JP2790011B2 - 浮動ヘッドスライダの製造方法 - Google Patents
浮動ヘッドスライダの製造方法Info
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- JP2790011B2 JP2790011B2 JP5205946A JP20594693A JP2790011B2 JP 2790011 B2 JP2790011 B2 JP 2790011B2 JP 5205946 A JP5205946 A JP 5205946A JP 20594693 A JP20594693 A JP 20594693A JP 2790011 B2 JP2790011 B2 JP 2790011B2
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B17/00—Guiding record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor
- G11B17/32—Maintaining desired spacing between record carrier and head, e.g. by fluid-dynamic spacing
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置に関
し、特に浮動ヘッドスライダの製造法に関するものであ
る。
し、特に浮動ヘッドスライダの製造法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、従来より基本的に
空気流入端にテーパーを有し、長さ方向に平行で幅方向
の両端に２本のレールを有する浮動ヘッドスライダが用
いられてきた。この浮動ヘッドスライダの特徴として、
高い空気膜剛性、簡単なレール形状による機械加工容易
性、及び浮上量設計容易性等が上げられる。
空気流入端にテーパーを有し、長さ方向に平行で幅方向
の両端に２本のレールを有する浮動ヘッドスライダが用
いられてきた。この浮動ヘッドスライダの特徴として、
高い空気膜剛性、簡単なレール形状による機械加工容易
性、及び浮上量設計容易性等が上げられる。
【０００３】このスライダの製造方法は、電磁変換素子
の種類により大きく２種類に分かれている。一つの製造
方法としては、フェライト等で構成されるリングに導線
がコイル状に巻かれ、リングの一部にギャップを有する
リング型磁気ヘッドと呼ばれる磁気ヘッドを使用する場
合であり、浮動ヘッドスライダのレール加工を行ってか
ら、リング型磁気ヘッドをレールの空気流出端面に接着
し、最後に研磨を行ない正確な磁気ヘッドの位置決めを
行なう方法である。
の種類により大きく２種類に分かれている。一つの製造
方法としては、フェライト等で構成されるリングに導線
がコイル状に巻かれ、リングの一部にギャップを有する
リング型磁気ヘッドと呼ばれる磁気ヘッドを使用する場
合であり、浮動ヘッドスライダのレール加工を行ってか
ら、リング型磁気ヘッドをレールの空気流出端面に接着
し、最後に研磨を行ない正確な磁気ヘッドの位置決めを
行なう方法である。
【０００４】もう一つの製造方法としては、上記磁気ヘ
ッドと同じ構成を平面状に形成した薄膜磁気ヘッドと呼
ばれる磁気ヘッドを用いる場合であり、まず、浮動ヘッ
ドスライダの母材となる基板状に、薄膜プロセスにより
磁気ヘッドを形成しておき、その後、基板をロウ状に切
り出して、レール加工を行なう方法である。
ッドと同じ構成を平面状に形成した薄膜磁気ヘッドと呼
ばれる磁気ヘッドを用いる場合であり、まず、浮動ヘッ
ドスライダの母材となる基板状に、薄膜プロセスにより
磁気ヘッドを形成しておき、その後、基板をロウ状に切
り出して、レール加工を行なう方法である。
【０００５】特に後者の製造方法は、磁気ヘッド及び浮
動ヘッドスライダの小型化、及び高精度かつ均一な磁気
ヘッド製造に有利であり、かつ最近特に注目されている
磁気抵抗効果を利用した信号再生専用ヘッド（ＭＲヘッ
ド）と積層形成が容易であるため、現在ではこの製造方
法が主流となりつつある。
動ヘッドスライダの小型化、及び高精度かつ均一な磁気
ヘッド製造に有利であり、かつ最近特に注目されている
磁気抵抗効果を利用した信号再生専用ヘッド（ＭＲヘッ
ド）と積層形成が容易であるため、現在ではこの製造方
法が主流となりつつある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年の磁気ディスク装
置の小型化，高速アクセス化，高記録密度化による浮動
ヘッドスライダは、小型軽量軽荷重条件で０．１μｍ以
下の低浮上量を実現することが要求されており、空気膜
剛性が高く、ディスク追従性が向上するような圧力分布
を発生させるレール形状の設計が重要となる。
置の小型化，高速アクセス化，高記録密度化による浮動
ヘッドスライダは、小型軽量軽荷重条件で０．１μｍ以
下の低浮上量を実現することが要求されており、空気膜
剛性が高く、ディスク追従性が向上するような圧力分布
を発生させるレール形状の設計が重要となる。
【０００７】また、最近のヘッドアクセス機構は、以前
のリニア型から高速アクセスに有利なロータリー型に変
化しているが、この場合、浮動ヘッドスライダの長手方
向と、ディスク上のトラックの接線方向とのなす角度
（ヨー角）がアクセス中に連続して変化するため、２レ
ールスライダの場合、レール面に発生する圧力もそれに
伴い大きく変化し、圧力平衡が崩れロール角，ピッチ角
が変動する。このために、ディスク外周へ行くに従い増
加する空気流速，ヨー角の設定，浮動ヘッドスライダに
加える荷重中心等を考慮して浮動ヘッドスライダの浮上
安定性を確保しなければならない。
のリニア型から高速アクセスに有利なロータリー型に変
化しているが、この場合、浮動ヘッドスライダの長手方
向と、ディスク上のトラックの接線方向とのなす角度
（ヨー角）がアクセス中に連続して変化するため、２レ
ールスライダの場合、レール面に発生する圧力もそれに
伴い大きく変化し、圧力平衡が崩れロール角，ピッチ角
が変動する。このために、ディスク外周へ行くに従い増
加する空気流速，ヨー角の設定，浮動ヘッドスライダに
加える荷重中心等を考慮して浮動ヘッドスライダの浮上
安定性を確保しなければならない。
【０００８】さらに、現在の多くの磁気ディスク装置
は、ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）と呼ばれ
る、浮動ヘッドスライダのレール面とディスクが接触摺
動する起動停止方式を採用している。ここで、起動停止
時の浮動ヘッドスライダとディスクの断続的な接触摺動
による磁気ヘッド及びディスク表面の損傷を減少させる
ため、この境界潤滑状態を短時間とし、損傷確率を低下
させる浮動ヘッドスライダの形状設計を確立する必要に
迫られている。
は、ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）と呼ばれ
る、浮動ヘッドスライダのレール面とディスクが接触摺
動する起動停止方式を採用している。ここで、起動停止
時の浮動ヘッドスライダとディスクの断続的な接触摺動
による磁気ヘッド及びディスク表面の損傷を減少させる
ため、この境界潤滑状態を短時間とし、損傷確率を低下
させる浮動ヘッドスライダの形状設計を確立する必要に
迫られている。
【０００９】以上のような問題を解決する手段として、
近年、特開平２−１０１６８８号公報，特開平４−３５
６７６５号公報等に代表されるような、複雑なレール面
形状及びリセス形状を有する浮動ヘッドスライダが開発
されている。これらの浮動ヘッドスライダのレール形状
は、通常の機械加工では形成困難であり、プロセスに応
じたマスクによるウエットあるいはドライエッチングに
よって形成されることが普通である。この場合、最初に
磁気ヘッドが形成されているため、レール形状及びリセ
ス形状エッチング中、磁気ヘッドを保護する必要がある
が、浮動ヘッドスライダの材料によりは、エッチング時
間が非常に長くなり、磁気ヘッドの保護性能が劣化し、
歩留り率が低下するという問題が生じる。
近年、特開平２−１０１６８８号公報，特開平４−３５
６７６５号公報等に代表されるような、複雑なレール面
形状及びリセス形状を有する浮動ヘッドスライダが開発
されている。これらの浮動ヘッドスライダのレール形状
は、通常の機械加工では形成困難であり、プロセスに応
じたマスクによるウエットあるいはドライエッチングに
よって形成されることが普通である。この場合、最初に
磁気ヘッドが形成されているため、レール形状及びリセ
ス形状エッチング中、磁気ヘッドを保護する必要がある
が、浮動ヘッドスライダの材料によりは、エッチング時
間が非常に長くなり、磁気ヘッドの保護性能が劣化し、
歩留り率が低下するという問題が生じる。
【００１０】本発明の目的は、以上の問題点を解決し、
エッチング時の磁気ヘッド保護性能を向上させ、さらに
磁気ヘッド形成及びレール，リセス形成エッチングを全
て同一平面プロセスにて行なうことにより、高精度かつ
歩留りの高い浮動ヘッドスライダの製造方法を提供する
ことにある。
エッチング時の磁気ヘッド保護性能を向上させ、さらに
磁気ヘッド形成及びレール，リセス形成エッチングを全
て同一平面プロセスにて行なうことにより、高精度かつ
歩留りの高い浮動ヘッドスライダの製造方法を提供する
ことにある。
【００１１】
【００１２】本発明 の浮動ヘッドスライダの製造方法
は、浮動ヘッドスライダのレール面が形成される基板
に、電磁変換素子の先端部分を形成するための溝を形成
する第１の工程と、前記基板上に電磁変換素子を形成す
る第２の工程と、電磁変換素子のリード線引き出し用溝
を有し、かつ前記２工程によって生じた凹凸を平坦化す
る第３の工程と、前記電磁変換素子のリード線引き出し
用溝を有し、浮動ヘッドスライダの母体となる基板を前
記の平坦化された基板上に接着あるいは推進する第４の
工程と、レール形状及びリセス形状形成のエッチングを
行なう第５の工程と、浮動ヘッドスライダを切断し、レ
ール面を研磨して、電磁変換素子の先端部分を形成する
第６の工程とを含むことを特徴としている。
は、浮動ヘッドスライダのレール面が形成される基板
に、電磁変換素子の先端部分を形成するための溝を形成
する第１の工程と、前記基板上に電磁変換素子を形成す
る第２の工程と、電磁変換素子のリード線引き出し用溝
を有し、かつ前記２工程によって生じた凹凸を平坦化す
る第３の工程と、前記電磁変換素子のリード線引き出し
用溝を有し、浮動ヘッドスライダの母体となる基板を前
記の平坦化された基板上に接着あるいは推進する第４の
工程と、レール形状及びリセス形状形成のエッチングを
行なう第５の工程と、浮動ヘッドスライダを切断し、レ
ール面を研磨して、電磁変換素子の先端部分を形成する
第６の工程とを含むことを特徴としている。
【００１３】また、前記 浮動ヘッドスライダの製造方法
において、前記第１の工程の前に、レール形状及びリセ
ス形状形成エッチング停止層を形成する工程を含むこと
を特徴としている。
において、前記第１の工程の前に、レール形状及びリセ
ス形状形成エッチング停止層を形成する工程を含むこと
を特徴としている。
【００１４】
【実施例】次に、本発明の製造方法により形成した浮動
ヘッドスライダについて、図面を参照して説明する。
ヘッドスライダについて、図面を参照して説明する。
【００１５】 図１は、本発明の製造方法により形成した
第１の浮動ヘッドスライダ１の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダは、情報の記録
再生を行なう電磁変換素子２を浮動ヘッドスライダ内部
に搭載し、磁気ディスク（図示せず）上の任意の位置に
電磁変換素子２の位置決めを行ない、かつ電磁変換素子
２が、浮動ヘッドスライダ１の空気軸受け面と平行、あ
るいは決められた傾斜角を持って形成され、かつ電磁変
換素子２の先端ギャップ部分が、浮動ヘッドスライダ１
の空気流出端面上に形成されている。
第１の浮動ヘッドスライダ１の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダは、情報の記録
再生を行なう電磁変換素子２を浮動ヘッドスライダ内部
に搭載し、磁気ディスク（図示せず）上の任意の位置に
電磁変換素子２の位置決めを行ない、かつ電磁変換素子
２が、浮動ヘッドスライダ１の空気軸受け面と平行、あ
るいは決められた傾斜角を持って形成され、かつ電磁変
換素子２の先端ギャップ部分が、浮動ヘッドスライダ１
の空気流出端面上に形成されている。
【００１６】 この浮動ヘッドスライダによれば、電磁変
換素子２の主要部分は、浮動ヘッドスライダ１中に形成
されており、浮動ヘッドスライダ１のレール面形成エッ
チングにおいて、侵食される虞れがない。なお、ここで
は、電磁変換素子２のポール部分３は露出しているが、
製造時においては、後に示すように浮動ヘッドスライダ
構成材料によって保護されており、最終的に切断，研磨
によって形成されるため、侵食の虞れはない。図におい
て、１０はコンタクトホール、１１は信号線、３７は平
坦化膜である。
換素子２の主要部分は、浮動ヘッドスライダ１中に形成
されており、浮動ヘッドスライダ１のレール面形成エッ
チングにおいて、侵食される虞れがない。なお、ここで
は、電磁変換素子２のポール部分３は露出しているが、
製造時においては、後に示すように浮動ヘッドスライダ
構成材料によって保護されており、最終的に切断，研磨
によって形成されるため、侵食の虞れはない。図におい
て、１０はコンタクトホール、１１は信号線、３７は平
坦化膜である。
【００１７】 図２は、本発明の製造方法により形成した
第２の浮動ヘッドスライダ４の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、再生専用
の磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッド５と、通常は記録
再生両方に用いられるインダクティブヘッド６とが積層
されている。ＭＲヘッド５とインダクティブヘッド６の
積層順は、どちらが先であってもよいが、ＭＲヘッド５
を形成する方が平坦性が高いため、通常ＭＲヘッド５上
にインダクティブヘッド６が形成される。ＭＲヘッド５
が用いられる理由は、インダクティブヘッド６において
は、記録時は任意の電流を流すことが可能であるが、再
生は磁気ディスク上の磁束密度と、そこを横切るヘッド
の速度で決まり、高密度記録を行なうに従って、磁気デ
イスク上の磁束密度が極端に減少するためである。図に
おいて、１０はコンタクトホール、１１は信号線、３７
は平坦化膜である。
第２の浮動ヘッドスライダ４の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、再生専用
の磁気抵抗効果を利用したＭＲヘッド５と、通常は記録
再生両方に用いられるインダクティブヘッド６とが積層
されている。ＭＲヘッド５とインダクティブヘッド６の
積層順は、どちらが先であってもよいが、ＭＲヘッド５
を形成する方が平坦性が高いため、通常ＭＲヘッド５上
にインダクティブヘッド６が形成される。ＭＲヘッド５
が用いられる理由は、インダクティブヘッド６において
は、記録時は任意の電流を流すことが可能であるが、再
生は磁気ディスク上の磁束密度と、そこを横切るヘッド
の速度で決まり、高密度記録を行なうに従って、磁気デ
イスク上の磁束密度が極端に減少するためである。図に
おいて、１０はコンタクトホール、１１は信号線、３７
は平坦化膜である。
【００１８】 図３は、本発明の製造方法により形成した
第３の浮動ヘッドスライダ７の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、電磁変換
素子８が、浮動ヘッドスライダ７の内部に形成されてい
るために、リード線パッド９から外部に信号線を引き出
すため、図のように、浮動ヘッドスライダ７の厚み方向
にコンタクトホール１０を設け、浮動ヘッドスライダ７
の背面より信号線１１を引き出している。図において、
３は電磁変換素子８の先端ポール、３７は平坦化膜であ
る。
第３の浮動ヘッドスライダ７の実施例を示す切欠き概略
側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、電磁変換
素子８が、浮動ヘッドスライダ７の内部に形成されてい
るために、リード線パッド９から外部に信号線を引き出
すため、図のように、浮動ヘッドスライダ７の厚み方向
にコンタクトホール１０を設け、浮動ヘッドスライダ７
の背面より信号線１１を引き出している。図において、
３は電磁変換素子８の先端ポール、３７は平坦化膜であ
る。
【００１９】 図４は、本発明の製造方法により形成した
第４の浮動ヘッドスライダ１２の実施例を示す切欠き概
略側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、リード
線パッド１３を浮動ヘッドスライダ１２の側面に露出す
るように形成しておき、切断後に、その部分より信号線
１４を引き出している。図において、３７は平坦化膜で
ある。
第４の浮動ヘッドスライダ１２の実施例を示す切欠き概
略側面図である。この浮動ヘッドスライダでは、リード
線パッド１３を浮動ヘッドスライダ１２の側面に露出す
るように形成しておき、切断後に、その部分より信号線
１４を引き出している。図において、３７は平坦化膜で
ある。
【００２０】 図５は、本発明の製造方法により形成した
第５の浮動ヘッドスライダ１５の実施例を示す切欠き概
略側面図である。図に示すように、電磁変換素子１６の
先端ポール１７の段差部分を曲面１８とすることで、電
磁変換素子１６形成時に段差部分での断線、及び膜厚不
均一の可能性を非常に低くすることが可能になる。図に
おいて、９はリード線パッド、１１は信号線、３７は平
坦化膜である。
第５の浮動ヘッドスライダ１５の実施例を示す切欠き概
略側面図である。図に示すように、電磁変換素子１６の
先端ポール１７の段差部分を曲面１８とすることで、電
磁変換素子１６形成時に段差部分での断線、及び膜厚不
均一の可能性を非常に低くすることが可能になる。図に
おいて、９はリード線パッド、１１は信号線、３７は平
坦化膜である。
【００２１】 次に、本発明の浮動ヘッドスライダの製造
方法の実施例を説明する。この製造方法は、第１〜第６
の工程を含んでおり、以下各工程ごとに順を追って説明
する。
方法の実施例を説明する。この製造方法は、第１〜第６
の工程を含んでおり、以下各工程ごとに順を追って説明
する。
【００２２】 図６（ａ），図６（ｂ）は、第１の工程を
示す断面図及び上面図である。すなわち、浮動ヘッドス
ライダのレール面が形成される基板に、電磁変換素子の
先端部分を形成するための溝を形成する工程を示す図で
ある。
示す断面図及び上面図である。すなわち、浮動ヘッドス
ライダのレール面が形成される基板に、電磁変換素子の
先端部分を形成するための溝を形成する工程を示す図で
ある。
【００２３】 この工程では、浮動ヘッドスライダのレー
ルを形成する基板３１上に、電磁変換素子の先端部分を
形成するために、ディスク上のトラック幅２０に対応し
た幅を有する凹型３２をエッチングによって形成する。
ルを形成する基板３１上に、電磁変換素子の先端部分を
形成するために、ディスク上のトラック幅２０に対応し
た幅を有する凹型３２をエッチングによって形成する。
【００２４】 図７（ａ），図７（ｂ）は、第２の工程を
示す断面図及び上面図である。この工程では、基板上に
電磁変換素子３３の形成を行なう。薄膜磁気ヘッドの場
合は、コイル部分３４及びリード線用パッド３５がレー
ル形成基板３１の上面部分に形成され、凹型溝３２の側
面にポール部分３６が形成される。
示す断面図及び上面図である。この工程では、基板上に
電磁変換素子３３の形成を行なう。薄膜磁気ヘッドの場
合は、コイル部分３４及びリード線用パッド３５がレー
ル形成基板３１の上面部分に形成され、凹型溝３２の側
面にポール部分３６が形成される。
【００２５】 図８は、第３の工程を示す図である。この
工程では、電磁変換素子形成によって生じたレール形成
基板３１上の凹凸の平坦化を行なう。平坦化膜３７をレ
ール形成基板３１の上面に堆積させることによって行な
うが、凹型溝部分は特に必要としない。また、その材料
は、次の工程の浮動ヘッドスライダの母材との高い密着
性が必要であり、さらにリード線パッド３５上に形成さ
れるため、絶縁膜であることが必要である。その後、リ
ード線パッド３５上に、リード線引き出し用の穴３８を
形成する。
工程では、電磁変換素子形成によって生じたレール形成
基板３１上の凹凸の平坦化を行なう。平坦化膜３７をレ
ール形成基板３１の上面に堆積させることによって行な
うが、凹型溝部分は特に必要としない。また、その材料
は、次の工程の浮動ヘッドスライダの母材との高い密着
性が必要であり、さらにリード線パッド３５上に形成さ
れるため、絶縁膜であることが必要である。その後、リ
ード線パッド３５上に、リード線引き出し用の穴３８を
形成する。
【００２６】 図９は、第４の工程を示す断面図である。
この工程では、前工程において堆積した平坦化膜３７上
に、あらかじめリード線引き出し用穴３９をあけた浮動
ヘッドスライダの母材基板４０を、平坦化膜３７に形成
されたリード線引き出し用穴３８を位置決めマークとし
て接着する。
この工程では、前工程において堆積した平坦化膜３７上
に、あらかじめリード線引き出し用穴３９をあけた浮動
ヘッドスライダの母材基板４０を、平坦化膜３７に形成
されたリード線引き出し用穴３８を位置決めマークとし
て接着する。
【００２７】 図１０（ａ），図１０（ｂ）は、第５の工
程を示す上面図および断面図である。この工程では、レ
ール面４１，４２形成のためのリセス４３のエッチング
を行なう。このとき、電磁変換素子３３は全てエッチン
グ面より保護されており、エッチング時の電磁変換素子
３３の劣化は生じない。
程を示す上面図および断面図である。この工程では、レ
ール面４１，４２形成のためのリセス４３のエッチング
を行なう。このとき、電磁変換素子３３は全てエッチン
グ面より保護されており、エッチング時の電磁変換素子
３３の劣化は生じない。
【００２８】 図１１（ａ），図１１（ｂ）は、第６の工
程を示す上面図および断面図である。この工程では、リ
ード線引き出し用穴３８，３９に導電材料４４を埋め込
んで、平面プロセス終了基板４５を浮動ヘッドスライダ
４６の形状に切り出す。電磁変換素子３３の部分は、図
のＡ−Ａ′線に示す部分を、ポール部分３６に平行に厚
み方向に切断する。最後に、レール面４１，４２を研磨
し、ポール部分３６の不要部分を削除して浮動ヘッドス
ライダ４６の製造を完了する。
程を示す上面図および断面図である。この工程では、リ
ード線引き出し用穴３８，３９に導電材料４４を埋め込
んで、平面プロセス終了基板４５を浮動ヘッドスライダ
４６の形状に切り出す。電磁変換素子３３の部分は、図
のＡ−Ａ′線に示す部分を、ポール部分３６に平行に厚
み方向に切断する。最後に、レール面４１，４２を研磨
し、ポール部分３６の不要部分を削除して浮動ヘッドス
ライダ４６の製造を完了する。
【００２９】 図１２は、本発明の請求項２記載の発明に
おけるレール形状及びリセス形状形成エッチング停止層
を形成する工程を示す断面図である。図１０に示した電
磁変換素子３３の先端形成用凹溝３２を形成する前に、
図に示すように、レール形成基板３１よりエッチングレ
ートが非常に小さく、エッチング停止層となる膜１００
をあらかじめ堆積させておく。エッチング時には、この
膜１００の所でエッチングが停止するため、エッチング
深さ制御が正確かつ容易に実現できる。これは、特に負
圧スライダで、リセス深さによって負圧力が大きく変化
する場合等に特に有効である。
おけるレール形状及びリセス形状形成エッチング停止層
を形成する工程を示す断面図である。図１０に示した電
磁変換素子３３の先端形成用凹溝３２を形成する前に、
図に示すように、レール形成基板３１よりエッチングレ
ートが非常に小さく、エッチング停止層となる膜１００
をあらかじめ堆積させておく。エッチング時には、この
膜１００の所でエッチングが停止するため、エッチング
深さ制御が正確かつ容易に実現できる。これは、特に負
圧スライダで、リセス深さによって負圧力が大きく変化
する場合等に特に有効である。
【００３０】 また、以上述べた浮動ヘッドスライダの製
造方法は、図１３に示すような、エッチンング時間が長
く、また、その回数の多い主スライダ２０１，従スライ
ダ２０３，サスペンション２０２一体型の複合浮動ヘッ
ドスライダ２００を製造する場合に大きな優位性を有す
る。
造方法は、図１３に示すような、エッチンング時間が長
く、また、その回数の多い主スライダ２０１，従スライ
ダ２０３，サスペンション２０２一体型の複合浮動ヘッ
ドスライダ２００を製造する場合に大きな優位性を有す
る。
【００３１】 以上本発明の実施例について詳細に述べた
が、使用する材料，基板の接着方法，膜の堆積方法，エ
ッチング方法，及びそのマスク方法，切断研磨方法等の
変更は、本発明の主旨を逸脱しない範囲で行なってもよ
く、以上の記述が本発明の範囲を限定するものではな
い。
が、使用する材料，基板の接着方法，膜の堆積方法，エ
ッチング方法，及びそのマスク方法，切断研磨方法等の
変更は、本発明の主旨を逸脱しない範囲で行なってもよ
く、以上の記述が本発明の範囲を限定するものではな
い。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の浮動ヘッ
ドスライダの製造方法によれば、浮動ヘッドスライダの
レール形状，リセス形状形成工程及び磁気ヘッド形成工
程を同一平面プロセスのみで構成することが可能にな
り、かつ磁気ヘッドを効果的にエッチングから保護でき
るため、歩留りが高く安価に浮動ヘッドスライダを製造
することができる。また、レール形成基板にエッチング
停止層をあらかじめ設けて置くことによって、リセスの
深さ方向制御が容易となり、高精度な浮動ヘッドスライ
ダの製造が可能になる。
ドスライダの製造方法によれば、浮動ヘッドスライダの
レール形状，リセス形状形成工程及び磁気ヘッド形成工
程を同一平面プロセスのみで構成することが可能にな
り、かつ磁気ヘッドを効果的にエッチングから保護でき
るため、歩留りが高く安価に浮動ヘッドスライダを製造
することができる。また、レール形成基板にエッチング
停止層をあらかじめ設けて置くことによって、リセスの
深さ方向制御が容易となり、高精度な浮動ヘッドスライ
ダの製造が可能になる。
【図１】本発明の第１の浮動ヘッドスライダの実施例を
示す切欠き概略側面図である。
示す切欠き概略側面図である。
【図２】本発明の第２の浮動ヘッドスライダの実施例を
示す切欠き概略側面図である。
示す切欠き概略側面図である。
【図３】本発明の第３の浮動ヘッドスライダの実施例を
示す切欠き概略側面図である。
示す切欠き概略側面図である。
【図４】本発明の第４の浮動ヘッドスライダの実施例を
示す切欠き概略側面図である。
示す切欠き概略側面図である。
【図５】本発明の第５の浮動ヘッドスライダの実施例を
示す切欠き概略側面図である。
示す切欠き概略側面図である。
【図６】本発明の実施例に係わる第１の工程を示す断面
図及び上面図である。
図及び上面図である。
【図７】本発明の実施例に係わる第２の工程を示す断面
図及び上面図である。
図及び上面図である。
【図８】本発明の実施例に係わる第３の工程を示す概略
図である。
図である。
【図９】本発明の実施例に係わる第４の工程を示す断面
図である。
図である。
【図１０】本発明の実施例に係わる第５の工程を示す断
面図及び上面図である。
面図及び上面図である。
【図１１】本発明の実施例に係わる第６の工程を示す断
面図及び上面図である。
面図及び上面図である。
【図１２】本発明の実施例に係わる工程を示す断面図で
ある。
ある。
【図１３】本発明による効果の高い複合浮動ヘッドスラ
イダの概略図である。
イダの概略図である。
１，４，７，１２，１５，４６ 浮動ヘッドスライダ ２，８，１６，３３ 電磁変換素子 ３ ポール ５ ＭＲヘッド ６ インダクティブヘッド ９，１３ リード線パッド １０ コンタクトホール １１，１４ 信号線 １７ 先端ポール １８ 曲面 ２０ トラック幅 ３１ レール形成基板 ３２ 凹型溝 ３４ 薄膜ヘッドコイル部分 ３５ 薄膜ヘッドリード線用パッド ３６ 薄膜ヘッドポール部分 ３７ 平坦化膜 ３８，３９ リード線引き出し用穴 ４０ 浮動ヘッドスライダ母材基板 ４１，４２ レール ４３ リセス ４４ 導電性材料 ４５ 平面プロセス終了基板 １００ エッチング停止層 ２００ 複合浮動ヘッドスライダ ２０１ 主スライダ ２０２ 従スライダ ２０３ マイクロサスペンション
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G11B 5/60 G11B 21/21 101
Claims (2)
- 【請求項１】 浮動ヘッドスライダのレール面が形成され
る基板に、電磁変換素子の先端部分を形成するための溝
を形成する第１の工程と、前記基板上に前記電磁変換素
子を形成する第２の工程と、前記電磁変換素子のリード
線引き出し用溝を有し、かつ前記２工程により生じた凹
凸を平坦化する第３の工程と、前記電磁変換素子のリー
ド線引き出し用溝を有し、浮動ヘッドスライダの母体と
なる基板を前記の平坦化された基板上に接着あるいは堆
積する第４の工程と、レール形状及びリセス形状形成の
エッチングを行なう第５の工程と、浮動ヘッドスライダ
を切断し、レール面を研磨して、前記電磁変換素子の先
端部分を形成する第６の工程とを含むことを特徴とする
浮動ヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項２】請求項１ 記載の浮動ヘッドスライダの製造
方法において、前記第１の工程の前に、レール形状及び
リセス形状形成エッチング停止層を形成する工程を含む
ことを特徴とする浮動ヘッドスライダの製造方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5205946A JP2790011B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 浮動ヘッドスライダの製造方法 |
| US08/292,035 US5555145A (en) | 1993-08-20 | 1994-08-18 | Floating head slider with a magnetic head integrated therein |
| US08/466,931 US5567331A (en) | 1993-08-20 | 1995-06-06 | Floating head slider and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5205946A JP2790011B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 浮動ヘッドスライダの製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0757419A JPH0757419A (ja) | 1995-03-03 |
| JP2790011B2 true JP2790011B2 (ja) | 1998-08-27 |
Family
ID=16515336
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5205946A Expired - Lifetime JP2790011B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 浮動ヘッドスライダの製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5555145A (ja) |
| JP (1) | JP2790011B2 (ja) |
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| US6882503B2 (en) * | 2002-01-29 | 2005-04-19 | Headway Technologies, Inc. | Thin-film magnetic head and method of manufacturing same, and slider of thin-film magnetic head and method of manufacturing same |
| US6943989B2 (en) * | 2002-06-07 | 2005-09-13 | Sae Magnetics (H.K.) Ltd. | Subambient pressure slider with partitioned subambient area |
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| JP2584332B2 (ja) * | 1989-08-24 | 1997-02-26 | 三洋電機株式会社 | 薄膜磁気ヘッド |
| JPH03105710A (ja) * | 1989-09-19 | 1991-05-02 | Tokin Corp | 薄膜磁気ヘッド |
| US5111351A (en) * | 1989-11-27 | 1992-05-05 | Censtor Corp. | Integrated magnetic read/write head/flexure/conductor structure |
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| JPH03273513A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形磁気ヘッド |
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| US5062017A (en) * | 1990-05-25 | 1991-10-29 | Seagate Technology, Inc. | Hour-glass disk head slider |
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| US5270895A (en) * | 1991-07-05 | 1993-12-14 | U.S. Philips Corporation | Combined read/write thin-film magnetic head with composite shared flux guide |
| JPH05120659A (ja) * | 1991-10-29 | 1993-05-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP5205946A patent/JP2790011B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-08-18 US US08/292,035 patent/US5555145A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-06-06 US US08/466,931 patent/US5567331A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0757419A (ja) | 1995-03-03 |
| US5567331A (en) | 1996-10-22 |
| US5555145A (en) | 1996-09-10 |
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|---|---|---|---|
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