JP2772084B2 - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JP2772084B2
JP2772084B2 JP1330180A JP33018089A JP2772084B2 JP 2772084 B2 JP2772084 B2 JP 2772084B2 JP 1330180 A JP1330180 A JP 1330180A JP 33018089 A JP33018089 A JP 33018089A JP 2772084 B2 JP2772084 B2 JP 2772084B2
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須磨子 安部
真 瀬川
幹夫 江藤
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Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は半導体記憶装置に係わり、特にスタティック
型ランダムアクセスメモリ(RAM)として好適なものに
関する。
(従来の技術) 半導体記憶装置の集積度は年々向上し、これに伴い様
々な原因によるビット不良の発生確率は高くなってき
た。このため歩留りの低下が問題となってきている。こ
れを解決するための手段として、不良ビット救済技術は
今日では必須のものとなっている。この技術は、正規の
メモリセルの他の予め数行数列に配列されたメモリセル
を余分に備えておき、検査工程において正常に動作しな
い不良ビットの存在が明らかにされた場合に、代わりに
使用するというものである。
これに対し、正常に動作し機能的には一応問題はない
ものの、リーク電流が許容値よりも多く流れる場合があ
る。このようなメモリセルが1つでも存在すると、待機
時における消費電流の増加を招くことになる。このよう
な場合には、従来は第3図に示されるように、リーク電
流が流れるメモリセル33の位置をテスタを用いて発見
し、このメモリセル33と電源端子31との間に接続されて
いるレーザヒューズ32を溶断することによってリーク経
路を断った上で、予備のメモリセルに置き換えて使用し
ていた。
(発明が解決しようとする課題) しかし、テスタによるリーク電流が流れるメモリセル
を検出するのでは、テストパターンが複雑なため多大な
テスト時間を要する。このため、複数のメモリセルにお
いてリーク電流が流れている場合には検出は極めて難し
く、特に集積度が向上した最近の半導体記憶装置におい
ては事実上不可能な場合もあるという問題があった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、リーク電
流の発生しているメモリセルの存在位置を容易に検出し
得る半導体記憶装置を提供することを目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 本発明の半導体記憶装置は、メモリセルがマトリクス
状に配列されたメモリセルアレイと、行方向にある前記
各メモリセルの電流経路を各行毎に接続する共通電源線
と、行毎に前記メモリセルを選択するワード線と、前記
行を選択する行アドレス信号を装置外部より与えられて
解読し、選択信号を出力する行デコーダと、前記共通電
源線と電源との間に接続され、動作モード切換信号を装
置外部より与えられ、さらに前記行デコーダから前記選
択信号を与えられて前記共通電源線と前記電源との間の
接続の切り換えを行う選択手段と、前記ワード線と前記
行デコーダの出力側との間に接続され、動作モード切換
信号を装置外部より与えられて前記ワード線と前記行デ
コーダとの間の接続の切り換えを行うワード線切換手段
とを備え、前記選択手段は、前記動作モード切換信号が
検査モードへの切換を指示する場合には、前記選択信号
により前記共通電源線のうちのいずれかを選択し、選択
された共通電源線と前記電源との間を遮断し、他の共通
電源線を前記電源に接続することによって選択された共
通電源線以外の共通電源線に接続されたメモリセルにの
み電源を供給してリーク電流の発生の有無を検出し、前
記動作モード切換信号がアクセスモードへの切換を指示
する場合には、前記全ての共通電源線を前記電源に接続
するものであり、前記ワード線切換手段は、前記動作モ
ード切換信号が検査モードへの切り換えを指示する場合
には、前記ワード線と前記行デコーダとの間を遮断して
前記メモリセルは全て非選択状態にしてリーク電流の発
生するメモリセルの検出を可能な状態にし、前記動作モ
ード切換信号がアクセスモードへの切り換えを指示する
場合には、前記ワード線と前記行デコーダとの間を接続
して、前記メモリセルを選択し得る状態にしてアクセス
動作を可能にするものであることを特徴としている。
またこれとは逆に、選択された行の共通電源線を電源
に接続し、他の共通電源線と電源との間を遮断すること
によって、選択された行のメモリセルにのみ電源を供給
する装置であっても、リーク電流の発生するメモリセル
の位置を検出することができる。
さらに、共通電源線と電源との間にそれぞれ接続され
たヒューズを備えており、リーク電流が生じるメモリセ
ルの位置が検出された場合に、そのメモリセルの接続さ
れた行の共通電源線に接続されているヒューズが溶断さ
れてリーク経路を断つものであってもよい。
(作 用) 選択信号が選択手段に与えられていずれかの共通電源
線が選択され、選択された共通電源線と電源との間が遮
断されて、他の共通電源線が電源に接続される。このよ
うにして、順次共通電源線を選択していき、選択されな
い共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供給
していき、リーク電流が小さくなった場合に、この時点
で選択されている共通電源線に接続されたメモリセルの
なかに、リーク電流の流れるメモリセルが存在すること
がわかる。
また、通常のアクセスモードと検査モードとの切換
は、選択手段とワード線切換手段とに動作モード切換信
号が与えられることによって行われる。動作モード切換
信号が検査モードへの切換を指示するものである場合に
は、選択手段は行デコーダの出力した選択信号によって
いずれかの共通電源線を選択し、選択された共通電源線
と電源との間を遮断し、他の共通電源線を電源に接続す
る。そしてワード線切換手段は、ワード線と行デコーダ
との間を遮断して全てのメモリセルを非選択状態にす
る。このようにして順次共通電源線を選択していき、選
択されない共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電
源を供給して、リーク電流が小さくなった時点で選択さ
れている共通電源線に接続されたメモリセルのなかに、
リーク電流の流れるメモリセルが存在することが検出さ
れる。動作モード切換信号がアクセスモードへの切換を
指示するものである場合には、選択手段は全ての共通電
源線を電源に接続し、ワード線切換手段はワード線と行
デコーダとの間を接続することによって、メモリセルの
選択が可能となり、通常のアクセス動作が支障なく行わ
れる。
またこれとは逆に、選択された行の共通電源線を電源
に接続し、他の共通電源線と電源との間を遮断すること
によって、選択された行のメモリセルにのみ電流を供給
する場合には、リーク電流が大きくなった場合に、この
時点で選択されている共通電源線に接続されたメモリセ
ルのなかに、リーク電流の流れるメモリセルが存在する
ことが検出される。
さらに、共通電源線と電源との間にそれぞれ接続され
たヒューズを備えている場合には、リーク電流が生じる
メモリセルの位置が検出された後、そのメモリセルの接
続された行の共通電源線に接続されているヒューズを溶
断することによって、リーク経路を断つことができる。
(実施例) 以下に本発明の一実施例について、図面を参照して説
明する。
第1図は第1の実施例による半導体記憶装置の回路構
成を示したものである。メモリセルM11〜Mmnがm行n列
に配列されている。各メモリセルは、行方向毎に共通電
源線g1〜gmにより電源の供給を受ける。各々の共通電源
線g1〜gmは、線g1を例にとると、レーザヒューズF1に接
続され、さらにp型トランジスタQ1を介して電源端子5
に接続されている。
このp型トランジスタQ1のゲートには、NOR回路3の
出力S1が出力され、NOR回路3の入力端子のうち一方に
はインバータ回路4の出力S2が接続され、インバータ回
路4の入力は、n型トランジスタQ2を介して行デコーダ
12の出力S3が入力されている。行デコーダ12の出力S3
は、p型トランジスタQ3及びn型トランジスタQ5を介し
て、メモリセルを行単位で選択するワード線w1に接続さ
れている。さらにこのワード線w1は、n型トランジスタ
Q4を介してグランドに接続されている。外部入力回路2
は、外部入力端子1を介して装置の外部より与えられる
動作モード切換信号に応じて、二つの出力S4及S5を生成
するものである。出力S4は、NOR回路3のもう一方の入
力端子及びn型トランジスタQ5のゲートに入力され、出
力S5はn型トランジスタQ2、p型トランジスタQ3及びn
型トランジスタQ4の各々のゲートに入力される。
ここで外部入力回路2の入力側とグランドとの間には
抵抗Rが接続されている。選択手段は、外部入力端子
1、外部入力回路2、n型トランジスタQ2、インバータ
回路4、NOR回路3及びp型トランジスタQ1で構成され
ており、ワード線切換手段は、外部入力端子1、外部入
力回路2、p型トランジスタQ3、n型トランジスタQ4及
びQ5で構成されている。
次ぎに、このような構成を有した本実施例の動作につ
いて説明する。先ず動作モードが検査モードの場合であ
るが、以下のようにしてリーク電流が発生するメモリセ
ルが接続された行を検出する。装置外部より、ハイレベ
ルの動作モード切換信号S6が外部入力端子1を介して外
部入力回路2に入力される。これにより、外部入力回路
2からの出力S4はロウレベルに、出力S5はハイレベルに
なる。ハイレベルの出力S5がゲートに入力されたn型ト
ランジスタQ2は導通状態になり、行デコーダの出力S3が
出力S2としてNOR回路3の一方の入力端子に入力され
る。
ここで、この図に表された第1行目が選択された場合
について考えると、行デコーダ12からの出力S3はハイレ
ベルに、図示されていない他の行への出力はロウレベル
になる。ハイレベルの出力S3がNOR回路3の他方の入力
端子に入力され、ハイレベルの出力S1がp型トランジス
タQ1のゲートに入力されて、非導通状態になる。これに
より、この行の共通電源線g1と電源との間が遮断され、
メモリセルM11〜M1nには電源は供給されなくなり、他の
図示されていない共通電源線g2〜gmと電源との間は接続
されて、メモリセルM21〜Mmnには電源が供給される。
さらに、ロウレベルの出力S4がn型トランジスタQ5の
ゲートに入力され、ハイレベルの出力S5がp型トランジ
スタQ3及びn型トランジスタQ4のゲートに入力される。
n型トランジスタQ5及びp型トランジスタQ3は非導通状
態にn型トランジスタQ4は導通状態になり、この行のワ
ード線w1はグランドレベルとなって行デコーダ出力S3と
は切り離される。
この結果、この第1行目に配列されているメモリセル
M11〜M1mには電流は流れず、他のメモリセルM21〜Mmnに
は電流が流れることになる。このようにして各行を順に
選択してその都度リーク電流値を測定していき、この値
が許容値以下であったときの選択行に、不良のメモリセ
ルが含まれていることが検出される。そしてこの行のレ
ーザヒューズF1を溶断することによって共通電源線g1と
電源との間を遮断し、リーク経路を断った状態にして、
予め備えている予備の行に置き換える。
このようにして検査することにより、リーク電流が発
生しているメモリセルの存在位置を、容易に検出するこ
とができる。
一方、通常のアクセス動作を行う場合には、ロウレベ
ルの動作モード切換信号S6が外部入力回路2に与えら
れ、ハイレベルの出力S4とロウレベルの出力S5とが出力
される。これによりn型トランジスタQ2は非導通状態と
なり、NOR回路3にはハイレベルの出力S4が入力され
る。p型トランジスタQ1のゲートにはロウレベルの出力
S1が入力されて導通し、電源端子5を介して電源が共通
電源線g1に接続され、各メモリセルMに電源が供給され
る。さらに、n型トランジスタQ5およびp型トランジス
タQ3は導通し、n型トランジスタQ4は非導通状態になる
ため、行デコーダ12は各ワード線w1〜wmと接続され、何
等支障なく動作する。
次ぎに、第2の実施例について第2図を用いて説明す
る。この実施例は、上述した第1の実施例とは逆に、選
択した行に配列されたメモリセルにのみ電流を流すこと
により、リーク電流が増加した場合に、その選択行に不
良メモリセルが存在することを突き止めるというもので
ある。
この場合も同様に、各行の共通電源線g1〜gmに、各々
のメモリセルM11〜Mmnの端子が接続されている。第1行
目の共通電源線g1を例にとると、レーザヒューズF1とp
型トランジスタQ11を介して、電源端子5に接続されて
いる。このp型トランジスタQ11のゲートには、p型ト
ランジスタQ12及びQ13と、n型トランジスタQ14及びQ15
とで構成されるNOR回路14からの出力S14が入力される。
このNOR回路14の入力端子のうち、一方には行デコー
ダの出力S1が、n型トランジスタQ16を介して出力S16と
して入力される。そして他方の端子には、外部入力端子
1を経て、外部入力回路2によって動作モード切換信号
S11が反転された補出力S12が入力される。ここで、外部
入力回路2の入力側とグランドとの間には、抵抗Rが接
続されている。
さらに、この第1行目のワード線w1には、p型トラン
ジスタQ17とn型トランジスタQ18を介して行デコーダ12
の出力側が接続され、またn型トランジスタQ19を介し
てグランドに接続されている。ここで、トランジスタQ1
7及びQ19のゲートには、n型トランジスタQ16と同様
に、外部入力回路2の正出力S13が入力され、n型トラ
ンジスタQ18のゲートには、補出力S12が入力される。メ
モリセルアレイの各行には、このような回路が同様に構
成されている。
この実施例では、選択手段は、外部入力端子1、外部
入力回路2、NOR回路14、p型トランジスタQ11で構成さ
れ、ワード線切換手段は、外部入力端子1、外部入力回
路2、p型トランジスタQ17、n型トランジスタQ16、Q1
8及びQ19で構成されている。
このような構成を有した第2の実施例における動作に
ついて、以下に説明する。
検査モードの場合には、第1の実施例と同様に、装置
外部からハイレベルの動作モード切換信号S11が外部入
力回路2に入力される。そしてこの外部入力回路2から
は、ハイレベルの正出力S13とロウレベルの補出力S12と
が出力される。これにより、トランジスタQ15、Q17及び
Q18が非導通状態に、トランジスタQ12、Q16及びQ19は導
通状態になる。ワード線はこの図示されたw1に限らず、
全てロウレベルとなって非選択状態におかれる。
そして、行デコーダ12により選択されたこの第1行に
おいてのみ、出力S1がハイレベルとなる。これにより、
導通状態にあるトランジスタQ16を介して出力S16の電位
はハイレベルとなり、p型トランジスタQ13は非導通状
態、n型トランジスタQ14は導通状態になり、NOR回路14
の出力S14はロウレベルとなる。この出力S14をゲートに
入力されて、p型トランジスタ5は導通し、この行のメ
モリセルM11〜M1nには共通電源線g1を介して電源が供給
される。
これに対し、他の選択されていない行への出力S1はロ
ウレベルとなり、p型トランジスタQ13は導通し、n型
トランジスタQ14は非導通状態になる。これによりNOR回
路14の出力はハイレベルとなって、p型トランジスタQ1
1は非導通状態になり、他のメモリセルM21〜Mmnには電
源が供給されなくなる。このようにして各行を順に選択
し、その都度測定していったリーク電流が許容値を超え
た場合に、不良のメモリセルが選択行に存在することが
検出される。そして、その選択行のレーザヒューズF1を
溶断することによって電源の供給路を断ち、リーク電流
が流れないようにした上で、予備の行のメモリセルと置
き換える。このようにして検査することにより、第1の
実施例と同様にリーク電流が発生しているメモリセルの
存在位置を、容易に検出することができる。
通常のアクセル動作を行う場合には、ロウレベルの動
作モード切換信号S11が外部入力回路13に与えられ、ハ
イレベルの補出力S12とロウレベルの正出力S13とが出力
される。これにより、トランジスタQ16は非導通状態に
なって、行デコーダ12とNOR回路14の入力S16との接続が
絶たれる。さらにトランジスタQ17及びQ18は導通状態
に、トランジスタQ19は非導通状態になって、行デコー
ダ12の出力側とワード線w1とが接続され、アクセスすべ
きメモリセルの選択が可能となる。また、NOR回路14に
は、ハイレベルの補出力S12が入力されて、トランジス
タQ15は導通し、トランジスタQ12は非導通状態となる。
この結果、NOR回路14の出力S14はロウレベルとなって、
トランジスタQ11は導通し、全てのメモリセルM11〜Mmn
に電源が供給されて、支障なく動作することができる。
上述した第1及び第2の実施例はいずれも一例であ
り、第1図及び第2図にそれぞれ示された回路構成と異
なるものであってもよい。例えば、行の選択を一行ずつ
行っているが、二行以上を組み合わせて選択し、その行
に接続されたメモリセルにのみ電源を供給することによ
りリーク電流が生じる不良の行を検出してもよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の半導体記憶装置によれ
ば、いずれかの共通電源線が選択され、選択された共通
電源線以外の共通電源線に接続されたメモリセルにのみ
電源が供給される。このような選択を順次行っていくこ
とで、リーク電流が小さくなった時点において、選択さ
れた共通電源線にリーク電流の流れるメモリセルが接続
されていることがわかるため、容易に不良のメモリセル
の位置を検出することが可能である。これにより、不良
のメモリセルの救済を容易に行うことができ、歩留りの
向上に大きく寄与する。ここで逆に、選択された共通電
源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供給し、リー
ク電流が大きくなった時点で、この共通電源線に不良の
メモリセルが接続されていることを検出することも可能
であり、同様の効果が得られる。
さらに、検査モードではワード線と行デコーダとの間
が遮断されて全てのメモリセルが非選択状態になるので
リーク電流以外の電流は流れず、リーク電流が発生する
メモリセルの検出が可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例による半導体記憶装置の
構成を示した回路図、第2図は本発明の第2の実施例に
よる半導体記憶装置の構成を示した回路図、第3図は従
来の半導体記憶装置の構成を示した回路図である。 1……外部入力端子、2……外部入力回路、3,4……イ
ンバータ回路、14……NOR回路、12……行デコーダ、M1
1,M12……メモリセル、w1……ワード線、g1……共通電
源線、F1……レーザヒューズ、Q1〜Q5,Q11〜Q19……ト
ランジスタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江藤 幹夫 東京都渋谷区渋谷1―13―9 トスバッ クコンピューターシステム株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−87852(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 11/413

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メモリセルがマトリクス状に配列されたメ
    モリセルアレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
    続する共通電源線と、 行毎に前記メモリセルを選択するワード線と、 前記行を選択する行アドレス信号を装置外部より与えら
    れて解読し、選択信号を出力する行デコーダと、 前記共通電源線と電源との間に接続され、動作モード切
    換信号を装置外部より与えられ、さらに前記行デコーダ
    から前記選択信号を与えられて前記共通電源線と前記電
    源との間の接続の切り換えを行う選択手段と、 前記ワード線と前記行デコーダの出力側との間に接続さ
    れ、動作モード切換信号を装置外部より与えられて前記
    ワード線と前記行デコーダとの間の接続の切り換えを行
    うワード線切換手段とを備え、 前記選択手段は、前記動作モード切換信号が検査モード
    への切換を指示する場合には、前記選択信号により前記
    共通電源線のうちのいずれかを選択し、選択された共通
    電源線と前記電源との間を遮断し、他の共通電源線を前
    記電源に接続することによって選択された共通電源線以
    外の共通電源線に接続されたメモリセルにのみ電源を供
    給してリーク電流の発生の有無を検出し、前記動作モー
    ド切換信号がアクセスモードへの切換を指示する場合に
    は、前記全ての共通電源線を前記電源に接続するもので
    あり、 前記ワード線切換手段は、前記動作モード切換信号が検
    査モードへの切り換えを指示する場合には、前記ワード
    線と前記行デコーダとの間を遮断して前記メモリセルは
    全て非選択状態にしてリーク電流の発生するメモリセル
    の検出を可能な状態にし、前記動作モード切換信号がア
    クセスモードへの切り換えを指示する場合には、前記ワ
    ード線と前記行デコーダとの間を接続して、前記メモリ
    セルを選択し得る状態にしてアクセス動作を可能にする
    ものであることを特徴とする半導体記憶装置。
  2. 【請求項2】メモリセルがマトリクス状に配列されたメ
    モリセルアレイと、 行方向にある前記各メモリセルの電流経路を各行毎に接
    続する共通電源線と、 行毎に前記メモリセルを選択するワード線と、 前記行を選択する行アドレス信号を装置外部より与えら
    れて解読し、選択信号を出力する行デコーダと、 前記共通電源線と電源との間に接続され、動作モード切
    換信号を装置外部より与えられ、さらに前記行デコーダ
    から前記選択信号を与えられて前記共通電源線と前記電
    源との間の接続の切り換えを行う選択手段と、 前記ワード線と前記行デコーダの出力側との間に接続さ
    れ、動作モード切換信号を装置外部より与えられて前記
    ワード線と前記行デコーダとの間の接続の切り換えを行
    うワード線切換手段とを備え、 前記選択手段は、前記動作モード切換信号が検査モード
    への切換を指示する場合には、前記選択信号により前記
    共通電源線のうちのいずれかを選択し、選択された共通
    電源線と前記電源とを接続し、他の共通電源線と前記電
    源との間を遮断することによって選択された共通電源線
    に接続されたメモリセルにのみ電源を供給してリーク電
    流の発生の有無を検出し、前記動作モード切換信号がア
    クセスモードへの切換を指示する場合には、前記全ての
    共通電源線を前記電源に接続するものであり、 前記ワード線切換手段は、前記動作モード切換信号が検
    査モードへの切り換えを指示する場合には、前記ワード
    線と前記行デコーダとの間を遮断して前記メモリセルは
    全て非選択状態にしてリーク電流の発生するメモリセル
    の検出を可能な状態にし、前記動作モード切換信号がア
    クセスモードへの切り換えを指示する場合には、前記ワ
    ード線と前記行デコーダとの間を接続して、前記メモリ
    セルを選択し得る状態にしてアクセス動作を可能にする
    ものであることを特徴とする半導体記憶装置。
  3. 【請求項3】前記共通電源線と前記電源との間にそれぞ
    れ接続されたヒューズをさらに備え、前記ヒューズは、
    リーク電流が生じるメモリセルの位置が検出された場合
    に、そのメモリセルの接続された行の共通電源線に接続
    されているものが溶断されてリーク経路を断つものであ
    ることを特徴とする請求項1又は2記載の半導体記憶装
    置。
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