JP2719504B2 - 液晶ディスプレイ基板用ガラス - Google Patents
液晶ディスプレイ基板用ガラスInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ基板用
ガラスに係り、特にアクティブマトリクス駆動方式の汎
用液晶ディスプレイに用いる基板用ガラスとして好適
な、液晶ディスプレイ基板用ガラスに関する。
ガラスに係り、特にアクティブマトリクス駆動方式の汎
用液晶ディスプレイに用いる基板用ガラスとして好適
な、液晶ディスプレイ基板用ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイは、ＣＲＴ（カソード
レイチューブ、ブラウン管）に比べて消費電力が低く、
低電圧で駆動させることができ、軽量化や薄型化が容易
である等の利点を有している。中でも、ＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）形の電界効果トランジスタを用いたアクテ
ィブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、非常に
多くの走査電極を設けることができるために画素の高密
度化や高精細化が容易であり、デューティー比が高く、
かつ透過表示が可能なため、ＣＲＴに代わるフルカラー
ディスプレーとして注目されている。ここにデューティ
ー比とは液晶ディスプレイにおける解像度を表す指標で
あり、デューティー比が高いほど解像度が高いことにな
る。
レイチューブ、ブラウン管）に比べて消費電力が低く、
低電圧で駆動させることができ、軽量化や薄型化が容易
である等の利点を有している。中でも、ＴＦＴ（薄膜ト
ランジスタ）形の電界効果トランジスタを用いたアクテ
ィブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイは、非常に
多くの走査電極を設けることができるために画素の高密
度化や高精細化が容易であり、デューティー比が高く、
かつ透過表示が可能なため、ＣＲＴに代わるフルカラー
ディスプレーとして注目されている。ここにデューティ
ー比とは液晶ディスプレイにおける解像度を表す指標で
あり、デューティー比が高いほど解像度が高いことにな
る。
【０００３】このＴＦＴ形の電界効果トランジスタを用
いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイ
は、ガラスや石英等の透明基板上に形成する半導体トラ
ンジスタの材質により、アモルファスシリコン（α−Ｓ
ｉ）ＴＦＴ形やポリシリコン（Ｐ−Ｓｉ）ＴＦＴ形等に
分けることができる。
いたアクティブマトリクス駆動方式の液晶ディスプレイ
は、ガラスや石英等の透明基板上に形成する半導体トラ
ンジスタの材質により、アモルファスシリコン（α−Ｓ
ｉ）ＴＦＴ形やポリシリコン（Ｐ−Ｓｉ）ＴＦＴ形等に
分けることができる。
【０００４】α−ＳｉＴＦＴおよびＰ−ＳｉＴＦＴは、
いずれも、透明基板上にα−Ｓｉ膜またはＰ−Ｓｉ膜を
成膜した後、フォトリソグラフィーに基づくパターニン
グ工程を繰返し行うことにより成形される。このため、
ＴＦＴが形成される透明基板には、ＴＦＴの材料の線膨
張係数に近似する線膨張係数を有することの他に、耐熱
性に優れること、化学的耐久性に優れること等が要求さ
れる。
いずれも、透明基板上にα−Ｓｉ膜またはＰ−Ｓｉ膜を
成膜した後、フォトリソグラフィーに基づくパターニン
グ工程を繰返し行うことにより成形される。このため、
ＴＦＴが形成される透明基板には、ＴＦＴの材料の線膨
張係数に近似する線膨張係数を有することの他に、耐熱
性に優れること、化学的耐久性に優れること等が要求さ
れる。
【０００５】このような要求を満たす透明基板として
は、シリカガラスがあるが、高価であるため、汎用の液
晶ディスプレイ用基板としては不適である。このため、
α−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイにおいては、
シリカガラスに代わるものとして、バリウム硼珪酸無ア
ルカリガラスが多用されている。
は、シリカガラスがあるが、高価であるため、汎用の液
晶ディスプレイ用基板としては不適である。このため、
α−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイにおいては、
シリカガラスに代わるものとして、バリウム硼珪酸無ア
ルカリガラスが多用されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、バリウ
ム硼珪酸無アルカリガラスは、歪点が低く、線膨脹係数
も大きいため、これをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプ
レイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴはα−
ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱性等の
面で難点が生じる。
ム硼珪酸無アルカリガラスは、歪点が低く、線膨脹係数
も大きいため、これをＰ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプ
レイの基板として使用した場合、Ｐ−ＳｉＴＦＴはα−
ＳｉＴＦＴより高温下で形成されるために、耐熱性等の
面で難点が生じる。
【０００７】したがって本発明の目的は、上記バリウム
硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦ
ＴだけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイ
の基板としても好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラス
を提供することにある。
硼珪酸無アルカリガラスの欠点を解消し、α−ＳｉＴＦ
ＴだけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液晶ディスプレイ
の基板としても好適な、液晶ディスプレイ基板用ガラス
を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプ
レイ基板用ガラスは、モル％表示による各成分の含有量
が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａ１2Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に
要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、
ガラスの平均線膨脹係数α 100-300 が３４×１０ -7 〜３
９×１０ -7 deg -1 ・ cm -1 、歪点が６３０℃以上となるよう
にＳｒＯおよびＢａＯを必須成分として含むことを特徴
とするものである。
するためになされたものであり、本発明の液晶ディスプ
レイ基板用ガラスは、モル％表示による各成分の含有量
が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａ１2Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に
要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、
ガラスの平均線膨脹係数α 100-300 が３４×１０ -7 〜３
９×１０ -7 deg -1 ・ cm -1 、歪点が６３０℃以上となるよう
にＳｒＯおよびＢａＯを必須成分として含むことを特徴
とするものである。
【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１０】本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラス
は、上述のように、ＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ａ１2Ｏ3、ＭｇＯ、
ＣａＯを含有し、各成分の含有量は、モル％表示でそれ
ぞれ上記の値に限定される。これらの限定理由は、以下
の通りである。
は、上述のように、ＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ａ１2Ｏ3、ＭｇＯ、
ＣａＯを含有し、各成分の含有量は、モル％表示でそれ
ぞれ上記の値に限定される。これらの限定理由は、以下
の通りである。
【００１１】ＳｉＯ2の含有量が６８モル％を超えると
粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では
得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
粘性が高くなって熔融性が低下し、６２モル％未満では
得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
【００１２】また、Ｂ2Ｏ3の含有量が１２モル％以上で
は得られるガラスの歪点が低下し過ぎると共に耐硝酸性
が低下し、８モル％未満では粘性が高くなって熔融性が
低下すると共に、得られるガラスの耐弗酸性が低下す
る。
は得られるガラスの歪点が低下し過ぎると共に耐硝酸性
が低下し、８モル％未満では粘性が高くなって熔融性が
低下すると共に、得られるガラスの耐弗酸性が低下す
る。
【００１３】Ａ１2Ｏ3の含有量が１３モル％を超えると
得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガラ
スに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面が
白濁し易くなる。一方、Ａ１2Ｏ3の含有量が９モル％未
満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
得られるガラスの耐失透性が低下すると共に、このガラ
スに弗酸を接触させたときに、弗酸によりガラス表面が
白濁し易くなる。一方、Ａ１2Ｏ3の含有量が９モル％未
満では得られるガラスの歪点が低下し過ぎる。
【００１４】ＭｇＯは、得られるガラスの膨張係数と粘
性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最
も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必
要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガ
ラスの耐失透性が低下する。
性とを低下させる成分としてアルカリ土類酸化物中で最
も効果的な成分であるため、１モル％以上含有させる必
要があるが、５モル％を超えて含有させると得られるガ
ラスの耐失透性が低下する。
【００１５】また、ＣａＯはＭｇＯとほぼ類似した作用
を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超
えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下す
る。
を有するため３モル％以上必要であるが、７モル％を超
えて含有させると得られるガラスの耐失透性が低下す
る。
【００１６】ＳｒＯおよびＢａＯは共に、得られるガラ
スの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であ
り、かつ粘性を低めて熔融性を向上させると共に得られ
ガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる
成分でもあるため、必須成分として用いられる。 上述の
ようにＳｒＯおよびＢａＯはガラスの耐失透性、熔融
性、膨張係数および歪点に関与する成分であるので、こ
れらの含有量は、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラ
スを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持
できる範囲内で、ガラスの平均線膨脹係数α 100-300 が
３４×１０ -7 〜３９×１０ -7 deg -1 ・ cm -1 、歪点が６３０
℃以上となるような量に限定される。
スの耐失透性を向上させる成分として効果的な成分であ
り、かつ粘性を低めて熔融性を向上させると共に得られ
ガラスの歪点を低下させ、かつ膨張係数を大きくさせる
成分でもあるため、必須成分として用いられる。 上述の
ようにＳｒＯおよびＢａＯはガラスの耐失透性、熔融
性、膨張係数および歪点に関与する成分であるので、こ
れらの含有量は、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラ
スを製造する際に要求される耐失透性と熔融性とを維持
できる範囲内で、ガラスの平均線膨脹係数α 100-300 が
３４×１０ -7 〜３９×１０ -7 deg -1 ・ cm -1 、歪点が６３０
℃以上となるような量に限定される。
【００１７】そして、これらの成分の合量は、９５モル
％以上が好ましい。各成分の含有量が上述の範囲内にあ
っても、これらの成分の合量が９５モル％未満では所望
の特性が得られなくなるため、好ましくない。
％以上が好ましい。各成分の含有量が上述の範囲内にあ
っても、これらの成分の合量が９５モル％未満では所望
の特性が得られなくなるため、好ましくない。
【００１８】ガラスの成分およびその含有量、ならびに
各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−
Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ
−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用可
能な歪点を有するガラス、より具体的には、平均線膨張
係数α 100-300 が３４×１０-7 〜３９×１０-7deg-1・cm
-1で歪点が６３０℃以上であるガラスを得ることができ
る。そしてこのガラスは、熔融性および成形性にも優れ
たガラスであるので、α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−
ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として好適に用
いられる。
各成分の合量を上述のように規定することにより、Ｐ−
Ｓｉの線膨張係数と近似する線膨張係数を有し、かつＰ
−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として使用可
能な歪点を有するガラス、より具体的には、平均線膨張
係数α 100-300 が３４×１０-7 〜３９×１０-7deg-1・cm
-1で歪点が６３０℃以上であるガラスを得ることができ
る。そしてこのガラスは、熔融性および成形性にも優れ
たガラスであるので、α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−
ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレイの基板として好適に用
いられる。
【００１９】また、本発明の液晶ディスプレイ基板用ガ
ラスは、前述したＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ａ１2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯ以外の成分（以下、副成分
という）を、総量で５モル％以下含有することができ
る。
ラスは、前述したＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ａ１2Ｏ3、ＭｇＯ、Ｃ
ａＯ、ＳｒＯ、およびＢａＯ以外の成分（以下、副成分
という）を、総量で５モル％以下含有することができ
る。
【００２０】副成分としては、ＺｎＯ、ＰｂＯ、Ｌａ2
Ｏ3、ＺｒＯ2、Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3からなる群より
選択される少なくとも１種を含有させることが好まし
い。そして、モル％表示による各副成分の含有量は ＺｎＯ ２％以下 ＰｂＯ １％以下 Ｌａ2Ｏ3 １％以下 ＺｒＯ2 １％以下 Ａｓ2Ｏ3 ２％以下 Ｓｂ2Ｏ3 ２％以下 であることが特に好ましい。なお、これら各副成分の含
有量の範囲は、いずれも０％を含む。
Ｏ3、ＺｒＯ2、Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3からなる群より
選択される少なくとも１種を含有させることが好まし
い。そして、モル％表示による各副成分の含有量は ＺｎＯ ２％以下 ＰｂＯ １％以下 Ｌａ2Ｏ3 １％以下 ＺｒＯ2 １％以下 Ａｓ2Ｏ3 ２％以下 Ｓｂ2Ｏ3 ２％以下 であることが特に好ましい。なお、これら各副成分の含
有量の範囲は、いずれも０％を含む。
【００２１】ＺｎＯは得られるガラスの膨張係数を上げ
ずに粘性を低下させ、かつ耐失透性を向上させる成分と
して効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させ
ると共に耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有
させる場合は２モル％以下が特に好ましい。
ずに粘性を低下させ、かつ耐失透性を向上させる成分と
して効果的であるが、得られるガラスの歪点を低下させ
ると共に耐硝酸性を低下させる成分でもあるため、含有
させる場合は２モル％以下が特に好ましい。
【００２２】ＰｂＯは得られるガラスの耐失透性を向上
させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪
点を低下させると共に熔解時の粘性を上げる成分でもあ
るため、含有させる場合は１モル％以下が特に好まし
い。
させる成分として効果的であるが、得られるガラスの歪
点を低下させると共に熔解時の粘性を上げる成分でもあ
るため、含有させる場合は１モル％以下が特に好まし
い。
【００２３】Ｌａ2Ｏ3は得られるガラスの歪点を低下さ
せずに耐失透性を向上させる成分として効果的である
が、高価であると共に得られるガラスの耐硝酸性を低下
させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以
下が特に好ましい。
せずに耐失透性を向上させる成分として効果的である
が、高価であると共に得られるガラスの耐硝酸性を低下
させる成分でもあるため、含有させる場合は１モル％以
下が特に好ましい。
【００２４】ＺｒＯ2は得られるガラスの歪点を上げ、
耐弗酸性および耐硝酸性を向上させる成分として効果的
であるが、得られるガラスの耐失透性を低下させる成分
でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好
ましい。
耐弗酸性および耐硝酸性を向上させる成分として効果的
であるが、得られるガラスの耐失透性を低下させる成分
でもあるため、含有させる場合は１モル％以下が特に好
ましい。
【００２５】Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3は、それぞれ脱泡
剤として必要な成分であるが、白金るつぼや通電装置等
の熔融装置を損傷させるため、含有させる場合は、それ
ぞれ２モル％以下が特に好ましい。本発明の液晶ディス
プレイ基板用ガラスは、各成分の原料として、ガラスの
原料として一般に使用される酸化物、炭酸塩、硝酸塩、
水酸化物等を用い、これらの原料を所定の酸化物換算組
成となるように秤量、混合した後、通常のガラス熔融装
置を用いて１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質
化を行ってから所定の形状に成形、徐冷することにより
得られる。
剤として必要な成分であるが、白金るつぼや通電装置等
の熔融装置を損傷させるため、含有させる場合は、それ
ぞれ２モル％以下が特に好ましい。本発明の液晶ディス
プレイ基板用ガラスは、各成分の原料として、ガラスの
原料として一般に使用される酸化物、炭酸塩、硝酸塩、
水酸化物等を用い、これらの原料を所定の酸化物換算組
成となるように秤量、混合した後、通常のガラス熔融装
置を用いて１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質
化を行ってから所定の形状に成形、徐冷することにより
得られる。
【００２６】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００２７】実施例１ 原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ムおよび亜砒酸を用い、これらを酸化物換算量で表−１
に示す組成となるように秤量、混合した後、１６００℃
で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷
して、１２０×１５０×５０mmの板状を呈する本発明の
液晶ディスプレイ基板用ガラスを得た。
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ムおよび亜砒酸を用い、これらを酸化物換算量で表−１
に示す組成となるように秤量、混合した後、１６００℃
で熔融し、脱泡、均質化を行ってから板状に成形、徐冷
して、１２０×１５０×５０mmの板状を呈する本発明の
液晶ディスプレイ基板用ガラスを得た。
【００２８】得られたガラスの１００〜３００℃におけ
る平均線膨張係数（α100-300)、歪点、および１５００
℃における粘度を表−１に示す。また、得られたガラス
の耐弗酸性および耐硝酸性を以下の要領で評価した。
る平均線膨張係数（α100-300)、歪点、および１５００
℃における粘度を表−１に示す。また、得られたガラス
の耐弗酸性および耐硝酸性を以下の要領で評価した。
【００２９】・耐弗酸性 得られたガラスを研摩して得た試料を２５℃の５％ＨＦ
水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面
積、単位時間当りの量に換算して、その耐弗酸性を評価
した。
水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の重量減を単位面
積、単位時間当りの量に換算して、その耐弗酸性を評価
した。
【００３０】・耐硝酸性 耐弗酸性の評価の場合と同様にして得た試料を８０℃の
３０％ＨＮＯ3水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の
重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その
耐硝酸性を評価した。
３０％ＨＮＯ3水溶液に３時間浸漬し、乾燥後、試料の
重量減を単位面積、単位時間当りの量に換算して、その
耐硝酸性を評価した。
【００３１】これらの各換算値も表−１に示す。
【００３２】さらに、得られたガラス約１００ｇを容量
１００ccの白金坩堝に入れ、この白金坩堝に白金製の蓋
をして１１００℃で２４時間放置し、放置後のガラス内
部における結晶（失透）発生の有無を顕微鏡観察して、
その耐失透性を評価した。この顕微鏡観察結果も表−１
に示す。
１００ccの白金坩堝に入れ、この白金坩堝に白金製の蓋
をして１１００℃で２４時間放置し、放置後のガラス内
部における結晶（失透）発生の有無を顕微鏡観察して、
その耐失透性を評価した。この顕微鏡観察結果も表−１
に示す。
【００３３】実施例２〜４ 原料として珪石粉、硼酸、アルミナ、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ム、亜鉛華、硝酸鉛、酸化ランタン、酸化ジルコニウ
ム、亜砒酸および酸化アンチモンを用い、これらを酸化
物換算量で表−１に示す組成となるように秤量、混合し
た後、１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を
行ってから板状に成形、徐冷して、実施例１と同一形状
の液晶ディスプレイ基板用ガラスをそれぞれ得た。
ム、炭酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、炭酸バリウ
ム、亜鉛華、硝酸鉛、酸化ランタン、酸化ジルコニウ
ム、亜砒酸および酸化アンチモンを用い、これらを酸化
物換算量で表−１に示す組成となるように秤量、混合し
た後、１５００〜１６００℃で熔融し、脱泡、均質化を
行ってから板状に成形、徐冷して、実施例１と同一形状
の液晶ディスプレイ基板用ガラスをそれぞれ得た。
【００３４】得られた各ガラスのα100-300、歪点、およ
び１５００℃における粘度を表−１に示す。
び１５００℃における粘度を表−１に示す。
【００３５】また、得られた各ガラスの耐弗酸性および
耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの
各換算値も表−１に示す。
耐硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの
各換算値も表−１に示す。
【００３６】さらに、得られた各ガラスの耐失透性を実
施例１と同様にして評価した。このときの各顕微鏡観察
結果も表−１に示す。
施例１と同様にして評価した。このときの各顕微鏡観察
結果も表−１に示す。
【００３７】比較例１ 表−１に示すように、従来よりα−ＳｉＴＦＴ形の液晶
ディスプレイの基板として多用されているバリウム硼珪
酸無アルカリガラスに類似する組成のガラスを得た。
ディスプレイの基板として多用されているバリウム硼珪
酸無アルカリガラスに類似する組成のガラスを得た。
【００３８】得られたガラスのα100-300、歪点、および
１５００℃における粘度を表−１に示す。
１５００℃における粘度を表−１に示す。
【００３９】また、得られたガラスの耐弗酸性および耐
硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各
換算値も表−１に示す。
硝酸性を実施例１と同様にして評価した。このときの各
換算値も表−１に示す。
【００４０】さらに、得られたガラスの耐失透性を実施
例１と同様にして評価した。このときの顕微鏡観察結果
も表−１に示す。
例１と同様にして評価した。このときの顕微鏡観察結果
も表−１に示す。
【００４１】
【表１】
【００４２】表−１から明らかなように、実施例１〜４
で得られた本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスのα
100-300は３６×１０-7〜３８×１０-7deg-1・cm-1であ
り、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似している。また、各ガ
ラスの歪点はいずれも６３０℃以上であり、α−ＳｉＴ
ＦＴ形だけでなく、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレ
イの基板としても使用可能なものである。
で得られた本発明の液晶ディスプレイ基板用ガラスのα
100-300は３６×１０-7〜３８×１０-7deg-1・cm-1であ
り、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似している。また、各ガ
ラスの歪点はいずれも６３０℃以上であり、α−ＳｉＴ
ＦＴ形だけでなく、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶ディスプレ
イの基板としても使用可能なものである。
【００４３】また、１５００℃における粘度はいずれの
ガラスでも１０3ホ゜イズ未満であり、実用的な熔融性を
有していることがわかる。
ガラスでも１０3ホ゜イズ未満であり、実用的な熔融性を
有していることがわかる。
【００４４】さらに、５％ＨＦ水溶液に浸漬した場合の
重量減が７〜９mg／cm2・hr、３０％ＨＮＯ3水溶液に浸
漬した場合の重量減が４×１０-2〜１２×１０-2mg／cm
・hrであり、それぞれ、耐弗酸性および耐硝酸性に優れ
ていることがわかる。なお、５％ＨＦ水溶液による処理
中および３０％ＨＮＯ3水溶液による処理中のいずれに
おいても、ガラス表面が白濁する現象は見られなかっ
た。
重量減が７〜９mg／cm2・hr、３０％ＨＮＯ3水溶液に浸
漬した場合の重量減が４×１０-2〜１２×１０-2mg／cm
・hrであり、それぞれ、耐弗酸性および耐硝酸性に優れ
ていることがわかる。なお、５％ＨＦ水溶液による処理
中および３０％ＨＮＯ3水溶液による処理中のいずれに
おいても、ガラス表面が白濁する現象は見られなかっ
た。
【００４５】また、いずれのガラスにおいても、１１０
０℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなか
った。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以
下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。
０℃で２４時間放置した後に結晶の発生は認められなか
った。このことから各ガラスの失透温度は１１００℃以
下であり、実用的な成形性を有していることがわかる。
【００４６】一方、比較例１のバリウム硼珪酸無アルカ
リガラスは、耐弗酸性、耐硝酸性、熔融性および成形性
は問題ないが、実施例１〜４で得られた本発明の液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスに比べると歪点が低く、α
100-300も大きい。
リガラスは、耐弗酸性、耐硝酸性、熔融性および成形性
は問題ないが、実施例１〜４で得られた本発明の液晶デ
ィスプレイ基板用ガラスに比べると歪点が低く、α
100-300も大きい。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の液晶ディ
スプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似
する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶
ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−Ｓｉ
ＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する
良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を
有している。
スプレイ基板用ガラスは、Ｐ−Ｓｉの線膨張係数と近似
する線膨張係数を有し、かつ、Ｐ−ＳｉＴＦＴ形の液晶
ディスプレイの基板としても使用可能な歪点、Ｐ−Ｓｉ
ＴＦＴの成形過程で多用される弗酸および硝酸に対する
良好な耐性、実用的な熔融性、および実用的な成形性を
有している。
【００４８】したがって本発明を実施することにより、
α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液
晶ディスプレイの基板としても好適な、液晶ディスプレ
イ基板用ガラスを提供することが可能となる。
α−ＳｉＴＦＴ形だけでなくＰ−ＳｉＴＦＴ形の汎用液
晶ディスプレイの基板としても好適な、液晶ディスプレ
イ基板用ガラスを提供することが可能となる。
Claims (3)
- 【請求項１】 モル％表示による各成分の含有量が ＳｉＯ2 ６２％以上６８％以下 Ｂ2Ｏ3 ８％以上１２％未満 Ａ１2Ｏ3 ９％以上１３％以下 ＭｇＯ １％以上５％以下 ＣａＯ ３％以上７％以下 であり、液晶ディスプレイ基板用ガラスを製造する際に
要求される耐失透性と熔融性とを維持できる範囲内で、
ガラスの平均線膨脹係数α100-300が３４×１０-7〜３
９×１０-7deg-1・cm-1、歪点が６３０℃以上となるよう
にＳｒＯおよびＢａＯを必須成分として含むことを特徴
とする液晶ディスプレイ基板用ガラス。 - 【請求項２】 平均線膨脹係数α100-300が３４×１０
-7〜３７×１０-7deg-1・cm-1以下である、請求項１に記
載の液晶ディスプレイ基板用ガラス。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の液晶ディスプ
レイ基板を用いて得られた液晶ディスプレイ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7038281A JP2719504B2 (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7038281A JP2719504B2 (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28689590A Division JP2644622B2 (ja) | 1990-10-24 | 1990-10-24 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07277763A JPH07277763A (ja) | 1995-10-24 |
| JP2719504B2 true JP2719504B2 (ja) | 1998-02-25 |
Family
ID=12520938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7038281A Expired - Lifetime JP2719504B2 (ja) | 1995-02-27 | 1995-02-27 | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2719504B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160145691A (ko) | 2014-04-24 | 2016-12-20 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 유리 조성물, 화학 강화용 유리판, 강화 유리판 및 디스플레이용 강화 유리 기판 |
| US11168018B2 (en) | 2013-08-15 | 2021-11-09 | Corning Incorporated | Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides |
| USRE49307E1 (en) | 2013-08-15 | 2022-11-22 | Corning Incorporated | Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass |
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| CN1160268C (zh) | 1998-11-30 | 2004-08-04 | 康宁股份有限公司 | 用于平板显示器的玻璃 |
| JP4445176B2 (ja) * | 1999-06-29 | 2010-04-07 | Ｈｏｙａ株式会社 | 液晶パネル用ガラス基板およびガラス組成物 |
| CN100337954C (zh) * | 2005-02-06 | 2007-09-19 | 河南安彩高科股份有限公司 | 高比模数值的无碱的玻璃组合物及其应用 |
| KR101399745B1 (ko) | 2006-02-10 | 2014-05-26 | 코닝 인코포레이티드 | 고온 및 화학적 안정성을 갖는 유리 조성물 및 그 제조방법 |
| US8007913B2 (en) | 2006-02-10 | 2011-08-30 | Corning Incorporated | Laminated glass articles and methods of making thereof |
| FR2898352B1 (fr) * | 2006-03-10 | 2008-05-30 | Saint Gobain | Substrats de verre pour ecrans plats |
| US8713967B2 (en) | 2008-11-21 | 2014-05-06 | Corning Incorporated | Stable glass sheet and method for making same |
| US20120135853A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-05-31 | Jaymin Amin | Glass articles/materials for use as touchscreen substrates |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04160030A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-03 | Hoya Corp | 液晶ディスプレイ基板用ガラス |
-
1995
- 1995-02-27 JP JP7038281A patent/JP2719504B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20160145691A (ko) | 2014-04-24 | 2016-12-20 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 유리 조성물, 화학 강화용 유리판, 강화 유리판 및 디스플레이용 강화 유리 기판 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07277763A (ja) | 1995-10-24 |
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