JP2684243B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JP2684243B2 JP2684243B2 JP2304277A JP30427790A JP2684243B2 JP 2684243 B2 JP2684243 B2 JP 2684243B2 JP 2304277 A JP2304277 A JP 2304277A JP 30427790 A JP30427790 A JP 30427790A JP 2684243 B2 JP2684243 B2 JP 2684243B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関し、特に写真
製版用に用いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
製版用に用いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料に
関する。
(従来技術) 写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性
に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光
材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望
がある。
に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光
材料、安定な処理液あるいは、補充の簡易化などの要望
がある。
特に線画撮影工程における、原稿は写植文字、手書き
の文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれ
て作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異な
る画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。一方、カタログや、大型ポスターの製版に
は、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が
広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が
粗くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさら
に線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網
階調の再現性を維持するためより一層広いラチチュード
を有する画像形成方法が要求されている。
の文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれ
て作られる。したがって原稿には、濃度や、線巾の異な
る画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版
カメラ、写真感光材料あるいは、画像形成方法が強く望
まれている。一方、カタログや、大型ポスターの製版に
は、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が
広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が
粗くなりボケた点の撮影となる。縮小では原稿よりさら
に線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網
階調の再現性を維持するためより一層広いラチチュード
を有する画像形成方法が要求されている。
製版用カメラの光源としては、ハロゲンランプあるい
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのための
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
は、キセノンランプが用いられている。これらの光源に
対して撮影感度を得るために、写真感光材料は通常オル
ソ増感が施される。ところがオルソ増感した写真感光材
料はレンズの色収差の影響をより強く受け、そのための
画質が劣化しやすいことが判明した。またこの劣化はキ
セノンランプ光源に対してより顕著となる。
広いラチチュードの要望に応えるシステムとして塩臭
化銀(すくなくとも塩臭化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像では空気酸化に対して極めて不安定であり、
液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなさ
れて使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作
業効率を低下させているのが現状であった。
化銀(すくなくとも塩臭化銀含有率が50%以上)から成
るリス型ハロゲン化銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効
濃度をきわめて低くした(通常0.1モル/以下)ハイ
ドロキノン現像液で処理することにより、画像部と非画
像部が明瞭に区別された、高いコントラストと高い黒化
濃度をもつ線画あるいは網点画像を得る方法が知られて
いる。しかしこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低い
ため、現像では空気酸化に対して極めて不安定であり、
液活性を安定に保つためにさまざまな努力と工夫がなさ
れて使用されていたり、処理スピードが著しく遅く、作
業効率を低下させているのが現状であった。
このため、上記のような現像方法(リス現像システ
ム)による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安
定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得ら
れる画像形成システムが要望され、その1つとして米国
特許4,166,742号、同4,168,977号,同4,211,857,同,4,2
24,401号、同4,243,739号,同4,272,606号、同4,311,78
1号にみられるように、特定のアシルヒドラジン化合物
を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH
11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.15モル/)以上含み、
良好な保存安定性を有する現像液で処理して、γが10を
越える超硬調のネガ画像を形成するシステムが提案され
た。この新しい画像形成システムには、従来の超硬調画
像形成では塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できな
かったのに対して、沃臭化銀や塩沃臭銀でも使用できる
という特徴がある。
ム)による画像形成の不安定さを解消し、良好な保存安
定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得ら
れる画像形成システムが要望され、その1つとして米国
特許4,166,742号、同4,168,977号,同4,211,857,同,4,2
24,401号、同4,243,739号,同4,272,606号、同4,311,78
1号にみられるように、特定のアシルヒドラジン化合物
を添加した表面潜像型ハロゲン化銀写真感光材料を、pH
11.0〜12.3で亜硫酸保恒剤を0.15モル/)以上含み、
良好な保存安定性を有する現像液で処理して、γが10を
越える超硬調のネガ画像を形成するシステムが提案され
た。この新しい画像形成システムには、従来の超硬調画
像形成では塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できな
かったのに対して、沃臭化銀や塩沃臭銀でも使用できる
という特徴がある。
上記画像システムはシャープな網点品質、処理安定
性、迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれ
た性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するため
にさらに安定でオリジナル再現性の良好されたシステム
が望まれている。
性、迅速性およびオリジナルの再現性という点ですぐれ
た性能を示すが、近年の印刷物の多様性に対処するため
にさらに安定でオリジナル再現性の良好されたシステム
が望まれている。
ヒドラジンを用いた系で、酸化されることにより現像
抑制剤を放出するレドックス化合物を含有する例は特開
昭61−213847号、同64−72140号に開示されている。
抑制剤を放出するレドックス化合物を含有する例は特開
昭61−213847号、同64−72140号に開示されている。
一方塩臭化銀を用いた例は特開昭60−83028号、同60
−112034号、同62−235947号、同63−103232号、同53−
20921号、同54−37732号に開示されている。
−112034号、同62−235947号、同63−103232号、同53−
20921号、同54−37732号に開示されている。
ヒドラジンを用いた系で現像液中にアミン化合物を含
有する例は、特開昭60−218642号、同60−258573号、同
61−267759号、同61−230145号、同62−211647号、特開
平1−200354号、同1−205160号、同1−214844号、米
国特許4269929号、感光材料中に内蔵される例は、特開
昭60−140340号、同61−251846号、同62−222241号、同
62−55642号、同62−250439号、同62−280733号、同63
−124045号、に開示されている。エチレンオキシド基を
有するアミン化合物を用いた例は、特開平2−170155号
に開示されているが塩臭化銀を用いて安定なシステムを
得る記載はない。
有する例は、特開昭60−218642号、同60−258573号、同
61−267759号、同61−230145号、同62−211647号、特開
平1−200354号、同1−205160号、同1−214844号、米
国特許4269929号、感光材料中に内蔵される例は、特開
昭60−140340号、同61−251846号、同62−222241号、同
62−55642号、同62−250439号、同62−280733号、同63
−124045号、に開示されている。エチレンオキシド基を
有するアミン化合物を用いた例は、特開平2−170155号
に開示されているが塩臭化銀を用いて安定なシステムを
得る記載はない。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明の第1の目的は、大量のフィルムを処理するこ
とによってpHが低下したり、臭素イオン濃度が増加して
も感度、γおよびDmaxの低下が少ないハロゲン化銀写真
感光材料を提供することである。
とによってpHが低下したり、臭素イオン濃度が増加して
も感度、γおよびDmaxの低下が少ないハロゲン化銀写真
感光材料を提供することである。
本発明の第2の目的は線画あるいは目伸し、目縮め適
性などの線画がすぐれたハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
性などの線画がすぐれたハロゲン化銀写真感光材料を提
供することにある。
(問題を解決するための課題) 本発明の上記第1の目的は、支持体上に少なくとも1
層のヒドラジン誘導体を含有する感光性ハロゲン化銀乳
剤層および該乳剤層又はその他の親水性コロイド層に少
なくとも2個の反復エチレンオキシド基を有するアミン
化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀50モル%
以上のハロゲン化銀からなることを特徴とするネガ型ハ
ロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
層のヒドラジン誘導体を含有する感光性ハロゲン化銀乳
剤層および該乳剤層又はその他の親水性コロイド層に少
なくとも2個の反復エチレンオキシド基を有するアミン
化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料において、該ハロゲン化銀乳剤が塩化銀50モル%
以上のハロゲン化銀からなることを特徴とするネガ型ハ
ロゲン化銀写真感光材料によって達成された。
本発明の第2の目的は上記ネガ型ハロゲン化銀写真感
光材料において乳剤層又はその他の親水性コロイド層に
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物を含有するネガ型ハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成された。
光材料において乳剤層又はその他の親水性コロイド層に
酸化されることにより現像抑制剤を放出するレドックス
化合物を含有するネガ型ハロゲン化銀写真感光材料によ
って達成された。
本発明に用いられる少くとも2個の反復エチレンオキ
シド基を有するアミン化合物として、下記一般式
(I)、(II)、(III)で表わされる化合物が好まし
い。
シド基を有するアミン化合物として、下記一般式
(I)、(II)、(III)で表わされる化合物が好まし
い。
一般式(I) 式中、R1およびR2は各々水素原子、炭素数1〜30のア
ルキル基、炭素数3〜30のアルケニル基または炭素数7
〜30のアラルキル基を表わす。但しR1とR2が同時にアル
キル基を表わす時は、R1+R2の炭素数は10以上を表わ
す。
ルキル基、炭素数3〜30のアルケニル基または炭素数7
〜30のアラルキル基を表わす。但しR1とR2が同時にアル
キル基を表わす時は、R1+R2の炭素数は10以上を表わ
す。
またR1とR2は同時に水素原子を表わすことはなく、互
いに結合して環を形成してもよい。
いに結合して環を形成してもよい。
nは2〜50の整数を表わす。R3、R4、R5およびR6は各
々水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。
々水素原子または炭素数1〜4のアルキル基を表わす。
一般式(II) R′1とR′2はR1とR2と同意義を表わす。
一般式(III) YXnA0−B0]m 式中、Yはハロゲン化銀に吸着する基を表し、Xは水
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
し、A0は少なくとも2つのアルキレンオキシユニットを
有する2価の連結基を表し、B0はアミノ基、アンモニウ
ム基、または含窒素ヘテロ環基を表す。mは1、2また
は3を表し、nは0または1を表す。
素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子から
選ばれた原子または原子群よりなる2価の連結基を表
し、A0は少なくとも2つのアルキレンオキシユニットを
有する2価の連結基を表し、B0はアミノ基、アンモニウ
ム基、または含窒素ヘテロ環基を表す。mは1、2また
は3を表し、nは0または1を表す。
Yが表わすハロゲン化銀に吸着する基としては含窒素
複素環化合物、複素環メルカプト化合物、脂肪族メルカ
プト化合物などがあげられる。
複素環化合物、複素環メルカプト化合物、脂肪族メルカ
プト化合物などがあげられる。
次に上記一般式(I)と(II)で表わされる化合物に
ついてさらに詳しく説明する。
ついてさらに詳しく説明する。
R1およびR2は同じであっても異っていてもよく、各々
水素原子、炭素数1〜30のアルキル基(置換基を有する
ものを含む。例えばメチル基、エチル基、n−ブチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキ
シル基、メトキシエチル基、エチルチオエチル基、ジメ
チルアミノエチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、
フェノキシエチル基、2,4−ジ−t−アミルフェノキシ
エチル基、n−オクタデシル基、等)炭素数3〜30のア
ルケニル基(置換基を有するものを含む。例えばアリル
基、ブテニル基、ペンテニル基、等)または炭素数7〜
30のアラルキル基(置換基を有するものを含む。例えば
フェネチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、
4−t−ブチルベンジル基、2,4−ジ−t−アミルフェ
ネチル基、等)を表わす。
水素原子、炭素数1〜30のアルキル基(置換基を有する
ものを含む。例えばメチル基、エチル基、n−ブチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキ
シル基、メトキシエチル基、エチルチオエチル基、ジメ
チルアミノエチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、
フェノキシエチル基、2,4−ジ−t−アミルフェノキシ
エチル基、n−オクタデシル基、等)炭素数3〜30のア
ルケニル基(置換基を有するものを含む。例えばアリル
基、ブテニル基、ペンテニル基、等)または炭素数7〜
30のアラルキル基(置換基を有するものを含む。例えば
フェネチル基、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、
4−t−ブチルベンジル基、2,4−ジ−t−アミルフェ
ネチル基、等)を表わす。
またR1とR2は一体化して置換されていてもよいアルキ
レンとなり窒素原子とともに環を形成してもよい。(例
えば、ピロリジン環、ピペリジン環、2−メチルピペリ
ジン環、ヘキサメチレンイミン環、等)。
レンとなり窒素原子とともに環を形成してもよい。(例
えば、ピロリジン環、ピペリジン環、2−メチルピペリ
ジン環、ヘキサメチレンイミン環、等)。
R3、R4、R5およびR6は同じであっても異っていてもよ
く各々水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基(好ま
しくは置換基を有さない低級アルキル基。例えば、メチ
ル基、エチル基、n−ブチル基、等)を表わす。
く各々水素原子、炭素数1〜4の低級アルキル基(好ま
しくは置換基を有さない低級アルキル基。例えば、メチ
ル基、エチル基、n−ブチル基、等)を表わす。
ここでR1およびR2が置換基を有する場合その置換基と
しては例えばハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子、等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、等)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ基、2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、
等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、等)、
アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジ
メチルアミノ基、等)、カルボンアミド基(例えばアセ
トアミド基、等)、スルホンアミド基(例えばメタンス
ルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、等)、オ
キシカルボニルアミノ基(例えばメトキシカルボニルア
ミノ基、等)、ウレイド基(例えば無置換ウレイド、3,
3−ジメチルウレイド基、等)、チオウレイド基(例え
ば無置換チオウレイド基、3−フェニルチオウレイド
基、等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル
基、等)、オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモ
イル基、4−メチルフェニルカルバモイル基、等)、ス
ルホニル基(例えばメタンスルホニル基、等)、スルフ
ァモイル基(例えばメチルスルファモイル基、4−メト
キシフェニルスルファモイル基、等)、カルボン酸また
はその塩、スルホン酸またはその塩等があげられる。
しては例えばハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原
子、等)、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルコ
キシ基(例えばメトキシ基、等)、アリールオキシ基
(例えばフェノキシ基、2,4−ジ−t−アミルフェノキ
シ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ基、
等)、アリールチオ基(例えばフェニルチオ基、等)、
アシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイル
オキシ基、等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジ
メチルアミノ基、等)、カルボンアミド基(例えばアセ
トアミド基、等)、スルホンアミド基(例えばメタンス
ルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、等)、オ
キシカルボニルアミノ基(例えばメトキシカルボニルア
ミノ基、等)、ウレイド基(例えば無置換ウレイド、3,
3−ジメチルウレイド基、等)、チオウレイド基(例え
ば無置換チオウレイド基、3−フェニルチオウレイド
基、等)、アシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル
基、等)、オキシカルボニル基(例えばメトキシカルボ
ニル基、等)、カルバモイル基(例えばメチルカルバモ
イル基、4−メチルフェニルカルバモイル基、等)、ス
ルホニル基(例えばメタンスルホニル基、等)、スルフ
ァモイル基(例えばメチルスルファモイル基、4−メト
キシフェニルスルファモイル基、等)、カルボン酸また
はその塩、スルホン酸またはその塩等があげられる。
一般式(I)、(II)中、好ましくはR1およびR2は各
々炭素数1〜30のアルキル基または炭素数7〜30のアラ
ルキル基を表わし、R3、R4、R5およびR6は水素原子を表
わし、nは3〜20の整数を表わす。
々炭素数1〜30のアルキル基または炭素数7〜30のアラ
ルキル基を表わし、R3、R4、R5およびR6は水素原子を表
わし、nは3〜20の整数を表わす。
一般式(I)、(II)中、より好ましくはR1およびR2
は各々炭素数5〜20のアルキル基を表わす。
は各々炭素数5〜20のアルキル基を表わす。
以下に一般式(I)、(II)で表わされる化合物の具
体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるもの
ではない。
体例を示すが、本発明の化合物はこれに限定されるもの
ではない。
I−5 (n)C4H9NHCH2CH2O)3H 一般式(III)の化合物について説明する。
Yが表わすハロゲン化銀について吸着する基としては
含窒素複素環化合物、複素環メルカプト化合物、脂肪族
メルカプト化合物などがあげられる。
含窒素複素環化合物、複素環メルカプト化合物、脂肪族
メルカプト化合物などがあげられる。
Yが含窒素複素環化合物、複素環メルアカプト化合物
を表わす時は以下の一般式(3)または(4)があげら
れる。
を表わす時は以下の一般式(3)または(4)があげら
れる。
一般式(3) 一般式(4) MS−ZXnA0−B0〕m 一般式(3)中、lは0または1を表わし、X
nA0−B0〕mは一般式(1)のそれぞれと同意義であ
り、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少
なくとも一種の原子から構成される5または6員の複素
環を形成するのに必要な原子群を表わす。またこの複素
環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合していてもよ
い。
nA0−B0〕mは一般式(1)のそれぞれと同意義であ
り、Qは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子の少
なくとも一種の原子から構成される5または6員の複素
環を形成するのに必要な原子群を表わす。またこの複素
環は炭素芳香環または複素芳香環と縮合していてもよ
い。
Qによって形成される複素環としては例えばそれぞれ
置換または無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、
ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール類、
オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、ア
ザインデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジ
ン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等があげ
られる。
置換または無置換のインダゾール類、ベンズイミダゾー
ル類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサゾール類、
ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チアゾール類、
オキサゾール類、トリアゾール類、テトラゾール類、ア
ザインデン類、ピラゾール類、インドール類、トリアジ
ン類、ピリミジン類、ピリジン類、キノリン類等があげ
られる。
Mは水素原子、アルカリ金属原子(例えばナトリウム
原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばト
リメチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウ
ム基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたはアルカリ金
属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエチル
基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
原子、カリウム原子、等)、アンモニウム基(例えばト
リメチルアンモニウム基、ジメチルベンジルアンモニウ
ム基、等)、アルカリ条件下でM=Hまたはアルカリ金
属原子となりうる基(例えばアセチル基、シアノエチル
基、メタンスルホニルエチル基、等)を表わす。
また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲン原子(例
えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ
基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、シア
ノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール基(例えばフェニル基、4−メタンスル
ホンアミドフェニル基、4−メチルフェニル基、3,4−
ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、フェネチル基、等)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−メトキシフ
ェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ基)、スルホニル基(例え
ばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−トル
エンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えば無置
換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェニルカ
ルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えば無置換
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えばア
セトアミド基、ベンズアミド基、等)、スルホンアミド
基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホン
アミド基、p−トルエンスルホンアミド基、等)、アシ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、等)、スルホニルオキシ基(例えばメタンスルホ
ニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えば無置換のウレ
イド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニ
ルウレイド基、等)、チオウレイド基(例えば無置換の
チオウレイド基、メチルチオウレイド基、等)、アシル
基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等)、ヘテロ環
基(例えば1−モルホリノ基、1−ピペリジノ基、2−
ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニル基、1−ピ
ラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−テトラヒドロフ
リル基、テトラヒドロチエニル基、等)、オキシカルボ
ニル基(例えばメトキシカルボニル基、フェノキシカル
ボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ基(例えばメ
トキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミ
ノ基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ基、
等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジメチルアミ
ノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ基、等)、カ
ルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩、ヒド
ロキシ基などで置換されていてもよい。
えば塩素原子、臭素原子、等)、メルカプト基、シアノ
基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、t−ブチル基、シア
ノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオエチル基、
等)、アリール基(例えばフェニル基、4−メタンスル
ホンアミドフェニル基、4−メチルフェニル基、3,4−
ジクロルフェニル基、ナフチル基、等)、アルケニル基
(例えばアリル基、等)、アラルキル基(例えばベンジ
ル基、4−メチルベンジル基、フェネチル基、等)、ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、ア
リールオキシ基(例えばフェノキシ基、4−メトキシフ
ェノキシ基、等)、アルキルチオ基(例えばメチルチオ
基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基)、アリール
チオ基(例えばフェニルチオ基)、スルホニル基(例え
ばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、p−トル
エンスルホニル基、等)、カルバモイル基(例えば無置
換カルバモイル基、メチルカルバモイル基、フェニルカ
ルバモイル基、等)、スルファモイル基(例えば無置換
スルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニル
スルファモイル基、等)、カルボンアミド基(例えばア
セトアミド基、ベンズアミド基、等)、スルホンアミド
基(例えばメタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホン
アミド基、p−トルエンスルホンアミド基、等)、アシ
ルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、等)、スルホニルオキシ基(例えばメタンスルホ
ニルオキシ基、等)、ウレイド基(例えば無置換のウレ
イド基、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニ
ルウレイド基、等)、チオウレイド基(例えば無置換の
チオウレイド基、メチルチオウレイド基、等)、アシル
基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、等)、ヘテロ環
基(例えば1−モルホリノ基、1−ピペリジノ基、2−
ピリジル基、4−ピリジル基、2−チエニル基、1−ピ
ラゾリル基、1−イミダゾリル基、2−テトラヒドロフ
リル基、テトラヒドロチエニル基、等)、オキシカルボ
ニル基(例えばメトキシカルボニル基、フェノキシカル
ボニル基、等)、オキシカルボニルアミノ基(例えばメ
トキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミ
ノ基、2−エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ基、
等)、アミノ基(例えば無置換アミノ基、ジメチルアミ
ノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ基、等)、カ
ルボン酸またはその塩、スルホン酸またはその塩、ヒド
ロキシ基などで置換されていてもよい。
Xが表わす2価の連結基としては例えば、−S−、 等があげられるが、これらの連結基はQとの間に直鎖ま
たは分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、1−メ
チルエチレン基、等)を介して結合されていてもよい。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は水素
原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、
等)、置換もしくは無置換のアリール基(例えばフェニ
ル基、2−メチルフェニル基、等)、置換もしくは無置
換のアルケニル基(例えばプロペニル基、1−メチルビ
ニル基、等)、または置換もしくは無置換のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、等)を表わす。
たは分岐のアルキレン基(例えばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、1−メ
チルエチレン基、等)を介して結合されていてもよい。
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10は水素
原子、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、n−ブチル基、
等)、置換もしくは無置換のアリール基(例えばフェニ
ル基、2−メチルフェニル基、等)、置換もしくは無置
換のアルケニル基(例えばプロペニル基、1−メチルビ
ニル基、等)、または置換もしくは無置換のアラルキル
基(例えばベンジル基、フェネチル基、等)を表わす。
A0は少なくとも2つのアルキレンユニットを有する2
価の連結基を表わすが好ましくは を表わす。
価の連結基を表わすが好ましくは を表わす。
R′1、R′2、R′3およびR′4は各々水素原
子、炭素数1〜4のアリル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、等)を表わし、q
は2〜50の整数を表わす。
子、炭素数1〜4のアリル基(例えばメチル基、エチル
基、n−プロピル基、n−ブチル基、等)を表わし、q
は2〜50の整数を表わす。
B0の置換もしくは無置換のアミノ基は一般式(5)で
表わされるものである。
表わされるものである。
一般式(5) (式中、R11、R12は同一であっても異なってもよく、
各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜30のア
ルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表わし、
これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、n−オクチル基、アリル基、
3−ブテニル基、ベンジル基、1−ナフチルメチル基、
等)、分岐(例えばisoプロピル基、t−オクチル基、
等)、または環状(例えばシクロヘキシル基、等)でも
よい。
各々水素原子、置換もしくは無置換の炭素数1〜30のア
ルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表わし、
これらの基は直鎖(例えばメチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、n−ブチル基、n−オクチル基、アリル基、
3−ブテニル基、ベンジル基、1−ナフチルメチル基、
等)、分岐(例えばisoプロピル基、t−オクチル基、
等)、または環状(例えばシクロヘキシル基、等)でも
よい。
又、R11とR12は連結して環を形成してもよく、その中
に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(例えば酸素原子、
硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和のヘテロ環を形
成するように環化されていてもよく、例えばピロリジル
基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙げることがで
きる。又、R11、R12の置換基としては例えば、カルボキ
シル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子である。)、ヒドロキシ
基、炭素数20以下のアルコキシカルボニル基(例えばメ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキ
シカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など)、
炭素数20以下のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
キシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基な
ど)、炭素数20以下の単環式のアリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基、p−トリオキシ基など)、炭素数20以
下のアシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピ
オニルオキシ基など)、炭素数20以下のアシル基(例え
ばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、メシル
基など)、カルバモイル基(例えばカルバモイル基、N,
N−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル
基、ピペリジノカルボニル基など)、スルファモイル基
(例えばスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモ
イル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニ
ル基など)、炭素数20以下のアシルアミノ基(例えばア
セチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基、メシルアミノ基など)、スルホンアミド基(エ
チルスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基
など)、炭素数20以下のカルボンアミド基(例えばメチ
ルカルボンアミド基、フェニルカルボンアミド基な
ど)、炭素数20以下のウレイド基(例えばメチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基など)、アミノ基(一般式
(5)と同義のもの)などが挙げられる。
に1つまたはそれ以上のヘテロ原子(例えば酸素原子、
硫黄原子、窒素原子など)を含んだ飽和のヘテロ環を形
成するように環化されていてもよく、例えばピロリジル
基、ピペリジル基、モルホリノ基などを挙げることがで
きる。又、R11、R12の置換基としては例えば、カルボキ
シル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子である。)、ヒドロキシ
基、炭素数20以下のアルコキシカルボニル基(例えばメ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキ
シカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基など)、
炭素数20以下のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エト
キシ基、ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基な
ど)、炭素数20以下の単環式のアリールオキシ基(例え
ばフェノキシ基、p−トリオキシ基など)、炭素数20以
下のアシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、プロピ
オニルオキシ基など)、炭素数20以下のアシル基(例え
ばアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、メシル
基など)、カルバモイル基(例えばカルバモイル基、N,
N−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル
基、ピペリジノカルボニル基など)、スルファモイル基
(例えばスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモ
イル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニ
ル基など)、炭素数20以下のアシルアミノ基(例えばア
セチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ベンゾイルア
ミノ基、メシルアミノ基など)、スルホンアミド基(エ
チルスルホンアミド基、p−トルエンスルホンアミド基
など)、炭素数20以下のカルボンアミド基(例えばメチ
ルカルボンアミド基、フェニルカルボンアミド基な
ど)、炭素数20以下のウレイド基(例えばメチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基など)、アミノ基(一般式
(5)と同義のもの)などが挙げられる。
B0のアンモニウム基は一般式(6)で表わされもので
ある。
ある。
一般式(6) (式中、R13、R14、R15は上述の一般式(5)におけるR
11およびR12と同様の基であり、Z はアニオンを表わ
し、例えばハライドイオン(例えばCl ,Br ,I な
ど)、スルホナートイオン(例えばトリフルオロメタン
スルホナート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンス
ルホナート、パラクロロベンゼンスルホナートなど)、
スルファイトイオン(例えばエチルスルファート、メチ
ルスルファートなど)、パークロラート、テトラフルオ
ロボラートなどが挙げられる。pは0または1を表わ
し、化合物が分子内塩を形成する場合は0である。) B0の含窒素ヘテロ環は、少なくとも1つ以上の窒素原
子を含んだ5または6員環であり、それらの塩は置換基
を有していてもよく、また他の環と縮合していてもよ
い。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリル基、ピ
リジル基、チアゾリル基などが挙げられる。
11およびR12と同様の基であり、Z はアニオンを表わ
し、例えばハライドイオン(例えばCl ,Br ,I な
ど)、スルホナートイオン(例えばトリフルオロメタン
スルホナート、パラトルエンスルホナート、ベンゼンス
ルホナート、パラクロロベンゼンスルホナートなど)、
スルファイトイオン(例えばエチルスルファート、メチ
ルスルファートなど)、パークロラート、テトラフルオ
ロボラートなどが挙げられる。pは0または1を表わ
し、化合物が分子内塩を形成する場合は0である。) B0の含窒素ヘテロ環は、少なくとも1つ以上の窒素原
子を含んだ5または6員環であり、それらの塩は置換基
を有していてもよく、また他の環と縮合していてもよ
い。含窒素ヘテロ環としては例えばイミダゾリル基、ピ
リジル基、チアゾリル基などが挙げられる。
一般式(3)のうち好ましいものとしては、下記一般
式(7)、(8)または(9)で表わされる化合物が挙
げられる。
式(7)、(8)または(9)で表わされる化合物が挙
げられる。
一般式(7) 一般式(8) 一般式(9) 式中、XnA0−B0、M,mは前記一般式(1)のそれ
ぞれと同意義を表わす。
ぞれと同意義を表わす。
次に、一般式(4)について詳細に説明する。
Zは炭素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、セレ
ン原子からなる複素環を表わす。
ン原子からなる複素環を表わす。
Zで表わされる複素環としては、5ないし6員の複素
環が好ましく、炭素芳香環または複素芳香環と縮合して
いてもよい。
環が好ましく、炭素芳香環または複素芳香環と縮合して
いてもよい。
複素環としては好ましくはテトラゾール、トリアゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、セレナゾー
ル、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキサゾー
ル、ベンズセレナゾール、テトラアザインデン、トリア
ザインデン、ペンタアザインデン環があげられる。この
うち特にテトラゾールとチアジアゾールが好ましい。ま
たこれらの複素環は一般式(3)のQであげた置換基で
置換されていてもよい。
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、セレナゾー
ル、イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンズ
イミダゾール、ベンズチアゾール、ベンズオキサゾー
ル、ベンズセレナゾール、テトラアザインデン、トリア
ザインデン、ペンタアザインデン環があげられる。この
うち特にテトラゾールとチアジアゾールが好ましい。ま
たこれらの複素環は一般式(3)のQであげた置換基で
置換されていてもよい。
またM、XnA0−B0〕mは一般式(3)のそれ
ぞれと同意義である。
ぞれと同意義である。
以下に一般式(III)で示される化合物の具体例をあ
げるが本発明はこれらの限定されるものではない。
げるが本発明はこれらの限定されるものではない。
本発明の一般式(I)、(II)および(III)で表わ
される化合物はアミン化合物のエチルンオキシド化合物
への付加反応、またはアミン化合物のポリアルキレング
リコールモノハヒドリンへの置換反応により容易に合成
できる。
される化合物はアミン化合物のエチルンオキシド化合物
への付加反応、またはアミン化合物のポリアルキレング
リコールモノハヒドリンへの置換反応により容易に合成
できる。
一般式(I)および(II)、(III)で表わされるア
ミノ化合物の添加量は1×10-7〜1×10-3モル/m2、好
ましくは、1×10-6〜1×10-4モル/m2が良い。
ミノ化合物の添加量は1×10-7〜1×10-3モル/m2、好
ましくは、1×10-6〜1×10-4モル/m2が良い。
写真感光材料中に含有させるときには、ハロゲン化銀
乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感光性
の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルタ
ー層、ハレーション防止層など)に含有させてもよい。
具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液と
して、また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル
類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液とし
て、親水性コロイド溶液に添加すればよい。
乳剤層に含有させるのが好ましいがそれ以外の非感光性
の親水性コロイド層(例えば保護層、中間層、フィルタ
ー層、ハレーション防止層など)に含有させてもよい。
具体的には使用する化合物が水溶性の場合には水溶液と
して、また難水溶性の場合にはアルコール類、エステル
類、ケトン類などの水と混和しうる有機溶媒の溶液とし
て、親水性コロイド溶液に添加すればよい。
また本発明の一般式(I)、(II)と一般式(III)
を組合せて感光材料中に使用してもよい。
を組合せて感光材料中に使用してもよい。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、下記一般式
(IV)によって表わされる化合物が好ましい。
(IV)によって表わされる化合物が好ましい。
一般式(IV) 式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わし、R2は水
素原子、アリキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わし、
G1は −SO2−基、−SO−基、 チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、A1、
A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のシアル基を表わす。
素原子、アリキル基、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わし、
G1は −SO2−基、−SO−基、 チオカルボニル基又はイミノメチレン基を表わし、A1、
A2はともに水素原子あるいは一方が水素原子で他方が置
換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又は置換も
しくは無置換のアリールスルホニル基、又は置換もしく
は無置換のシアル基を表わす。
一般式(IV)において、R1で表される脂肪族基は好ま
しく炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の
直鎖、分岐または環状のアルキル基である。このアルキ
ル基は置換基を有していてもよい。
しく炭素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の
直鎖、分岐または環状のアルキル基である。このアルキ
ル基は置換基を有していてもよい。
一般式(IV)においてR1で表される芳香族基は単環ま
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮環していても
よい。
たは2環のアリール基または不飽和ヘテロ環基である。
ここで不飽和ヘテロ環基はアリール基と縮環していても
よい。
R1として好ましいものはアリール基であり、特に好ま
しくはベンゼン環を含むものである。
しくはベンゼン環を含むものである。
R1の脂肪族基または芳香族基は置換されていてもよ
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、
アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アリキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド
基、ジアシルアミノ基、イミド基、 などが挙げられ、好ましい置換基としてはアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好
ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、ア
シルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。
く、代表的な置換基としては例えばアルキル基、アラル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、
アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタン基、
アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アリキルまたはアリールチオ基、アルキルまたはア
リールスルホニル基、アルキルまたはアリールスルフィ
ニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、スル
ホ基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アルコ
キシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンアミド
基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リン酸アミド
基、ジアシルアミノ基、イミド基、 などが挙げられ、好ましい置換基としてはアルキル基
(好ましくは炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好
ましくは炭素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好まし
くは炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、ア
シルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つもの)、
スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を持つも
の)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜30のも
の)などである。
一般式(IV)においてR2で表わされるアルキル基とし
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、ア
リール基としては単環または2環のアリール基が好まし
い(例えばベンゼン環を含むもの)。
ては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基であり、ア
リール基としては単環または2環のアリール基が好まし
い(例えばベンゼン環を含むもの)。
G1が の場合、R2で表わされる基のうち好ましいものは、水素
原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロメ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3メタンスルホン
アミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル
基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジ
クロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル
基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好
ましい。
原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフルオロメ
チル基、3−ヒドロキシプロピル基、3メタンスルホン
アミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基な
ど)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベンジル
基など)、アリール基(例えば、フェニル基、3,5−ジ
クロロフェニル基、o−メタンスルホンアミドフェニル
基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−ヒドロキシ
メチルフェニル基など)などであり、特に水素原子が好
ましい。
R2は置換されていても良く、置換基としては、R1に関
して列挙した置換基が適用できる。
して列挙した置換基が適用できる。
一般式(IV)のGとしては 基が最も好ましい。
又、R2はG1−R2の部分を残余分子から***させ、−G1
−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を
生起するようなものであってもよく、その例としては例
えば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げられ
る。
−R2部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を
生起するようなものであってもよく、その例としては例
えば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げられ
る。
A1、A2としては水素原子が最も好ましい。
一般式(IV)のR1またはR2はその中にカプラー等の不
動性写真用添加剤において常用されているバラスト基ま
たはポリマーが組み込まれているものでもよい。バラス
ト基は8以上の炭素数を含有する写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、
フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。また
ポリマーとしては例えば特開平1−100530号に記載のも
のが挙げられる。
動性写真用添加剤において常用されているバラスト基ま
たはポリマーが組み込まれているものでもよい。バラス
ト基は8以上の炭素数を含有する写真性に対して比較的
不活性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、
フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。また
ポリマーとしては例えば特開平1−100530号に記載のも
のが挙げられる。
一般式(IV)のR1またはR2はその中にハロゲン化銀粒
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基な
どの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59
−195,233号、同59−200,231号、同59−201,045号、同5
9−201,046号、同59−201,047号、同59−201,048号、同
59−201,049号、特開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67,508号、同62−67,501
号、同62−67,510に記載された基があげられる。
子表面に対する吸着を強める基が組み込まれているもの
でもよい。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環
チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基な
どの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59
−195,233号、同59−200,231号、同59−201,045号、同5
9−201,046号、同59−201,047号、同59−201,048号、同
59−201,049号、特開昭61−170,733号、同61−270,744
号、同62−948号、特願昭62−67,508号、同62−67,501
号、同62−67,510に記載された基があげられる。
一般式(IV)で示される化合物の具体例を以下に示
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
す。但し本発明は以下の化合物に限定されるものではな
い。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記
のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983
年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、
米国特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、
同4,560,638号、同4,478,928号、英国特許2,011,391B、
特開昭60−179734号、同62−270,948号、同63−29,751
号、同61−170,733号、同61−270,744号、同62−948
号、EP217,310号、またはUS4,686,167号、特開昭62−17
8,246号、同63−32,538号、同63−104,047号、同63−12
1,838号、同63−129,337号、同63−223,744号、同63−2
34,244号、同63−234,245号、同63−234,246号、同63−
294,552号、同63−306,438号、特開平1−100,530号、
同1−105,941号、同1−105,943号、特開昭64−10,233
号、特開平1−90,439号、特願昭63−105,682号、同63
−114,118号、同63−110,051号、同63−114,119号、同6
3−116,239号、同63−147,339号、同63−179,760号、同
63−229,163号、特開平1−18,377号、同1−18,378
号、同1−18,379号、同1−15,755号、同1−16,814
号、同1−40,792号、同1−42,615号、同1−42,616
号、同1−123,693号、同1−126,284号に記載されたも
のを用いることができる。
のものの他に、RESEARCH DISCLOSURE Item23516(1983
年11月号、P.346)およびそこに引用された文献の他、
米国特許4,080,207号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108号、同4,459,347号、
同4,560,638号、同4,478,928号、英国特許2,011,391B、
特開昭60−179734号、同62−270,948号、同63−29,751
号、同61−170,733号、同61−270,744号、同62−948
号、EP217,310号、またはUS4,686,167号、特開昭62−17
8,246号、同63−32,538号、同63−104,047号、同63−12
1,838号、同63−129,337号、同63−223,744号、同63−2
34,244号、同63−234,245号、同63−234,246号、同63−
294,552号、同63−306,438号、特開平1−100,530号、
同1−105,941号、同1−105,943号、特開昭64−10,233
号、特開平1−90,439号、特願昭63−105,682号、同63
−114,118号、同63−110,051号、同63−114,119号、同6
3−116,239号、同63−147,339号、同63−179,760号、同
63−229,163号、特開平1−18,377号、同1−18,378
号、同1−18,379号、同1−15,755号、同1−16,814
号、同1−40,792号、同1−42,615号、同1−42,616
号、同1−123,693号、同1−126,284号に記載されたも
のを用いることができる。
本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量としてはハ
ロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルないし5×10-2モ
ル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし2
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
ロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルないし5×10-2モ
ル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルないし2
×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物について説明する。
るレドックス化合物について説明する。
レドックス化合物のレドックス基としては、ハイドロ
キン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好まし
く、ヒドロラジン類であることがさらに好ましい。
キン類、カテコール類、ナフトハイドロキノン類、アミ
ノフェノール類、ピラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒド
ロキシルアミン類、レダクトン類であることが好まし
く、ヒドロラジン類であることがさらに好ましい。
本発明の酸化されることにより現像抑制剤を放出しう
るレドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好
ましくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、
一般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表
わされる化合物が特に好ましい。
るレドックス化合物として用いられるヒドラジン類は好
ましくは以下の一般式(R−1)、一般式(R−2)、
一般式(R−3)で表わされる。一般式(R−1)で表
わされる化合物が特に好ましい。
一般式(R−1) 一般式(R−2) 一般式(R−3) これらの式中、R1は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。G1は −SO−基、−SO2−基または を表わす。G2は単なる結合手、−O−、−S−または を表し、R2は水素原子またはR1を表わす。
す。G1は −SO−基、−SO2−基または を表わす。G2は単なる結合手、−O−、−S−または を表し、R2は水素原子またはR1を表わす。
A1、A2は水素原子、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基またはアシル基を表わし置換されていても
良い。一般式(R−1)ではA1、A2の少なくとも一方は
水素原子である。A3はA1と同義または を表わす。
スルホニル基またはアシル基を表わし置換されていても
良い。一般式(R−1)ではA1、A2の少なくとも一方は
水素原子である。A3はA1と同義または を表わす。
A4はニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、スルホ基
または−G1−G2−R1を表わす。
または−G1−G2−R1を表わす。
Timeは二価の連結基を表わし、tは0または1を表わ
す。PUGは現像抑制剤を表わす。
す。PUGは現像抑制剤を表わす。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)について
さらに詳細に説明する。
さらに詳細に説明する。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
て、R1で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30
のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。このアルキル基は置換基を有
していてもよい。
て、R1で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30
のものであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または
環状のアルキル基である。このアルキル基は置換基を有
していてもよい。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)におい
て、R1で表わされる芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。
て、R1で表わされる芳香族基は単環または2環のアリー
ル基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和ヘテ
ロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を形成
してもよい。
例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、キノ
リン環、イソキノリン環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
リン環、イソキノリン環等があるなかでもベンゼン環を
含むものが好ましい。
R1として特に好ましいものはアリール基である。
R1のアリール基または不飽和ヘテロ環基は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシ
ル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基
としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭
素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜
30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ
基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイ
ド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、リン酸アミ
ド基(好しくは炭素数1〜40のもの)などである。
いてもよく、代表的な置換基としては、例えばアルキル
基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アル
コキシ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウ
レタン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カル
バモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシ
ル基、リン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基
としては直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭
素数7〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜
30のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ
基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホンア
ミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウレイ
ド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの、リン酸アミ
ド基(好しくは炭素数1〜40のもの)などである。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)のG1とし
ては −SO2−基が好ましく、 が最も好ましい。
ては −SO2−基が好ましく、 が最も好ましい。
A1、A2としては水素原子が好ましく、A3としては水素
原子、 が好ましい。
原子、 が好ましい。
一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)において
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能を有
していてもよい。
Timeは二価の連結基を表わし、タイミング調節機能を有
していてもよい。
Timeで表わされる二価の連結基は酸化還元母核の酸化
体から放出されるTime−PUGから一段階あるいは、その
以上の階段の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わ
す。
体から放出されるTime−PUGから一段階あるいは、その
以上の階段の反応を経てPUGを放出せしめる基を表わ
す。
Timeで表わされる二価の連結基としては、例えば米国
特許第4,248,962号(特開昭54−145,135号)等に記載の
p−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によって
PUGを放出するもの;米国特許第4,310,612号(特開昭55
−53,330号)および同4,358,525号等に記載の環開裂後
の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特
許第4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,919号、特
開昭59−121,328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米国
特許第4,409,323号、同4,421,845号、リサーチ・ディス
クロージャー誌No.21,228(1981年12月)、米国特許第
4,416,977号(特開昭57−135,944号)、特開昭58−209,
736号、同58−209,738号等に記載のアリールオキシ基ま
たはヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電子
移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成し
てPUGを放出するもの;米国特許第4,420,554号(特開昭
57−136,640号)、特開昭57−135,945号、同57−188,03
5号、同58−98,728号および同58−209,737号等に記載の
含窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動
によりエナミンのγ位よりPUGを放出するもの;特開昭5
7−56,837号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役
したカルボニル基への電子移動により生成したオキシ基
の分子内環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第
4,146,396号、(特開昭52−90932号)、特開昭59−93,4
42号、特開昭59−75475号、特開昭60−249148号、特開
昭60−249149号等に記載のアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104,641号に記載のカルボキシル基の脱炭
酸を伴ってPUGを放出するもの;−O−COOCRaRb−PUG
(Ra,Rbは一価の基を表わす。)の構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出する
もの;特開昭60−7,429号に記載のイソシアナートの生
成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第4,438,193号
等に記載のカラー現像薬の酸化体とカップリング反応に
よりPUGを放出するものなどを挙げることができる。
特許第4,248,962号(特開昭54−145,135号)等に記載の
p−ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によって
PUGを放出するもの;米国特許第4,310,612号(特開昭55
−53,330号)および同4,358,525号等に記載の環開裂後
の分子内閉環反応によってPUGを放出するもの;米国特
許第4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,919号、特
開昭59−121,328号等に記載のコハク酸モノエステルま
たはその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応によ
る酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの;米国
特許第4,409,323号、同4,421,845号、リサーチ・ディス
クロージャー誌No.21,228(1981年12月)、米国特許第
4,416,977号(特開昭57−135,944号)、特開昭58−209,
736号、同58−209,738号等に記載のアリールオキシ基ま
たはヘテロ環オキシ基が共役した二重結合を介した電子
移動によりキノモノメタン、またはその類縁体を生成し
てPUGを放出するもの;米国特許第4,420,554号(特開昭
57−136,640号)、特開昭57−135,945号、同57−188,03
5号、同58−98,728号および同58−209,737号等に記載の
含窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動
によりエナミンのγ位よりPUGを放出するもの;特開昭5
7−56,837号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役
したカルボニル基への電子移動により生成したオキシ基
の分子内環反応によりPUGを放出するもの;米国特許第
4,146,396号、(特開昭52−90932号)、特開昭59−93,4
42号、特開昭59−75475号、特開昭60−249148号、特開
昭60−249149号等に記載のアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの;特開昭51−146,828号、同57−179,
842号、同59−104,641号に記載のカルボキシル基の脱炭
酸を伴ってPUGを放出するもの;−O−COOCRaRb−PUG
(Ra,Rbは一価の基を表わす。)の構造を有し、脱炭酸
と引き続くアルデヒド類の生成を伴ってPUGを放出する
もの;特開昭60−7,429号に記載のイソシアナートの生
成を伴ってPUGを放出するもの;米国特許第4,438,193号
等に記載のカラー現像薬の酸化体とカップリング反応に
よりPUGを放出するものなどを挙げることができる。
これら、Timeで表わされる二価の連結基の具体例につ
いては特開昭61−236,549号、特願昭63−98,803号等に
も詳細に記載されている。
いては特開昭61−236,549号、特願昭63−98,803号等に
も詳細に記載されている。
PUGは(TimetPUGまたはPUGとして現像抑制効果を有
する基を表わす。
する基を表わす。
PUGまたは(TimetPUGで表わされる現像抑制剤はヘ
テロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合している公知
の現像抑制剤であり、これらはたとえばシー・イー・ケ
ー・ミース(C.E.K.Mess)及びテー・エッチ・ジェーム
ズ(T.H.James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォト
グラフィック・プロセス(The Theory of Photographic
Processes)」第3版、1966マクミラン(Macmillan)
社刊、344頁〜346頁などに記載されている。
テロ原子を有し、ヘテロ原子を介して結合している公知
の現像抑制剤であり、これらはたとえばシー・イー・ケ
ー・ミース(C.E.K.Mess)及びテー・エッチ・ジェーム
ズ(T.H.James)著「ザ・セオリー・オブ・ザ・フォト
グラフィック・プロセス(The Theory of Photographic
Processes)」第3版、1966マクミラン(Macmillan)
社刊、344頁〜346頁などに記載されている。
PUGで表わされる現像抑制剤は置換されていてもよ
い。置換基の例としては例えばR1の置換基として列挙し
たものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていて
もよい。
い。置換基の例としては例えばR1の置換基として列挙し
たものが挙げられ、これらの基はさらに置換されていて
もよい。
好ましい置換基としてはニトロ基、スルホ基、カルボ
キシル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニ
コ基、スルホンアミド基である。
キシル基、スルファモイル基、ホスホノ基、ホスフィニ
コ基、スルホンアミド基である。
また一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)にお
いて、R1またはTimetPUGは、その中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わさ
れる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進する基
が組み込まれていてもよい。
いて、R1またはTimetPUGは、その中にカプラー等の
不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基
や一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)で表わさ
れる化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進する基
が組み込まれていてもよい。
バラスト基は一般式(R−1)、(R−2)、(R−
3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中
へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有
機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エ
ーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウ
レタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合せか
らなるものである。バラスト基として好ましくは置換ベ
ンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキ
ル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好ま
しい。
3)で表わされる化合物が実質的に他層または処理液中
へ拡散できないようにするのに十分な分子量を与える有
機基であり、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、エ
ーテル基、チオエーテル基、アミド基、ウレイド基、ウ
レタン基、スルホンアミド基などの一つ以上の組合せか
らなるものである。バラスト基として好ましくは置換ベ
ンゼン環を有するバラスト基であり、特に分岐状アルキ
ル基で置換されたベンゼン環を有するバラスト基が好ま
しい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具体的には4
−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリン−2−チ
オン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビ
ツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2,4−トリア
ゾリン−3−チオン、1,3,4−オキサゾリン−2−チオ
ン、ベンズイミダゾリン−2−チオン、ベンズオキサゾ
リン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオン、チ
オトリアジン、1,3−イミダゾリン−2−チオンのよう
な環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場合はこ
れと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と同義で
あり、この基の具体例は上に列挙したものと同じであ
る。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾトリアゾ
ール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベ
ンズイミダゾール、イミダゾール、、ベンゾチアゾー
ル、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含
窒素ヘテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのような
複素環四級塩などが挙げられる。
−チアゾリン−2−チオン、4−イミダゾリン−2−チ
オン、2−チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビ
ツール酸、テトラゾリン−5−チオン、1,2,4−トリア
ゾリン−3−チオン、1,3,4−オキサゾリン−2−チオ
ン、ベンズイミダゾリン−2−チオン、ベンズオキサゾ
リン−2−チオン、ベンゾチアゾリン−2−チオン、チ
オトリアジン、1,3−イミダゾリン−2−チオンのよう
な環状チオアミド基、鎖状チオアミド基、脂肪族メルカ
プト基、芳香族メルカプト基、ヘテロ環メルカプト基
(−SH基が結合した炭素原子の隣が窒素原子の場合はこ
れと互変異性体の関係にある環状チオアミド基と同義で
あり、この基の具体例は上に列挙したものと同じであ
る。)、ジスルフィド結合を有する基、ベンゾトリアゾ
ール、トリアゾール、テトラゾール、インダゾール、ベ
ンズイミダゾール、イミダゾール、、ベンゾチアゾー
ル、チアゾール、チアゾリン、ベンゾオキサゾール、オ
キサゾール、オキサゾリン、チアジアゾール、オキサチ
アゾール、トリアジン、アザインデンのような窒素、酸
素、硫黄及び炭素の組合せからなる5員ないし6員の含
窒素ヘテロ環基、及びベンズイミダゾリニウムのような
複素環四級塩などが挙げられる。
これらはさらに適当な置換基で置換されていてもよ
い。
い。
置換基としては、例えばR1の置換基として述べたもの
が挙げられる。
が挙げられる。
以下に本発明に用いられる化合物の具体例を列記する
が本発明はこれらに限定されるものではない。
が本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明に用いられるレドックス化合物としては上記の
ものの他に、例えば特開昭61−213,847号、同62−260,1
53号、特願平1−102,393号、同1−102,394号、同1−
102,395号、同1−114,455号に記載されたものを用いる
ことができる。
ものの他に、例えば特開昭61−213,847号、同62−260,1
53号、特願平1−102,393号、同1−102,394号、同1−
102,395号、同1−114,455号に記載されたものを用いる
ことができる。
本発明に用いられるレドックス化合物の合成法は例え
ば特開昭61−213,847号、同62−260,153号、米国特許第
4,684,604号、特願昭63−98,803号、米国特許第3,379,5
29号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878
号、特開昭49−129,536号、同56−153,336号、同56−15
3,342号などに記載されている。
ば特開昭61−213,847号、同62−260,153号、米国特許第
4,684,604号、特願昭63−98,803号、米国特許第3,379,5
29号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878
号、特開昭49−129,536号、同56−153,336号、同56−15
3,342号などに記載されている。
本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあ
たり1×10-6〜5×10-2モル、より好ましくは1×10-5
〜1×10-2モルの範囲内で用いられる。
たり1×10-6〜5×10-2モル、より好ましくは1×10-5
〜1×10-2モルの範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶
媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
媒、例えば、アルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジ
ブチルフタレート、トリクレジルフォスフ、ェート、グ
リセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートな
どのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助
溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用
いることもできる。あるいは固体分散法として知られて
いる方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に
ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分
散して用いることもできる。
ブチルフタレート、トリクレジルフォスフ、ェート、グ
リセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートな
どのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助
溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用
いることもできる。あるいは固体分散法として知られて
いる方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中に
ボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分
散して用いることもできる。
本発明に用いられる単分散ハロゲン化銀乳剤のハロゲ
ン組成は塩化銀含有率が50モル%以上であり塩臭化銀、
沃塩化銀、沃塩臭化銀のいずれかから成る。沃化銀含有
率は3モル%以下、より好ましくは、0.5モル%以下で
ある。
ン組成は塩化銀含有率が50モル%以上であり塩臭化銀、
沃塩化銀、沃塩臭化銀のいずれかから成る。沃化銀含有
率は3モル%以下、より好ましくは、0.5モル%以下で
ある。
本発明に用いられる単分散ハロゲン化銀乳剤の調製方
法は、ハロゲン化銀写真感光材料の分野で公知の種々の
手法が用いられる。例えばピ・グラフキデ(P.Glafkide
s)著「シミー・エ・フィジク・フォトグラフィック(C
himie et Physique Photograhique)」(ポール・モン
テル(Paul Montel)社刊1967年)、ジー・エフ・デュ
フィン(G.F.Duffin)著「フォトグラフィック・エモル
ジョン・ケミストリー(Photographic Emulsion Chemis
try)(ザ・フォーカル・プレス(The Focal Press)刊
1966年)、ブイ・エル・ツエリクマン(V.L.Zelikman e
t al)著「メーキング・アンド・コーティング・フォト
グラフィック・エマルジョン(Making and Coating Pho
tograhic Emulsion)」(ザ・フォーカル・プレス(The
Focal Press)刊1964年)などに記載されている方法を
用いて調製することができる。
法は、ハロゲン化銀写真感光材料の分野で公知の種々の
手法が用いられる。例えばピ・グラフキデ(P.Glafkide
s)著「シミー・エ・フィジク・フォトグラフィック(C
himie et Physique Photograhique)」(ポール・モン
テル(Paul Montel)社刊1967年)、ジー・エフ・デュ
フィン(G.F.Duffin)著「フォトグラフィック・エモル
ジョン・ケミストリー(Photographic Emulsion Chemis
try)(ザ・フォーカル・プレス(The Focal Press)刊
1966年)、ブイ・エル・ツエリクマン(V.L.Zelikman e
t al)著「メーキング・アンド・コーティング・フォト
グラフィック・エマルジョン(Making and Coating Pho
tograhic Emulsion)」(ザ・フォーカル・プレス(The
Focal Press)刊1964年)などに記載されている方法を
用いて調製することができる。
本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が20%
以下、特に好ましくは15%以下である。
以下、特に好ましくは15%以下である。
ここで変動係数は として定義される。
単分散ハロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは
0.5μm以下であり、特に好ましく0.1μm〜0.4μmで
ある。
0.5μm以下であり、特に好ましく0.1μm〜0.4μmで
ある。
水溶性銀塩(硝酸銀水溶液)と水溶性ハロゲン塩を反
応させる形式としては、片側混合法、同時混合法、それ
らの組合わせのいずれを用いてもよい。同時混合法の一
つの形式として、ハロゲン化銀の生成される液相中のpA
gを一定に保つ方法、すなわちコントロールダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素などのいわゆるハロゲン化銀溶
剤を使用して粒子形成させることが好ましい。
応させる形式としては、片側混合法、同時混合法、それ
らの組合わせのいずれを用いてもよい。同時混合法の一
つの形式として、ハロゲン化銀の生成される液相中のpA
gを一定に保つ方法、すなわちコントロールダブルジェ
ット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエ
ーテル、四置換チオ尿素などのいわゆるハロゲン化銀溶
剤を使用して粒子形成させることが好ましい。
より好ましくは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭
53−82408号、同55−77737号に記載されている。好まし
いチオ尿素化合物は、テトラメチルチオ尿素、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジンチオンである。
53−82408号、同55−77737号に記載されている。好まし
いチオ尿素化合物は、テトラメチルチオ尿素、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジンチオンである。
コントロールダブルジェット法およびハロゲン化銀溶
剤を使用した粒子形成方法では、結晶形が規則的で粒子
サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作ることが容易で
あり、本発明に使いられる乳剤を作るのに有効な手段で
ある。
剤を使用した粒子形成方法では、結晶形が規則的で粒子
サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作ることが容易で
あり、本発明に使いられる乳剤を作るのに有効な手段で
ある。
単分散乳剤は立方体、八面体、十四面体のような規則
的な結晶形を有するのが好ましく、特に立方体が好まし
い。
的な結晶形を有するのが好ましく、特に立方体が好まし
い。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成って
いても、異なる相からなっていてもよい。
いても、異なる相からなっていてもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩を共存させてもよ
い。
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩を共存させてもよ
い。
本発明において、線画撮影用および網点作成用感光材
料として特に適したハロゲン化銀乳剤は銀1モルあたり
10-8〜10-5モルのイリジウム塩若しくはその錯塩を存在
させて製造された乳剤である。
料として特に適したハロゲン化銀乳剤は銀1モルあたり
10-8〜10-5モルのイリジウム塩若しくはその錯塩を存在
させて製造された乳剤である。
上記においては、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理
熟成終了前、とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム
塩を加えることが望ましい。
熟成終了前、とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム
塩を加えることが望ましい。
ここで用いられるイリジウム塩は水溶性のイリジウム
塩またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、
四塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(III)酸
カリウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、
ヘキサクロロイリジウム(III)酸アンモニウムなどが
ある。
塩またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、
四塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(III)酸
カリウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、
ヘキサクロロイリジウム(III)酸アンモニウムなどが
ある。
本発明の単分散乳剤は、化学増感する方が好ましく硫
黄増感、還元増感、金増感等の知られている方法を用い
ることができ、単独または組合せで用いられる。好まし
い化学増感方法は金硫黄増感である。
黄増感、還元増感、金増感等の知られている方法を用い
ることができ、単独または組合せで用いられる。好まし
い化学増感方法は金硫黄増感である。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合
物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チ
オ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いること
ができる。具体例は米国特許1,574,944号、同2,278,947
号、同2,410,689号、同2,728,668号、同3,501,313号、
同3,656,955号に記載されたものである。好ましい硫黄
化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物であり、化学増
感時のpAgとしては好ましくは8.3以下、より好ましく
は、7.3〜8.0の範囲である。さらにMoisar,Klein Gelat
ine.Proc.Syme.2nd,301〜309(1976)らによって報告さ
れているようなポリビニルピロリドンとチオ硫酸塩を併
用する方法も良好な結果を与える。
物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チ
オ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いること
ができる。具体例は米国特許1,574,944号、同2,278,947
号、同2,410,689号、同2,728,668号、同3,501,313号、
同3,656,955号に記載されたものである。好ましい硫黄
化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物であり、化学増
感時のpAgとしては好ましくは8.3以下、より好ましく
は、7.3〜8.0の範囲である。さらにMoisar,Klein Gelat
ine.Proc.Syme.2nd,301〜309(1976)らによって報告さ
れているようなポリビニルピロリドンとチオ硫酸塩を併
用する方法も良好な結果を与える。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金
化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、た
とえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許2,448,060号、
英国特許618,061号などに記載されている。
化合物、主として金錯塩を用いる。金以外の貴金属、た
とえば白金、パラジウム、イリジウム等の錯塩を含有し
ても差支えない。その具体例は米国特許2,448,060号、
英国特許618,061号などに記載されている。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラ
チンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロ
イドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、
ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
チンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロ
イドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、
ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミ
ン、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、
カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル
類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉
誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピロ
リドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラ
ゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水
性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼ
ラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン
酵素分解物も用いることができる。
ラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン
酵素分解物も用いることができる。
本発明においては特開昭55−52050号第45頁〜53頁に
記載された可視域に吸収極大を有する増感色素(例えば
シアニン色素、メロシアニン色素など。)を添加するこ
ともできる。これによってハロゲン化銀の固有感度領域
より波長側に分光増感することができる。
記載された可視域に吸収極大を有する増感色素(例えば
シアニン色素、メロシアニン色素など。)を添加するこ
ともできる。これによってハロゲン化銀の固有感度領域
より波長側に分光増感することができる。
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの
組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色
増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、
それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を
実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質
を乳剤中に含んでもよい。
組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色
増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、
それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を
実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質
を乳剤中に含んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強
色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Rese
arch Disclosere)176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項に記載されている。
色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Rese
arch Disclosere)176巻17643(1978年12月発行)第23
頁IVのJ項に記載されている。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中
あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾ
ール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトテト
ラゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベン
ゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノ
トリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾト
リアゾール類、など;メルカプトピリミジン類;メルカ
プトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチオンのよう
なチオケトン化合物;アザインデン類、たとえばトリア
ザインデン類、テトラアザインデン類(特に4−ヒドロ
キシ置換(1,3,3a,7)テトラザインデン類)、ペンタア
ザインデン類など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼ
ンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン酸アミド等のよう
なカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化合
物を加えることができる。これらのものの中で、好まし
いのはベンゾトリアゾール類(例えば、5−メチル−ベ
ンゾトリアゾール)及びニトロインダゾール類(例えば
5−ニトロインダゾール)である。また、これらの化合
物を処理液に含有させてもよい。さらに特開昭62−3024
3に記載の現像中に抑制剤を放出するような化合物を、
安定剤あるいは黒ポツ防止の目的で含有させることがで
きる。
あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリ
ウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾ
ール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトテト
ラゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベン
ゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノ
トリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾト
リアゾール類、など;メルカプトピリミジン類;メルカ
プトトリアジン類;たとえばオキサゾリンチオンのよう
なチオケトン化合物;アザインデン類、たとえばトリア
ザインデン類、テトラアザインデン類(特に4−ヒドロ
キシ置換(1,3,3a,7)テトラザインデン類)、ペンタア
ザインデン類など;ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼ
ンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン酸アミド等のよう
なカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化合
物を加えることができる。これらのものの中で、好まし
いのはベンゾトリアゾール類(例えば、5−メチル−ベ
ンゾトリアゾール)及びニトロインダゾール類(例えば
5−ニトロインダゾール)である。また、これらの化合
物を処理液に含有させてもよい。さらに特開昭62−3024
3に記載の現像中に抑制剤を放出するような化合物を、
安定剤あるいは黒ポツ防止の目的で含有させることがで
きる。
本発明の写真感光材料には安定剤、促進剤等種々の目
的でハイドロキノン誘導体、フェニドン誘導体などの現
像主薬を含有することができる。
的でハイドロキノン誘導体、フェニドン誘導体などの現
像主薬を含有することができる。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水
性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムな
ど)、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グルタール
アルデヒドなど)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物
(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−S−トリ
アジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノールな
ど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒド
ロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ム
コクロル酸など)、などを単独または組み合わせて用い
ることができる。
性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えばクロム塩(クロムミョウバン、酢酸クロムな
ど)、アルデヒド類、(ホルムアルデヒド、グルタール
アルデヒドなど)、N−メチロール化合物(ジメチロー
ル尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物
(1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−S−トリ
アジン、1,3−ビニルスルホニル−2−プロパノールな
ど)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル−6−ヒド
ロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲン酸類(ム
コクロル酸など)、などを単独または組み合わせて用い
ることができる。
本発明を用いて作られる感光材料の写真乳剤層または
他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ
性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良(例え
ば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的で、種々の
界面活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン(ステロイド系)、アルキレンオキサ
イド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポ
リエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
ルアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン類エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
イド誘導体(例えばポリエチレングリコール、ポリエチ
レングリコール/ポリプロピレングリコール縮合物、ポ
リエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチ
レングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチ
レングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソ
ルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキ
ルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキ
サイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えばアルケ
ニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリ
グリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル類、等
のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤;ア
ルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキ
ルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフ
ォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エ
ステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類、スル
ホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチ
ルアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンア
ルキルリン類エステル類などのような、カルボキシ基、
スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル
基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミノ酸類、
アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又は
リン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミンオキシ
ド類などの両性界面活性剤;アルキルアミン塩類、脂肪
族あるいは芳香族第4級アンモニウム塩類、ピリジニウ
ム、イミダゾリウムなどの複素環第4級アンモニウム塩
類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスル
ホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることが
できる。
特に本発明において好ましく用いられる界面活性剤は
特公昭58−9412号公報に記載された分子量600以上のポ
リアルキレンオキサイド類である。
特公昭58−9412号公報に記載された分子量600以上のポ
リアルキレンオキサイド類である。
また、帯電防止のためには特開昭60−80849号などに
記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好まし
い。
記載された含フッ素系界面活性剤を用いることが好まし
い。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水
性コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制
剤を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
性コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制
剤を放出するハイドロキノン誘導体(いわゆる、DIR−
ハイドロキノン)を含有してもよい。
それらの具体例は米国特許3,379,529号、米国特許3,6
20,746号、米国特許4,377,634号、米国特許4,332,878
号、特開昭49−129,536号、特開昭54−67,419号、特開
昭56−153,336号、特開昭56−153,342号、特開昭59−27
8,853号、同59−90435号、同59−90436号、同59−13880
8号などに記載の化合物を挙げることができる。
20,746号、米国特許4,377,634号、米国特許4,332,878
号、特開昭49−129,536号、特開昭54−67,419号、特開
昭56−153,336号、特開昭56−153,342号、特開昭59−27
8,853号、同59−90435号、同59−90436号、同59−13880
8号などに記載の化合物を挙げることができる。
本発明の写真感光材料には写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこと
ができる。
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレート等のマット剤を含むこと
ができる。
本発明で用いられる感光材料には寸度安定性の目的で
水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アル
コキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、また
はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せ
を単量体成分とするポリマーを用いることができる。
水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえばアルキル(メタ)アクリレート、アル
コキシアクリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メ
タ)アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、また
はこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せ
を単量体成分とするポリマーを用いることができる。
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその
他の層には酸基を有する化合物を含有することが好まし
い。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−223834号、同61−228437
号、同62−25745号、及び同62−55642号明細書の記録を
参考にすることができる。これらの化合物の中でも特に
好ましいのは、低分子化合物としてはアスコルビン酸で
あり、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマ
ーとジビニルベンゼンの如き2個以上の不飽和基を有す
る架橋性モノマーからなるコポリマーの水分散性ラテッ
クスである。
他の層には酸基を有する化合物を含有することが好まし
い。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、ア
スコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、
フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有する
ポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これら
の化合物に関しては特開昭61−223834号、同61−228437
号、同62−25745号、及び同62−55642号明細書の記録を
参考にすることができる。これらの化合物の中でも特に
好ましいのは、低分子化合物としてはアスコルビン酸で
あり、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマ
ーとジビニルベンゼンの如き2個以上の不飽和基を有す
る架橋性モノマーからなるコポリマーの水分散性ラテッ
クスである。
本発明に用いる乳剤は、適当な支持体、例えばガラ
ス、酢酸、セルロースフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、紙、バライタ塗覆紙、ポリオレフィン
被覆紙の如きものの上に塗布される。
ス、酢酸、セルロースフィルム、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、紙、バライタ塗覆紙、ポリオレフィン
被覆紙の如きものの上に塗布される。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感
度の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許
2,419,957号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液
を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることができ
る。
度の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許
2,419,957号に記載されたpH13に近い高アルカリ現像液
を用いる必要はなく、安定な現像液を用いることができ
る。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤
としての亜硫酸イオンを0.15モル/以上含み、pH10.5
〜12.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分に超硬
調のネガ画像を得ることができる。
としての亜硫酸イオンを0.15モル/以上含み、pH10.5
〜12.3、特にpH11.0〜12.0の現像液によって充分に超硬
調のネガ画像を得ることができる。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な
制限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒド
ロキシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノー
ル類の組合せを用いる場合もある。
制限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒド
ロキシベンゼン類を含むことが好ましく、ジヒドロキシ
ベンゼン類と1−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合
せまたはジヒドロキシベンゼン類とp−アミノフェノー
ル類の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬として
はハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイ
ドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジク
ロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、
2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイド
ロキノンが好ましい。
はハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイ
ドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイ
ドロキノン、2,3−ジクロロハイドロキノン、2,5−ジク
ロロハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロキノン、
2,5−ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイド
ロキノンが好ましい。
本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾリドン又は
その誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラリゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒ
ドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5
−メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル
−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル
−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
その誘導体の現像主薬としては1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−4−ピラゾ
リドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシメ
チル−3−ピラリゾリドン、1−フェニル−4,4−ジヒ
ドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−5
−メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェニル
−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−トリル
−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp−アミノフェノール系現像主薬とし
てはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフ
ェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノ
フェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシ
ン、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジル
アミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p
−アミノフェノールが好ましい。
てはN−メチル−p−アミノフェノール、p−アミノフ
ェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミノ
フェノール、N−(4−ヒドロキシフェニル)グリシ
ン、2−メチル−p−アミノフェノール、p−ベンジル
アミノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p
−アミノフェノールが好ましい。
現像主薬は通常0.05モル/〜0.8モル/の量で用
いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と
1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ・フ
ェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル
/〜0.5モル/、後者を0.06モル/以下の量で用
いるのが好ましい。
いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と
1−フェニル−3−ピラゾリドン類又はp・アミノ・フ
ェノール類との組合せを用いる場合には前者を0.05モル
/〜0.5モル/、後者を0.06モル/以下の量で用
いるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.15モル/以上に特に0.5モル/以上が
好ましい。また上限は2.5モル/までとするのが好ま
しい。
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アン
モニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。
亜硫酸塩は0.15モル/以上に特に0.5モル/以上が
好ましい。また上限は2.5モル/までとするのが好ま
しい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如き
pH調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜12.3の間
に設定される。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如き
pH調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.5〜12.3の間
に設定される。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホ
ウ砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃
化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トルエチレングリコール、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコ
ール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツト
リアゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブ
リ、防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤:を含ん
でもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡
剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106244号記載のア
ミノ化合物などを含んでもよい。
ウ砂などの化合物、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃
化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トルエチレングリコール、ジメチ
ルホルムアミド、メチルセロソルブ、ヘキシレングリコ
ール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:1−フェ
ニル−5−メルカプトテトラゾール、5−ニトロインダ
ゾール等のインダゾール系化合物、5−メチルベンツト
リアゾール等のベンツトリアゾール系化合物などのカブ
リ、防止剤又は黒ポツ(black pepper)防止剤:を含ん
でもよく、更に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡
剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭56−106244号記載のア
ミノ化合物などを含んでもよい。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−2
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現像液
中に添加する溶解助剤して特願昭60−109,743号に記載
の化合物を用いることができる。さらに現像液に用いる
pH緩衝剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物ある
いは特願昭61−27808号に記載の化合物を用いることが
できる。
4,347号に記載の化合物を用いることができる。現像液
中に添加する溶解助剤して特願昭60−109,743号に記載
の化合物を用いることができる。さらに現像液に用いる
pH緩衝剤として特開昭60−93,433号に記載の化合物ある
いは特願昭61−27808号に記載の化合物を用いることが
できる。
定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いる
ことができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン
酸塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫
黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤とし
て水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニウム、明バ
ンなど)を含んでもよい。ここで水溶性アルミニウム塩
の量としては通常0.4〜2.0g〜Al/である。さらに三価
の鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との
錯体として用いることもできる。
ことができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン
酸塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫
黄化合物を用いることができる。定着液には硬膜剤とし
て水溶性アルミニウム(例えば硫酸アルミニウム、明バ
ンなど)を含んでもよい。ここで水溶性アルミニウム塩
の量としては通常0.4〜2.0g〜Al/である。さらに三価
の鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との
錯体として用いることもできる。
現像処理温度は普通18℃から50℃の間で選ばれるがよ
り好ましくは25℃から43℃である。
り好ましくは25℃から43℃である。
(実施例) 次に、本発明について実施例にもとづいてより具体的
に説明する。現像液は下記に記載の処方を用いた。
に説明する。現像液は下記に記載の処方を用いた。
(実施例1) (本発明の乳剤調製) 乳剤A:0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1×1
0-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.04Mの臭化カ
リウムと0.09Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、撹拌しな
がら38℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀
粒子を得ることにより核形成を行なった。続いて同様に
0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.26Mの臭化カリウムと、0.65
Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。
0-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.04Mの臭化カ
リウムと0.09Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、撹拌しな
がら38℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀
粒子を得ることにより核形成を行なった。続いて同様に
0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.26Mの臭化カリウムと、0.65
Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。
その後1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョン
を行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さら
に銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8
mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、
安定剤として1,3,3a,7−テトラざいんでん150mgを加え
た。得られた粒子は平均サイズ0.27μm、塩化銀含量70
モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10
%)。
を行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さら
に銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8
mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、
安定剤として1,3,3a,7−テトラざいんでん150mgを加え
た。得られた粒子は平均サイズ0.27μm、塩化銀含量70
モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動係数10
%)。
乳剤B:0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1×10
-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.052Mの臭化カ
リウムと0.078Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、撹拌しな
がら45℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率60モル%の塩数化銀
粒子を得ることにより核形成を行なった。続いて同様に
0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.34Mの臭化カリウムと、0.52
Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。
-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.052Mの臭化カ
リウムと0.078Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶
液を、塩化ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダ
ゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、撹拌しな
がら45℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均
粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率60モル%の塩数化銀
粒子を得ることにより核形成を行なった。続いて同様に
0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.34Mの臭化カリウムと、0.52
Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液をダブルジ
ェット法により、20分間かけて添加した。
その後1×10-3モルKI溶液を加えてコンバージョンを
行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さら
に銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8
mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、
安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン150mgを加えた。得られた粒子は平均
粒子サイズ0.27μm、塩化銀含量60モル%の塩臭化銀立
方体粒子であった。(変動係数10%)。
行ない常法に従ってフロキュレーション法により水洗
し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さら
に銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8
mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、
安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−
テトラザインデン150mgを加えた。得られた粒子は平均
粒子サイズ0.27μm、塩化銀含量60モル%の塩臭化銀立
方体粒子であった。(変動係数10%)。
(比較乳剤の調製) 乳剤C:0.13Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1×10
-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.07Mの臭化カリ
ウムと0.052Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液
を、塩化ナトリウムとを含有するゼラチン水溶液に、撹
拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法により添加
し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率70モル%の
塩臭化銀粒子を得ることにより核形成行なった。続いて
同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.522Mの臭化カリウム
と、0.348Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を
ダブルジェット法により、20分間かけて添加した。
-7モルに相当する(NH4)3RhCl6を含み0.07Mの臭化カリ
ウムと0.052Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液
を、塩化ナトリウムとを含有するゼラチン水溶液に、撹
拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法により添加
し、平均粒子サイズ0.15μm、塩化銀含有率70モル%の
塩臭化銀粒子を得ることにより核形成行なった。続いて
同様に0.87Mの硝酸銀水溶液と、0.522Mの臭化カリウム
と、0.348Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を
ダブルジェット法により、20分間かけて添加した。
その後、1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョ
ンを行ない常法に従ってフロキュレーション法により水
洗し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さ
らに銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金
酸8mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施
し、安定剤として1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを
加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.27μm、塩化
銀含量40モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動
係数11%)。
ンを行ない常法に従ってフロキュレーション法により水
洗し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さ
らに銀1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金
酸8mgを加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施
し、安定剤として1,3,3a,7−テトラザインデン150mgを
加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.27μm、塩化
銀含量40モル%の塩臭化銀立方体粒子であった。(変動
係数11%)。
乳剤D:50℃に保ったゼラチン水溶液にアンモニアの存在
下で1モルの硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-7モ
ルの(NH4)3RhCl6を含む沃化カリウム、臭化カリウム
水溶液を同時に60分間で加え、その間のpAgを7.8に保つ
ことにより平均粒径0.25μm、平均ヨウ化銀含有1モル
%の立方体単分散乳剤を調製しフロキュレーション法に
より、脱塩を行ないゼラチン40gを加えpH=6.0 pAg=8.
5に調製し、チオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸6mg加
え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、安定剤
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン150mgを加えた。
下で1モルの硝酸銀水溶液と銀1モル当り1.2×10-7モ
ルの(NH4)3RhCl6を含む沃化カリウム、臭化カリウム
水溶液を同時に60分間で加え、その間のpAgを7.8に保つ
ことにより平均粒径0.25μm、平均ヨウ化銀含有1モル
%の立方体単分散乳剤を調製しフロキュレーション法に
より、脱塩を行ないゼラチン40gを加えpH=6.0 pAg=8.
5に調製し、チオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸6mg加
え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、安定剤
として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラ
ザインデン150mgを加えた。
(変動係数9%) これら乳剤を分割して増感色素として銀1モル当たり
1×10-3モルの5−{〔3−(4−スルホブチル)−5
−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデ
ン}−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−ピリ
ジル)−2−チオヒダントイン K塩を加え、さらに2
×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテトラゾー
ル、5×10-4モルの下記構造式(a)で表わされる短波
シアニン色素、(b)で表わされる水溶性ラテックス
(200mg/m2)およびポリエチルアクリレートの分散物
(200mg/m2)硬膜剤として1,3−ジビニル−スルホニル
−2−プロパノール(200mg/m2)、本発明のヒドラジン
化合物IV−19(5×10-3モル/モルAg)、IV−7(1×
10-4モル/モルAg)および、アミン化合物を表1の様に
添加した。
1×10-3モルの5−{〔3−(4−スルホブチル)−5
−クロロ−2−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデ
ン}−1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−ピリ
ジル)−2−チオヒダントイン K塩を加え、さらに2
×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテトラゾー
ル、5×10-4モルの下記構造式(a)で表わされる短波
シアニン色素、(b)で表わされる水溶性ラテックス
(200mg/m2)およびポリエチルアクリレートの分散物
(200mg/m2)硬膜剤として1,3−ジビニル−スルホニル
−2−プロパノール(200mg/m2)、本発明のヒドラジン
化合物IV−19(5×10-3モル/モルAg)、IV−7(1×
10-4モル/モルAg)および、アミン化合物を表1の様に
添加した。
これらの乳剤および保護層としてゼラチン1.0g/m2、
粒子サイズ約3.5μの不定型なSiO2マット剤40mg/m2、メ
タノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/
m2、ハイドロキノン200mg/m2とシリコーンオイル及び塗
布助剤として下記構造式で示されるフッ素界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布行ない表1のような試料1〜32を作製した。
粒子サイズ約3.5μの不定型なSiO2マット剤40mg/m2、メ
タノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/
m2、ハイドロキノン200mg/m2とシリコーンオイル及び塗
布助剤として下記構造式で示されるフッ素界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布行ない表1のような試料1〜32を作製した。
またバック層およびバック層保護層は次に示す処方に
て塗布した。
て塗布した。
ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウ
ム 40mg/m2 染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の混合 染料〔a〕 50mg/m2 染料〔b〕 100mg/m2 染料〔c〕 50mg/m2 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μ) 30 mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩 15 mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15 mg/m2 フッ素系界面活性剤 5 mg/m2 酢酸ナトリウム 40 mg/m2 なお、評価は以下のテスト方法で行なった。
ム 40mg/m2 染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の混合 染料〔a〕 50mg/m2 染料〔b〕 100mg/m2 染料〔c〕 50mg/m2 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径4.5μ) 30 mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリウム塩 15 mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15 mg/m2 フッ素系界面活性剤 5 mg/m2 酢酸ナトリウム 40 mg/m2 なお、評価は以下のテスト方法で行なった。
(写真特性) 写真特性1は、上記処方の現像液でFG−660F自動現像
機(富士写真フィルム株式会社製)を用いて34℃30″処
理を行なった結果である。
機(富士写真フィルム株式会社製)を用いて34℃30″処
理を行なった結果である。
定着液は、GR−F1を用いた。
写真特性2は100%黒化のフジリスオルソフィルムGA
−100大全サイズ(50.8cm×61cm)を100枚処理した後の
現像液で写真特性1と同様の方法で処理した結果であ
る。
−100大全サイズ(50.8cm×61cm)を100枚処理した後の
現像液で写真特性1と同様の方法で処理した結果であ
る。
ここで感度は34℃30秒現像における濃度1.5を与える
露光量の逆数の相対値で試料1の値を100とした。
露光量の逆数の相対値で試料1の値を100とした。
ここでγは で定義する。
第1表より明らかな様に本発明の試料2〜5,10〜13は
写真特性1,2ともに良好な性能を示す。
写真特性1,2ともに良好な性能を示す。
(実施例2) 乳剤Aを分割して、実施例1と同様の添加剤を加え、
さらに本発明のヒドラジン化合物IV−13(1×10-3モル
/モルAg)、IV−7(1×10-4モル/モルAg)および、
アミン化合物を表2の様に添加した。
さらに本発明のヒドラジン化合物IV−13(1×10-3モル
/モルAg)、IV−7(1×10-4モル/モルAg)および、
アミン化合物を表2の様に添加した。
(レッドクス化合物含有層乳剤の調製) 1.0Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり3×10-7モル
の(NH4)3RhCl6を含有し、0.3Mの臭化カリウムと0.74M
の塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナト
リウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、撹拌しながら45℃で30分
間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.28
μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を得た。そ
の後常法に従ってフロキュレーション法により水洗し、
ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さらに銀
1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8mgを
加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、安定
剤として4−ヒドロキシ−6−メチル1,3,3a,7−テトラ
ザインデン150mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サ
イズ0.28μm、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒
子であった。(変動係数10%)。
の(NH4)3RhCl6を含有し、0.3Mの臭化カリウムと0.74M
の塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化ナト
リウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオン
を含有するゼラチン水溶液に、撹拌しながら45℃で30分
間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.28
μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化銀粒子を得た。そ
の後常法に従ってフロキュレーション法により水洗し、
ゼラチン40gを加え、pH6.5、pAg7.5に調整し、さらに銀
1モルあたりチオ硫酸ナトリウム5mg及び塩化金酸8mgを
加え、60℃で60分間加熱し、化学増感処理を施し、安定
剤として4−ヒドロキシ−6−メチル1,3,3a,7−テトラ
ザインデン150mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サ
イズ0.28μm、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀立方体粒
子であった。(変動係数10%)。
この乳剤を分割して増感色素として銀1モルあたり1
×10-3モルの5−{〔3−(4−スルホブチル)−5ク
ロロ−1−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン}−
1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−ピリジル)
−2−チオヒダントイン K塩を加え、さらに2×10-4
モルの1−フェニル−5−メカプトテトラゾール、ポリ
エチルアクリレートの分散物を50mg/m2、1,2−ビス(ビ
ニルスルホニアセトアミド)エタン40mg/m2、本発明の
レドックス化合物を表2の様に添加した。
×10-3モルの5−{〔3−(4−スルホブチル)−5ク
ロロ−1−ベンゾオキサゾリジリデン〕エチリデン}−
1−ヒドロキシエトキシエチル−3−(2−ピリジル)
−2−チオヒダントイン K塩を加え、さらに2×10-4
モルの1−フェニル−5−メカプトテトラゾール、ポリ
エチルアクリレートの分散物を50mg/m2、1,2−ビス(ビ
ニルスルホニアセトアミド)エタン40mg/m2、本発明の
レドックス化合物を表2の様に添加した。
ヒドラジン含有層を最下層(Ag3.6g/m2、ゼラチン2g/
m2)にさらに、中間層(ゼラチン0.5g/m2)を介してレ
ドックス化合物を含む層(Ag0.4g/m2、ゼラチン0.5g/
m2)およびこの上に保護層としてゼラチン1.0g/m2、粒
子サイズ約3.5μの不定型なSiO3マット剤40mg/m2、メタ
ノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、
ハイドロキノン200mg/m2とシリコーンオイル及び塗布助
剤として下記構造式で示されるフッ素界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布行ない表2のような試料を作製し写真性能及び
画質の評価を行なった。
m2)にさらに、中間層(ゼラチン0.5g/m2)を介してレ
ドックス化合物を含む層(Ag0.4g/m2、ゼラチン0.5g/
m2)およびこの上に保護層としてゼラチン1.0g/m2、粒
子サイズ約3.5μの不定型なSiO3マット剤40mg/m2、メタ
ノールシリカ0.1g/m2、ポリアクリルアミド100mg/m2、
ハイドロキノン200mg/m2とシリコーンオイル及び塗布助
剤として下記構造式で示されるフッ素界面活性剤 とドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同
時に塗布行ない表2のような試料を作製し写真性能及び
画質の評価を行なった。
第2表より明らかな様に本発明の試料34〜45は感度γ
の低下が小さく、さらにレドックス化合物を含む35〜45
は画質の良化が著しい。
の低下が小さく、さらにレドックス化合物を含む35〜45
は画質の良化が著しい。
なお、線画の画質の評価は、以下の様に行なった。
反射濃度が0.5〜1.2の範囲にある7級の明朝体、ゴジ
ック体の写植文字からなる原稿を、大日本スクリーン製
カメラ(DSC351)で撮影後、写真特性と同一の条件で、
現像処理(34℃30″)を行なった結果である。評価は、
5段階で行ない、「5」が最もよく「1」が最も悪い品
質を表わす。「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗
悪だが、ぎりぎり実用でき「2」又は「1」は実用不可
である。
ック体の写植文字からなる原稿を、大日本スクリーン製
カメラ(DSC351)で撮影後、写真特性と同一の条件で、
現像処理(34℃30″)を行なった結果である。評価は、
5段階で行ない、「5」が最もよく「1」が最も悪い品
質を表わす。「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗
悪だが、ぎりぎり実用でき「2」又は「1」は実用不可
である。
実施例3 実施例−1及び2の各試料を下記現像液Aを用いる以
外は実施例1及び2と全く同様に処理して同様な結果を
得た。
外は実施例1及び2と全く同様に処理して同様な結果を
得た。
この時、水酸化カリウムを加えて、pH=11.7に合せ
る。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】支持体上に少なくとも1層のヒドラジン誘
導体を含有する感光性ハロゲン化銀乳剤層,該乳剤層又
はその他の親水性コロイド層に少なくとも2個の反復エ
チレンオキシド基を有するアミン化合物を含有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、該ハロゲン化銀乳剤
が、塩化銀50モル%以上のハロゲン化銀からなることを
特徴とするネガ型ハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項2】乳剤層又はその他の親水性コロイド層に、
酸化されることにより現象抑制剤を放出するレドックス
化合物を含有する第1項記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23946590 | 1990-09-10 | ||
JP2-239465 | 1990-09-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04212144A JPH04212144A (ja) | 1992-08-03 |
JP2684243B2 true JP2684243B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=17045168
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2304277A Expired - Fee Related JP2684243B2 (ja) | 1990-09-10 | 1990-11-09 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2684243B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4909531B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2012-04-04 | 日本電気株式会社 | 電池冷却装置及びそれに用いられるフラップ機構 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0736076B2 (ja) * | 1986-03-24 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた画像形成方法 |
JP2655324B2 (ja) * | 1987-05-28 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH0778617B2 (ja) * | 1987-09-12 | 1995-08-23 | コニカ株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
US4975354A (en) * | 1988-10-11 | 1990-12-04 | Eastman Kodak Company | Photographic element comprising an ethyleneoxy-substituted amino compound and process adapted to provide high constrast development |
-
1990
- 1990-11-09 JP JP2304277A patent/JP2684243B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04212144A (ja) | 1992-08-03 |
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