JP2772821B2 - 電子線装置 - Google Patents

電子線装置

Info

Publication number
JP2772821B2
JP2772821B2 JP1136557A JP13655789A JP2772821B2 JP 2772821 B2 JP2772821 B2 JP 2772821B2 JP 1136557 A JP1136557 A JP 1136557A JP 13655789 A JP13655789 A JP 13655789A JP 2772821 B2 JP2772821 B2 JP 2772821B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inner cylinder
electron beam
objective lens
top surface
pole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1136557A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH031432A (ja
Inventor
彬 米澤
Original Assignee
セイコーインスツルメンツ株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by セイコーインスツルメンツ株式会社 filed Critical セイコーインスツルメンツ株式会社
Priority to JP1136557A priority Critical patent/JP2772821B2/ja
Priority to US07/530,791 priority patent/US5023457A/en
Publication of JPH031432A publication Critical patent/JPH031432A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2772821B2 publication Critical patent/JP2772821B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/10Lenses
    • H01J37/14Lenses magnetic
    • H01J37/141Electromagnetic lenses

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、大径の半導体ウェーハを大角度傾斜して、
低加速で高分解能観察できる電子線装置に関する。
〔発明の概要〕
電子線装置の対物レンズとして、単極磁界型対物レン
ズを使用して、該対物レンズの形状およびその強度を適
切にすることにより、該対物レンズの収差係数を低減さ
せるとともに、試料から生ずる二次電子を効率よく検出
するようにして、大径の半導体ウェーハを、低加速電圧
にて、大角度傾斜、高分解能観察するようにしたもので
ある。
〔従来の技術〕
近年、半導体開発の製造分野において、大径のウェー
ハを大角度傾斜して、低加速電圧で高分解能観察できる
走査型電子顕微鏡(SEM)が望まれている。
このために、対物レンズとして、第3図に示すコニカ
ルレンズを用いたSEMが開発されている(1987.日本電子
顕微鏡学会 29−III−4,日立、清水等)。このSEMで
は、大径の半導体ウェーハを60゜傾斜した状態で加速電
圧1KVにて、20nmの分解能が得られている。
しかし、この分解能では、半導体ウェーハの高分解能
観察には満足すべきものとはいえない。
さらに、高分解能が得られるSEMとして、試料を対物
レンズポールピース間に設置する、所謂インレンズSEM
がある。このSEMでは加速電圧1KVにて、分解能5nm以下
が得られており、高分解能の点では満足できるが、観察
できる試料の最大寸法は、10φ程度と小径の試料に限ら
れ、大径のウェーハの観察には不向きである。
また、大径の試料を観察するためのSEMの対物レンズ
として、単極磁界型対物レンズを使用することが考えら
れる。そして、この単極磁界型レンズの磁界分布、収差
係数等の諸特性については、既に解析がなされている。
(Juma S M and Mulve.T 1980 Inst.Phys.Conf.Ser.52
pp59−60等)。
しかしながら、これは第4図に示すような該レンズの
内筒10の磁極頂面11と外周の磁極面9とが同一面内にあ
り、内筒10は円錐面を有しない円筒状であるタイプにつ
いての研究にとどまり、二次電子検出を含めた具体的構
造に関してまでは検討がなされていない。
また、単極磁界型レンズを電子ビームテスタとして用
いる例も知られている(特開昭63−69135号)が高分解
能像が得られる、小さい収差係数を有する単極磁界型対
物レンズの形状、ディメンションについての報告はなさ
れていない。
〔発明が解決しようとする課題〕
既に述べたように、超LSIの集積度がさらに向上する
と、大径のウェーハを低加速電圧にて、大角度傾斜し
て、今まで以上の高分解能で観察することが望まれてい
る。
この発明では、上記の要望を満足するために、電子線
装置の対物レンズとして、高分解能が期待できる単極磁
界型レンズを用い、その配置、形状、レンズ強度を適切
に設置することにより、上述の目的を達成する走査型電
子線装置を提供することを目的としている。
敷衍すれば、大角度傾斜しても従来レンズの分解能を
越えて、例えば、前述のコニカルレンズに見られる20nm
を越える高分解能で観察することができ、当然のことな
がら、小角度傾斜あるいは傾斜無しの状態では、さらに
高分解能で観察することができる走査型電子線装置を提
供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
第1の発明が上記目的を達成するために採用する手段
は、電子線源からみて、試料より手前に磁極頂面が位置
する単極磁界型対物レンズを有する電子線装置におい
て、該対物レンズの内筒の磁極頂面手前に2次電子検出
器が設置され、該対物レンズ内筒は、基部が円筒状をな
し、かつ、内筒先端部に設けられた磁極頂面と、該基部
と該磁極頂面と連接する先細状の円錐形状部とからな
り、該対物レンズの内筒の磁極頂面と、上記円錐形状部
の円錐面とのなす交円の直径Doと磁極頂面に形成された
電子線通過孔の直径Diおよび上記円錐面と基部とのなす
交円の直径Dcとの関係は、 4mm≦Di<Do≦18mm<Dc であり、 該対物レンズの内筒の円錐形状部の円錐面と該磁極頂
面とのなす角θが、 50゜≦θ≦70゜ であり、 該内筒を取り巻く外筒の磁極面は、内筒の磁極頂面よ
りも電子線源側に近く配置され、試料と該磁極頂面との
距離(ワーキングデスタンス)Wと、加速電圧Uにおい
て該試料に電子線束をフォーカスする超磁力 との関係を とした単極磁界型対物レンズを設けたことを特徴とする
電子線装置である。
第2の発明は、上記第1の発明にかかる電子線装置に
おいて、上記対物レンズの内筒の基部外周が円錐形状部
に向けて先細の傾斜面を形成していることを特徴とする
電子線装置である。
第3の発明は、上記第1の発明にかかる電子線装置に
おいて、上記対物レンズの内筒の円錐形状部の磁極頂面
との間に、上記円錐面より小さい角度をもつ傾斜面が設
けられていることを特徴とする電子線装置である。
第4の発明は、上記第2の発明、および第3の発明の
特徴を併せもった電子線装置である。
〔作用〕
まず単極磁界型レンズの作動原理について、第4図に
基づいて説明する。第4図は、内筒10の磁極頂面11と外
筒8の磁極面9とが同一面にある単極磁界型レンズ5
で、これの磁界分布については、前述したJuma等の報告
がある。
そして、単極磁界型対物レンズの球面収差係数CSおよ
び色収差係数CCは、上記レンズの磁界分布から、特に説
明しない既知の積分公式により求めることができる。
そして、内筒の磁極頂面の径DOに対する大径の試料の
傾斜角を最大60゜とすると、このときの最小のワーキン
グデスタンス(対物レンズと試料との距離)Wは、 このときの各収差係数CS,CCを上記公式を用いて求め、D
Oに対して図示すると、第5図のようになる。
ここで、加速電圧1KVで、二次電子像の分解能を10nm
以下にするためには、CC≦10mmが必要である。したがっ
て、第5図より、DO≦18mmなる条件が得られる。
すなわち、低加速電圧(1KV)にて、大径の試料を大
角度(60゜)に傾斜して、10nm以下の高分解能で観察す
るためには、単極磁界レンズの磁極頂面の直径は、18mm
φ以下でなければならないことが分かる。
一次電子線が、試料14を照射することにより生じた二
次電子線は、内筒10の磁極頂面11と、外筒8の磁極面9
との間に生じた磁界(第4図BZ参照)により光軸付近に
拘束され、第6図に示すように、内筒10の磁極頂面11に
向かう。
この二次電子線は、該頂面11に設けられた孔(直径
Di)を通過して後、内筒10内に設けられた二次電子検出
器(図示しない)により検出される。
ここで、二次電子線が通過可能な孔の直径Diの大きさ
を求める。今、DO=15φ,試料位置 加速電圧Uを1KVとし、二次電子線17のエネルギーを10
V,二次電子線の試料とのなす出射角45゜としたときの磁
極頂面11付近での二次電子線17の軌道を第6図に示す。
磁極頂面11に設けられた孔の直径Diの深さは、加工あ
るいは強度上、通常2mm程度必要と考えられる。二次電
子軌道から上記二次電子線17が、上記深さ2mmの孔Di
通過するためには、上記孔Diは少なくとも4mm以上でな
ければならないことが分かる。
また、U=500V,二次電子線17のエネルギーを5Vとし
た場合、DO=5φとした場合等についても同様の値が得
られる。
次に該対物レンズの満たすべきフォーカス起磁力の大
きさを求める。
前述の単極磁界型レンズについて、試料位置をパラメ
ータとして、磁極頂面直径DOに対するフォーカス起磁力 を第7図に示す。ここで、ATはAmpere Turnを表す。
第7図より、DO≦18mmでは、 はW一定の場合ほぼ直線である。そして、第7図から、
フォーカス起磁力は、 で表される関係式で与えられることが導かれる。ここで
AT/V 1/2は単位を示す。当然、DO≦18mmでは、各収差係
数CS,CCについてばかりでなく、所要の起磁力も小さく
てすむことが分かる。
さらに、実際のレンズにおいては、内筒内に偏向系を
組み込むこと、また、ヨーク部における磁気飽和を防止
することの理由により、単極磁界型レンズの内筒の直径
DCは、DO(≦18mm)より大きくする必要がある(通常50
mm程度以上)。したがって、大径のウェーハを60゜前後
に大角度傾斜するために、頂面DOと、内筒の円柱面(直
径DC)を、θ=60゜前後(50゜≦θ≦70゜)の円錐面で
接続する必要がある。
このようにした場合、フォーカス起磁力 は、式(1)で示したものより増大することが分かっ
た。磁場分布の測定から、θが50゜,60゜および70゜の
場合のフォーカス起磁力のDC=DOの場合に対する比k1
第8図に示す。第8図より、 であることが分かる。但し、定数Cはθが50゜,60゜お
よび70゜の場合、それぞれ0.26,0.22および0.19なる値
をとる。
したがって、θ=60゜前後(50゜≦θ≦70゜)の円錐
面を有し、この円錐面が直径DCである内筒の円柱面にDO
と別の側で接続している単極磁界型レンズのフォーカス
起磁力は、 であることが分かる。
さらに、大径のウェーハを大角度傾斜するためには、
外筒の磁極面は、内筒の磁極頂面(DO)よりも、電子線
側に引っ込んでいる方が、試料との衝突が避けられ都合
が良い。
この場合のフォーカス起磁力 (3)式よりも、さらに大きくなることが分かった。
即ち、外筒の磁極面9が内筒の磁極頂面11と距離Lだ
け離れている場合(第1図参照)のフォーカス起磁力の
L=0の場合のフォーカス起磁力に対する比k2を第9図
に示す。
L=50mmでは、k2≒1.14,L=200mmでは、k2≒1.9とな
る。6インチウェーハを60゜傾斜して、全ウェーハ面を
観察する場合、試料設置とウェーハ頂上との距離は、2
5.4×6×sin60゜≒132mmであるので、L≒132mmとすれ
ばよい。このとき第9図より、k≒1.5である。
第1図より明らかなように、ウェーハの傾斜を60゜ま
で妨げない範囲で、Lを132mmより小さくすることもで
きる。この場合、必要なフォーカス起磁力 減少するので都合がよい。今後、ウェーハの径が、さら
に大きくなることも予想されるが、Lがあまり大きくす
ることは必要なフォーカス起磁力が大きくなって好まし
くない。第9図より、k2≦2とするためには、L≦200m
mとすべきであることが分かる。
また、単極磁界型対物レンズの内筒10の基部を構成す
る円柱面に、第2図に示すように、テーパAをもたせ、
内筒10の底部のヨーク断面を増すことにより、基部にお
ける磁気飽和を防止して、起磁力を増大させることがで
きる。さらに、円錐面と磁極頂面11との間に、より小さ
い傾斜角を設けて、より小さい試料位置Wを設置できる
ようにして分解能を向上させることができるが、この場
合において、式(3)におけるDOは、円錐面の延長と円
筒10の磁極頂面11との交円とする。
〔実施例〕
第1図に、本発明の一実施例を示す。本発明の電子線
装置は、電子銃2,集束レンズ3,単極磁界型対物レンズ5
と、試料室13よりなる。単極磁界型対物レンズ5は、電
子線源2から見て、電子線軸4上において、試料14より
手前に、内筒10の磁極頂面11を有するように設置されて
いる。該磁極頂面11の手前は、二次電子検出器12および
2段の走査コイル7が設けられている。電子銃2より出
た電子線は、集束レンズ3により集束された後、単極磁
界型対物レンズ5により試料14上に集束され、走査コイ
ル7により試料14上に走査される。試料14より出た二次
電子17(第6図参照)は、磁極頂面11に設けられた孔を
通過後、二次電子検出器12により検出される。
内筒10は、傾斜角θが60゜前後の円錐面を有してい
る。この円錐面は、直径Dcの内筒10の円柱面に接続され
ている。
単極磁界型対物レンズの内筒10の磁極頂面11の直径Do
と、この頂面に設けられた孔の直径Diおよび円柱面の直
径Dcとは、既に述べたように、4mm≦Di<Do≦18mm<Dc
なる範囲の値に設定されている。また、外筒の磁極面9
は、内筒の磁極頂面11より電子線源側に引っ込んで位置
しており、非磁性材16を介して磁性材よりなる試料室13
に接続されている(この点については本願出願人が、既
に特願昭63−279987号において提案している)。
大径の試料は、60゜前後の大角度に傾斜することがで
きる。該試料は、頂面の径Doの大きさで決まる最小の試
料位置Wに設置されている。
単極磁界対物レンズ5は、該レンズのコイルに電流を
流すことにより励磁される。この起磁力J(:コイルに
流れる電流×コイル巻数)の大きさは、試料位置W,磁極
頂面径Do,内筒円柱の径Dc,円錐面の傾斜θ,および外筒
の磁極面9と、内筒の磁極頂面11との距離に依存して定
められる。前述したように、この起磁力 (3)式で与えられる より大きな値に設定され、集束レンズ3より出た電子束
は、この起磁力による単極磁界型対物レンズ5の作用に
より内筒の磁極頂面11からWの距離にある試料に集束さ
れる。
なお、単極磁界型対物レンズの内筒は、第2図に示し
た形状でしてもよい。すなわち、θ≒60゜前後の円錐面
と、磁極頂面11との間に、より小さい傾斜角、例えば45
゜程度の傾斜面を設ける。このようにすると、30゜程度
以下の小さい試料傾斜角度にて、第1図の場合よりもよ
り小さい試料位置Wに設定できるので、分解能を向上さ
せることができる。また内筒10の基部を構成する円柱面
も第2図Aのごとく、垂直方向から若干傾斜をもたら
せ、内筒10底部において、ヨーク断面を増し、磁気飽和
しにくい構造とし、より大きな起磁力を印加可能にする
こともできる。この場合におけるDoは、60゜前後の大き
な角の傾斜面の延長と内筒10の磁極頂面11との交円とす
る。
なお、第2図では対物レンズの内筒10の基部を構成す
る円柱面に、第2図Aのごとく若干傾斜をもたせ、円錐
面と磁極頂面11との間により小さい傾斜角をもつ面をも
たせているが、これらは、独立して別々に設けることが
できることは当然である。
第10図に、本発明における第1図で示した一実施例の
収差係数Cs,CcをワーキングデスタンスWに対して示
す。また、第11図に、Wに対するフォーカス起磁力 を示す。但し、単極磁界型対物レンズの諸次元は下記の
ようである。
Do=14mmφ Di=7mmφ,θ=60゜ Dc=100mmφ L =100mm 第10図,第11図によると、フォーカス起磁力、収差係
数Cs,Ccおよび分解能は第12図のようになる。
加速電圧1KV,60゜傾斜可能なワーキングデスタンス15
mmにおいて、10nmの分解能が得られる。また、ワーキン
グデスタンス5mmでは、さらに高分解能5nmが得られる。
さらに、ワーキングデスタンスを小さくすれば、第10で
示すごとく、数差係数が小さくなるので、より高分解能
像が得られるが、第11図で示すように急速に必要なフォ
ーカス起磁力 が増大する。必要なフォーカス起磁力 を小さくして、収差係数を小さくするには、磁極頂面11
の径Do等を小さくすればより。例えばDo=10mmφ(この
ときDi=5mmφ)とすれば、第5図より60゜傾斜可能な
ワーキングデスタンスにて、Cs≒20mm,Cc≒5.5mmが得ら
れる。
しかしながら、磁極頂面11に設けられた孔の径Diをあ
まり小さくすると、特に低加速電圧で、ワーキングデス
タンスが大きいとき、二次電子検出効率が低下するの
で、注意を要する。例えば、Di≒3mmφにすると、加速
電圧1KV,60゜傾斜の状態では、Di≒7mmφの場合に比し
て、二次電子検出効率は、1/3以下になってしまい。実
用的でない。
〔発明の効果〕
第13図に、本発明の一実施例と最も小さい値が得られ
ると思われるコニカルレンズにおける分解能の比較を示
す。
本発明では、ワーキングデスタンスW≒15mm,試料傾
斜角60゜にて、10nmの分解能が得られる。また、W≒5m
m,試料傾斜角≒30゜にて、5nmの分解能が得られる。
すなわち、従来例に比し、大角度傾斜にて、約1/2の
高分解能、また低角度傾斜にても、約1/3の高分解能で
観察することができ、その効果は大である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す全体図、第2図は本発
明の単極磁界型対物レンズの1変形例、第3図は従来の
コニカルレンズを示す図、第4図は単極磁界型対物レン
ズの概念図、第5図は試料を60゜傾斜した場合の最小ワ
ーキングデスタンスにおける単極磁界型対物レンズの磁
極頂面径Doに対する収差係数Cs,Ccの関係図、第6図は
試料から出た二次電子が内筒の頂面の孔に侵入するまで
の軌道を示す図、第7図は単磁極型対物レンズの磁極頂
面径Doに対するフォーカス起磁力 の関係図、第8図は円錐面の試料となす角が50゜,60゜
および70゜の場合における内筒円柱の径Dc/Doに対する
フォーカスの起磁力の増加割合k1を示す図、第9図は単
極磁界型対物レンズの外筒の磁極面が距離Lだけ内筒の
磁極頂面より引っ込んだ場合のフォーカス起磁力の増加
割合k2を示す図、第10図は本発明の一実施例においてワ
ーキングデスタンスWに対する収差係数Cs,Ccの関係
図、第11図は本発明の一実施例においてワーキングデス
タンスWに対するフォーカス起磁力 の関係図、第12図は本発明の一実施例においてワーキン
グデスタンスWに対する単極磁界型対物レンズの諸定数
を示す図、第13図は本発明における単極磁界型対物レン
ズを用いた電子線装置の分解能とコニカルレンズを用い
た従来例における分解能との比較を示す図である。 1……顕微鏡本体 2……電子銃 3……集束レンズ 4……電子線軸 5……単極磁界型対物レンズ 6……励磁コイル 7……走査系コイル 8……外筒 9……外筒の磁極面 10……内筒 11……内筒の磁極頂面 12……二次電子検出器 13……試料室 14……試料 15……試料室壁 16……非磁性材 17……二次電子 20……ヨーク

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子線源からみて、試料より手前に磁極頂
    面が位置する単極磁界型対物レンズを有する電子線装置
    において、 該対物レンズの内筒の磁極頂面手前に2次電子検出器が
    設置され、 該対物レンズ内筒は、基部が円筒状をなし、かつ、内筒
    先端部に設けられた磁極頂面と、該基部と該磁極頂面と
    連接する先細状の円錐形状とからなり、 該対物レンズの内筒の磁極頂面と、上記円錐形状部の円
    錐面とのなす交円の直径D0と上記円錐面と基部とのなす
    交円の直径DCとの関係は、 D0≦18mm<DC であり、 該対物レンズの内筒の円錐形状部の円錐面と該磁極頂面
    とのなす角が 50゜≦θ≦70゜であり、 該内筒を取り巻く外筒の磁極面は、上記内筒の磁極頂面
    よりも電子線側に近く配置され、上記外筒の磁極面と内
    筒との磁極面との距離Lが 100mm≦L≦200mm であり、 上記試料と上記磁極頂面との距離(ワーキングディスタ
    ンス)Wとした時、加速電圧Uにおいて上記試料に電子
    線束をフォーカスする起磁力J/U1/2(AT/V1/2)を {7.1(D0/W)+2.2}×{0.26(DC/D0−1)+1}×
    2>J/U1/2>{7.1(D0/W)+2.2}×{0.19(DC/D0
    1)+1} とした単極磁界型対物レンズを設けたことを特徴とする
    電子線装置。
  2. 【請求項2】上記対物レンズの内筒の基部外周が円錐形
    状部に向けて先細の傾斜面を形成していることを特徴と
    する請求項1に記載の電子線装置。
  3. 【請求項3】前記外筒の磁極面は非磁性材を介して試料
    室壁に接続されていることを特徴とする請求項1記載の
    電子線装置。
JP1136557A 1989-05-30 1989-05-30 電子線装置 Expired - Fee Related JP2772821B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1136557A JP2772821B2 (ja) 1989-05-30 1989-05-30 電子線装置
US07/530,791 US5023457A (en) 1989-05-30 1990-05-30 Electron beam device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1136557A JP2772821B2 (ja) 1989-05-30 1989-05-30 電子線装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH031432A JPH031432A (ja) 1991-01-08
JP2772821B2 true JP2772821B2 (ja) 1998-07-09

Family

ID=15178014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1136557A Expired - Fee Related JP2772821B2 (ja) 1989-05-30 1989-05-30 電子線装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5023457A (ja)
JP (1) JP2772821B2 (ja)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2777840B2 (ja) * 1990-11-30 1998-07-23 セイコーインスツルメンツ株式会社 電子線装置
US5336891A (en) * 1992-06-16 1994-08-09 Arch Development Corporation Aberration free lens system for electron microscope
WO1995027994A2 (en) * 1994-04-12 1995-10-19 Philips Electronics N.V. Particle-optical apparatus comprising a detector for secondary electrons
US5563415A (en) * 1995-06-07 1996-10-08 Arch Development Corporation Magnetic lens apparatus for a low-voltage high-resolution electron microscope
JPH1154076A (ja) * 1997-07-31 1999-02-26 Seiko Instr Inc 走査型電子顕微鏡用対物レンズ
US6392231B1 (en) * 2000-02-25 2002-05-21 Hermes-Microvision, Inc. Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
US6960766B2 (en) * 2000-02-25 2005-11-01 Hermes-Microvision, Inc. Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
US20040087564A1 (en) * 2002-10-31 2004-05-06 Wright D. Craig Delivery composition and method
JP4299195B2 (ja) * 2004-06-28 2009-07-22 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及びその光軸調整方法
JP5485927B2 (ja) * 2011-02-28 2014-05-07 株式会社日立ハイテクノロジーズ 電子顕微鏡
WO2021204740A1 (en) * 2020-04-10 2021-10-14 Asml Netherlands B.V. Charged particle beam apparatus with multiple detectors and methods for imaging

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1234183A (ja) * 1967-08-18 1971-06-03
GB1395201A (en) * 1972-09-04 1975-05-21 Nat Res Dev Magnetic lenses
JPS57118356A (en) * 1981-01-14 1982-07-23 Jeol Ltd Objective lens for scan type electron microscope
JPS58161235A (ja) * 1982-03-19 1983-09-24 Internatl Precision Inc 走査型電子線装置
JPS613660U (ja) * 1984-06-12 1986-01-10 株式会社明石製作所 走査型電子顕微鏡の対物レンズ
NL8602177A (nl) * 1986-08-27 1988-03-16 Philips Nv Electronen detectie met energie discriminatie.
JP2739485B2 (ja) * 1988-11-05 1998-04-15 セイコーインスツルメンツ株式会社 走査型電子線装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH031432A (ja) 1991-01-08
US5023457A (en) 1991-06-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4215282B2 (ja) 静電対物レンズ及び電気走査装置を装備したsem
US6605805B2 (en) Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
JP2919170B2 (ja) 走査電子顕微鏡
US7223983B2 (en) Charged particle beam column
JP2789094B2 (ja) 粒子線機器の検出器対物レンズ
JP2772821B2 (ja) 電子線装置
JP2000173520A (ja) 粒子線装置
JP4200104B2 (ja) 荷電粒子線装置
US20040065827A1 (en) Method for the electron-microscopic observation of a semiconductor arrangement and apparatus therefor
US6960766B2 (en) Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
JP3715992B2 (ja) 荷電粒子線照射装置
US20020125428A1 (en) SEM provided with a secondary electron detector having a central electrode
US20020109089A1 (en) SEM provided with an adjustable final electrode in the electrostatic objective
JP2777840B2 (ja) 電子線装置
JPH0636346B2 (ja) 荷電粒子線装置及びこれによる試料観察方法
JP2003331770A (ja) 電子線装置
US6335530B1 (en) Objective lens for scanning electron microscope
US20030150991A1 (en) Scanning electron microscope and method of detecting electrons therein
JPH06181041A (ja) 走査電子顕微鏡
JP3288239B2 (ja) 電子線装置
JP3280187B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH03230464A (ja) 走査型電子顕微鏡
JPH10208683A (ja) 走査形電子顕微鏡
JPH05266854A (ja) 走査電子顕微鏡及びその運転方法
JP3101141B2 (ja) 電子ビーム装置

Legal Events

Date Code Title Description
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090424

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees