JP2699911B2 - エアナイフ乾燥方法 - Google Patents
エアナイフ乾燥方法Info
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- JP2699911B2 JP2699911B2 JP7040189A JP4018995A JP2699911B2 JP 2699911 B2 JP2699911 B2 JP 2699911B2 JP 7040189 A JP7040189 A JP 7040189A JP 4018995 A JP4018995 A JP 4018995A JP 2699911 B2 JP2699911 B2 JP 2699911B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アクティブマトリクス
型液晶表示装置に用いられる薄膜トランジスタ基板など
の製造工程での枚葉式の洗浄，ウェットエッチング，レ
ジスト剥離等のリンス液のエアナイフ乾燥方法に関し、
特にウォータマークなどの汚染が残り基板欠陥が生じる
ことなくリンス液が乾燥できる方法に関する。
型液晶表示装置に用いられる薄膜トランジスタ基板など
の製造工程での枚葉式の洗浄，ウェットエッチング，レ
ジスト剥離等のリンス液のエアナイフ乾燥方法に関し、
特にウォータマークなどの汚染が残り基板欠陥が生じる
ことなくリンス液が乾燥できる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の処理方法の例を図２に示す。図２
（ａ）は装置全体の構成例、図２（ｂ）及び（ｃ）は、
リンス槽の具体例の側面図及び上面図である。図２
（ａ）において、薄膜トランジスタ基板等のガラス基板
１は、ローダ１００からアンローダ１０４まで自動的に
順次に搬送される。ローダ１００より搬出されたガラス
基板１は、処理槽１０１で、洗浄，ウェットエッチン
グ，レジスト剥離等の処理が行われ、次にリンス槽１０
２に搬送され純水等のリンスが行われる。そして乾燥槽
１０３に搬送され、高圧空気，高圧不活性ガス等を吹き
付けるエアナイフにより乾燥され、アンローダ１０４に
搬送される。
（ａ）は装置全体の構成例、図２（ｂ）及び（ｃ）は、
リンス槽の具体例の側面図及び上面図である。図２
（ａ）において、薄膜トランジスタ基板等のガラス基板
１は、ローダ１００からアンローダ１０４まで自動的に
順次に搬送される。ローダ１００より搬出されたガラス
基板１は、処理槽１０１で、洗浄，ウェットエッチン
グ，レジスト剥離等の処理が行われ、次にリンス槽１０
２に搬送され純水等のリンスが行われる。そして乾燥槽
１０３に搬送され、高圧空気，高圧不活性ガス等を吹き
付けるエアナイフにより乾燥され、アンローダ１０４に
搬送される。
【０００３】図２（ｂ）及び（ｃ）において、ガラス基
板１は、搬送ローラ５の上を図中の左側から右側に搬送
される。リンス槽１０２では、ガラス基板１は、リンス
液シャワー７によりリンス液を吹き付けられ、図２
（ａ）に示す処理槽１０１の処理液を洗い流す。続い
て、ガラス基板１は、乾燥槽１０３に搬送されるとエア
ナイフ３により高圧空気、高圧不活性ガス等を吹き付け
られ、リンス液９を吹き飛ばし、乾燥処理が行われる。
そして、ガラス基板１は、アンローダ１０４に搬送され
る。
板１は、搬送ローラ５の上を図中の左側から右側に搬送
される。リンス槽１０２では、ガラス基板１は、リンス
液シャワー７によりリンス液を吹き付けられ、図２
（ａ）に示す処理槽１０１の処理液を洗い流す。続い
て、ガラス基板１は、乾燥槽１０３に搬送されるとエア
ナイフ３により高圧空気、高圧不活性ガス等を吹き付け
られ、リンス液９を吹き飛ばし、乾燥処理が行われる。
そして、ガラス基板１は、アンローダ１０４に搬送され
る。
【０００４】従来の技術の他の例を図３に示す。乾燥槽
１０３のエアナイフ３の直前にピンホール式リンス液シ
ャワー１１等を設け、更にエアナイフ乾燥する直前にガ
ラス基板１を傾斜搬送させる構成となっている（例え
ば、特開平４−３３７６３７号公報）。
１０３のエアナイフ３の直前にピンホール式リンス液シ
ャワー１１等を設け、更にエアナイフ乾燥する直前にガ
ラス基板１を傾斜搬送させる構成となっている（例え
ば、特開平４−３３７６３７号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図２に示す従来のエア
ナイフ乾燥方法では、図２（ｂ）に示すようにリンス槽
１０２のシャワー７と乾燥槽１０３のエアナイフ３との
間にはある程度の距離が有り、ガラス基板１の最表面に
揆水性の膜が露出している場合、リンス液例えば純水は
部分的にはじかれて水玉６を発生してしまう。その状態
でエアナイフ乾燥されると、図２（ｃ）に示したように
乾燥のあとにウォータマーク１０が生じる問題点があっ
た。
ナイフ乾燥方法では、図２（ｂ）に示すようにリンス槽
１０２のシャワー７と乾燥槽１０３のエアナイフ３との
間にはある程度の距離が有り、ガラス基板１の最表面に
揆水性の膜が露出している場合、リンス液例えば純水は
部分的にはじかれて水玉６を発生してしまう。その状態
でエアナイフ乾燥されると、図２（ｃ）に示したように
乾燥のあとにウォータマーク１０が生じる問題点があっ
た。
【０００６】図３に示す従来の他のエアナイフ乾燥方法
では、ガラス基板１が水平搬送から傾斜搬送に変わる際
にガラス基板１が持ち上がり搬送不良が生じる問題点が
あり、更にガラス基板１の最表面に露出している膜の揆
水性が強い場合、エアナイフ乾燥の直前に水玉を発生し
てしまい、図２の従来例と同様にウォータマークが生じ
る問題点があった。
では、ガラス基板１が水平搬送から傾斜搬送に変わる際
にガラス基板１が持ち上がり搬送不良が生じる問題点が
あり、更にガラス基板１の最表面に露出している膜の揆
水性が強い場合、エアナイフ乾燥の直前に水玉を発生し
てしまい、図２の従来例と同様にウォータマークが生じ
る問題点があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のエアナイフ乾燥
方法はエアナイフの直前にガラス基板とのクリアランス
ギャップを小さくしたスリット状リンス液シャワーを設
け、リンス液を搬送方向に吐出させ、エアナイフ乾燥の
直前までガラス基板を一様にリンス液で覆うようにした
ことを特徴とする。また、エアナイフの前後を隔離し、
ミストの再付着を防止してエアナイフ乾燥を行うことを
特徴とする。
方法はエアナイフの直前にガラス基板とのクリアランス
ギャップを小さくしたスリット状リンス液シャワーを設
け、リンス液を搬送方向に吐出させ、エアナイフ乾燥の
直前までガラス基板を一様にリンス液で覆うようにした
ことを特徴とする。また、エアナイフの前後を隔離し、
ミストの再付着を防止してエアナイフ乾燥を行うことを
特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明によれば、ガラス基板の最表面に強い揆
水性を示す膜がある場合においても、エアナイフの直前
で水玉が発生することを抑えることができ、ウォータマ
ークの発生も防止できる。更に従来の技術の他の例の問
題点である搬送不良の発生も防止できる。
水性を示す膜がある場合においても、エアナイフの直前
で水玉が発生することを抑えることができ、ウォータマ
ークの発生も防止できる。更に従来の技術の他の例の問
題点である搬送不良の発生も防止できる。
【０００９】
【実施例】次に本発明について図面を参照にして説明す
る。図１（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例を示す側面
図と上面図である。図において、１０２はリンス槽、１
０３は乾燥槽、１０４はアンローダ、２ははね返り隔離
板、４はスリット状リンス液シャワー、８はスリット状
リンス液シャワー４から吐出されたリンス液である。乾
燥槽の部分以外は図２の従来例と同じである。乾燥槽１
０３にはスリット状リンス液シャワー４がエアナイフ３
の直前の位置に設けられている。乾燥槽１０３のスリッ
ト状リンス液シャワー４は、ガラス基板１とのクリアラ
ンスギャップを小さくし、ガラス基板１の搬送方向にリ
ンス液８が吐出されるように設置する。そしてエアナイ
フ３のエアがガラス基板１に吹きかかる部分まで、ガラ
ス基板１の表面をリンス液８で一様に覆う様にスリット
状リンス液シャワー４の流量を調整する。更にエアナイ
フ３には、リンス液８のはね返りミストがガラス基板１
に再付着することを防止するために、はね返り隔離板２
が設置されている。
る。図１（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例を示す側面
図と上面図である。図において、１０２はリンス槽、１
０３は乾燥槽、１０４はアンローダ、２ははね返り隔離
板、４はスリット状リンス液シャワー、８はスリット状
リンス液シャワー４から吐出されたリンス液である。乾
燥槽の部分以外は図２の従来例と同じである。乾燥槽１
０３にはスリット状リンス液シャワー４がエアナイフ３
の直前の位置に設けられている。乾燥槽１０３のスリッ
ト状リンス液シャワー４は、ガラス基板１とのクリアラ
ンスギャップを小さくし、ガラス基板１の搬送方向にリ
ンス液８が吐出されるように設置する。そしてエアナイ
フ３のエアがガラス基板１に吹きかかる部分まで、ガラ
ス基板１の表面をリンス液８で一様に覆う様にスリット
状リンス液シャワー４の流量を調整する。更にエアナイ
フ３には、リンス液８のはね返りミストがガラス基板１
に再付着することを防止するために、はね返り隔離板２
が設置されている。
【００１０】これらによりガラス基板１の最表面の膜が
強い疏水性を示し、リンス槽１０２から搬出された時点
で水玉６が発生している場合においても、エアナイフ３
で高圧空気や高圧吹活性ガスを吹き付ける時点では、ガ
ラス基板１の最表面はリンス液８で覆れ、水玉６の発生
が無い状態でエアナイフ乾燥が行え、ウォータマークの
発生が防止できる。更にはね返り隔離板２によりリンス
液８のガラス基板１への再付着も防止できる。
強い疏水性を示し、リンス槽１０２から搬出された時点
で水玉６が発生している場合においても、エアナイフ３
で高圧空気や高圧吹活性ガスを吹き付ける時点では、ガ
ラス基板１の最表面はリンス液８で覆れ、水玉６の発生
が無い状態でエアナイフ乾燥が行え、ウォータマークの
発生が防止できる。更にはね返り隔離板２によりリンス
液８のガラス基板１への再付着も防止できる。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、エアナイ
フ乾燥される時点では、リンス液でガラス基板の表面を
均一に覆い、水玉の発生を抑制し、ウォータマークの発
生を防止したので、製品の品質及び歩留りの向上がはか
れる。
フ乾燥される時点では、リンス液でガラス基板の表面を
均一に覆い、水玉の発生を抑制し、ウォータマークの発
生を防止したので、製品の品質及び歩留りの向上がはか
れる。
【図１】（ａ），（ｂ）は本発明の一実施例を示す側面
図と上面図である。
図と上面図である。
【図２】従来の処理方法の例を示す図で、（ａ）は装置
全体の構成例，（ｂ），（ｃ）はリンス槽・乾燥槽の側
面図と上面図である。
全体の構成例，（ｂ），（ｃ）はリンス槽・乾燥槽の側
面図と上面図である。
【図３】従来の処理方法の他の例を示す図である。
１００ ローダ １０１ 処理槽 １０２ リンス槽 １０３ 乾燥槽 １０４ アンローダ １ ガラス基板 ２ はね返り隔離板 ３ エアナイフ ４ スイット状リンス液シャワー ５ 搬送ローラ ６ 水玉 ７ リンス液シャワー ８，９ リンス液 １０ ウォータマーク
Claims (1)
- 【請求項１】 枚葉式で基板の洗浄、ウェットエッチン
グ、レジスト剥離等を行うリンス液を空気又は不活性ガ
ス等によりエアナイフ乾燥を行う方法において、エアナ
イフの直前の位置にスリット状リンス液シャワーを設
け、前記基板の進行方向にリンス液を吐出させて、エア
ナイフ乾燥の直前まで基板が一様にリンス液で覆われる
ようにしたことを特徴とするエアナイフ乾燥方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040189A JP2699911B2 (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | エアナイフ乾燥方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040189A JP2699911B2 (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | エアナイフ乾燥方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08236498A JPH08236498A (ja) | 1996-09-13 |
| JP2699911B2 true JP2699911B2 (ja) | 1998-01-19 |
Family
ID=12573838
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7040189A Expired - Fee Related JP2699911B2 (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | エアナイフ乾燥方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2699911B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010035506A (ko) * | 2001-02-22 | 2001-05-07 | 신원호 | 엘씨디 패널의 건조 장치 |
| TWI283441B (en) * | 2001-03-14 | 2007-07-01 | Sumitomo Precision Prod Co | Substrate treating device |
| JP2004095926A (ja) * | 2002-09-02 | 2004-03-25 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2006247541A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Toray Ind Inc | 液体除去装置 |
| DE102006034309A1 (de) * | 2006-07-21 | 2008-01-31 | Ic-Automation Gmbh | Vorrichtung zum Reinigen eines flachen Gegenstands |
| JP6047359B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-12-21 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置 |
| CN107401914A (zh) * | 2017-07-20 | 2017-11-28 | 郑州旭飞光电科技有限公司 | 风刀干燥箱 |
| CN108109946A (zh) * | 2018-01-16 | 2018-06-01 | 昆山成功环保科技有限公司 | 一种刻蚀设备 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0744015Y2 (ja) * | 1987-04-03 | 1995-10-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板の液切り装置 |
-
1995
- 1995-02-28 JP JP7040189A patent/JP2699911B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08236498A (ja) | 1996-09-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19970826 |
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