光を反射
させて治療対象となる眼球ＥＹの角膜ＨＣの表面に照射
させるダイクロイック・ミラー６２とを有して構成され
る。これにより、角膜ＨＣの表面にレーザ光がスポット
光として照射され、この部分の蒸散を行わせる。このと
き、Ｘ−Ｙ移動テーブル３により、装置筐体１全体をＸ
方向およびＹ方向に移動させて角膜ＨＣの表面上に照射
されるレーザ光スポットを走査移動させ、角膜表面のア
ブレーションを行い、近視、乱視、遠視等の治療を行
う。
【００６０】このような治療は、眼科医等の術者が観察
光学装置８０を介して目視観察しながらＸ−Ｙ移動テー
ブル３の作動を制御して行われる。この観察光学装置８
０は、治療対象となる眼球ＥＹの角膜ＨＣの表面を照明
する照明ランプ８５と、照明ランプ８５により照明され
た角膜ＨＣからの光をダイクロイック・ミラー６２を透
過して受ける対物レンズ８１と、対物レンズ８１からの
光を反射させるプリズム８２と、この光を受ける接眼レ
ンズ８３とから構成され、接眼レンズ８３を通して角膜
ＨＣの拡大像を観察できるようになっている。
【００６１】なお、この例ではＸ−Ｙ移動テーブル３の
移動制御は手動制御によるが、角膜ＨＣの形状を測定す
る形状測定装置を設け、形状測定装置により測定された
角膜表面の形状に基づいて自動的にレーザ光の照射を行
うようにＸ−Ｙ移動テーブル３の作動を自動制御する装
置、すなわち照射位置調整装置を設けても良い。
【００６２】上記の例では、Ｘ−Ｙ移動テーブル３によ
り装置全体を平面的に移動させて角膜ＨＣの表面へ照射
されるレーザ光スポットを操作するようにしているが、
レーザ光照射位置の走査を光学的に行わせても良い。こ
の例を図１１に示しており、照射光学装置６０′は、上
記レーザ装置１０から射出される波長１９３ｎｍのレー
ザ光を細いビーム状に集光する集光レンズ６１を有し、
このように集光されたビーム状レーザ光を第１反射ミラ
ー６３により反射させて第１サーボミラー６４に入射さ
せ、さらに、第１サーボミラー６４により反射させて第
２サーボミラー６５に入射させ、第２サーボミラー６５
から反射したレーザ光を第２反射ミラー６６により反射
させてダイクロイック・ミラー６２に入射させ、ダイク
ロイック・ミラー６２から治療対象となる眼球ＥＹの角
膜ＨＣの表面に照射させるように構成される。なお、図
１１の装置において、図１０の装置と同一部分には同一
番号を付しており、その説明は重複するため省略する。
【００６３】第１および第２サーボミラー６４，６５は
それぞれミラー面の角度を調整するサーボモータ６４
ａ，６５ａを有し、サーボモータ６４ａ，６５ａにより
ミラー面角度を移動させて、角膜ＨＣの表面に照射され
るレーザ光スポットを走査移動させ、角膜表面のアブレ
ーションを行い、近視、乱視、遠視等の治療を行う。な
お、このときにも、眼科医等の術者が観察光学装置８０
を介して角膜ＨＣの表面を目視観察しながらサーボモー
タ６４ａ，６５ａの作動を制御する。さらに、上記と同
様に、角膜ＨＣの形状を測定する形状測定装置を設け、
形状測定装置により測定された角膜表面の形状に基づい
て自動的にレーザ光の照射を行うようにサーボモータ６
４ａ，６５ａの作動を自動制御する装置、すなわち照射
位置調整装置を設けても良い。
【００６４】以上のようにして、レーザ装置１０から発
生するパルスレーザ光を角膜表面に照射して角膜表面の
アブレーションを行い、近視、遠視、乱視等の治療が行
われる。このとき、レーザ装置１０から発生するレーザ
光は、１００ｋＨｚ（パルス幅１ｎｓ）という非常に高
い周波数のパルス状レーザ光であるため、パルス光スポ
ットを角膜表面で走査してもスムーズな走査が可能であ
り、且つパルス幅が非常に小さいため、パルスエネルギ
ーのほとんどが物質結合切断に用いられて熱蒸散の発生
が抑えられる。なお、本発明によるレーザ治療装置で
は、パルス光（パルス状レーザ光）のパルス幅およびそ
の繰り返し周波数を制御可能であり、熱蒸散の発生を良
好に押さえることができるパルス幅（すなわち、０．５
ｎｓ〜３ｎｓのパルス幅）および繰り返し周波数（すな
わち、１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの繰り返し周波数）を
実現している。
【００６５】このようなレーザ治療装置による近視治療
は、例えば、角膜ＨＣの表面における図１２においてハ
ッチングした部分Ａを、レーザ装置１０からのレーザ光
の照射により蒸散させてアブレーションさせることによ
り行われる。図１０および図１１に示すレーザ治療装置
の場合には、角膜表面に照射されるレーザ光スポット位
置を走査移動させてハッチング部Ａのアブレーションを
行わせるものであるが、図１３に示すようなレーザ治療
装置によるアブレーションを行なわせても良い。なお、
図１３に示すレーザ治療装置において、図１０および図
１１に示す装置と同一部分には同一番号を付して説明す
る。
【００６６】図１３に示す装置は、照射光学装置１６０
と観察光学装置８０とを有して構成される。観察光学装
置８０は上記のものと同一の構成であり、その説明は省
略する。照射光学装置１６０は、レーザ装置１０から射
出される波長１９３ｎｍのレーザ光を所定の大きさの円
筒ビーム状に集光する集光レンズ１６１と、このように
集光された円筒ビーム状レーザ光を反射させて治療対象
となる眼球ＥＹの角膜ＨＣの表面に照射させるダイクロ
イック・ミラー１６２と、眼球ＥＹに近接する位置に配
設されたフィルター１６３とを有して構成される。
【００６７】集光レンズ１６１により作られる円筒ビー
ム状レーザ光は、図１４に示すように、角膜ＨＣの表面
における治療対象となる領域をカバーする程度の直径ｄ
を有した円筒状のレーザ光である。フィルター１６３は
中央部においてレーザ光を良く透過させ、周辺部での透
過率が低くなる性能を有しており、円筒ビーム状レーザ
光がフィルター１６３を通過すると、そのレーザ光強度
が図１４（ｂ）に示すような分布となる。このような強
度分布を有したレーザ光を角膜ＨＣの表面に照射する
と、強度の大きな部分のアブレーションが大きくなり、
図１２に示すハッチング部Ａを除去するアブレーション
が行われる。これが特許請求の範囲に規定する照射制御
装置に該当し、この照射制御装置は治療部位に対するレ
ーザ光の照射強度を調整する。
【００６８】また、フィルター１６３に代えて所定形状
の開口を有した複数の遮光部材を用いても良い。例え
ば、同心円上に径が異なる複数の遮光部材を準備し、小
さな開口の遮光部材を用いて角膜ＨＣの中央部をまずア
ブレーションし、開口面積を徐々に大きくなるように遮
光部材を交換しながらアブレーションを繰り返して図１
２に示すハッチング部Ａのアブレーションを行わせるこ
とも可能である。これが特許請求の範囲に規定する照射
制御装置に該当し、この照射制御装置は治療部位に対す
るレーザ光の照射領域を調整する。
【００６９】上述のレーザ治療装置において、角膜ＨＣ
の表面に照射されるレーザ光の強度がアブレーションの
大きさに大きく関係するため、レーザ光強度調整が必要
であるが、この強度調整は、レーザ装置１０内におけ
る、レーザ１２からの発振周波数調整、第３段ファイバ
ー光増幅器３０における半導体レーザ３１ａ，３１ｂか
らの発生光量制御等により簡単に行うことができる。こ
れが特許請求の範囲に規定するレーザ光の強度を調整す
る強度調整器に該当する。なお、このような強度調整の
ためには実際のレーザ光強度を測定するレーザ光強度測
定器を設け、このレーザ光強度測定器により測定された
実レーザ光強度が所望の強度であるか否かを判断し、所
望強度から外れているときには、これを較正する必要が
ある。この強度較正は、上記強度調整器の作動制御を行
うことにより可能であり、このように強度調整器の作動
制御を行うために特許請求の範囲に規定するレーザ光強
度較正器が用いられる。
【００７０】以上においては、レーザ光発生部１１にお
いてレーザ光源としてＤＦＢ半導体レーザ１２とファイ
バー増幅器を用いているが、これに代えて、Ｑスイッチ
パルスＥｒ：ＹＡＧレーザや、ＱスイッチパルスＥｒ：
Ｇｌａｓｓレーザを用いても良い。この場合には、波長
が約１５５０ｎｍのレーザ光が出力され、これを波長変
換して８倍の高調波となる１９４ｎｍのレーザ光を得る
ことができる。
【００７１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
固体レーザからの所定の波長のレーザ光を光増幅器によ
り増幅した後、波長変換器において非線形光学結晶を用
いて波長が略１９３ｎｍの治療用レーザ光に波長変換す
るレーザ装置と、このレーザ装置により発生された治療
用レーザ光を、治療部位に導いて照射させる照射光学装
置とを有してレーザ治療装置が構成され、このように固
体レーザを有するレーザ光発生器を用いて構成されるた
め、エキシマレーザ等の気体レーザのように大型化する
ことなく、小型・軽量な装置構成とすることができる。
さらに、エキシマレーザ装置のように定期的にガスを交
換する必要が無く、オーバーホールなしに長期にわたっ
て所期の性能を維持できるという特徴を有しており、メ
ンテナンスをあまり必要とせず、且つメンテナンスが容
易である。さらに、レーザ光発生器の作動制御が容易で
あり、レーザ光の照射位置制御、照射強度制御等も容易
である。
【００７２】本発明のレーザ治療装置では、さらに、波
長が約１９３ｎｍというエキシマレーザ光とほぼ同一の
波長のレーザ光を発生するため、このレーザ光を角膜表
面に照射することにより、角膜表面を物質結合切断によ
り蒸散させて角膜の曲率および凹凸の矯正を効果的に行
うことができる。このとき、熱蒸散の発生は低く、治療
後の角膜の透明性を確保でき、且つ波長が約１９３ｎｍ
であるので、細胞内のＤＮＡに損傷を与えることがな
い。
【００７３】なお、本発明に係るレーザ治療装置におい
て、固体レーザを１．５１μｍ〜１．５９μｍの範囲内
に発振波長を持つＤＦＢ半導体レーザもしくはファイバ
ーレーザから構成し、波長変換器により、固体レーザか
らの上記波長のレーザ光を１８９ｎｍ〜１９９ｎｍの範
囲内となる８倍高調波に変換させるように構成するのが
好ましい。これにより非常に周波数の高いレーザ光を治
療部位に照射することができ、このレーザ光により高い
効率で治療部位の物質結合切断を行って熱蒸散の発生の
少ない治療を行うことができる。
【００７４】また、本発明のレーザ治療装置において
は、治療部位への治療用レーザ光の照射状況を観察可能
な治療部位観察装置を設けるのが望ましい。これによ
り、治療部位を観察しながらレーザ照射制御を正確に行
うことができる。
【００７５】また、照射光学装置による治療用レーザ光
の治療部位への照射状態を制御する照射制御装置を設け
るのが好ましい。この場合に、照射光学装置により治療
用レーザ光がスポット光として治療部位に照射されるよ
うに構成し、照射制御装置はスポット光を治療部位に対
して走査させるように構成することができる。もしく
は、照射光学装置により治療用レーザ光が治療部位の所
定範囲に広がって照射されるように構成し、照射制御装
置は治療部位と照射光学装置との間に配設されて治療用
レーザ光の治療部位に対する照射領域を可変調整するよ
うに構成しても良い。さらに、照射光学装置により治療
用レーザ光が治療部位の所定範囲に広がって照射される
ように構成し、照射制御装置は治療部位と照射光学装置
との間に配設されて治療用レーザ光の治療部位に対する
照射強度を可変調整するように構成しても良い。
【００７６】本発明においては、治療部位の形状を測定
する形状測定装置を設け、形状測定装置により測定され
た治療部位の形状に基づいて照射位置調整装置による治
療用レーザ光の照射制御を行うように構成することがで
きる。これにより、近視、遠視、乱視等の治療をその程
度に応じて正確に治療することができる。
【００７７】本発明においてはまた、上記レーザ装置
に、レーザ装置から発生される治療用レーザ光の強度を
調整する強度調整器を設けても良い。さらに、レーザ装
置から発生される治療用レーザ光の強度を測定するレー
ザ光強度測定器と、レーザ光強度測定器により測定され
た治療用レーザ光の強度を所定の強度に較正するレーザ
光強度較正器とを設けても良い。これにより、レーザ光
強度を常に適正に保って正確な治療を担保できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るレーザ治療装置の全体構成を示す
正面図である。
【図２】上記レーザ治療装置を構成するレーザ装置の内
部構成を示す説明図である。
【図３】上記レーザ装置を構成する第３段ファイバー光
増幅器に用いられるダブル・クラッド・ファイバーの構
成を示す断面図である。
【図４】上記レーザ装置を構成する第３段ファイバー光
増幅器の出力端部形状を示す側面図である。
【図５】上記レーザ装置を構成する第３段ファイバー光
増幅器の出力端部形状を示す断面図である。
【図６】上記レーザ治療装置を構成するレーザ装置の異
なる実施形態の内部構成を示す説明図である。
【図７】上記レーザ治療装置を構成する波長変換部の第
１の実施形態を示す説明図である。
【図８】上記レーザ治療装置を構成する波長変換部の第
２の実施形態を示す説明図である。
【図９】上記レーザ治療装置を構成する波長変換部の第
３の実施形態を示す説明図である。
【図１０】上記レーザ治療装置を構成する照射光学装置
および観察光学装置の第１の実施形態の構成を示す説明
図である。
【図１１】上記レーザ治療装置を構成する照射光学装置
および観察光学装置の第２の実施形態の構成を示す説明
図である。
【図１２】本発明に係るレーザ治療装置により治療され
る対象となる角膜の表面形状を示す説明図である。
【図１３】上記レーザ治療装置を構成する照射光学装置
および観察光学装置の第３の実施形態の構成を示す説明
図である。
【図１４】上記第３の実施形態における照射光学装置を
構成するフィルター周辺構造とフィルター性能を示す説
明図である。
【符号の説明】
１ 装置筐体 ２ ベース部 ３ Ｘ−Ｙ移動テーブル １０ レーザ装置 １１ レーザ光発生部 １２ ＤＦＢレーザ、発振レーザ（固体レーザ） ２０，１２０ ファイバー光増幅部 ２１ 第１段ファイバー光増幅器 ２３ 光スプリッタ ２５ 第２段ファイバー光増幅器 ３０ 第３段ファイバー光増幅器 ４０，１４０，２４０ 波長変換部 ４１，４２，４３ 非線形光学結晶 ６０，１６０ 照射光学装置 ６１ 集光レンズ ６２ ダイクロイック・ミラー ６４，６５ サーボミラー ８０ 観察光学装置 ８１ 対物レンズ ８２ プリズム ８３ 接眼レンズ ８５ 照明ランプ ＥＹ 眼球 ＨＣ 角膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C026 AA02 BB06 BB08 FF22 HH03 HH13 4C082 RA05 RA08 RC06 RC09 RE22 RL03 RL13

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の波長のレーザ光を発生させる固体
    レーザを有するレーザ光発生器、前記レーザ光発生器に
    よって発生された前記レーザ光を増幅する光増幅器およ
    び前記光増幅器により増幅されたレーザ光を非線形光学
    結晶を用いて波長が略１９３ｎｍの治療用レーザ光に波
    長変換する波長変換器を備えて構成されるレーザ装置
    と、 前記レーザ装置により発生された前記治療用レーザ光
    を、治療部位に導いて照射させる照射光学装置とを有す
    ることを特徴とするレーザ治療装置。
  2. 【請求項２】 前記固体レーザは、１．５１μｍ〜１．
    ５９μｍの範囲内に発振波長を持つＤＦＢ半導体レーザ
    もしくはファイバーレーザからなり、 前記波長変換器は、前記固体レーザからのレーザ光を１
    ８９ｎｍ〜１９９ｎｍの範囲内となる８倍高調波に変換
    させることを特徴とする請求項１に記載のレーザ治療装
    置。
  3. 【請求項３】 前記治療部位が角膜であることを特徴と
    する請求項１もしくは２に記載のレーザ治療装置。
  4. 【請求項４】 前記治療部位への前記治療用レーザ光の
    照射状況を観察可能な治療部位観察装置を有することを
    特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のレーザ治療
    装置。
  5. 【請求項５】 前記照射光学装置による前記治療用レー
    ザ光の治療部位への照射状態を制御する照射制御装置を
    有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載
    のレーザ治療装置。
  6. 【請求項６】 前記照射光学装置により前記治療用レー
    ザ光がスポット光として治療部位に照射され、 前記照射制御装置は前記スポット光を治療部位に対して
    走査させるようになっていることを特徴とする請求項５
    に記載のレーザ治療装置。
  7. 【請求項７】 前記照射光学装置により前記治療用レー
    ザ光が治療部位の所定範囲に広がって照射され、 前記照射制御装置は前記治療部位と前記照射光学装置と
    の間に配設されて前記治療用レーザ光の前記治療部位に
    対する照射領域を可変調整するようになっていることを
    特徴とする請求項５に記載のレーザ治療装置。
  8. 【請求項８】 前記照射光学装置により前記治療用レー
    ザ光が治療部位の所定範囲に広がって照射され、 前記照射制御装置は前記治療部位と前記照射光学装置と
    の間に配設されて前記治療用レーザ光の前記治療部位に
    対する照射強度を可変調整するようになっていることを
    特徴とする請求項５に記載のレーザ治療装置。
  9. 【請求項９】 治療部位の形状を測定する形状測定装置
    を有し、前記形状測定装置により測定された前記治療部
    位の形状に基づいて前記照射制御装置による前記治療用
    レーザ光の照射制御を行うことを特徴とする請求項５〜
    ８のいずれかに記載のレーザ治療装置。
  10. 【請求項１０】 前記レーザ装置が、前記レーザ装置か
    ら発生される前記治療用レーザ光の強度を調整する強度
    調整器を有することを特徴とする請求項１〜９のいずれ
    かに記載のレーザ治療装置。
  11. 【請求項１１】 前記レーザ装置から発生される前記治
    療用レーザ光の強度を測定するレーザ光強度測定器と、
    前記レーザ光強度測定器により測定された前記治療用レ
    ーザ光の強度を所定の強度に較正するレーザ光強度較正
    器とを備えることを特徴とする請求項１〜１０のいずれ
    かに記載のレーザ治療装置。
  12. 【請求項１２】 前記レーザ装置により発生される前記
    治療用レーザ光がパルス光であり、前記パルス光のパル
    ス幅が０．５ｎｓ〜３ｎｓであることを特徴とする請求
    項１〜１１のいずれかに記載のレーザ治療装置。
  13. 【請求項１３】 前記レーザ装置により発生される前記
    治療用レーザ光がパルス光であり、前記パルス光の繰り
    返し周波数が１０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚであることを特
    徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載のレーザ治療
    装置。
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WO (1) WO2001078632A1 (ja)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004054050A1 (ja) * 2002-12-10 2004-06-24 Nikon Corporation 紫外光源、紫外光源を用いた光治療装置、および紫外光源を用いた露光装置
WO2004086121A1 (ja) 2003-03-24 2004-10-07 Nikon Corporation 光学素子、光学系、レーザ装置、露光装置、マスク検査装置、及び高分子結晶の加工装置
JP2007047332A (ja) * 2005-08-08 2007-02-22 Nikon Corp 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置
WO2007055110A1 (ja) 2005-11-10 2007-05-18 Nikon Corporation レーザ光源のスタンバイ方法
JP2007516600A (ja) * 1997-03-21 2007-06-21 イムラ アメリカ インコーポレイテッド 先進材料処理応用のためのピコ秒−ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
JP2007527732A (ja) * 2003-06-02 2007-10-04 カール ツァイス メディテック エージー フェムト秒ファイバーレーザーによる眼科手術処置のための装置と方法
JP2007318069A (ja) * 2005-12-06 2007-12-06 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法、投影光学系
WO2008010417A1 (fr) 2006-07-20 2008-01-24 Nikon Corporation Amplificateur à fibre optique, dispositif source de lumière, dispositif d'exposition, dispositif d'inspection d'objet et dispositif de traitement
WO2008010416A1 (fr) 2006-07-19 2008-01-24 Nikon Corporation Boîtier pour amplificateur à fibre optique, amplificateur à fibre optique et dispositif source de lumière
JP2009540538A (ja) * 2006-06-02 2009-11-19 コーニング インコーポレイテッド Ｕｖ及び可視レーザシステム
US7623557B2 (en) 2004-05-26 2009-11-24 Nikon Corporation Wavelength converting optical system, laser light source, exposure apparatus, mask examining apparatus, and macromolecular crystal lens machining device
JP2010099423A (ja) * 2008-09-29 2010-05-06 Sony Corp 角膜除去装置及び角膜手術装置
JP2011142187A (ja) * 2010-01-06 2011-07-21 Nikon Corp レーザ装置
JP2013102170A (ja) * 2006-09-20 2013-05-23 Imra America Inc ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器用の希土類がドープされ有効区域が大きい光ファイバ
US8509270B2 (en) 2004-12-07 2013-08-13 Imra America, Inc. Yb: and Nd: mode-locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US8773754B2 (en) 2000-05-23 2014-07-08 Imra America, Inc. Utilization of Yb: and Nd: mode-locked oscillators in solid-state short pulse laser systems
WO2014119199A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成装置
WO2014119198A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成装置
WO2021256293A1 (ja) * 2020-06-19 2021-12-23 ウシオ電機株式会社 パルスレーザー光源装置及び希土類添加ファイバー製造方法
JP7515103B2 (ja) 2020-06-19 2024-07-12 ウシオ電機株式会社 パルスレーザー光源装置

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6208458B1 (en) 1997-03-21 2001-03-27 Imra America, Inc. Quasi-phase-matched parametric chirped pulse amplification systems
US7576909B2 (en) 1998-07-16 2009-08-18 Imra America, Inc. Multimode amplifier for amplifying single mode light
US7304265B2 (en) * 2002-03-12 2007-12-04 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Method and system for machining fragile material
WO2003077383A1 (fr) * 2002-03-13 2003-09-18 Nikon Corporation Dispositif d'amplification lumineuse, son procede de fabrication, source de lumiere mettant ce dispositif en application, dispositif de traitement lumineux utilisant la source de lumiere et dispositif d'exposition utilisant cette source de lumiere
US7351241B2 (en) * 2003-06-02 2008-04-01 Carl Zeiss Meditec Ag Method and apparatus for precision working of material
JP2005334232A (ja) * 2004-05-26 2005-12-08 Topcon Corp 眼科装置
US20080075130A1 (en) * 2004-07-15 2008-03-27 Kiminori Mizuuchi Coherent Light Source and Optical Device Using the Same
JP2008510561A (ja) * 2004-08-23 2008-04-10 ラウト，ラジーブ 細胞の基底膜への結合の切開
JP2007029627A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Nidek Co Ltd 医療用レーザ装置
US20070091967A1 (en) 2005-10-06 2007-04-26 Xiaoming Tao Laser emitting material, method for making the same and use thereof
US20090323739A1 (en) * 2006-12-22 2009-12-31 Uv Tech Systems Laser optical system
US8068220B2 (en) 2009-11-18 2011-11-29 Wavelight Ag Apparatus for treating a material and method for operating the same
KR101426935B1 (ko) * 2009-11-18 2014-08-07 웨이브라이트 게엠베하 재료 처리 장치 및 재료 처리 장치의 작동 방법
CN101732127B (zh) * 2009-11-23 2012-06-20 上海康奥医疗科技有限公司 激光角膜手术一体化***
US8774236B2 (en) 2011-08-17 2014-07-08 Veralas, Inc. Ultraviolet fiber laser system
JP5964621B2 (ja) * 2012-03-16 2016-08-03 株式会社ディスコ レーザー加工装置
US9949753B2 (en) 2012-09-14 2018-04-24 The Spectranetics Corporation Tissue slitting methods and systems
US10835279B2 (en) 2013-03-14 2020-11-17 Spectranetics Llc Distal end supported tissue slitting apparatus
TWI574677B (zh) * 2015-09-17 2017-03-21 艾克夏醫療儀器股份有限公司 眼球雷射方法及其裝置
CN108398753A (zh) * 2018-04-20 2018-08-14 上海瑞柯恩激光技术有限公司 光纤接头及医疗设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6253650A (ja) * 1985-06-24 1987-03-09 フランシス　エイ．レスペランス 乱視修正装置
JPH09127566A (ja) * 1995-10-30 1997-05-16 Terumo Corp 固体レーザ装置
WO1998055035A1 (en) * 1997-06-04 1998-12-10 Joseph Neev Method and apparatus for high precision variable rate material removal and modification
WO1999046835A1 (fr) * 1998-03-11 1999-09-16 Nikon Corporation Dispositif a laser ultraviolet et appareil d'exposition comportant un tel dispositif a laser ultraviolet
US6099522A (en) * 1989-02-06 2000-08-08 Visx Inc. Automated laser workstation for high precision surgical and industrial interventions

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU606315B2 (en) * 1985-09-12 1991-02-07 Summit Technology, Inc. Surface erosion using lasers
US5423801A (en) 1986-03-19 1995-06-13 Summit Technology, Inc. Laser corneal surgery
US5324281A (en) * 1987-03-09 1994-06-28 Summit Technology, Inc. Laser reprofiling system employing a photodecomposable mask
JPH0584314A (ja) * 1991-09-30 1993-04-06 Hamamatsu Photonics Kk 血管治療装置
IT1252334B (it) 1991-11-26 1995-06-08 Sgs Thomson Microelectronics Circuito di inizializazzione particolarmente per registri di memoria
JPH05220189A (ja) 1992-02-14 1993-08-31 Nidek Co Ltd レーザビームによるアブレーション装置
JP2809959B2 (ja) 1993-01-29 1998-10-15 株式会社ニデック レ−ザビ−ムによるアブレーション装置およびその方法
JPH06233778A (ja) * 1993-02-12 1994-08-23 Terumo Corp レーザ診断治療用レーザ装置
JP3810109B2 (ja) * 1995-07-27 2006-08-16 株式会社ニデック レ−ザ治療装置
US6159202A (en) 1995-09-29 2000-12-12 Nidex Co., Ltd. Corneal surgery apparatus
JP3655022B2 (ja) * 1995-09-29 2005-06-02 株式会社ニデック 眼科手術装置
TW367640B (en) 1997-09-12 1999-08-21 Academia Sinica Frequency converter for solid state laser
JPH11104145A (ja) * 1997-09-30 1999-04-20 Nidek Co Ltd レーザ治療装置
US6149643A (en) * 1998-09-04 2000-11-21 Sunrise Technologies International, Inc. Method and apparatus for exposing a human eye to a controlled pattern of radiation
JP3872219B2 (ja) * 1998-11-02 2007-01-24 株式会社ニデック レーザ治療装置
US6129722A (en) * 1999-03-10 2000-10-10 Ruiz; Luis Antonio Interactive corrective eye surgery system with topography and laser system interface
JP6181944B2 (ja) 2013-03-01 2017-08-16 株式会社オシキリ パン包装装置及びパン搬送システム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6253650A (ja) * 1985-06-24 1987-03-09 フランシス　エイ．レスペランス 乱視修正装置
US6099522A (en) * 1989-02-06 2000-08-08 Visx Inc. Automated laser workstation for high precision surgical and industrial interventions
JPH09127566A (ja) * 1995-10-30 1997-05-16 Terumo Corp 固体レーザ装置
WO1998055035A1 (en) * 1997-06-04 1998-12-10 Joseph Neev Method and apparatus for high precision variable rate material removal and modification
WO1999046835A1 (fr) * 1998-03-11 1999-09-16 Nikon Corporation Dispositif a laser ultraviolet et appareil d'exposition comportant un tel dispositif a laser ultraviolet

Cited By (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010283392A (ja) * 1997-03-21 2010-12-16 Imra America Inc 先進材料処理応用のためのピコ秒−ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
JP2007516600A (ja) * 1997-03-21 2007-06-21 イムラ アメリカ インコーポレイテッド 先進材料処理応用のためのピコ秒−ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
US8773754B2 (en) 2000-05-23 2014-07-08 Imra America, Inc. Utilization of Yb: and Nd: mode-locked oscillators in solid-state short pulse laser systems
WO2004054050A1 (ja) * 2002-12-10 2004-06-24 Nikon Corporation 紫外光源、紫外光源を用いた光治療装置、および紫外光源を用いた露光装置
KR100992471B1 (ko) 2002-12-10 2010-11-08 가부시키가이샤 니콘 자외 광원, 자외 광원을 이용한 레이저 치료 장치 및 자외 광원을 이용한 노광 장치
US7298546B2 (en) 2002-12-10 2007-11-20 Nikon Corporation Ultraviolet light source, laser treatment apparatus comprising ultraviolet light source, and exposure apparatus comprising ultraviolet light source
WO2004086121A1 (ja) 2003-03-24 2004-10-07 Nikon Corporation 光学素子、光学系、レーザ装置、露光装置、マスク検査装置、及び高分子結晶の加工装置
US7379251B2 (en) 2003-03-24 2008-05-27 Nikon Corporation Optical element, optical system, laser device, exposure device, mask testing device and high polymer crystal processing device
JP2012120858A (ja) * 2003-06-02 2012-06-28 Carl Zeiss Meditec Ag フェムト秒ファイバーレーザーによる眼科手術処置のための装置
JP2007527732A (ja) * 2003-06-02 2007-10-04 カール ツァイス メディテック エージー フェムト秒ファイバーレーザーによる眼科手術処置のための装置と方法
US7623557B2 (en) 2004-05-26 2009-11-24 Nikon Corporation Wavelength converting optical system, laser light source, exposure apparatus, mask examining apparatus, and macromolecular crystal lens machining device
US10256597B2 (en) 2004-12-07 2019-04-09 Imra America, Inc. Yb: and Nd: mode locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US8855151B2 (en) 2004-12-07 2014-10-07 Imra America, Inc. YB: and ND: mode-locked oscilltors and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US9590386B2 (en) 2004-12-07 2017-03-07 Imra America, Inc. Yb: and Nd: mode-locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US8509270B2 (en) 2004-12-07 2013-08-13 Imra America, Inc. Yb: and Nd: mode-locked oscillators and fiber systems incorporated in solid-state short pulse laser systems
US7339961B2 (en) 2005-08-08 2008-03-04 Nikon Corporation Wavelength converting optical system, laser light source, exposure apparatus, device for inspecting object of inspection, and polymer crystal working apparatus
JP2007047332A (ja) * 2005-08-08 2007-02-22 Nikon Corp 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置
JP4640029B2 (ja) * 2005-08-08 2011-03-02 株式会社ニコン 波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置
US7974320B2 (en) 2005-11-10 2011-07-05 Nikon Corporation Method for having laser light source in standby status
US9083151B2 (en) 2005-11-10 2015-07-14 Nikon Corporation Method for having laser light source in standby status
JP5194795B2 (ja) * 2005-11-10 2013-05-08 株式会社ニコン レーザ光源のスタンバイ方法
WO2007055110A1 (ja) 2005-11-10 2007-05-18 Nikon Corporation レーザ光源のスタンバイ方法
JP2007318069A (ja) * 2005-12-06 2007-12-06 Nikon Corp 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法、投影光学系
JP2009540538A (ja) * 2006-06-02 2009-11-19 コーニング インコーポレイテッド Ｕｖ及び可視レーザシステム
WO2008010416A1 (fr) 2006-07-19 2008-01-24 Nikon Corporation Boîtier pour amplificateur à fibre optique, amplificateur à fibre optique et dispositif source de lumière
US9122018B2 (en) 2006-07-19 2015-09-01 Nikon Corporation Cassette for optical fiber amplifier, optical fiber amplifier and light source device
US8542436B2 (en) 2006-07-20 2013-09-24 Nikon Corporation Optical fiber amplifier, light source device, exposure device, object inspection device, and treatment device
WO2008010417A1 (fr) 2006-07-20 2008-01-24 Nikon Corporation Amplificateur à fibre optique, dispositif source de lumière, dispositif d'exposition, dispositif d'inspection d'objet et dispositif de traitement
JP2013102170A (ja) * 2006-09-20 2013-05-23 Imra America Inc ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器用の希土類がドープされ有効区域が大きい光ファイバ
JP2010099423A (ja) * 2008-09-29 2010-05-06 Sony Corp 角膜除去装置及び角膜手術装置
JP2011142187A (ja) * 2010-01-06 2011-07-21 Nikon Corp レーザ装置
WO2014119199A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成装置
WO2014119198A1 (ja) * 2013-01-31 2014-08-07 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成装置
JPWO2014119199A1 (ja) * 2013-01-31 2017-01-26 ギガフォトン株式会社 レーザ装置及び極端紫外光生成装置
US9667019B2 (en) 2013-01-31 2017-05-30 Gigaphoton Inc. Laser apparatus and extreme ultraviolet light generation system
WO2021256293A1 (ja) * 2020-06-19 2021-12-23 ウシオ電機株式会社 パルスレーザー光源装置及び希土類添加ファイバー製造方法
JP7515103B2 (ja) 2020-06-19 2024-07-12 ウシオ電機株式会社 パルスレーザー光源装置

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