JP2707647B2 - 電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方法 - Google Patents
電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方法Info
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- JP2707647B2 JP2707647B2 JP63275141A JP27514188A JP2707647B2 JP 2707647 B2 JP2707647 B2 JP 2707647B2 JP 63275141 A JP63275141 A JP 63275141A JP 27514188 A JP27514188 A JP 27514188A JP 2707647 B2 JP2707647 B2 JP 2707647B2
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電荷結合型カラーラインセンサーのパター
ン形成方法に関する。
ン形成方法に関する。
本発明は、分割露光によりパターンを形成するように
した電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方
法において、上記分割露光により形成される繰り返しパ
ターン部のビット数を12の倍数とすることによって、繰
り返し周期の乱れを生じることなく分割露光により繰り
返しパターンを形成することができるようにしたもので
ある。
した電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方
法において、上記分割露光により形成される繰り返しパ
ターン部のビット数を12の倍数とすることによって、繰
り返し周期の乱れを生じることなく分割露光により繰り
返しパターンを形成することができるようにしたもので
ある。
電荷結合型カラーラインセンサー（以下、CCDカラー
ラインセンサーという）は、カラーコピー機等における
読み取り用のセンサーとして用いられている。
ラインセンサーという）は、カラーコピー機等における
読み取り用のセンサーとして用いられている。
近年、このCCDカラーラインセンサーの製造において
は、パターンの微細化に伴い、パターン形成のための露
光は、例えば縮小率が5:1の縮小投影露光装置を用いて
行われている。この場合、例えばチップ長が20mm以上の
サイズの大きいCCDカラーラインセンサーのパターンを
上述の5:1の縮小投影露光により形成しようとすると、1
00mm以上のサイズのレティクルが必要となる。しかし、
現状ではレティクルのサイズはそれほど大きくないた
め、サイズの大きいCCDカラーラインセンサーを製造す
ることは容易でない。
は、パターンの微細化に伴い、パターン形成のための露
光は、例えば縮小率が5:1の縮小投影露光装置を用いて
行われている。この場合、例えばチップ長が20mm以上の
サイズの大きいCCDカラーラインセンサーのパターンを
上述の5:1の縮小投影露光により形成しようとすると、1
00mm以上のサイズのレティクルが必要となる。しかし、
現状ではレティクルのサイズはそれほど大きくないた
め、サイズの大きいCCDカラーラインセンサーを製造す
ることは容易でない。
このようなサイズの大きいCCDカラーラインセンサー
のパターンを形成するための露光は、例えば「日経マイ
クロデバイス」,1986年５月号，第132頁〜第134頁（日
経マグロウヒル社発行）で提案されているように、複数
回に分割して行うことが考えられる。
のパターンを形成するための露光は、例えば「日経マイ
クロデバイス」,1986年５月号，第132頁〜第134頁（日
経マグロウヒル社発行）で提案されているように、複数
回に分割して行うことが考えられる。
しかし、本発明者の検討によれば、上述のように単に
分割して露光を行うだけでは、次のような問題が生じ
る。すなわち、CCDカラーラインセンサーのセンサー部
には、その長手方向に例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の３色のカラーフィルターがこれらを単位として
繰り返し配置される。従って、このカラーフィルターの
パターンを形成するための露光を単に分割して行うだけ
では、分割露光された領域の間の継ぎ目でＲ、Ｇ、Ｂの
繰り返し周期に乱れが生じてしまい、結果的にCCDカラ
ーラインセンサーが不良となってしまう。
分割して露光を行うだけでは、次のような問題が生じ
る。すなわち、CCDカラーラインセンサーのセンサー部
には、その長手方向に例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の３色のカラーフィルターがこれらを単位として
繰り返し配置される。従って、このカラーフィルターの
パターンを形成するための露光を単に分割して行うだけ
では、分割露光された領域の間の継ぎ目でＲ、Ｇ、Ｂの
繰り返し周期に乱れが生じてしまい、結果的にCCDカラ
ーラインセンサーが不良となってしまう。
従って本発明の目的は、繰り返し周期の乱れを生じる
ことなく分割露光により繰り返しパターンを形成するこ
とができる電荷結合型カラーラインセンサーのパターン
形成方法を提供することにある。
ことなく分割露光により繰り返しパターンを形成するこ
とができる電荷結合型カラーラインセンサーのパターン
形成方法を提供することにある。
CCDカラーラインセンサーのセンサー部には、すでに
述べたＲ、Ｇ、Ｂや黄（Ye）、シアン（Cy）、Ｇ等の３
回周期の繰り返しと、これらに輝度信号をとるための白
（Ｗ）を加えた４回周期の繰り返しとがある。従って、
カラーフィルターの繰り返しパターンを分割露光により
形成する場合には、１回の分割露光で形成される繰り返
しパターン部のビット数をこれらの２種類の繰り返し周
期３と４の最小公倍数である12の倍数とすれば、分割露
光を行う際に分割露光された領域の間の継ぎ目で繰り返
し周期の乱れが生じることはなくなる。
述べたＲ、Ｇ、Ｂや黄（Ye）、シアン（Cy）、Ｇ等の３
回周期の繰り返しと、これらに輝度信号をとるための白
（Ｗ）を加えた４回周期の繰り返しとがある。従って、
カラーフィルターの繰り返しパターンを分割露光により
形成する場合には、１回の分割露光で形成される繰り返
しパターン部のビット数をこれらの２種類の繰り返し周
期３と４の最小公倍数である12の倍数とすれば、分割露
光を行う際に分割露光された領域の間の継ぎ目で繰り返
し周期の乱れが生じることはなくなる。
本発明は、以上の検討に基づいて案出されたものであ
る。
る。
すなわち、本発明は、分割露光によりパターンを形成
するようにした電荷結合型カラーラインセンサーのパタ
ーン形成方法において、分割露光により形成される繰り
返しパターン部のビット数を12の倍数としている。
するようにした電荷結合型カラーラインセンサーのパタ
ーン形成方法において、分割露光により形成される繰り
返しパターン部のビット数を12の倍数としている。
上記した手段によれば、分割露光により形成される繰
り返しパターン部のビット数が12の倍数であるので、
（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、（Ye、Cy、Ｇ）等の３回周期の繰り返
しと（Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ）、（Ye、Cy、Ｇ、Ｗ）等の４回
周期の繰り返しとがあっても、各分割露光により、これ
らの繰り返し単位の倍数分の繰り返しパターンが一括し
て露光されることになる。従って、分割露光された領域
の間の継ぎ目で繰り返しパターンの繰り返し周期の乱れ
が生じることはない。すなわち、繰り返し周期の乱れを
生じることなく分割露光により繰り返しパターンを形成
することができる。
り返しパターン部のビット数が12の倍数であるので、
（Ｒ、Ｇ、Ｂ）、（Ye、Cy、Ｇ）等の３回周期の繰り返
しと（Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ）、（Ye、Cy、Ｇ、Ｗ）等の４回
周期の繰り返しとがあっても、各分割露光により、これ
らの繰り返し単位の倍数分の繰り返しパターンが一括し
て露光されることになる。従って、分割露光された領域
の間の継ぎ目で繰り返しパターンの繰り返し周期の乱れ
が生じることはない。すなわち、繰り返し周期の乱れを
生じることなく分割露光により繰り返しパターンを形成
することができる。
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら
説明する。
説明する。
まず最初に、本実施例においてCCDカラーラインセン
サーのカラーフィルターのパターンを縮小投影露光によ
り形成する際に用いるレティクルについて説明する。第
３図はそのレティクルを示す。第３図に示すように、こ
のレティクルは、透明なガラス板１上にＡパターン部
２、Ｂパターン部３及びＣパターン部４が形成されたも
のである。符号５は遮光領域を示す。Ａパターン部２
は、CCDカラーラインセンサーの出力部及びセンサー部
の一部に対応するパターンを有している。Ｂパターン部
３は、CCDカラーラインセンサーのセンサー部に対応す
るパターンを有している。この場合、このＢパターン部
３における繰り返しパターンの全ビット数は、12×Ｎ
（ただし、Ｎは正の整数）となっている。一方、Ｃパタ
ーン部４は、CCDカラーラインセンサーの入力部及びセ
ンサー部の一部に対応するパターンを有する。
サーのカラーフィルターのパターンを縮小投影露光によ
り形成する際に用いるレティクルについて説明する。第
３図はそのレティクルを示す。第３図に示すように、こ
のレティクルは、透明なガラス板１上にＡパターン部
２、Ｂパターン部３及びＣパターン部４が形成されたも
のである。符号５は遮光領域を示す。Ａパターン部２
は、CCDカラーラインセンサーの出力部及びセンサー部
の一部に対応するパターンを有している。Ｂパターン部
３は、CCDカラーラインセンサーのセンサー部に対応す
るパターンを有している。この場合、このＢパターン部
３における繰り返しパターンの全ビット数は、12×Ｎ
（ただし、Ｎは正の整数）となっている。一方、Ｃパタ
ーン部４は、CCDカラーラインセンサーの入力部及びセ
ンサー部の一部に対応するパターンを有する。
次に、CCDカラーラインセンサーのカラーフィルター
のパターンを形成する方法について説明する。
のパターンを形成する方法について説明する。
まず、第３図に示すレティクルを例えば5:1の縮小投
影露光装置にセットし、あらかじめカラーフィルター形
成用の膜が表面に形成された例えばシリコンウエーハの
ような半導体ウエーハ（図示せず）にステップアンドリ
ピート方式で縮小投影露光を行う。すなわち、第１図に
示すように、まず上述のレティクルのＡパターン部２を
用いて露光を行った後、このＡパターン部２による露光
領域に隣接する領域にＢパターン部３を用いて所定回数
（第１図においては４回）だけ分割露光を繰り返し行
う。次に、引き続いてＢパターン部３による露光領域に
隣接する領域にＣパターン部８を用いて露光を行う。こ
のようにして、この実施例の場合には、合計６ショット
の分割露光で１個のCCDカラーラインセンサー分の露光
を終了することになる。この露光終了後にカラーフィル
ター形成用の膜の現像を行うことによって所望のフィル
ターパターンが形成される。これらの工程を繰り返すこ
とにより、例えばＲ、Ｇ、Ｂの３色のカラーフィルター
を形成することができる。
影露光装置にセットし、あらかじめカラーフィルター形
成用の膜が表面に形成された例えばシリコンウエーハの
ような半導体ウエーハ（図示せず）にステップアンドリ
ピート方式で縮小投影露光を行う。すなわち、第１図に
示すように、まず上述のレティクルのＡパターン部２を
用いて露光を行った後、このＡパターン部２による露光
領域に隣接する領域にＢパターン部３を用いて所定回数
（第１図においては４回）だけ分割露光を繰り返し行
う。次に、引き続いてＢパターン部３による露光領域に
隣接する領域にＣパターン部８を用いて露光を行う。こ
のようにして、この実施例の場合には、合計６ショット
の分割露光で１個のCCDカラーラインセンサー分の露光
を終了することになる。この露光終了後にカラーフィル
ター形成用の膜の現像を行うことによって所望のフィル
ターパターンが形成される。これらの工程を繰り返すこ
とにより、例えばＲ、Ｇ、Ｂの３色のカラーフィルター
を形成することができる。
第２図Ａ及び第２図Ｂは、このようにして形成される
カラーフィルターの配置例を示す。
カラーフィルターの配置例を示す。
また、第１図は１個のCCDカラーラインセンサーの露
光を行う場合を示しているが、実際には第４図に示すよ
うに、第１図と同様な露光を半導体ウエーハ６の全面に
行う。
光を行う場合を示しているが、実際には第４図に示すよ
うに、第１図と同様な露光を半導体ウエーハ６の全面に
行う。
このように、本実施例によれば、CCDカラーラインセ
ンサーのセンサー部にカラーフィルターの繰り返しパタ
ーンを分割露光により形成する場合に、各分割露光によ
り形成される繰り返しパターン部（第３図に示すＢパタ
ーン部３に相当する）のビット数を12の倍数としている
ので、３回周期の繰り返しと４回周期の繰り返しとがあ
っても、分割露光された領域の間の継ぎ目で繰り返し周
期の乱れが生じることがない。従って、縮小投影露光装
置を用いた分割露光により、例えばチップ長20mm以上の
サイズの大きいCCDカラーラインセンサーでもパターン
形成を不良を生じることなく、しかも容易に行うことが
できる。この場合、製造可能なCCDカラーラインセンサ
ーの長さは、使用する半導体ウエーハ６の径のみにより
制限される。また、縮小投影露光装置を用いて露光を行
っているので、パターンの合わせ精度も良い。
ンサーのセンサー部にカラーフィルターの繰り返しパタ
ーンを分割露光により形成する場合に、各分割露光によ
り形成される繰り返しパターン部（第３図に示すＢパタ
ーン部３に相当する）のビット数を12の倍数としている
ので、３回周期の繰り返しと４回周期の繰り返しとがあ
っても、分割露光された領域の間の継ぎ目で繰り返し周
期の乱れが生じることがない。従って、縮小投影露光装
置を用いた分割露光により、例えばチップ長20mm以上の
サイズの大きいCCDカラーラインセンサーでもパターン
形成を不良を生じることなく、しかも容易に行うことが
できる。この場合、製造可能なCCDカラーラインセンサ
ーの長さは、使用する半導体ウエーハ６の径のみにより
制限される。また、縮小投影露光装置を用いて露光を行
っているので、パターンの合わせ精度も良い。
以上、本発明の実施例につき具体的に説明したが、本
発明は、上述の実施例に限定されるものではなく、本発
明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
発明は、上述の実施例に限定されるものではなく、本発
明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、上述の実施例においては、第３図に示すよう
にＡパターン部２、Ｂパターン部３及びＣパターン部４
が形成されたレティクルを用いて露光を行っているが、
これらのＡパターン部２、Ｂパターン部３及びＣパター
ン部４を別個に形成したレティクルを用いて露光を行う
ことも可能である。また、１個のCCDカラーラインセン
サーのパターンを形成するための露光の分割数は必要に
応じて選ぶことが可能である。
にＡパターン部２、Ｂパターン部３及びＣパターン部４
が形成されたレティクルを用いて露光を行っているが、
これらのＡパターン部２、Ｂパターン部３及びＣパター
ン部４を別個に形成したレティクルを用いて露光を行う
ことも可能である。また、１個のCCDカラーラインセン
サーのパターンを形成するための露光の分割数は必要に
応じて選ぶことが可能である。
以上述べたように、本発明によれば、分割露光により
形成される繰り返しパターン部のビット数を12の倍数と
しているので、繰り返し周期の乱れを生じることなく分
割露光により繰り返しパターンを形成することができ
る。
形成される繰り返しパターン部のビット数を12の倍数と
しているので、繰り返し周期の乱れを生じることなく分
割露光により繰り返しパターンを形成することができ
る。
第１図は本発明の一実施例を説明するための平面図、第
２図Ａ及び第２図ＢはCCDカラーラインセンサーのセン
サー部におけるカラーフィルターの配置例を示す図、第
３図は縮小投影露光に用いるレティクルを示す平面図、
第４図はCCDカラーラインセンサーを製造するための半
導体ウエーハの露光例を示す平面図である。 図面における主要な符号の説明 2:Aパターン部、3:Bパターン部、4:Cパターン部、6:半
導体ウエーハ。
２図Ａ及び第２図ＢはCCDカラーラインセンサーのセン
サー部におけるカラーフィルターの配置例を示す図、第
３図は縮小投影露光に用いるレティクルを示す平面図、
第４図はCCDカラーラインセンサーを製造するための半
導体ウエーハの露光例を示す平面図である。 図面における主要な符号の説明 2:Aパターン部、3:Bパターン部、4:Cパターン部、6:半
導体ウエーハ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川本 聖一 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソ ニー株式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−218650（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】分割露光によりパターンを形成するように
した電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方
法において、 上記分割露光により形成される繰り返しパターン部のビ
ット数を12の倍数とすることを特徴とする電荷結合型カ
ラーラインセンサーのパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275141A JP2707647B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63275141A JP2707647B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02121368A JPH02121368A (ja) | 1990-05-09 |
| JP2707647B2 true JP2707647B2 (ja) | 1998-02-04 |
Family
ID=17551261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63275141A Expired - Fee Related JP2707647B2 (ja) | 1988-10-31 | 1988-10-31 | 電荷結合型カラーラインセンサーのパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2707647B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2624570B2 (ja) * | 1990-10-25 | 1997-06-25 | シャープ株式会社 | 固体撮像素子の製造方法 |
| JP2004111867A (ja) | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Canon Inc | 固体撮像素子 |
| JP4533440B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2010-09-01 | キヤノン株式会社 | 撮像装置 |
| JP2010261861A (ja) * | 2009-05-08 | 2010-11-18 | Ricoh Co Ltd | 分光特性取得装置、画像評価装置、及び画像形成装置 |
| JP5367483B2 (ja) | 2009-07-14 | 2013-12-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | レチクル及び固体撮像素子の製造方法 |
| JP2009283978A (ja) * | 2009-08-24 | 2009-12-03 | Canon Inc | 固体撮像素子 |
-
1988
- 1988-10-31 JP JP63275141A patent/JP2707647B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02121368A (ja) | 1990-05-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |