JP2696524B2 - ガングリオシドｇｍ▲下３▼の新規合成法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガングリオシドGM₃の製造方法及び該方法に
用いる中間体に関する。

〔従来の技術〕

哺乳動物細胞の糖脂質（グリコリピド）は、スフィン
ゴシンという長鎖アミノアルコールに脂肪酸がアミド結
合したセラミドという脂質構造に、グルコース、ガラク
トース、Ｎ−アセチルグルコサミン、Ｎ−アセチルガラ
クトサミン、フコース、シアル酸などの糖が種々の組み
合せでグリコシド結合したもので、いわゆるスフィンゴ
糖脂質といわれる範疇に属する。このうちシアル酸を有
するものを特にガングリオシドと称する。

これらの化合物は一般にその大部分が細胞膜２分子層
の外側分子層に局在し、最近の研究によれば細胞におけ
る識別や情報の受容と応答、レセプター機能、分化、細
胞の増殖・悪性変化・行動などにおいて重要な役割を果
たしているものと考えられている。

これらのガングリオシドのうち、ガングリオシドGM₃
は、脳、ヒト脾臓およびイヌの赤血球が単離され、その
構造は式（21）であることがわかっている〔ハコモリ
（1983）、ハンドブック・オブ・リピッド・リサーチ、
Vol.3、スフィンゴ脂質生化学、カンファー、ハコモリ
編、プレナム・プレス、ニューヨーク、p89−166、（Ha
ndbook of Lipid Research,Vol.3,Sphingolipid Bioche
mistry,eds.Kanfer JN,Hakomori S,Plenum Press,New Y
ork,p89−166）〕。

ガングリオシドGM₃の生合成は、腸上皮組織分化およ
び細胞成長の接触阻害と相関があることがわかってい
る。繊維芽球成長要因の存在下におけるベビーハムスタ
ー腎繊維芽球細胞の成長は、外部から加えられたガング
リオシドGM₃の存在により特異的に阻害される。生体膜
の成分であるガングリオシドがこのような重要な機能を
有しており、したがってガングリオシドGM₃を立体選択
的精密合成することは、ガングリオシドの分子構造と生
物情報との相関を解明するうえで必要不可欠なことであ
る。

シャピロは、ガングリオシドGM₃の合成のためのアプ
ローチを報告している（Shapiro D（1974）、24th,Int.
Corgr.Pure Appl.Chem.2:153−66;（1976）Chem.Abstr.
85:177800）。しかし、合成ガングリオシドGM₃のＣ−2c
の立体配置は明らかにされていない。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明者らは、ガングリオシドGM₃を立体選択的に精
密合成できる方法を見い出し、既に特願昭60−123952号
（特開昭61−282393号）として特許出願している。とこ
ろが、この方法によれば、確かにガングリオシドGM₃を
立体選択的に合成できるのであるが、収率、特にグリコ
シル化反応の収率が必ずしも高くなく（約37％）、より
高収率でガングリオシドGM₃を合成できる方法の提供が
望まれていた。

そこで本発明の目的は、高収率でグルコシル化反応を
行うことができ、高収率でガングリオシドGM₃を製造す
ることができる方法を提供することにある。さらに本発
明の目的は、ガングリオシドGM₃合成に有用な新規な中
間体を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物 （ただし、式中、R¹はアセチル基又はベンジル基であ
り、R²はメチル基であり、R³及びR⁴は独立にアセチル基
又はベンジル基であり、R⁵は−COC（CH₃）_３、 又は であり、R⁶はハロゲン又は である）と （式中Bzはベンゾイル基である）とを反応させて得られ
た上記一般式（Ｉ）で示される化合物（ただし、式中、
R¹はアセチル基又はベンジル基であり、R²メチル基であ
り、R³及びR⁴は独立にアセチル基又はベンジル基であ
り、R⁵は−COC（CH₃）_３、 又は であり、R⁶は である）を得、さらに脱アセチル化又は脱ベンジル化、
脱ベンゾイル化およびケン化を行う、ガングリオシドGM
₃の製造方法に関する。

さらに、本発明は、下記一般式（Ｉ）及び（II）で示
される化合物に関する。

（式中、R¹はアセチル基又はベンジル基であり、R²はメ
チル基であり、R³及びR⁴は独立に水素、アセチル基又は
ベンジル基であり、R⁵は−COC（CH₃）_３、 又は であり、R⁶は水酸基、ベンジルオキシ基、ハロゲン、 又は （式中Bzはベンンゾイル基である）であり、Acはアセチ
ル基である）。

（式中、R¹¹及びR¹²は水素であるか、R¹¹とR¹²が共同で
（CH₃）₂Cであり、R¹³はアセチル基又はベンジル基で
あり、R¹⁴は水素、 −COC（CH₃）_３、 又は である） 以下、本発明について原料化合物（１）からガングリ
オシドGM₃（21）への合成経路をスキーム１及び２に従
って説明する。

尚、本明細書においてMeはメチル基、Acはアセチル
基、Bnはベンジル基、Bzはベンゾイル基、−CO＋はピパ
ロイル基、Cerはセラミド基を表わす。

一般式（II）で示される化合物の例としては、スキー
ム１に記載された化合物（８）、（９）及び（10）を挙
げることができる。化合物（８）、（９）及び（10）は
以下のように化合物（１）から合成することができる。

原料化合物（１）は、特開昭61−12692号に記載の方
法に従って合成することができる。化合物（２）は、化
合物（１）をトリス−トリフェニルホスフィンロジウム
（Ｉ）クロライド及び1,4−ジアザビシクロオクタンで
処理することにより得られ、化合物（３）は化合物
（２）と四臭化炭素とを反応させることにより得られ、
化合物（４）は、化合物（３）をnBu₄NBr、Et₃N及びBnO
Hで処理することより得ることができる。化合物（５）
は化合物（４）をNaOCH₃−メタノールにより脱アセチル
化することにより得られる。化合物（６）は化合物
（５）をBnBr（臭化ベンジル）処理によりベンジル化し
て得ることができる。化合物（７）は化合物（６）をTM
S（トリメチルシラン）トリフレートで処理することに
より得られる。

化合物（８）は化合物（７）を例えば無水メタノール
−NaOCH₃で脱アセチル化することにより得ることができ
る。無水メタノール−NaOCH₃の代りにK₂CO₃−CH₃OH、Na
OH−CH₃OH−H₂O、CH₃OH−３級塩基（例えばトリエチル
アミン）等の加水分解試薬を用いることもできる。又反
応は約０〜80℃、30〜24時間の条件で行うことが好まし
い。

化合物（９）は、化合物（８）をトリメチルアセチル
クロライド−DMAP（ジメチルアミノピリジン）で処理す
ることにより得ることができる。トリメチルアセチルク
ロライド−DMAPの代りにトリエチルアミン−ジクロロメ
チル−ピバロイルクロライドを用いることもできる。反
応は、室温〜100℃、１時間〜12時間の条件下行うこと
が好ましい。

化合物（10）は、化合物（９）をCF₃COOHで処理して
脱保護することにより得ることができる。

一般式（Ｉ）で示される化合物の例としては、スキー
ム１及び２に記載された化合物（11）、（14）、（1
5）、（16）、（17）、（18）、（19）及び（20）を挙
げることができる。尚、化合物（19）の置換基Ｘはハロ
ゲンを示し、ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素を挙
げることができ、特にフッ素であることが好ましい。

化合物（11）は化合物（10）とクーンの方法〔Kuhn
R.ら、（1966）Chem Ber99:611−17〕により合成される
Ｎ−アセチルノイラミン酸アセテートメチルエステル
〔化合物（22）〕とを、ジクロロメタン、1,2−ジクロ
ロエタン等の溶媒中、Hg（CN）_２、HgBr₂、モレキュラ
ーシーブ、Ag₂CO₃、AgClO₄、AgOSO₂CF₃、（CH₃）₃COSO₂
CF₃等のグリコデーション触媒存在下に、−20℃〜150℃
で１〜120時間程度反応させることにより得られる。
尚、化合物（10）と（22）の反応の際には副反応物とし
て化合物（12）及び（13）も得られる。

化合物（14）は、化合物（11）を無水酢酸−ピリジン
で処理することにより得ることができる。化合物（15）
は、化合物（14）をPd−Ｃ触媒を用いて水素還元するこ
とにより得ることができる。化合物（16）は、化合物
（15）を無水酢酸−ピリジンで処理することにより得る
ことができる。化合物（17）は、化合物（16）とヒドラ
ジニウムアセテート（NH₂NH₂CH₃COOH）とを溶媒、例え
ばDMFの存在下、室温〜60℃で５分〜５時間反応させる
ことにより得ることができる。

化合物（18）は、化合物（17）とトリクロロアセトニ
トリルをDBU（1,8−ジアザビシクロ〔5,4,0〕−７−ウ
ンデセン）の存在下０℃〜50℃で30分〜６時間程度反応
させることにより得ることができる。DBUの代りにNaH、
K₂CO₃を用いることもできる。又、反応溶媒としてジク
ロルエタン、ジクロルメタン、THF等を用いることがで
きる。

化合物（19）〔ただし、式中Ｘはフッ素である〕は、
化合物（17）とDAST〔（ジエチルアミノ）サルファート
リフルオライド〕とを−30〜30℃で30分〜６時間程度反
応させることにより得ることができる。反応溶媒として
例えばジクロルエタン等を用いることができる。

化合物（20）は、化合物（18）又は化合物（19）とベ
ンジルセラミド（化合物（23））とをグリコシル化触媒
の存在下−20〜60℃で２〜12時間程度反応させることに
より得ることができる。グリコシル化触媒の例として
は、BF₃−Et₂O、TMSトリフレート、AlCl₃等のルイス酸
触媒を挙げることができる。尚、化合物（23）は特開昭
61−282393号に記載の方法に基いて合成することができ
る。

化合物（20）は、常法〔例えばNaOCH₃等を用いる脱ア
シル化反応〕により脱保護し〔ピバロイル基、アセチル
基及びセラミド基のベンゾイル基を脱離する〕、かつケ
ン化することにより、目的生産物であるガングリオシド
GM₃（化合物（21））とすることができる。

尚、化合物（８）から化合物（９）の合成において、
化合物（８）を、トリメチルアセチルクロライドの代り
にトリメチルベンゾイルクロライド又はメチルベンゾイ
ルクロライドと反応させるとにより一般式（Ｉ）のR⁵が 及び である化合物を得ることができる。

以下本発明を実施例により説明する。

実施例１（化合物（１）→（２）） Ｉ）化合物（１）5.0g（7.9mmol）をEtOH:ベンゼン:H₂O
（7:3:1）の混合溶媒300mlに溶かし、トリス−トリフェ
ニルホスフィンロジウム（Ｉ）クロライド451mg（0.481
mmol）1,4−ジアザビシクロオクタン150mg（1.65mmol）
を加え、20時間還流を行った。反応液をセライトロ過
し、留去後、80％THF（20％H₂O）100mlを加え、I₂2.5g
（11.8mmol）を加え、室温で１時間撹拌し、水を加え、
CHCl₃で抽出した。CHCl₃層をチオ硫酸ナトリウム水溶
液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水MgSO₄乾燥後留去し
た。残渣をシリカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ−300、5
0g、CHCl₃:アセトン（Et₃N1％）＝4:1）で精製して化合
物（２）を得た。

2.81g（60％） Rf＝0.56（CCl₄:アセトン＝4:3） II）化合物（１）26g（41mmol）をEtOH:ベンゼン:H₂O
（7:3:1）の混合溶媒1.1に溶かし、トリス−トリフェ
ニルホスフィンロジウム（Ｉ）クロライド2.5g（2.666m
mol）、1,4−ジアザビシクロオクタン780mg（8.58mmo
l）を加え、20時間還流した。反応液をセライトロ過
し、留去後、90％アセトン水溶液200mlに溶かし、HgCl₂
39g（14.4mmol）、黄HgO780mg（3.6mmol）を加え、１時
間室温で撹拌した。反応液をセライトロ過し、留去後、
CHCl₃で抽出した。CHCl₃層をヨウ化カリウム水溶液ハイ
ポ、水、飽和食塩水で洗浄し、無水MgSO₄で乾燥後留去
した。残渣をシリカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ−30
0、2.4kg、CHCl₃:アセトン（１％Et₃N）＝4:1）で精製
して化合物（２）を得た。

16.4g（67.5％） ▲〔α〕²⁴ _D▼＋39.4（ｃ＝1.03、CHCl₃） 2.074（s,3H,CH₃CO）,2.080（s,3H,CH₃CO）,2.085（s,3
H,CH₃CO）,2.112（s,3H,CH₃CO）,2.115（s,3H,CH₃CO）,
2.124（s,3H,CH₃CO）,2.128（s,3H,CH₃CO）,3.941（t,1
H,H−5b）,4.357（d,1H,J＝7.69,H−1bβ）,4.381（d,1
H,J＝7.69,H−1bα）,4.740（d,1H,J＝7.69,H−1aβ）,
4.822（dd,1H,J＝3.66,10.26,H−2a）,4.860（dd,1H,J
＝5.86,7.70,H−2b）,5.210（t,J＝9.53,H−3aβ）,5.3
57（d,1H,J＝3.66,H−1aα）,5.511（t,1H,J＝9.90,H−
3aα）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 95.145（Ｃ−１α）,100.260（Ｃ−２β）,100.467（Ｃ
−１β）， 169.342（Ｃ＝０）,169.979（Ｃ＝０）,170.448（Ｃ＝
０）,170.676（Ｃ＝０）,170.703（Ｃ＝０）,170.824
（Ｃ＝０）,170.857（Ｃ＝０） 元素分析 C₂₄H₃₆O₁₆ 計算値 C,49.65 H,6.25 実測値 C,49.98 H,6.12 実施例２（化合物（２）→（３）） Ar gas中化合物（２）1.5g（2.531mmol）、四臭化炭
素1.679g（5.06mmol）をCH₂Cl₂20mlに溶かし、−20℃冷
却下で（Me₂N）₃P（5.06mmol）0.826gを加え、30分撹拌
後、３時間還流した。反応液に酢酸エチルを加え、酢酸
エチル層を希HClaq、水、飽和食塩水で洗浄後、無水MgS
O₄で乾燥後留去して化合物（３）を得た。

1.708g（TLCより1:1） Rf＝0.45（トルエン:EtOAc＝1:1） 得られたサンプルの一部をトルエン:EtOAc＝1:1で精
製し500MHz NMR測定用サンプルとした。¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.322 2.080（s,3H,CH₃CO×２）,2.097（s,6H,CH₃CO）,2.121
（s,3H,CH₃CO）,2.123（s,3H,CH₃CO）,3.847（t,1H,J＝
9.52,H−4a）,4.437（α,1H,J＝7.33,H−1bβ）,4.772
（dd,1H,J＝4.03,9.89,H−2a）,4.877（dd,1H,J＝6.23,
7.33,H−2b）,5.571（t,1H,J＝9.53,H−3a）,6.541（d,
1H,J＝4.03,H−1aα）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 86.739（Ｃ−1aα）,99.978（Ｃ−1bβ）， 169.255（Ｃ＝０）,169.570（Ｃ＝０）,170.100（Ｃ＝
０）,170.402（Ｃ＝０）,170.824（Ｃ＝０） 元素分析 C₂₄H₃₅O₁₅Br 計算値 C,44.80 H,5.48 実測値 C,44.50 H,5.42 実施例３（化合物（３）→（４）） Ar gas下で化合物（３）1.7gを無水CH₂Cl₂50mlに溶か
し、氷−MeOH冷却下で、nBu₄NBr203mg（0.63mmol）、Et
₃N228mg（2.25mmol）を加えて30分撹拌後、BnOH665mg
（6.2mmol）を加え、室温で10分撹拌し、60℃で一夜撹
拌した。反応液を留去し、残渣をシリカゲルカラム（ワ
コーゲル、Ｃ−300、150g、トルエン:EtOAc（１％Et
₃N）＝10:1）で精製して化合物（４）を得た。

398mg（化合物（２）から23％） Rf＝0.46（トルエン:EtOAc＝1:1） ▲〔α〕²⁰ _D▼−47.98（CHCl₃、ｃ＝0.667） 元素分析 C₃₂H₄₂O₁₆ 計算値 C,56.30 H,6.20 実測値 C,56.35 H,6.33¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.340 1.792（s,3H, 2.072（s,3H,CH₃C＝０）,2.095（s,3H,CH₃C＝０）,2.09
8（s,3H,CH₃C＝０）,2.110（s,3H,CH₃C＝０）,4.237（d
d,1H,J＝2.20,7.91,H−4b）,4.507（d,1H,J＝8.06,H−1
b）,4.563（s,2H,CH₂−Ph）,4.962（dd,1H,J＝4.60,8.0
6,H−2b）,5.584（dd,J＝1.46,1.47,H−3a）,5.628（d,
1H,J＝5.13,H−1a）,7.26〜7.38（m,5H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,77.045、CDCl₃），δ； 20.894（CH₃）,20.914（CH₃）,20.927（CH₃）,20.941
（CH₃）,20.961（CH₃）， 90.218（Ｃ−1a）,100.367（Ｃ−1b）， 127.059,127.729,128.641（ph） 実施例４（化合物（４）→（５）） 化合物（４）3.37g（4.94mmol）を乾燥メタノール50m
lに溶かし、1NNaOCH₃5ml（5mmol）を加え、室温５時間
撹拌した。反応液を留去乾燥して化合物（５）を得た。
〔4.05g、Rf＝0.396（メタノール：クロロホルム＝1:
8）〕化合物（５）は精製することなく、そのまま次の
反応に用いた。

実施例５（化合物（５）→（６）） 化合物（５）4.05gを乾燥DMF60mlに溶かし、０℃で60
％NaH1.0g（24.7mmol）を少量づつ加えた後１時間撹拌
し、BnBr4.3g（2.7mmol）を加え、そのまま一夜撹拌し
た。反応液に少量のメタノールを加え、１時間撹拌後、
留去した。残渣をEtOAcで抽出し、EtOAc層を水、飽和食
塩水で洗浄後無水MgSO₄で乾燥し、留去した。残渣をシ
リカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ−300トルエン:EtOAc
（１％Et₃N）＝10:1）で精製して化合物（６）を得た。

4.434g（化合物（４）から86％） Rf＝0.519（トルエン:EtOAc＝5:1） ▲〔α〕²⁰ _D▼＋16.6（ｃ＝0.553、CHCl₃） 元素分析 C₆₀H₆₆O₁₆ 計算値 C,69.08 H,6.38 実測値 C,68.92 H,6.37¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.313 1.747（s,3H,CH₃CO）,4.081（dd,1H,J＝2.20,5.50,H−4
b）,4.247（d,1H,8.43,H−1b）,4.423（d,1H,J＝12.09,
CH₂ph）,4.431（d,1H,J＝12.45,CH₂ph）,4.488（d,1H,J
＝12.09,CH₂ph）,4.539（s,2H,CH₂ph）,4.572（d,1H,J
＝12.09,CH₂ph）,4.604（d,1H,J＝12.08,CH₂ph）,4.690
（d,1H,J＝11.72,CH₂ph）,4.723（d,1H,J＝12.09,CH₂p
h）,4.742（d,1H,J＝11.72,CH₂ph）,5.681（d,1H,J＝5.
50,H−1a）,7.06〜7.40（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃、77.045），δ； 97.578（Ｃ−1a）,104.442（Ｃ−1b）， 127.066〜128.715（ph）， 実施例６（化合物（６）→（７）） 化合物（６）530mg（0.50mmol）を無水CH₂Cl₂5mlに溶
かし、活性化MS−4A0.8g中に加え、０℃でTMSトリフレ
ート80.4mg（0.362mmol）を加え、そのまま１時間30分
撹拌した。反応液をセライトロ過し、炭酸水素ナトリウ
ム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、無水MgSO₄で乾燥
後留去した。残渣をシリカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ
−300、90g、トルエン:EtOAc（１％Et₃N）＝9:1）で精
製して化合物（７）を得た。

302mg（57％） Rf＝0.367（トルエン:EtOAc＝6:1） ▲〔α〕²⁸ _D▼＋1.82（ｃ＝3.40、CHCl₃） 元素分析 計算値 Ｃ 72.53,H 6.58（2C₆H₆CH₃） 実測値 Ｃ 72.40,H 7.41¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.338 1.935（s,3H,CH₃C＝０）,3.341（dd,1H,J＝6.96,8.06,H
−4a）,3.832（dd,1H,J＝4.40,10.99,H−3b）,4.091（d
d,1H,J＝1.83,5.50,H−4b）,4.316（d,1H,J＝11.72,CH₂
−ph）,4.407（d,1H,J＝8.06,H−1a）,4.415（d,1H,J＝
7.69,H−1b）,4.427（d,1H,J＝12.45,CH₂−ph）,4.475
（d,1H,J＝12.73,CH₂−ph）,4.574（d,1H,J＝12.09,CH₂
−ph）,4.583（d,1H,J＝11.35,CH₂−ph）,4.591（d,1H,
J＝12.47,CH₂−ph）,4.667（d,1H,J＝11.73,CH₂−ph）,
4.791（d,1H,J＝11.72,CH₂−ph）,4.870（d,1H,J＝12.4
5,CH₂−ph）,4.885（d,1H,J＝11.36,CH₂−ph）,5.053
（dd,1H,J＝8.06,9.16,H−2a）,7.16〜7.37（m,25H,p
h）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃、77.045），δ;20.948（CH₃C
O）,26.458（CH₃）,28.026（CH₃）,99.784（Ｃ−1a）,1
02.157（Ｃ−1b）,109.852 68.026（Ｃ−6a）,68.139（Ｃ−6b） 実施例７（化合物（７）→（８）） 化合物（７）300mg（0.29mmol）を無水メタノール10m
lに溶かし、1NNaOCH₃400μ（0.4mmol）を加え、室温
で２時間撹拌後、60℃で一夜撹拌した。反応液をアンバ
ーリストIRC−50で中和後留去した。残渣をシリカゲル
カラム（ワコーゲル、Ｃ−300、30g、トルエン:EtOAc
（１％Et₃N）＝10:1）で精製して化合物（８）を得た。

283.6mg（98％） Rf＝0.228（トルエン:EtOAc＝6:1） ▲〔α〕²⁸ _D▼−1.08（ｃ＝0.833、CHCl₃） 元素分析 C₅₈H₆₄O₁₅ 計算値 C,69.58 H,6.44 実測値 C,69.38 H,6.31¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.344 3.345（dd,1H,J＝6.96,7.70,H−4a）,3.831 3.345（d
d,1H,J＝6.96,7.70,H−4a）,3.831（dd,1H,J＝4.03,10.
99,H−3b）,4.104（dd,1H,J＝1.47,5.47,H−4b）,4.363
（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.372（d,1H,J＝7.69,H−1a
又はｂ）,4.410（d,1H,J＝8.06,H−1a又はｂ）,4.427
（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.525（d,1H,J＝12.09,CH₂p
h）,4.579（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.637（d,1H,J＝1
2.09,CH₂ph）,4.665（d,1H,J＝11.72,CH₂ph）,4.722
（d,1H,J＝11.00,CH₂ph）,4.789（d,1H,J＝12.09,CH₂p
h）,4.919（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.963（d,1H,J＝1
0.09,CH₂ph）,7.25〜7.41（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ;26.478（CH
₃−）,28.033（CH₃−）,68.259（Ｃ−6a）,69.157（Ｃ
−6b）,76.845（Ｃ−4a）,79.446（Ｃ−3b）,80.706
（Ｃ−2b）,82.717（Ｃ−3a）,101.620（Ｃ−1b）,102.
022（Ｃ−1a）， 137.321 実施例８（化合物（８）→（９）） 化合物（８）260mg（0.26mmol）を無水ピリジン10ml
に溶かし、トリメチルアセチルクロライド62.6mg（0.52
mmol）、DMAP20mgを加え、80℃で一夜撹拌した。反応液
を留去し、EtOAcと水を加え抽出した。EtOAc層を水、飽
和食塩水で洗浄し、無水MgSO₄で乾燥留去した。残渣を
シリカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ−300、30g、トルエ
ン:EtOAc（１％Et₃N）＝6:1）で精製して化合物（９）
を得た。

230mg（82％） Rf＝0.437（トルエン:EtOAc＝6:1） ▲〔α〕²⁸ _D▼−51.92（ｃ＝2.60、CHCl₃） 元素分析 計算値 Ｃ 71.17 Ｈ 6.83（＋C₆H₅CH₃） 実測値 Ｃ 70.83 Ｈ 6.45¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.136（s,9H,＋C
O）， 3.338（dd,1H,J＝6.96,8.06,H−4a）,3.837（dd,1H,J＝
4.39,10.99,H−3b）,4.080（dd,1H,J＝1.46,5.86,H−4
b）,4.226（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.397（d,1H,J＝1
0.99,CH₂ph）,4.405（d,1H,J＝8.06,H−1a）,4.437（d,
1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.463（d,1H,J＝7.70,H−1b）,4.
580（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.592（d,1H,J＝12.46,CH
₂ph）,4.671（d,1H,J＝11.72,CH₂ph）,4.778（d,1H,J＝
11.72,CH₂ph）,4.867（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.898
（d,1H,J＝10.62,CH₂ph）,5.128（dd,1H,J＝8.06,9.52,
H−2a）,7.16〜7.36（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 68.171（Ｃ−6a）,69.036（Ｃ−6b）,99.884（Ｃ−1
b）,102.103（Ｃ−1a）， 127.2〜128.6（ph）,137.295 176.729（Ｃ＝０） 実施例９（化合物（９）→（10）） 化合物（９）95mg（0.0885mmol）をCH₂Cl₂5mlに溶か
し、水冷下で90％CF₃COOH水溶液153mg（1.34mmol）を加
え、そのまま２時間30分撹拌した。反応液に水0.5mlを
加えて５分後炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて中和
し、EtOAcで抽出した。EtOAc層を水、飽和食塩水で洗浄
後無水MgSO₄で乾燥し留去した。残渣をシリカゲルカラ
ム（ワコーゲル、Ｃ−300、10g、トルエン:EtOAc＝2:
1）で精製して化合物（10）を得た。

83.6mg（92％） Rf＝0.19（トルエン:EtOAc＝4:1） ▲〔α〕²⁸ _D▼−3.70（ｃ＝0.433、CHCl₃） 元素分析 C₅₉H₆₈O₁₆ 計算値 C,68.59 H,6.63 実測値 C,68.31 H,6.34¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.124 3.341（t,1H,J＝5.87,H−4a）,3.850（dd,1H,J＝4.40,1
0.99,H−3b）,4.272（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.328
（d,1H,J＝11.72,CH₂ph）,4.466（d,1H,J＝12.09,CH₂p
h）,4.476（d,1H,J＝7.69,H−1a）,4.602（d,2H,J＝12.
09,CH₂ph）,4.612（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.667（d,1
H,J＝11.36,CH₂ph）,4.820（d,1H,J＝11.35,CH₂ph）,4.
872（d,1H,J＝12.09,CH₂ph）,4.970（d,1H,J＝10.99,CH
₂ph）,5.144（dd,1H,J＝7.70,9.52,H−2a）,7.04〜7.47
（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ;27.215（CH₃×
３）， 68.225（Ｃ−6a）,69.029（Ｃ−6b）,99.810（Ｃ−1
b）， 実施例10（化合物（10）→（11）、（12）、（13） Ｉ）活性化したMS4A1.5gにArガス下でHgBr₂212mg（0.58
mmol）、Hg（CN）₂149mg（0.58mmol）、ジクロロエタン
4mlに溶かした化合物（10）207mg（0.2mmol）を加えて3
0分撹拌し、氷−MeOH冷却下でジクロロエタン4mlに溶か
した化合物（22）153mg（0.3mmol）を少量づつ滴下後、
そのまま一夜撹拌した。反応液をセライトロ過し、留去
後シリカゲルカラム（Ｃ−300、100g、トルエン:EtOAc
＝1:1;C−300、20g、トルエン:MeOH＝10:1;LiChro prep
Si60、トルエン:MeOH＝10:1）で精製して化合物（1
1）、（12）、（13）を得た。

化合物（13） 5mg（1.7％） Rf＝0.175（トルエン：メタノール＝10:1） ▲〔α〕²⁴ _D▼−6.910（ｃ＝0.333、CHCl₃） 元素分析 C₇₈H₉₁NO₂₇ 計算値 C,63.02 H,6.17 N,0.94 実測値 C,63.12 H,6.04 N,0.92 化合物（12） 15.3mg（β;5.1％） Rf＝0.149（トルエン：メタノール＝10:1） ▲〔α〕²³ _D▼−11.67（ｃ＝0.36、CHCl₃） 元素分析 C₇₉H₉₅NO₂₈ 計算値 C,62.98 H,6.39 N,0.93 実測値 C,62.84 H,6.59 N,0.79 化合物（11） 20.7mg（α;6.9％） Rf＝0.123（トルエン：メタノール＝10:1） 総合計41mg（13.6％） ▲〔α〕²³ _D▼−7.12（ｃ＝0.267、CHCl₃） 元素分析 C₇₉H₉₅NO₂₈ 計算値 C,62.98 H,6.39 N,0.93 実測値 C,62.97 H,6.41 N,0.92 II）Arガス下中で活性化したMS4A1.5gにTHF4mlに溶かし
た化合物（10）418mg（0.4mmol）とAgOTf600mg（2.34mm
ol）、SnCl₂300mg（1.58mmol）を加えて30分撹拌後、氷
−MeOH冷却下で、THF4mlに溶かした化合物（22）408mg
（0.8mmol）を少量づつ加え、そのまま一夜撹拌した。
反応液をセライトロ過し、留去後シリカゲルカラム（ワ
コーゲル、Ｃ−300、100g、トルエン:EtOAc＝1:1;1:2;C
−300、20g、トルエン:MeOH＝10:1）で精製した。更にS
ephadex LH−20で精製した。

デヒドロ体409mg III）Arガス下中で活性化したMS4A3.0gにCH₃CN5mlに溶
かした化合物（10）517mg（0.5mmol）とSn（OSO₂CF₃）₂
458.5mg（1.1mmol）を加えて30分撹拌後、氷−MeOH冷却
下でCH₃CN5mlに溶かした化合物（22）765mg（1.5mmol）
を少量づつ加え、そのまま一夜撹拌した。反応液をセラ
イトロ過し、留去後シリカゲルカラム（ワコーゲル、Ｃ
−300、300g、トルエン:EtOAc＝2:1、1:1、1:2;C−30
0、20g、トルエン：メタノール＝10:1）で精製した。

デヒドロ体611mg 化合物（13）（４位結合体）¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.131 1.830（s,3H,CH₃）,2.009（s,3H,CH₃）,2.023（s,3H,CH
₃）,2.033（s,3H,CH₃）,2.118（s,3H,CH₃）,2.483（t,1
H,J＝12.09,H−3c ax）,5.139（dd,1H,J＝8.06,9.16,H
−2a）,7.04〜7.47（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 96.921（Ｃ−2c）,99.777（Ｃ−1b）,102.270（Ｃ−1
a）,170.113（Ｃ＝０）,170.227（Ｃ＝０）,170.657
（Ｃ＝０）,170.831（Ｃ＝０）,170.844（Ｃ＝０）,17
6.783 35.996（Ｃ−3c）,49.322（Ｃ−5c）,62.749（Ｃ−9c） 化合物（12）（β）¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.116 1.729（s,3H,CH₃）,1.979（s,3H,CH₃）,1.991（s,3H,CH
₃）,2.085（s,3H,CH₃）,2.110（s,3H,CH₃）,2.527（dd,
1H,J＝4.80,13.2,H−3c eq）,3.381（t,1H,J＝5.13,H−
4a）,3.644（s,3H,COOCH₃）,4.011（dd,1H,J＝7.70 12.
46,H−9c）,4.078（m,1H,H−5c）,4.135（t,1H,J＝9.1
6,H−3b）， 5.162（m,1H,H−4c）,5.193（m,1H,H−8c）,7.17〜7.47
（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 80.989（Ｃ−3a）,99.435（Ｈ−2c）,99.831（Ｈ−1
b）,102.666（Ｈ−1c）,167.881（Ｃ＝０）,170.194
（Ｃ＝０）,170.221（Ｃ＝０）,170.328（Ｃ＝０）,17
0.650（Ｃ＝０）,170.757（Ｃ＝０）， 23.240（NHCOCH₃）,35.540（Ｃ−3c）,48.786（Ｃ−5
c）， 62.809（Ｃ−9c） 化合物（11）（α）¹ H−NMR（500MHz,TMS,CDCl₃），δ;1.127 1.872（s,3H,CH₃）,1.903（s,3H,CH₃）,1.978（s,3H,CH
₃）,2.014（s,3H,CH₃）,2.082（s,3H,CH₃）,2.503（dd,
1H,J＝4.40,13.19,H−3c eq）,3.381（t,1H,J＝5.13,H
−4a）,3.758（s,3H,COOCH₃）,3.959（dd,1H,J＝5.86 1
2.46,H−9c）,4.088（m,1H,H−5c）,4.244（d,1H,J＝1
1.72, 4.439（d,1H,J＝7.69,H−1a又はｂ）,4.503（d, 4.853（m,1H,H−4c）,5.097（t,1H,J＝9.16,H−2a）,5.
123（d,1H,J＝9.52,NH）,5.308（dd,1H,J＝2.20,8.06,H
−7c）,5.397（m,1H,H−8c）,4.296（dd,1H,J＝2.56,1
2.46,H−9c）,4.559（dd,1H,J＝2.20,8.43,H−6c）,7.1
6〜7.37（m,25H,ph）¹³ C−NMR（500MHz,CDCl₃,77.045），δ； 36.606（Ｃ−3c）,62.366（Ｃ−9c）,67.313（Ｃ−9
c）,68.895（Ｃ−8c）,69.184（Ｃ−7c）,72.428（Ｃ−
6c）,98.503（Ｃ−2c）,99.770（Ｃ−1b）,102.579（Ｃ
−1a）， 170.013（Ｃ＝０）,170.073（Ｃ＝０）,170.368（Ｃ＝
０）,170.663（Ｃ＝０）， 実施例11（化合物（11）→（14）） 化合物（11）289mg（0.191mmol）を無水酢酸2ml、ピ
リジン2mlにとかし、室温で24時間撹拌した。反応液を
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにて精製して化合物（14）を得た。SiO₂C−300 20g
３％CH₃OH−CHCl₃ 230mg77.3％ Rf 0.18 CH₃OH−イソプロピルエーテル（1:19） 元素分析 C₇₇H₉₃NO₂₇ 計算値 C,62.70 H,6.30 N,0.90 実測値 C,63.33 H,6.37 N,1.16¹ H NMR δ,ppm CDCl₃（TMS） 1.842,1H,t,J＝12.5Hz H−3c ax,2.584,1H,dd,J＝4.8,1
2.8Hz H−3c eq,1.782,1.855,1.965,1.992,2.012,2.07
8,各s Ac基、3.825,3H,s,OCH₃,4.004,dd,J＝5.1,12.5H
z,H−9,4.091,q,J＝10.3Hz,H−5c,4.147,1H,d,J＝11.7H
z,ベンジル基プロトン,4.410,1H,d,J＝7.7Hz,H−1,4.71
7,1H,d,J＝7.7Hz,H−1,4.566,1H,d,J＝12.1Hz ベンジ
ル基プロトン,4.557,1H,d,J＝11.7Hz ベンジル基プロ
トン,4.834,1H,d,J＝12.1Hz,ベンジル基プロトン,5.01
5,1H,d,J＝3.7Hz,H−4b,5.332,1H,dd,J＝2.6,8.4Hz,H−
7c,5.584,1H,m,H−8. 実施例12（化合物（14）→（15）） 化合物（14）214mg（0.138mmol）をメタノール10mlに
溶かし、10％Pd−C100mgを加え、水素雰囲気下、24時間
撹拌した。反応液を濾過してPd−Ｃを除き、母液を減圧
濃縮して化合物（15）を得た。

130mg（100％） Rf 0.80（EtOAc:EtOH:H₂O、5:2:1）HPTLC ▲〔α〕²⁰ _D▼＋28.1゜ ｃ＝100 CH₃OH 一部をとりメンブランフィルターを通した後減圧乾固
して 元素分析 C₃₉H₅₉NO₂₅・2H₂O 計算値 C,47.90 H,6.60 N,1.43 実測値 C,48.09 H,6.28 N,1.55 実施例13（化合物（15）→（16）） 化合物（15）133mg（0.141mmol）を無水酢酸2ml、ピ
リジン2mlに溶かし、室温で24時間撹拌した。反応液を
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフで
精製して化合物（16）を得た。SiO₂C−300、20g（３％C
H₃OH含有クロロホルム） 160mg 98％ Rf 0.29（３％CH₃OH:CHCl₃） ▲〔α〕²¹ _D▼＋15.5゜ ｃ＝0.90 CHCl₃ 元素分析 C₄₉H₆₉NO₃₀ 計算値 C,51.08 H,6.04 N,1.22 実測値 C,50.21 H,5.93 N,1.21 実施例14（化合物（16）→（17）） 化合物（16）127mg（0.110mmol）をDMF1mlに溶かし、
50℃〜60℃で加熱撹拌しながらヒドラジニウムアセテー
ト（NH₂・NH₂・CH₃COOH）13.5mg（0.147mmol）を加えて
５分間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、水
洗した。さらに飽和食塩水で洗浄した後、無水流酸マグ
ネシウムで乾燥した。

減圧濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（３％CH₃OH:CHCl₃）で精製して、化合物（17）104mg
を得た。

85％ Rf 0.21（３％メタノール含有クロロホルム） ▲〔α〕²² _D▼＋22.6 ｃ＝1.21 CHCl₃ 実施例15（化合物（17）→（18）） 化合物（17）23mg（0.021mmol）をジクロルエタン0.5
mlに溶かし、トリクロロアセトニトリル、10.5μ（0.
105mmol）、DBU4.1μ（0.027mmol）を加え、アルゴン
雰囲気下２時間撹拌した。反応液をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製（ワコーゲル、Ｃ−300、1.0
g、EtOAc）して化合物（18）22mgを得た。

84.6％ Rf 0.33（EtOAc、HPTLC） ▲〔α〕²³ _D▼＋32.6゜ ｃ＝1.47 CHCl₃ ¹ H NMR 500MHz δ ppm CDCl₃ TMS 1.32,9H,s,tBu基,1.683,1H,t,J＝12.8Hz H−3c ax,1.85
5,2.006,2.023,2.063,2.069,2.079,2.081,2.093,2.159,
2.249 各s,COCH₃,2.582 1H,dd,J＝4.8,12.8Hz,H−3c e
q,3.634,1H,dd,J＝2.9,11.0Hz,H−6,3.847,3H,s,0CH₃,
4.240,1H,dd,J＝5.1,12.5Hz,H−9c,4.515,1H,dd,J＝3.
3,10.3Hz,H−3b,4.680,1H,d,J＝8.1Hz,H−1b,4.897,1H,
4.897,1H,dt,J＝4.8,11.2Hz,H−4c,4.965,1H,dd,J＝8.
1,10.3Hz,H−2b,5.046,1H,d,J＝9.9Hz,NH,5.059,1H,dd,
J＝3.7,10.3Hz,H−2a,5.412,1H,dd,J＝2.6,9.2Hz,H−7
c,5.504,1H,m,H−8,5.600,1H,t,J＝9.9Hz,H−3a,6.515,
1H,d,J＝3.7Hz,H−1a,8.640,1H,s,−ｓ−NH 実施例16（化合物（18）→（20）） 活性化したモレキュラシーブ4A200mgに化合物（18）2
2mg（0.0175mmol）、化合物（23）（Bz Cer）20mg（0.0
263mmol）をクロロホルム0.5mlに溶かして加え、アルゴ
ン雰囲気下、氷冷撹拌しながらBF₃・Et₂O3μ（0.0228
mmol）を加えて、３時間撹拌した。室温で12時間撹拌し
たのち、クロロホルムで希釈して、ろ過した。ろ液にト
リエチルアミンを加えて中和した後減圧乾固した。残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（ワコー
ゲル、Ｃ−300、1.0g CH₃OH:CHCl₃ 1:49）して化合物
（20）を21mg得た。

65％ Rf 0.41（３％CH₃OH含有CHCl₃）HPTLC ▲〔α〕²⁰ _D▼＋3.90゜ ｃ＝1.39 CHCl₃ ¹ H NMR 500MHz δ ppm CDCl₃（TMS） 0.878,6H,t,J＝6.6Hz CH_3-×2,1.144,9H,s,tBu基 1.2
54,64H,s,−c1h−,1.667,1H,t,J＝12.5Hz,1.854,1.902,
2.004,2.073,2.078,2.159,2.203,s,COCH₃×10,2.568,1
H,dd,J＝4.8,12.8Hz,H−4c,3.839,3H,s,OCH₃,4.421,1H,
d,J＝8.1Hz,H−1,4.514,1H,dd,J＝3.3,10.3Hz,H−3b,4.
610,1H,d,J＝8.1Hz,H−1,5.127,1H,d,J＝10.3Hz,NH,5.2
03,1H,t,J＝9.2Hz,H−2a,5.406,1H,dd,J＝2.6,9.2Hz,H
−7c,5.457,1H,dd,J＝7.7Hz,15.4Hz,H−4 Cer,5.540,1
H,t,J＝7.3Hz,H−3a,5.506,1H,m,H−8c,5.753,1H,d,J＝
9.2Hz,NH,5.864,1H,dd,J＝8.1,15.0Hz,H−5Cer 7.430,2
H,t,J＝8.1Hz,Bz（ｍ）,7.550,1H,t,J＝7.3Hz,Bz
（ｐ）,7.995,2H,d,J＝7.0Hz,Bz（ｏ） 実施例17（化合物（17）→（19）） 化合物（17）22.2mg（0.020mmol）をジクロロエタン
0.5mlに溶かし、ドライアイス−CCl₄浴中、アルゴン雰
囲気下撹拌しながら、DAST（（ジエチルアミノ）サルフ
ァートリフルオライド）を加え30分撹拌した。室温で２
時間撹拌した。反応液を酢酸エチルで希釈した後、飽和
重曹水、飽和食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネシウム
で乾燥したのち減圧乾固して、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製（SiO₂、Ｃ−300、1.0g EtO
Ac）して化合物（19）（ただし式中Ｘはフッ素である）
を得た。

17mg 76.4％ Rf 0.38 EtOAc HPTLC¹ H NMR 500MHz δ ppm CDCl₃（TMS） 1.188,1.195,s,tBu基（α，β）1.855,2.008,2.022,2.0
45,2.054,2.062,2.071,2.089,2.096,2.119,2,162 2.23
6,2.252,s,アセチル基,2.581,dd,J＝4.8,12.8Hz,H−3c
eq,3.637,1H,dd,J＝2.9,11.0Hz,H−6c,3.846,3H,s,OC
H₃,4.122,1H,q,J＝7.3Hz,H−5c,4.649,0.25H,d,J＝8.1H
z,H−1b α,4.705 0.75H,d,J＝8.1Hz,H−1b β,4.886,
1H,dt,J＝4.4,11.0Hz,5.102,1H,d,J＝10.3Hz,NH,5.198,
1H,t,J＝8.1Hz,H−3a,5.390,1H,dd,J＝2.9,9.5Hz,H−7
c,5.548,1H,m,H−8c¹³ C NMR δ,ppm CDCl₃96.85（Ｃ−2cα）,96.87（Ｃ−
2cβ）,101.00（Ｃ−1bα,J_CH164.4Hz）,101.29 Ｃ−1
bβ ′J_CH164.4Hz 103.77（Ｃ−1aα ′J_CF229.3Hz
′J_CH185.3Hz）,106,21,C−1aβ ′J_CF218.3Hz′J_CH
172.0Hz） 実施例18（化合物（19）→（20）） 活性化したモレキュラシーブ4A200mgに化合物（19）
（ただし式中Ｘはフッ素である。16mg（0.0144mmol）、
化合物（23）15mg（0.0201mmol）をクロロホルム0.5ml
に溶かして加え、さらにスズトリフレート8.4mg（0.020
1mmol）を加えて、アルゴン雰囲気下、室温で12時間撹
拌した。さらに50℃で２時間加熱した後、クロロホルム
で希釈して濾過した。

濾液を減圧乾固し、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーで精製（SiO₂C−300 1.0g CH₃OH−CHCl₃1:49）し
て生成物化合物（20）12.1mgを得た。

この生成物は化合物（18）から得た生成物と一致し
た。

収率46％ 実施例19（化合物（20）→（21）） 化合物（20）18.0mg（0.010mmol）をTHF−メタノール
1:1の混合溶媒1.0mlに溶かし、Ｎ−NaOCH₃−CH₃OH溶液6
0μを滴下して室温で３時間撹拌した。

減圧濃縮し、THF−メタノール−H₂O、1:1:1 1.5mlの
混合溶媒を加え室温でさらに12時間撹拌した。反応液を
減圧濃縮し残渣をクロロホルム−メタノール−水60:30:
4.6の混合溶媒に溶かしSephadex−LH20を用いて精製す
ることにより化合物（21）〔ガングリオシドGM₃〕（84.
8％）を得た。

11.0mg この物質の物理恒数は合成された物質（Glycoconjuga
te J（1985）2:5−９）と一致した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田中 誠 埼玉県越谷市下間久里760―６ (72)発明者 小川 智也 東京都武蔵野市吉祥寺北町３―６―６― ３―101

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で示される化合物。 （式中、R¹はアセチル基又はベンジル基であり、R²はメ
   チル基であり、R³及びR⁴は独立に水素、アセチル基又は
   ベンジル基であり、R⁵は−COC（CH₃）_３、 であり、R⁶は水酸基、ベンジルオキシ基、ハロゲン、 又は （式中Bzはベンゾイル基である）であり、Acはアセチル
   基である。
2. 【請求項２】下記一般式（II）で示される化合物。 （式中、R¹¹及びR¹²は水素であり、R¹³はアセチル基又
   はベンジル基であり、R¹⁴は、水素、 −COC（CH₃）_３、 である）。
3. 【請求項３】下記一般式（Ｉ）： （ただし、式中、R¹はアセチル基又はベンジル基であ
   り、R²はメチル基であり、R³及びR⁴は独立にアセチル基
   又はベンジル基であり、R⁵は−COC（CH₃）_３、 であり、R⁶はハロゲン又は である）で示される化合物と、 （式中Bzはベンゾイル基でる）とを反応させて得られた
   上記一般式（Ｉ）で示される化合物（ただし、式中、R¹
   はアセチル基又はベンジル基であり、R²はメチル基であ
   り、R³及びR⁴は独立にアセチル基又はベンジル基であ
   り、R⁵は、 であり、R⁶は、 である）を得、さらに脱アセチル化又は脱ベンジル化、
   脱ベンゾイルおよびケン化を行う、ガングリオシドGM₃
   の製造方法。