JP2692140B2 - 現像方法 - Google Patents
現像方法Info
- Publication number
- JP2692140B2 JP2692140B2 JP63133885A JP13388588A JP2692140B2 JP 2692140 B2 JP2692140 B2 JP 2692140B2 JP 63133885 A JP63133885 A JP 63133885A JP 13388588 A JP13388588 A JP 13388588A JP 2692140 B2 JP2692140 B2 JP 2692140B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- developing
- water
- photosensitive substrate
- photosensitive layer
- photosensitive
- Prior art date
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- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、金属板、ガラス板、プラスチックシート等
の支持体上に水溶液現像型の感光層を設けて成る水溶液
現像型感光性基板の現像方法に関する。
の支持体上に水溶液現像型の感光層を設けて成る水溶液
現像型感光性基板の現像方法に関する。
〈従来の技術〉 金属板、ガラス板等の支持体上に感光層を設けて成る
感光性基板の現像方法には、現像液をノズルから感光層
面に向って吹き付けるスプレー現像法、現像液中に感光
性基板全体を浸漬する方法、あるいは現像液中に感光性
基板全体を浸漬してブラシまたはスポンジでこする方法
等がある。この様な種々の現像方法の中で、金属板、ガ
ラス板、プラスチックシート等の支持体上に水溶液現像
型の感光層を設けて成る水溶液現像型感光性基板に対す
るスプレー現像方法として、回転させた前記構成の感光
性基板の感光層面に水、アルカリ水溶液等の水溶性現像
液をノズルから吹き付けるスプレー現像方法がある。
感光性基板の現像方法には、現像液をノズルから感光層
面に向って吹き付けるスプレー現像法、現像液中に感光
性基板全体を浸漬する方法、あるいは現像液中に感光性
基板全体を浸漬してブラシまたはスポンジでこする方法
等がある。この様な種々の現像方法の中で、金属板、ガ
ラス板、プラスチックシート等の支持体上に水溶液現像
型の感光層を設けて成る水溶液現像型感光性基板に対す
るスプレー現像方法として、回転させた前記構成の感光
性基板の感光層面に水、アルカリ水溶液等の水溶性現像
液をノズルから吹き付けるスプレー現像方法がある。
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、前述のスプレー現像方法では、最初に
現像液がスプレーされた部分とそうでない部分とで現像
状態に違いが生じ、現像ムラになることがある。
現像液がスプレーされた部分とそうでない部分とで現像
状態に違いが生じ、現像ムラになることがある。
本発明は以上の様な事情に鑑み成されたものであり、
水溶液現像型感光性基板に対してムラのないスプレー現
像が行える様にした現像方法の提供を目的とする。
水溶液現像型感光性基板に対してムラのないスプレー現
像が行える様にした現像方法の提供を目的とする。
〈課題を解決するための手段〉 以下、図面を参照して本発明を説明する。第1図は本
発明に適用される感光性基板(1)の概略を示してい
る。図中、(2)は金属板、ガラス板、プラスチックシ
ート等の支持体であり、(3)はその上に積層された感
光層である。この感光層(3)は水溶液現像型の感光性
材料で形成されており、像露光後に水やアルカリ水溶液
等の現像液で現像される様になっている。この様な構成
の感光性基板(1)に対してスプレー現像を行なう場
合、ノズルを介してスプレー状の現像液を感光性基板
(1)の感光層(3)面に対して吹き付ける訳である
が、前述した様にただ現像液を吹き付けただけでは最初
に現像液がスプレーされた部分とそうでない部分とで現
像状態に違いが生じ、現像ムラになることがある。
発明に適用される感光性基板(1)の概略を示してい
る。図中、(2)は金属板、ガラス板、プラスチックシ
ート等の支持体であり、(3)はその上に積層された感
光層である。この感光層(3)は水溶液現像型の感光性
材料で形成されており、像露光後に水やアルカリ水溶液
等の現像液で現像される様になっている。この様な構成
の感光性基板(1)に対してスプレー現像を行なう場
合、ノズルを介してスプレー状の現像液を感光性基板
(1)の感光層(3)面に対して吹き付ける訳である
が、前述した様にただ現像液を吹き付けただけでは最初
に現像液がスプレーされた部分とそうでない部分とで現
像状態に違いが生じ、現像ムラになることがある。
そこで本発明者は鋭意検討の結果、現像液を感光層
(3)面上にスプレーする前に感光性基板(1)を一旦
水中に浸漬されてから現像液のスプレーを行えば上記欠
点が速かに解消され、現像ムラの発生が低減するという
知見を得、本発明を完成させた。すなわち、本発明にお
いては、第2図に示す様に、像露光済みの水溶液現像型
感光性基板(1)′をスプレー現像する前に水中に一旦
浸漬する。図中、(5)は水を注入してあるディップ槽
であり、(6)は感光性基板(1)′を保持したままデ
ィップ槽(5)内の水に埋没させるためのアーム、
(7)はディップ槽(5)内に水を給・排水するための
給・排水口をそれぞれ示している。
(3)面上にスプレーする前に感光性基板(1)を一旦
水中に浸漬されてから現像液のスプレーを行えば上記欠
点が速かに解消され、現像ムラの発生が低減するという
知見を得、本発明を完成させた。すなわち、本発明にお
いては、第2図に示す様に、像露光済みの水溶液現像型
感光性基板(1)′をスプレー現像する前に水中に一旦
浸漬する。図中、(5)は水を注入してあるディップ槽
であり、(6)は感光性基板(1)′を保持したままデ
ィップ槽(5)内の水に埋没させるためのアーム、
(7)はディップ槽(5)内に水を給・排水するための
給・排水口をそれぞれ示している。
本発明においては、この様な構成の装置を使用し、感
光性基板(1)′を水中に急速に浸漬させ、感光層
(3)を膨潤させることにより、現像ムラを低減するこ
とが可能となる。尚、感光性基板(1)′の水中への浸
漬に際しては、感光性基板(1)′1枚毎にディップ槽
(5)の水を給・排水することによりディップ槽(5)
内の水をきれいにし、感光性基板(1)′の支持体
(2)側の汚れを防ぐことが好ましい。
光性基板(1)′を水中に急速に浸漬させ、感光層
(3)を膨潤させることにより、現像ムラを低減するこ
とが可能となる。尚、感光性基板(1)′の水中への浸
漬に際しては、感光性基板(1)′1枚毎にディップ槽
(5)の水を給・排水することによりディップ槽(5)
内の水をきれいにし、感光性基板(1)′の支持体
(2)側の汚れを防ぐことが好ましい。
水中に一旦浸漬されて感光層(3)が膨潤した感光性
基板(1)′はディップ槽(5)から引き上げ、次にそ
の感光層(3)面にノズルから現像液をスプレーし、現
像を行なう。
基板(1)′はディップ槽(5)から引き上げ、次にそ
の感光層(3)面にノズルから現像液をスプレーし、現
像を行なう。
この際の現像条件は従来の水溶液現像液によるスプレー
現像の条件と同じでよい。
現像の条件と同じでよい。
〈発明の効果〉 本発明は、上述した様に、像露光済みの水溶液現像型
感光性基板の感光層面に現像液をスプレーする前に、前
記感光性基板を水中にすばやく浸漬させて現像処理を行
なうことにより、あらかじめ感光層を膨潤させているの
で、その後に行われる現像液の吹き付けにおいて、現像
液が最初に当たった部分とそうでない部分とで現像状態
の違いが生せず、現像ムラになることがない。
感光性基板の感光層面に現像液をスプレーする前に、前
記感光性基板を水中にすばやく浸漬させて現像処理を行
なうことにより、あらかじめ感光層を膨潤させているの
で、その後に行われる現像液の吹き付けにおいて、現像
液が最初に当たった部分とそうでない部分とで現像状態
の違いが生せず、現像ムラになることがない。
第1図は本発明に適用される感光性基板の概略構成説明
図、第2図は感光性基板を水に浸漬されている状態の説
明図をそれぞれ示している。 (1)、(1)′……感光性基、(2)……支持体 (3)……感光層、(5)……ディップ槽
図、第2図は感光性基板を水に浸漬されている状態の説
明図をそれぞれ示している。 (1)、(1)′……感光性基、(2)……支持体 (3)……感光層、(5)……ディップ槽
Claims (1)
- 【請求項1】像露光済みの水溶液現像型感光性基板を水
中に急速に浸漬してこの基板の感光層面を膨潤させる第
一段階の現像を行い、次いでこの感光層面にノズルから
現像液をスプレーする第二段階の現像を行なうことを特
徴とする現像方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63133885A JP2692140B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63133885A JP2692140B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 現像方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01302354A JPH01302354A (ja) | 1989-12-06 |
JP2692140B2 true JP2692140B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=15115367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63133885A Expired - Fee Related JP2692140B2 (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 現像方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2692140B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57148741A (en) * | 1981-03-11 | 1982-09-14 | Kawasaki Steel Corp | Method and device for spray type developing process |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63133885A patent/JP2692140B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01302354A (ja) | 1989-12-06 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |