JP2753659B2 - ピラゾール誘導体 - Google Patents
ピラゾール誘導体Info
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- JP2753659B2 JP2753659B2 JP21980591A JP21980591A JP2753659B2 JP 2753659 B2 JP2753659 B2 JP 2753659B2 JP 21980591 A JP21980591 A JP 21980591A JP 21980591 A JP21980591 A JP 21980591A JP 2753659 B2 JP2753659 B2 JP 2753659B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なピラゾール誘導
体に関する。
体に関する。
【０００２】
【従来の技術】本発明化合物は、文献未載の新規化合物
である。
である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、後記するよ
うに医薬品として有用な化合物を提供することを目的と
する。
うに医薬品として有用な化合物を提供することを目的と
する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記一
般式（１）で表されるピラゾール誘導体が提供される。
般式（１）で表されるピラゾール誘導体が提供される。
【０００５】
【化４】
【０００６】〔式中Ｒ1 はピリジル基又は置換基として
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン原子、フェ
ニル基、フェニルチオ基及びメチレンジオキシ基から選
ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル基を、Ｒ
2 及びＲ 3 は一方がピリジル基で他方が基−ＮＨＲ5
（Ｒ5 は水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル
基又はホルミル基を示す）を、Ｒ 4 は水素原子、低級ア
ルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基又はフェニ
ル低級アルコキシカルボニル基をそれぞれ示し、また、
上記Ｒ 2 がピリジル基の場合は、Ｒ3 及びＲ4 は互いに
結合して基
低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ
基、ハロゲン置換低級アルキル基、ハロゲン原子、フェ
ニル基、フェニルチオ基及びメチレンジオキシ基から選
ばれる基を１〜３個有することのあるフェニル基を、Ｒ
2 及びＲ 3 は一方がピリジル基で他方が基−ＮＨＲ5
（Ｒ5 は水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル
基又はホルミル基を示す）を、Ｒ 4 は水素原子、低級ア
ルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基又はフェニ
ル低級アルコキシカルボニル基をそれぞれ示し、また、
上記Ｒ 2 がピリジル基の場合は、Ｒ3 及びＲ4 は互いに
結合して基
【０００７】
【化５】
【０００８】（ｎは１又は２である）又は基
【０００９】
【化６】
【００１０】（Ｒ6 は水素原子又は低級アルキル基を示
す）を形成してもよい。］上記一般式（１）で表わされ
る本発明の化合物及びその塩は、抗炎症、抗リウマチ、
抗菌、抗ウイルス等の薬理作用を示し、従って抗炎症
剤、抗リウマチ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤等の医薬品と
して有用である。
す）を形成してもよい。］上記一般式（１）で表わされ
る本発明の化合物及びその塩は、抗炎症、抗リウマチ、
抗菌、抗ウイルス等の薬理作用を示し、従って抗炎症
剤、抗リウマチ剤、抗菌剤、抗ウイルス剤等の医薬品と
して有用である。
【００１１】本明細書において、低級アルキル基として
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等の直鎖又は分岐鎖状低級アルキル基を例示で
きる。
は、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘ
キシル基等の直鎖又は分岐鎖状低級アルキル基を例示で
きる。
【００１２】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペンチルオキ
シ、ヘキシルオキシ基等を例示できる。
【００１３】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル基等を例示できる。
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシル
オキシカルボニル基等を例示できる。
【００１４】フェニル低級アルコキシカルボニル基とし
ては、例えばベンジルオキシカルボニル、β−フェネチ
ルオキシカルボニル、３−フェニルプロポキシカルボニ
ル、４−フェニルブトキシカルボニル、５−フェニルペ
ンチルオキシカルボニル、６−フェニルヘキシルオキシ
カルボニル基等を例示できる。
ては、例えばベンジルオキシカルボニル、β−フェネチ
ルオキシカルボニル、３−フェニルプロポキシカルボニ
ル、４−フェニルブトキシカルボニル、５−フェニルペ
ンチルオキシカルボニル、６−フェニルヘキシルオキシ
カルボニル基等を例示できる。
【００１５】低級アルキルチオ基としては、例えばメチ
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等を例示できる。
ルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、イソブチルチオ、ｔｅｒｔ−ブチルチ
オ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ基等を例示できる。
【００１６】ハロゲン置換低級アルキル基としては、例
えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプ
タフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、ウンデカフ
ルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル基を例示で
きる。
えばトリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル、ヘプ
タフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、ウンデカフ
ルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル基を例示で
きる。
【００１７】低級アルカノイル基としては、例えばアセ
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、トリメチルアセチル、ヘキサノイル
基等を例示できる。
チル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、トリメチルアセチル、ヘキサノイル
基等を例示できる。
【００１８】ピリジル基には、２−ピリジル、３−ピリ
ジル、４−ピリジル基が包含される。
ジル、４−ピリジル基が包含される。
【００１９】ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子及びヨウ素原子が包含される。
子、臭素原子及びヨウ素原子が包含される。
【００２０】本発明のピラゾール誘導体は、各種の方法
により製造することができる。その具体例を下記反応行
程式に示す。
により製造することができる。その具体例を下記反応行
程式に示す。
【００２１】〈反応工程式−１〉
【００２２】
【化７】
【００２３】［式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ3aはピリジル
基を、Ｒ7 は低級アルキル基をそれぞれ示す。］上記反
応工程式−１に示すニトリル誘導体（２）とカルボン酸
エステル（３）との反応は、塩基の存在下、適当な不活
性溶媒中で行なわれる。ここで用いられる塩基として
は、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキ
シドや、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の金属水
素化物等を例示できる。これら塩基は通常化合物（２）
に対して１〜２．５モル量程度使用される。また、不活
性溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）やベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を好適
に使用することができる。反応は、一般に０〜１３０℃
程度の温度範囲にて１〜２０時間程度を要して行なわれ
る。
基を、Ｒ7 は低級アルキル基をそれぞれ示す。］上記反
応工程式−１に示すニトリル誘導体（２）とカルボン酸
エステル（３）との反応は、塩基の存在下、適当な不活
性溶媒中で行なわれる。ここで用いられる塩基として
は、例えばナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシ
ド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等の金属アルコキ
シドや、水素化ナトリウム、水素化リチウム等の金属水
素化物等を例示できる。これら塩基は通常化合物（２）
に対して１〜２．５モル量程度使用される。また、不活
性溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）やベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類を好適
に使用することができる。反応は、一般に０〜１３０℃
程度の温度範囲にて１〜２０時間程度を要して行なわれ
る。
【００２４】かくして得られる化合物（４）を、引き続
いてヒドラジンと環化反応させることにより、目的化合
物（１ａ）を収得できる。該環化反応は、酢酸中で或い
は酢酸等の酸触媒の存在下にベンゼン、トルエン、キシ
レン等の不活性溶媒中で行なわれる。酸触媒を使用する
場合、その使用量は化合物（４）に対して等モル量以上
とするのがよい。反応は、一般に５０〜１３０℃程度の
温度範囲にて１〜２０時間程度で完了する。
いてヒドラジンと環化反応させることにより、目的化合
物（１ａ）を収得できる。該環化反応は、酢酸中で或い
は酢酸等の酸触媒の存在下にベンゼン、トルエン、キシ
レン等の不活性溶媒中で行なわれる。酸触媒を使用する
場合、その使用量は化合物（４）に対して等モル量以上
とするのがよい。反応は、一般に５０〜１３０℃程度の
温度範囲にて１〜２０時間程度で完了する。
【００２５】＜反応工程式−２＞
【００２６】
【化８】
【００２７】［式中Ｒ1 及びＲ3aは前記に同じ。］上記
反応工程式−２に示すホルミル化反応は、化合物（１
ａ）をギ酸、ギ酸−無水酢酸等のホルミル化剤で処理す
ることにより行なわれる。本反応においては、上記ホル
ミル化剤が溶媒も兼ねるので特に溶媒を必要としない
が、適当な不活性溶媒を用いることもでき、該不活性溶
媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロ
エタン、クロロホルム等を例示できる。反応は、一般に
４０〜１００℃程度の温度範囲にて２〜１２時間程度の
条件で実施され、かくして目的化合物（１ｂ）を得るこ
とができる。
反応工程式−２に示すホルミル化反応は、化合物（１
ａ）をギ酸、ギ酸−無水酢酸等のホルミル化剤で処理す
ることにより行なわれる。本反応においては、上記ホル
ミル化剤が溶媒も兼ねるので特に溶媒を必要としない
が、適当な不活性溶媒を用いることもでき、該不活性溶
媒としては、例えばジクロロメタン、１，２−ジクロロ
エタン、クロロホルム等を例示できる。反応は、一般に
４０〜１００℃程度の温度範囲にて２〜１２時間程度の
条件で実施され、かくして目的化合物（１ｂ）を得るこ
とができる。
【００２８】〈反応工程式−３〉
【００２９】
【化９】
【００３０】［式中Ｒ1 及びＲ3aは前記に同じ。Ｒ
2a（＝Ｒ3a）はピリジル基を、Ｒ4a及びＲ5aはそれぞれ
低級アルカノイル基を示す。］上記反応工程式−３にお
いて、化合物（１ａ）のアルカノイル化反応は、不活性
溶媒中で原料化合物と酸無水物とを反応させることによ
り行ない得る。上記不活性溶媒としては、例えばテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、ＤＭＦ等を使用できる。上記反
応系内には更に必要に応じて、例えばピリジン、コリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミン等の塩基触媒を添加存
在させることができる。また酸無水物としては、例えば
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
無水カプロン酸、無水ヘプタン酸等を使用できる。反応
は、０〜１００℃の温度条件下に、１〜２４時間程度で
完結し、かくして目的化合物（１ｃ）及び／又は（１
ｄ）が得られる。
2a（＝Ｒ3a）はピリジル基を、Ｒ4a及びＲ5aはそれぞれ
低級アルカノイル基を示す。］上記反応工程式−３にお
いて、化合物（１ａ）のアルカノイル化反応は、不活性
溶媒中で原料化合物と酸無水物とを反応させることによ
り行ない得る。上記不活性溶媒としては、例えばテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、ＤＭＦ等を使用できる。上記反
応系内には更に必要に応じて、例えばピリジン、コリジ
ン、ルチジン、トリエチルアミン等の塩基触媒を添加存
在させることができる。また酸無水物としては、例えば
無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸、無水吉草酸、
無水カプロン酸、無水ヘプタン酸等を使用できる。反応
は、０〜１００℃の温度条件下に、１〜２４時間程度で
完結し、かくして目的化合物（１ｃ）及び／又は（１
ｄ）が得られる。
【００３１】〈反応工程式−４〉
【００３２】
【化１０】
【００３３】［式中Ｒ1 、Ｒ2a及びＲ3bは前記に同じ。
Ｒ4bは低級アルコキシカルボニル基又はフェニル低級ア
ルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ
示す。］上記反応工程式−４に示す化合物（１ａ）とハ
ロ蟻酸エステル誘導体（５）との反応は、適当な不活性
溶媒中、脱酸剤の存在下に実施される。上記不活性溶媒
としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＤＭ
Ｆ、ＴＨＦ、ジオキサン等を例示できる。ハロ蟻酸エス
テル誘導体（５）の使用量は、通常化合物（１ａ）に対
して１〜２．５倍モル量程度とするのがよい。また脱酸
剤としては、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン等を好適に用いることができ、その使用量
は、化合物（１ａ）に対して１〜２．５倍モル量程度を
採用できる。反応は、０〜５０℃程度の温度条件下に１
〜２４時間程度で完結し、かくして目的化合物（１ｅ）
が得られる。
Ｒ4bは低級アルコキシカルボニル基又はフェニル低級ア
ルコキシカルボニル基を、Ｘはハロゲン原子をそれぞれ
示す。］上記反応工程式−４に示す化合物（１ａ）とハ
ロ蟻酸エステル誘導体（５）との反応は、適当な不活性
溶媒中、脱酸剤の存在下に実施される。上記不活性溶媒
としては、例えばジクロロメタン、クロロホルム、ＤＭ
Ｆ、ＴＨＦ、ジオキサン等を例示できる。ハロ蟻酸エス
テル誘導体（５）の使用量は、通常化合物（１ａ）に対
して１〜２．５倍モル量程度とするのがよい。また脱酸
剤としては、例えば水素化ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ
チルアミン等を好適に用いることができ、その使用量
は、化合物（１ａ）に対して１〜２．５倍モル量程度を
採用できる。反応は、０〜５０℃程度の温度条件下に１
〜２４時間程度で完結し、かくして目的化合物（１ｅ）
が得られる。
【００３４】＜反応工程式−５＞
【００３５】
【化１１】
【００３６】［式中Ｒ1 及びＲ3aは前記に同じ。］上記
反応工程式−５に示す化合物（１ｂ）の還元反応は、例
えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、ベンゼン等の不活性溶
媒中、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチ
ウム等の還元剤を用いて実施される。該還元剤の使用量
は、通常化合物（１ｂ）に対して等モル量以上とされ
る。反応は、一般に０〜７０℃程度の温度条件下に、２
〜２４時間程度で完結し、かくして目的化合物（１ｆ）
が得られる。
反応工程式−５に示す化合物（１ｂ）の還元反応は、例
えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、ベンゼン等の不活性溶
媒中、水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素リチ
ウム等の還元剤を用いて実施される。該還元剤の使用量
は、通常化合物（１ｂ）に対して等モル量以上とされ
る。反応は、一般に０〜７０℃程度の温度条件下に、２
〜２４時間程度で完結し、かくして目的化合物（１ｆ）
が得られる。
【００３７】＜反応工程式−６＞
【００３８】
【化１２】
【００３９】［式中Ｒ1 、Ｒ3a及びｎは前記に同じ。Ｒ
8 は低級アルキル基を、Ｙはハロゲン原子をそれぞれ示
す。］上記反応工程式−６に示す環化反応は、化合物
（１ａ）とハロカルボン酸エステル（６）とを塩基の存
在下に反応させることにより実施される。ハロカルボン
酸エステル（６）の具体例としては、例えばブロム酢酸
エチル、クロル酢酸エチル、３−ブロムプロピオン酸エ
チル等を例示でき、その使用量は、化合物（１ａ）に対
し１〜３倍モル量程度とするのがよい。また塩基として
は、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム等の無機塩
類や水素化ナトリウム、トリエチルアミン等を例示で
き、之等は通常ハロカルボン酸エステル（６）に対し１
〜２．５倍モル量程度使用される。反応は、ＤＭＦ、ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡ）等の不活性溶媒中、５０
〜１３０℃程度の温度条件下で３〜３０時間程度を要し
て実施され、かくして目的化合物（１ｇ）を得ることが
できる。
8 は低級アルキル基を、Ｙはハロゲン原子をそれぞれ示
す。］上記反応工程式−６に示す環化反応は、化合物
（１ａ）とハロカルボン酸エステル（６）とを塩基の存
在下に反応させることにより実施される。ハロカルボン
酸エステル（６）の具体例としては、例えばブロム酢酸
エチル、クロル酢酸エチル、３−ブロムプロピオン酸エ
チル等を例示でき、その使用量は、化合物（１ａ）に対
し１〜３倍モル量程度とするのがよい。また塩基として
は、例えば炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム等の無機塩
類や水素化ナトリウム、トリエチルアミン等を例示で
き、之等は通常ハロカルボン酸エステル（６）に対し１
〜２．５倍モル量程度使用される。反応は、ＤＭＦ、ジ
メチルアセトアミド（ＤＭＡ）等の不活性溶媒中、５０
〜１３０℃程度の温度条件下で３〜３０時間程度を要し
て実施され、かくして目的化合物（１ｇ）を得ることが
できる。
【００４０】＜反応工程式−７＞
【００４１】
【化１３】
【００４２】［式中Ｒ1 、Ｒ2a及びＲ3aは前記に同じ。
Ｒ6a及びＲ9 はそれぞれ低級アルキル基を示す。］上記
反応工程式−７に示す化合物（１ａ）と化合物（７）と
の反応は、酢酸、エタノール−酢酸、ベンゼン、トルエ
ン等の不活性溶媒中で加熱処理することにより行なわれ
る。化合物（７）は一般に化合物（１ａ）に対して１〜
２倍モル量程度用いられる。加熱条件は、８０〜１５０
℃程度で１〜２４時間程度とするのがよい。かくして目
的化合物（１ｈ）が得られる。
Ｒ6a及びＲ9 はそれぞれ低級アルキル基を示す。］上記
反応工程式−７に示す化合物（１ａ）と化合物（７）と
の反応は、酢酸、エタノール−酢酸、ベンゼン、トルエ
ン等の不活性溶媒中で加熱処理することにより行なわれ
る。化合物（７）は一般に化合物（１ａ）に対して１〜
２倍モル量程度用いられる。加熱条件は、８０〜１５０
℃程度で１〜２４時間程度とするのがよい。かくして目
的化合物（１ｈ）が得られる。
【００４３】＜反応工程式−８＞
【００４４】
【化１４】
【００４５】［式中Ｒ1 、Ｒ2a及びＲ6aは前記に同
じ。］上記反応工程式−８に示す化合物（１ａ）の加水
分解反応は、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、ジオキ
サン等の不活性溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸
化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いて実施され
る。反応は、室温〜溶媒の沸点程度の温度で１〜１５時
間程度を要して行なわれる。かくして目的化合物（１
ｉ）が得られる。
じ。］上記反応工程式−８に示す化合物（１ａ）の加水
分解反応は、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、ジオキ
サン等の不活性溶媒中、水酸化ナトリウム水溶液、水酸
化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液を用いて実施され
る。反応は、室温〜溶媒の沸点程度の温度で１〜１５時
間程度を要して行なわれる。かくして目的化合物（１
ｉ）が得られる。
【００４６】上記各反応工程式に示す方法により得られ
る目的化合物は、慣用の分離手段により容易に単離精製
できる。該手段としては、例えば溶媒抽出、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等を例示できる。
る目的化合物は、慣用の分離手段により容易に単離精製
できる。該手段としては、例えば溶媒抽出、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等を例示できる。
【００４７】また、本発明化合物（１）は、これに常法
に従い適当な酸性化合物を付加反応させることにより容
易に医薬的に許容される酸付加塩とすることができる。
上記酸付加塩を形成し得る酸性化合物としては、例えば
塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸及びシュウ
酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエ
ン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸を例示
できる。
に従い適当な酸性化合物を付加反応させることにより容
易に医薬的に許容される酸付加塩とすることができる。
上記酸付加塩を形成し得る酸性化合物としては、例えば
塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸及びシュウ
酸、マレイン酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエ
ン酸、安息香酸、ベンゼンスルホン酸等の有機酸を例示
できる。
【００４８】上記酸付加塩は、遊離形態の本発明化合物
と同様の薬理活性を有しており、本発明はかかる酸付加
塩をも包含する。
と同様の薬理活性を有しており、本発明はかかる酸付加
塩をも包含する。
【００４９】尚、本発明のピラゾール誘導体のうち、下
記一般式（１ｊ）で表される化合物は、下式に示す化合
物（１ｋ）及び化合物（１ｌ）の互変異性体として存在
することも可能であり、本発明はこれらの化合物をも包
含する。
記一般式（１ｊ）で表される化合物は、下式に示す化合
物（１ｋ）及び化合物（１ｌ）の互変異性体として存在
することも可能であり、本発明はこれらの化合物をも包
含する。
【００５０】
【化１５】
【００５１】
【実施例】以下、本発明を更に詳しく説明するため、本
発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
発明化合物の製造例を実施例として挙げる。
【００５２】
【実施例１】３−アミノ−４−（４−フルオロフェニ
ル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾールの製造 ４−フルオロフェニルアセトニトリル２７ｇ（０．２モ
ル）、ピコリン酸エチル３２ｇ（０．２１モル）及びナ
トリウムメトキシド２３ｇ（０．４３モル）をトルエン
３００ｍｌに懸濁させ、９０℃で２時間加熱撹拌した。
反応液を放冷後、析出した黄色結晶を濾過し、少量のト
ルエンで洗浄した。
ル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾールの製造 ４−フルオロフェニルアセトニトリル２７ｇ（０．２モ
ル）、ピコリン酸エチル３２ｇ（０．２１モル）及びナ
トリウムメトキシド２３ｇ（０．４３モル）をトルエン
３００ｍｌに懸濁させ、９０℃で２時間加熱撹拌した。
反応液を放冷後、析出した黄色結晶を濾過し、少量のト
ルエンで洗浄した。
【００５３】次に、上記で得られた黄色結晶を酢酸２０
０ｍｌに懸濁させ、これに氷冷下抱水ヒドラジン４０ｇ
（０．８モル）を加え、そのまま３０分間撹拌後、９０
℃で１時間加熱撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ込み、
ジクロロメタンで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧濃縮した。濃縮により生じた沈殿を濾取
して酢酸エチルで洗浄し、次いでこれを５００ｍｌのエ
タノール−酢酸エチル（２：３）に溶解して活性炭処理
を行なった。活性炭を濾別し、減圧濃縮後生成した結晶
を濾取し、エタノール−酢酸エチルより再結晶して目的
化合物１１ｇを得た。
０ｍｌに懸濁させ、これに氷冷下抱水ヒドラジン４０ｇ
（０．８モル）を加え、そのまま３０分間撹拌後、９０
℃で１時間加熱撹拌した。反応液を氷水中に注ぎ込み、
ジクロロメタンで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥し、減圧濃縮した。濃縮により生じた沈殿を濾取
して酢酸エチルで洗浄し、次いでこれを５００ｍｌのエ
タノール−酢酸エチル（２：３）に溶解して活性炭処理
を行なった。活性炭を濾別し、減圧濃縮後生成した結晶
を濾取し、エタノール−酢酸エチルより再結晶して目的
化合物１１ｇを得た。
【００５４】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
１として第１表に示す。
１として第１表に示す。
【００５５】
【実施例２〜１８】実施例１と同様にして、第１表に示
す各化合物（化合物２〜１８）を製造した。得られた化
合物の構造及び物性を第１表に併記する。
す各化合物（化合物２〜１８）を製造した。得られた化
合物の構造及び物性を第１表に併記する。
【００５６】
【実施例１９】３−アミノ−４−（４−メトキシフェニ
ル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール二塩酸塩の製
造 ４−メトキシフェニルアセトニトリル７．４ｇ（５０ミ
リモル）、ピコリン酸エチル７．６ｇ（５０ミリモル）
及びナトリウムメトキシド５．７ｇ（１００ミリモル）
をトルエン１００ｍｌに懸濁させ、９０℃で１時間加熱
撹拌した。反応液を放冷後、減圧乾固した。次に、残渣
を酢酸６０ｍｌに懸濁させ、氷冷下抱水ヒドラジン９．
８ｍｌ（２００ミリモル）を加え、そのまま１０分間撹
拌後、９０℃で１時間加熱撹拌した。反応液を氷水中に
注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出し、有機層を炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣に４Ｎ塩酸−
酢酸エチルを加え、生成した結晶を濾取し、メタノール
−ジエチルエーテルで再結晶して目的化合物５ｇを得
た。
ル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール二塩酸塩の製
造 ４−メトキシフェニルアセトニトリル７．４ｇ（５０ミ
リモル）、ピコリン酸エチル７．６ｇ（５０ミリモル）
及びナトリウムメトキシド５．７ｇ（１００ミリモル）
をトルエン１００ｍｌに懸濁させ、９０℃で１時間加熱
撹拌した。反応液を放冷後、減圧乾固した。次に、残渣
を酢酸６０ｍｌに懸濁させ、氷冷下抱水ヒドラジン９．
８ｍｌ（２００ミリモル）を加え、そのまま１０分間撹
拌後、９０℃で１時間加熱撹拌した。反応液を氷水中に
注ぎ込み、ジクロロメタンで抽出し、有機層を炭酸水素
ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。残渣に４Ｎ塩酸−
酢酸エチルを加え、生成した結晶を濾取し、メタノール
−ジエチルエーテルで再結晶して目的化合物５ｇを得
た。
【００５７】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
１９として第１表に示す。
１９として第１表に示す。
【００５８】
【実施例２０〜２４】実施例１と同様にして、第１表に
示す各化合物（化合物２０〜２４）を製造した。得られ
た化合物の構造及び物性を第１表に併記する。
示す各化合物（化合物２０〜２４）を製造した。得られ
た化合物の構造及び物性を第１表に併記する。
【００５９】
【実施例２５】３−ホルムアミド−４−（３，４−ジメ
トキシフェニル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール
の製造 化合物１４の２．２６ｇ（７．６ミリモル）をジクロロ
メタン２３ｍｌに溶解し、氷冷下にギ酸−無水酢酸
（５：３，容量比）３ｍｌを滴下し、室温で３日間撹拌
した。反応液を減圧濃縮し、更にキシレンを加えて３回
共沸下減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル、次いで
メタノール−酢酸エチルで再結晶して目的化合物１．６
ｇを得た。
トキシフェニル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール
の製造 化合物１４の２．２６ｇ（７．６ミリモル）をジクロロ
メタン２３ｍｌに溶解し、氷冷下にギ酸−無水酢酸
（５：３，容量比）３ｍｌを滴下し、室温で３日間撹拌
した。反応液を減圧濃縮し、更にキシレンを加えて３回
共沸下減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル、次いで
メタノール−酢酸エチルで再結晶して目的化合物１．６
ｇを得た。
【００６０】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
２５として第１表に示す。
２５として第１表に示す。
【００６１】
【実施例２６】実施例２５と同様にして、第１表に示す
化合物２６を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
化合物２６を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
【００６２】また上記化合物２６は、次の方法によって
も製造される。即ち化合物１の５．４ｇ（２１．２ミリ
モル）にギ酸９．５ｍｌを加え、約６０分で温度を１０
０℃まで上げ、１００℃で一晩加熱し、反応終了後、過
剰のギ酸を減圧留去し、更にキシレンを加えて２回共沸
下減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル、次いでジク
ロロメタン−メタノール−酢酸エチルで再結晶した。か
くして化合物２６の５．３ｇを得た。
も製造される。即ち化合物１の５．４ｇ（２１．２ミリ
モル）にギ酸９．５ｍｌを加え、約６０分で温度を１０
０℃まで上げ、１００℃で一晩加熱し、反応終了後、過
剰のギ酸を減圧留去し、更にキシレンを加えて２回共沸
下減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル、次いでジク
ロロメタン−メタノール−酢酸エチルで再結晶した。か
くして化合物２６の５．３ｇを得た。
【００６３】
【実施例２７〜２８】３−アセトアミド−４−（４−フ
ルオロフェニル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール
及び１−アセチル−５−アミノ−４−（４−フルオロフ
ェニル）−３−（２−ピリジル）ピラゾールの製造 化合物１の５．０ｇ（１９．７ミリモル）をクロロホル
ム１５ｍｌに溶解させ、無水酢酸２．０１ｇ（１９．７
ミリモル）を加え、室温で３日間反応させた。反応液を
減圧濃縮し、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をジエチルエーテ
ル、次いで酢酸エチル−ジエチルエーテルで再結晶し
て、目的化合物（化合物２７）１．２７ｇを得た。
ルオロフェニル）−５−（２−ピリジル）−ピラゾール
及び１−アセチル−５−アミノ−４−（４−フルオロフ
ェニル）−３−（２−ピリジル）ピラゾールの製造 化合物１の５．０ｇ（１９．７ミリモル）をクロロホル
ム１５ｍｌに溶解させ、無水酢酸２．０１ｇ（１９．７
ミリモル）を加え、室温で３日間反応させた。反応液を
減圧濃縮し、酢酸エチルで抽出し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた後、減圧濃縮した。残渣をジエチルエーテ
ル、次いで酢酸エチル−ジエチルエーテルで再結晶し
て、目的化合物（化合物２７）１．２７ｇを得た。
【００６４】上記再結晶の母液を濃縮して得られる残渣
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒…
ジクロロメタン−メタノール＝５０：１）により精製
し、目的画分を更にジエチルエーテル、次いで酢酸エチ
ルで再結晶して、目的化合物（化合物２８）１．０５ｇ
を得た。
を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出溶媒…
ジクロロメタン−メタノール＝５０：１）により精製
し、目的画分を更にジエチルエーテル、次いで酢酸エチ
ルで再結晶して、目的化合物（化合物２８）１．０５ｇ
を得た。
【００６５】得られた各化合物の構造及び物性を第１表
に併記する。
に併記する。
【００６６】
【実施例２９】５−アミノ−１−ベンジルオキシカルボ
ニル−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−（２
−ピリジル）−ピラゾールの製造 化合物１４の１．０ｇ（２．７ミリモル）をジクロロメ
タン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．７４ｍｌ
（５．３１ミリモル）を加え、更に氷冷下にクロロギ酸
ベンジル０．４ｍｌ（２．７８ミリモル）を滴下した。
室温で３時間撹拌後、更にクロロギ酸ベンジル０．２ｍ
ｌを追加し一晩反応させた。反応液に水を加え、ジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒…ジクロロメタン−メタ
ノール＝５０：１）により精製し、目的画分を減圧濃縮
し、更にジエチルエーテル、次いでジクロロメタン−酢
酸エチルで再結晶して、目的化合物３８０ｍｇを得た。
ニル−４−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−（２
−ピリジル）−ピラゾールの製造 化合物１４の１．０ｇ（２．７ミリモル）をジクロロメ
タン２０ｍｌに溶解し、トリエチルアミン０．７４ｍｌ
（５．３１ミリモル）を加え、更に氷冷下にクロロギ酸
ベンジル０．４ｍｌ（２．７８ミリモル）を滴下した。
室温で３時間撹拌後、更にクロロギ酸ベンジル０．２ｍ
ｌを追加し一晩反応させた。反応液に水を加え、ジクロ
ロメタンで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた残渣を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（溶出溶媒…ジクロロメタン−メタ
ノール＝５０：１）により精製し、目的画分を減圧濃縮
し、更にジエチルエーテル、次いでジクロロメタン−酢
酸エチルで再結晶して、目的化合物３８０ｍｇを得た。
【００６７】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
２９として第１表に示す。
２９として第１表に示す。
【００６８】
【実施例３０】５−アミノ−４−（４−フルオロフェニ
ル）−１−メトキシカルボニル−３−（２−ピリジル）
−ピラゾールの製造 水素化ナトリウム１．０ｇのＤＭＦ４０ｍｌ懸濁液に、
５．０ｇ（１９．７ミリモル）の化合物１のＤＭＦ（４
０ｍｌ）溶液を室温で滴下し、更に室温で１時間撹拌し
た。そこへ、クロロギ酸メチル１．６８ｍｌ（２１．７
ミリモル）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水
及び酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を３回水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた
残渣をジエチルエーテル−酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物３．１５ｇを得た。
ル）−１−メトキシカルボニル−３−（２−ピリジル）
−ピラゾールの製造 水素化ナトリウム１．０ｇのＤＭＦ４０ｍｌ懸濁液に、
５．０ｇ（１９．７ミリモル）の化合物１のＤＭＦ（４
０ｍｌ）溶液を室温で滴下し、更に室温で１時間撹拌し
た。そこへ、クロロギ酸メチル１．６８ｍｌ（２１．７
ミリモル）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液に水
及び酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を３回水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた
残渣をジエチルエーテル−酢酸エチルで再結晶して、目
的化合物３．１５ｇを得た。
【００６９】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
３０として第１表に示す。
３０として第１表に示す。
【００７０】
【実施例３１】 ４−（４−フルオロフェニル）−３−
メチルアミノ−５−（２−ピリジル）−ピラゾールの製
造 水素化リチウムアルミニウム０．８ｇのＴＨＦ３０ｍｌ
の懸濁液に、化合物２６の２．０ｇ（７．０９ミリモ
ル）のＴＨＦ（２０ｍｌ）懸濁液を氷冷下に滴下した。
室温で一晩撹拌した後、反応液に水１ｍｌ及び５％水酸
化ナトリウム水溶液１ｍｌを加えて数分撹拌し、更に水
を３ｍｌ追加して撹拌した。不溶物を充分生成させた
後、これをセライトで濾別し、濾液にジクロロメタンと
水を加えて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル−ジエチ
ルエーテル、次いでジクロロメタン−ジエチルエーテル
で再結晶して、目的化合物０．９４ｇを得た。
メチルアミノ−５−（２−ピリジル）−ピラゾールの製
造 水素化リチウムアルミニウム０．８ｇのＴＨＦ３０ｍｌ
の懸濁液に、化合物２６の２．０ｇ（７．０９ミリモ
ル）のＴＨＦ（２０ｍｌ）懸濁液を氷冷下に滴下した。
室温で一晩撹拌した後、反応液に水１ｍｌ及び５％水酸
化ナトリウム水溶液１ｍｌを加えて数分撹拌し、更に水
を３ｍｌ追加して撹拌した。不溶物を充分生成させた
後、これをセライトで濾別し、濾液にジクロロメタンと
水を加えて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾
燥して減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル−ジエチ
ルエーテル、次いでジクロロメタン−ジエチルエーテル
で再結晶して、目的化合物０．９４ｇを得た。
【００７１】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
３１として第１表に示す。
３１として第１表に示す。
【００７２】
【実施例３２】６，７−ジヒドロ−３−（４−フルオロ
フェニル）−２−（２−ピリジル）−４Ｈ−ピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリミジン−５−オンの製造 化合物１の１．０ｇ（３．９３ミリモル）、３−ブロモ
プロピオン酸エチル０．５６ｍｌ（４．３３ミリモル）
及び無水炭酸カリウム５４３ｍｇ（３．９３ミリモル）
をＤＭＦ２０ｍｌに加え、１１０℃で５時間加熱した。
その後、３−ブロムプロピオン酸エチル及び無水炭酸カ
リウムをそれぞれ１当量ずつ追加し、１１０℃で一晩加
熱した。反応終了後、放冷し、水及び酢酸エチルを加え
て抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で２回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮した。得られ
た残渣をジエチルエーテルで再結晶して、目的化合物の
４００ｍｇを得た。
フェニル）−２−（２−ピリジル）−４Ｈ−ピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリミジン−５−オンの製造 化合物１の１．０ｇ（３．９３ミリモル）、３−ブロモ
プロピオン酸エチル０．５６ｍｌ（４．３３ミリモル）
及び無水炭酸カリウム５４３ｍｇ（３．９３ミリモル）
をＤＭＦ２０ｍｌに加え、１１０℃で５時間加熱した。
その後、３−ブロムプロピオン酸エチル及び無水炭酸カ
リウムをそれぞれ１当量ずつ追加し、１１０℃で一晩加
熱した。反応終了後、放冷し、水及び酢酸エチルを加え
て抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で２回洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、減圧濃縮した。得られ
た残渣をジエチルエーテルで再結晶して、目的化合物の
４００ｍｇを得た。
【００７３】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
３２として第１表に示す。
３２として第１表に示す。
【００７４】
【実施例３３】エチル３−（４−フルオロフェニル）−
７−ヒドロキシ−２−（２−ピリジル）−ピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリミジン−６−カルボキシレートの
製造 ５ｇ（１９．７ミリモル）の化合物１及び４．５ｇ（２
０．８ミリモル）のエトキシメチレンマロン酸ジエチル
に酢酸５０ｍｌを加え、この混合液を７時間加熱還流し
た。反応後、減圧濃縮し、生成した結晶を濾取し、更に
ジエチルエーテルで洗浄して６．５ｇの目的化合物を得
た。
７−ヒドロキシ−２−（２−ピリジル）−ピラゾロ
［１，５−ａ］−ピリミジン−６−カルボキシレートの
製造 ５ｇ（１９．７ミリモル）の化合物１及び４．５ｇ（２
０．８ミリモル）のエトキシメチレンマロン酸ジエチル
に酢酸５０ｍｌを加え、この混合液を７時間加熱還流し
た。反応後、減圧濃縮し、生成した結晶を濾取し、更に
ジエチルエーテルで洗浄して６．５ｇの目的化合物を得
た。
【００７５】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
３３として第１表に示す。
３３として第１表に示す。
【００７６】
【実施例３４】３−（４−フルオロフェニル）−７−ヒ
ドロキシ−２−（２−ピリジル）−ピラゾロ［１，５−
ａ］−ピリミジン−６−カルボン酸の製造 化合物１の４．５ｇ（１１．９ミリモル）をエタノール
６０ｍｌに溶かし、１２．５％水酸化ナトリウム水溶液
４０ｍｌを加え、８０℃で４時間加熱した。反応液を放
冷し、塩酸を滴下してｐＨを約４に調整後、生じた沈殿
物を濾取し、更にメタノール次いでジエチルエーテルで
洗浄して３．６ｇの目的化合物を得た。
ドロキシ−２−（２−ピリジル）−ピラゾロ［１，５−
ａ］−ピリミジン−６−カルボン酸の製造 化合物１の４．５ｇ（１１．９ミリモル）をエタノール
６０ｍｌに溶かし、１２．５％水酸化ナトリウム水溶液
４０ｍｌを加え、８０℃で４時間加熱した。反応液を放
冷し、塩酸を滴下してｐＨを約４に調整後、生じた沈殿
物を濾取し、更にメタノール次いでジエチルエーテルで
洗浄して３．６ｇの目的化合物を得た。
【００７７】得られた化合物の構造及び物性を、化合物
３４として第１表に示す。
３４として第１表に示す。
【００７８】
【実施例３５】実施例１と同様にして、第１表に示す化
合物３５を製造した。得られた化合物の構造及び物性を
第１表に併記する。
合物３５を製造した。得られた化合物の構造及び物性を
第１表に併記する。
【００７９】
【実施例３６】実施例２５と同様にして、第１表に示す
化合物３６を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
化合物３６を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
【００８０】
【実施例３７】実施例３１と同様にして、第１表に示す
化合物３７を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
化合物３７を製造した。得られた化合物の構造及び物性
を第１表に併記する。
【００８１】
【実施例３８及び３９】実施例３０と同様にして、第１
表に示す化合物３８及び化合物３９を製造した。得られ
た化合物の構造及び物性を第１表に併記する。
表に示す化合物３８及び化合物３９を製造した。得られ
た化合物の構造及び物性を第１表に併記する。
【００８２】
【表１】
【００８３】
【表２】
【００８４】
【表３】
【００８５】
【表４】
【００８６】
【表５】
【００８７】
【表６】
【００８８】
【表７】
【００８９】
【表８】
【００９０】
【表９】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｋ 31/505 Ａ６１Ｋ 31/505 Ｃ０７Ｄ 401/14 ２３１ Ｃ０７Ｄ 401/14 ２３１ 405/14 405/14 487/04 １４２ 487/04 １４２ //(Ｃ０７Ｄ 487/04 231:00 239:00） (56)参考文献 Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ. ＣＯＭＭＵＮ．，（２），（1974）, Ｐ．45−６ Ｊ．ＣＨＥＭ．ＳＯＣ．，ＣＨＥＭ. ＣＯＭＭＵＮ．，（19），（1974）, Ｐ．782−３
Claims (1)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中Ｒ1 はピリジル基又は置換基として低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ハロゲン
置換低級アルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、フェ
ニルチオ基及びメチレンジオキシ基から選ばれる基を１
〜３個有することのあるフェニル基を、Ｒ2 及びＲ 3 は
一方がピリジル基で他方が基−ＮＨＲ5 （Ｒ5 は水素原
子、低級アルキル基、低級アルカノイル基又はホルミル
基を示す）を、Ｒ 4 は水素原子、低級アルカノイル基、
低級アルコキシカルボニル基又はフェニル低級アルコキ
シカルボニル基をそれぞれ示し、また、上記Ｒ 2 がピリ
ジル基の場合は、Ｒ3 及びＲ4 は互いに結合して基 【化２】 （ｎは１又は２である）又は基 【化３】 （Ｒ6 は水素原子又は低級アルキル基を示す）を形成し
てもよい。〕で表わされるピラゾール誘導体。
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|---|---|---|---|
| JP21980591A JP2753659B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-08-30 | ピラゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23362290 | 1990-09-03 | ||
| JP2-233622 | 1990-09-03 | ||
| JP21980591A JP2753659B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-08-30 | ピラゾール誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0517470A JPH0517470A (ja) | 1993-01-26 |
| JP2753659B2 true JP2753659B2 (ja) | 1998-05-20 |
Family
ID=26523342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21980591A Expired - Fee Related JP2753659B2 (ja) | 1990-09-03 | 1991-08-30 | ピラゾール誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2753659B2 (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2206080A1 (en) * | 1995-09-28 | 1997-04-03 | Otsuka Pharmaceutical Factory, Inc. | Analgesic composition_of pryazolo{1,5-a}pyrimidine derivatives |
| BR9709126A (pt) | 1996-04-25 | 2000-01-11 | Nissan Chemical Ind Ltda | Derivados de etileno e pesticidas contendo os ditos derivados |
| RU2249591C2 (ru) * | 1997-05-22 | 2005-04-10 | Дж.Д. Серл Энд Ко. | 3(5)-гетероарилзамещенные пиразолы в качестве ингибиторов киназы p38 |
| US6514977B1 (en) | 1997-05-22 | 2003-02-04 | G.D. Searle & Company | Substituted pyrazoles as p38 kinase inhibitors |
| US6087496A (en) | 1998-05-22 | 2000-07-11 | G. D. Searle & Co. | Substituted pyrazoles suitable as p38 kinase inhibitors |
| US6979686B1 (en) | 2001-12-07 | 2005-12-27 | Pharmacia Corporation | Substituted pyrazoles as p38 kinase inhibitors |
| JP2002502380A (ja) | 1997-05-22 | 2002-01-22 | ジー．ディー．サール アンド カンパニー | ｐ３８キナーゼ阻害剤としてのピラゾール誘導体 |
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