JP2675924B2 - アミノケトン類の製造方法 - Google Patents
アミノケトン類の製造方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、中枢性筋弛緩剤として
有用なアミノケトン類及びその中間体の製造法に関す
る。
有用なアミノケトン類及びその中間体の製造法に関す
る。
【0002】さらに詳しくは一般式 [I] の化合物R−
CHOH−CHR1 R2 を酸化して一般式 [IV] の化合
物R−CO−CHR1 R2 を製造し、更にこの化合物か
ら一般式 [VI] の化合物R−CO−CR1 R2 −CH2
−NR6 R7 を製造する方法に関する。
CHOH−CHR1 R2 を酸化して一般式 [IV] の化合
物R−CO−CHR1 R2 を製造し、更にこの化合物か
ら一般式 [VI] の化合物R−CO−CR1 R2 −CH2
−NR6 R7 を製造する方法に関する。
【0003】なお、R、R1 、R2 、R6 、R7 の意味
は後述する。
は後述する。
【0004】一般式 [VI] の化合物は新規化合物であ
り、中枢性筋弛緩剤として有用である。
り、中枢性筋弛緩剤として有用である。
【0005】
【従来技術及びその問題点】二級アルコール類からケト
ン類の製造方法には、酸化剤として一般的にクロム酸等
の重金属類が知られている。
ン類の製造方法には、酸化剤として一般的にクロム酸等
の重金属類が知られている。
【0006】然しながら重金属類は生物学的またはその
他の点で有害であり、医薬品の製造法においてこれらを
使用することは好ましくない。
他の点で有害であり、医薬品の製造法においてこれらを
使用することは好ましくない。
【0007】重金属類を用いない他の酸化剤を用いる方
法としては、例えば次亜塩素酸ナトリウムと相関移動触
媒の組み合わせを用いる方法(G. A. Lee 等 Tetrahedr
on Letters、1641頁、1976年)または、酢酸等
の酸性溶媒の存在下、次亜塩素酸カルシウムを用いる方
法(S. D. Nwavkwa 等 Tetrahedron Letters、35頁、
1982年)が知られているが、これらの酸化方法では
一般式 [I] のアルコール類より一般式 [IV] のケトン
類は製造できなかった。
法としては、例えば次亜塩素酸ナトリウムと相関移動触
媒の組み合わせを用いる方法(G. A. Lee 等 Tetrahedr
on Letters、1641頁、1976年)または、酢酸等
の酸性溶媒の存在下、次亜塩素酸カルシウムを用いる方
法(S. D. Nwavkwa 等 Tetrahedron Letters、35頁、
1982年)が知られているが、これらの酸化方法では
一般式 [I] のアルコール類より一般式 [IV] のケトン
類は製造できなかった。
【0008】さらにケトン類よりアミノケトン類を製造
する方法としては、例えばケトン類をパラホルムアルデ
ヒドとアミン塩酸塩類をアルコール溶媒中、濃塩酸存在
下で反応する方法(特開昭63−119444号)が知
られているが、これによって製造されるアミノケトン類
はアミン部分が塩酸塩となるので適当なアルカリ剤、例
えばアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液等による中
和反応により遊離アミノケトン類とすることが必要であ
り、製造コストが高くなるとともに製造工程が煩雑にな
る等の不都合を避け得ない。
する方法としては、例えばケトン類をパラホルムアルデ
ヒドとアミン塩酸塩類をアルコール溶媒中、濃塩酸存在
下で反応する方法(特開昭63−119444号)が知
られているが、これによって製造されるアミノケトン類
はアミン部分が塩酸塩となるので適当なアルカリ剤、例
えばアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液等による中
和反応により遊離アミノケトン類とすることが必要であ
り、製造コストが高くなるとともに製造工程が煩雑にな
る等の不都合を避け得ない。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した問題
点を解決するためになされたものであり、中枢性筋弛緩
剤として優れた作用を有する化合物、即ち一般式 [VI] R−CO−CR1 R2 −CH2 −NR6 R7 … [VI] で表わされるアミノケトン類を製造するにあたり、一般
式 [I] R−CHOH−CHR1 R2 … [I] で表わされるアルコール類を一般式 [II] M(O−X)n … [II] で表わされるハイポハライト類および一般式 [III]
点を解決するためになされたものであり、中枢性筋弛緩
剤として優れた作用を有する化合物、即ち一般式 [VI] R−CO−CR1 R2 −CH2 −NR6 R7 … [VI] で表わされるアミノケトン類を製造するにあたり、一般
式 [I] R−CHOH−CHR1 R2 … [I] で表わされるアルコール類を一般式 [II] M(O−X)n … [II] で表わされるハイポハライト類および一般式 [III]
【0010】
【化3】 で表わされるピリジン類またはその酸付加塩の存在下反
応させ、一般式 [IV] R−CO−CHR1 R2 … [IV] で表わされるケトン類を製造し、さらに一般式 [V] NHR6 R7 … [V] で表わされるアミン類とをホルムアルデヒド水溶液の存
在下で反応させることを特徴とするものである。
応させ、一般式 [IV] R−CO−CHR1 R2 … [IV] で表わされるケトン類を製造し、さらに一般式 [V] NHR6 R7 … [V] で表わされるアミン類とをホルムアルデヒド水溶液の存
在下で反応させることを特徴とするものである。
【0011】即ち本発明の製造方法は下記反応式(1)
および(2)
および(2)
【0012】
【化4】 で表わされる。(各符号については以下に説明する。)アルコール類 本発明の製造法において出発原料として用いられるアル
コール類は既に述べた通り、下記一般式 [I] R−CHOH−CHR1 R2 … [I] で表わされる。
コール類は既に述べた通り、下記一般式 [I] R−CHOH−CHR1 R2 … [I] で表わされる。
【0013】一般式 [I] において、Rは
【0014】
【化5】 を表わす。
【0015】ただしR3 はハロゲン;低級アルキル基;
ベンジル基;ベンゾイル基;ピリジル基;低級アルキル
基で置換されていても良いフリル基;低級アルキル基で
置換されていても良いチエニル基;ハロゲン、低級アル
コキシ基、低級アルキル基、トリフロロメチル基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、アセト
アミド基、メタンスルホニルアミド基、アセチル基また
は低級アルコキシカルボニル基で置換されていても良い
フェニル基;またはナフチル基を表わす。また、R4 及
びR5 はそれぞれ独立してフェニル基または低級アルキ
ル基を、Wは酸素原子またはイオウ原子をそれぞれ表わ
す。
ベンジル基;ベンゾイル基;ピリジル基;低級アルキル
基で置換されていても良いフリル基;低級アルキル基で
置換されていても良いチエニル基;ハロゲン、低級アル
コキシ基、低級アルキル基、トリフロロメチル基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、アセト
アミド基、メタンスルホニルアミド基、アセチル基また
は低級アルコキシカルボニル基で置換されていても良い
フェニル基;またはナフチル基を表わす。また、R4 及
びR5 はそれぞれ独立してフェニル基または低級アルキ
ル基を、Wは酸素原子またはイオウ原子をそれぞれ表わ
す。
【0016】R1 は水素原子;低級アルキル基;ベンジ
ル基;メトキシ基;フェニル基;アリル基;トリフロロ
メチル基もしくは低級アルコキシ基で置換した低級アル
キル基;またはシクロプロピルメチル基を表わす。
ル基;メトキシ基;フェニル基;アリル基;トリフロロ
メチル基もしくは低級アルコキシ基で置換した低級アル
キル基;またはシクロプロピルメチル基を表わす。
【0017】R2 は水素原子または低級アルキル基をそ
れぞれ表わすか、またはR1 とR2 が連結して脂環式五
員環もしくは六員環を形成しているものであっても良
い。
れぞれ表わすか、またはR1 とR2 が連結して脂環式五
員環もしくは六員環を形成しているものであっても良
い。
【0018】なお、R4 及びR5 としての低級アルキル
基としては炭素数1または2のアルキル基が好ましく、
R3 としての低級アルキル基としては炭素数1〜3のア
ルキル基が好ましく、R3 としてのフリル基もしくはチ
エニル基に置換される低級アルキル基としては炭素数1
〜3のアルキル基が好ましく、R3 としてのフェニル基
に置換される低級アルコキシ基、低級アルキル基及び低
級アルコキシカルボニル基のアルコキシ基としては炭素
数1または2のものが好ましい。
基としては炭素数1または2のアルキル基が好ましく、
R3 としての低級アルキル基としては炭素数1〜3のア
ルキル基が好ましく、R3 としてのフリル基もしくはチ
エニル基に置換される低級アルキル基としては炭素数1
〜3のアルキル基が好ましく、R3 としてのフェニル基
に置換される低級アルコキシ基、低級アルキル基及び低
級アルコキシカルボニル基のアルコキシ基としては炭素
数1または2のものが好ましい。
【0019】また、R1 としての低級アルキル基として
は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、R1 としての
低級アルコキシ基で置換した低級アルキル基としては、
炭素数1または2のアルコキシ基で置換した炭素数1ま
たは2の低級アルキル基が好ましい。
は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、R1 としての
低級アルコキシ基で置換した低級アルキル基としては、
炭素数1または2のアルコキシ基で置換した炭素数1ま
たは2の低級アルキル基が好ましい。
【0020】また、R2 としての低級アルキル基として
は炭素数1または2のアルキル基が好ましい。ハイポハライト類 一方、上記一般式 [I] のアルコール類と反応させるべ
きハイポハライト類は下記一般式 [II] M(O−X)n … [II] で表わされる。
は炭素数1または2のアルキル基が好ましい。ハイポハライト類 一方、上記一般式 [I] のアルコール類と反応させるべ
きハイポハライト類は下記一般式 [II] M(O−X)n … [II] で表わされる。
【0021】一般式 [II] において、Mはアルカリ金属
類またはアルカリ土類金属類を示す。アルカリ金属類と
しては、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウム、セ
シウム等を挙げることができる。
類またはアルカリ土類金属類を示す。アルカリ金属類と
しては、たとえばリチウム、ナトリウム、カリウム、セ
シウム等を挙げることができる。
【0022】アルカリ土類金属類としては、たとえばマ
グネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等
を挙げることができる。
グネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等
を挙げることができる。
【0023】基Xはハロゲン原子を示し、たとえば塩
素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。nはMがアル
カリ金属類のときには1を、アルカリ土類金属類のとき
は2を示す。ピリジン類およびその酸付加塩 さらに上記一般式 [I] のアルコール類を上記一般式
[II]のハイポハライト類と共に反応させるべきピリジン
類は下記一般式 [III]
素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。nはMがアル
カリ金属類のときには1を、アルカリ土類金属類のとき
は2を示す。ピリジン類およびその酸付加塩 さらに上記一般式 [I] のアルコール類を上記一般式
[II]のハイポハライト類と共に反応させるべきピリジン
類は下記一般式 [III]
【0024】
【化6】 で表わされる。
【0025】一般式 [III]において基YおよびZは水素
原子または低級アルキル基を示す。かかるピリジン類と
しては、具体的には
原子または低級アルキル基を示す。かかるピリジン類と
しては、具体的には
【0026】
【化7】 を例示することができる。
【0027】また、一般式 [III]のピリジン類の酸付加
塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫
酸、リン酸等の鉱酸類、メタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸、酢酸、プロピオン酸等
の有機酸類との付加塩を挙げることができ、これらの酸
付加塩類は任意の割合で一般式[III]のピリジン類と存
在していてもよい。ケトン類 上記一般式 [I] より製造されるケトン類は下記一般式
[IV] R−CO−CHR1 R2 … [IV] で表わされる。
塩としては、たとえば、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫
酸、リン酸等の鉱酸類、メタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、トルエンスルホン酸、酢酸、プロピオン酸等
の有機酸類との付加塩を挙げることができ、これらの酸
付加塩類は任意の割合で一般式[III]のピリジン類と存
在していてもよい。ケトン類 上記一般式 [I] より製造されるケトン類は下記一般式
[IV] R−CO−CHR1 R2 … [IV] で表わされる。
【0028】一般式 [IV] において、Rは
【0029】
【化8】 を表わす。
【0030】ただしR3 はハロゲン;低級アルキル基;
ベンジル基;ベンゾイル基;ピリジル基;低級アルキル
基で置換されていても良いフリル基;低級アルキル基で
置換されていても良いチエニル基;ハロゲン、低級アル
コキシ基、低級アルキル基、トリフロロメチル基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、アセト
アミド基、メタンスルホニルアミド基、アセチル基また
は低級アルコキシカルボニル基で置換されていても良い
フェニル基;またはナフチル基を表わす。また、R4 及
びR5 はそれぞれ独立してフェニル基または低級アルキ
ル基を、Wは酸素原子またはイオウ原子をそれぞれ表わ
す。
ベンジル基;ベンゾイル基;ピリジル基;低級アルキル
基で置換されていても良いフリル基;低級アルキル基で
置換されていても良いチエニル基;ハロゲン、低級アル
コキシ基、低級アルキル基、トリフロロメチル基、シア
ノ基、ニトロ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、アセト
アミド基、メタンスルホニルアミド基、アセチル基また
は低級アルコキシカルボニル基で置換されていても良い
フェニル基;またはナフチル基を表わす。また、R4 及
びR5 はそれぞれ独立してフェニル基または低級アルキ
ル基を、Wは酸素原子またはイオウ原子をそれぞれ表わ
す。
【0031】R1 は水素原子;低級アルキル基;ベンジ
ル基;メトキシ基;フェニル基;アリル基;トリフロロ
メチル基もしくは低級アルコキシ基で置換した低級アル
キル基;またはシクロプロピルメチル基を表わす。
ル基;メトキシ基;フェニル基;アリル基;トリフロロ
メチル基もしくは低級アルコキシ基で置換した低級アル
キル基;またはシクロプロピルメチル基を表わす。
【0032】R2 は水素原子または低級アルキル基をそ
れぞれ表わすか、またはR1 とR2 が連結して脂環式五
員環もしくは六員環を形成しているものであっても良
い。
れぞれ表わすか、またはR1 とR2 が連結して脂環式五
員環もしくは六員環を形成しているものであっても良
い。
【0033】なお、R4 及びR5 としての低級アルキル
基としては炭素数1または2のアルキル基が好ましく、
R3 としての低級アルキル基としては炭素数1〜3のア
ルキル基が好ましく、R3 としてのフリル基もしくはチ
エニル基に置換される低級アルキル基としては炭素数1
〜3のアルキル基が好ましく、R3 としてのフェニル基
に置換される低級アルコキシ基、低級アルキル基及び低
級アルコキシカルボニル基のアルコキシ基としては炭素
数1または2のものが好ましい。
基としては炭素数1または2のアルキル基が好ましく、
R3 としての低級アルキル基としては炭素数1〜3のア
ルキル基が好ましく、R3 としてのフリル基もしくはチ
エニル基に置換される低級アルキル基としては炭素数1
〜3のアルキル基が好ましく、R3 としてのフェニル基
に置換される低級アルコキシ基、低級アルキル基及び低
級アルコキシカルボニル基のアルコキシ基としては炭素
数1または2のものが好ましい。
【0034】また、R1 としての低級アルキル基として
は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、R1 としての
低級アルコキシ基で置換した低級アルキル基としては、
炭素数1または2のアルコキシ基で置換した炭素数1ま
たは2の低級アルキル基が好ましい。
は炭素数1〜4のアルキル基が好ましく、R1 としての
低級アルコキシ基で置換した低級アルキル基としては、
炭素数1または2のアルコキシ基で置換した炭素数1ま
たは2の低級アルキル基が好ましい。
【0035】また、R2 としての低級アルキル基として
は炭素数1または2のアルキル基が好ましい。アミン類 一方、上記一般式 [IV] と反応させるべきアミン類は下
記一般式 [V] NHR6 R7 … [V] で表わされる。
は炭素数1または2のアルキル基が好ましい。アミン類 一方、上記一般式 [IV] と反応させるべきアミン類は下
記一般式 [V] NHR6 R7 … [V] で表わされる。
【0036】一般式 [V] において、基R6 およびR7
は次の2つのタイプの基を示す。
は次の2つのタイプの基を示す。
【0037】1.低級アルキル基を示し、R6 とR7 と
は同一であってもよいし、あるいは互いに異なる基であ
ってもよい。
は同一であってもよいし、あるいは互いに異なる基であ
ってもよい。
【0038】2.R6 とR7 とが互いに結合して、窒素
原子とともに5員環及至8員環の環を形成している。こ
の環は分岐を有していてもよい。
原子とともに5員環及至8員環の環を形成している。こ
の環は分岐を有していてもよい。
【0039】前記タイプ1の低級アルキル基としては、
例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基
等を挙げることができる。
例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基
等を挙げることができる。
【0040】更に、タイプ2の5員環及至8員環として
は、
は、
【0041】
【化9】 等を挙げることができる。合成反応 本発明の製造方法においては、上記一般式 [I] のアル
コール類を上記一般式[II] のハイポハライト類 [II]
と上記一般式[III]のピリジン類またはその酸付加塩類
の存在下で反応させて、上記一般式 [IV] のケトン類を
合成する。
コール類を上記一般式[II] のハイポハライト類 [II]
と上記一般式[III]のピリジン類またはその酸付加塩類
の存在下で反応させて、上記一般式 [IV] のケトン類を
合成する。
【0042】さらに、このケトン類を上記一般式 [V]
のアミン類とホルムアルデヒド水溶液の存在下で反応さ
せて上記一般式 [VI] のアミノケトン類の合成を行な
う。
のアミン類とホルムアルデヒド水溶液の存在下で反応さ
せて上記一般式 [VI] のアミノケトン類の合成を行な
う。
【0043】この合成反応は前記反応式(1)および反
応式(2)で表わされる。
応式(2)で表わされる。
【0044】前記反応式(1)中、前記一般式 [IV] の
ケトン類の合成に際して用いられる前記一般式 [II] の
ハイポハライト類は、前記一般式 [I] のアルコール類
に対して通常モル比で0.5及至20、好ましくは1及
至5の割合で使用される。
ケトン類の合成に際して用いられる前記一般式 [II] の
ハイポハライト類は、前記一般式 [I] のアルコール類
に対して通常モル比で0.5及至20、好ましくは1及
至5の割合で使用される。
【0045】これら前記一般式 [II] のハイポハライト
類は必要により水溶液として用いることができ、滴下等
の手段により反応液中に存在させることができる。
類は必要により水溶液として用いることができ、滴下等
の手段により反応液中に存在させることができる。
【0046】また、前記一般式 [III]のピリジン類また
はその酸付加塩類は前記一般式 [I] のアルコール類に
対して通常モル比で0.01及至10、好ましくは0.
1及至5の割合で使用される。
はその酸付加塩類は前記一般式 [I] のアルコール類に
対して通常モル比で0.01及至10、好ましくは0.
1及至5の割合で使用される。
【0047】これら前記一般式 [III]のピリジン類また
はその酸付加塩類は必要により、水または酢酸、塩酸、
硫酸、リン酸等の酸性水溶液類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、ジオキサン等
のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2
−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素類及びアセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド等の溶液として用い、滴下等により反応液中
に存在させることができる。
はその酸付加塩類は必要により、水または酢酸、塩酸、
硫酸、リン酸等の酸性水溶液類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、ジオキサン等
のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2
−ジクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン等の
ハロゲン化炭化水素類及びアセトニトリル、ジメチルホ
ルムアミド等の溶液として用い、滴下等により反応液中
に存在させることができる。
【0048】また、反応に際しては、必要により、反応
溶媒として、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩
化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類及び水、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン等を用いることができ
る。
溶媒として、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン等の
炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩
化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2−トリク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル、酢酸プロピル等のエステル類及び水、アセト
ニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、N−メチル−2−ピロリドン等を用いることができ
る。
【0049】反応は前記一般式 [I] のアルコール類と
前記一般式 [II] のハイポハライト類および前記一般式
[III]のピリジン類またはその酸付加塩類とを無溶媒
下、或いは前記溶媒中で、通常は−50及至50℃、好
適には−30及至40℃の温度範囲で0.5及至48時
間混合攪拌することによって行なわれる。
前記一般式 [II] のハイポハライト類および前記一般式
[III]のピリジン類またはその酸付加塩類とを無溶媒
下、或いは前記溶媒中で、通常は−50及至50℃、好
適には−30及至40℃の温度範囲で0.5及至48時
間混合攪拌することによって行なわれる。
【0050】反応終了後、溶媒抽出等の通常用いられる
手段によって、目的物の前記一般式[IV] のケトン類が
分離される。
手段によって、目的物の前記一般式[IV] のケトン類が
分離される。
【0051】更に必要に応じて、再結晶、クロマトグラ
フィー等それ自体公知の精製手段が適宜採用される。
フィー等それ自体公知の精製手段が適宜採用される。
【0052】一方、前記反応式(2)中、前記一般式
[VI] のアミノケトン類の合成に際して用いられる前記
一般式 [V] のアミン類は前記一般式 [IV] のケトン類
に対して通常、モル比で0.5及至5、好ましくは1及
至2の割合で使用される。
[VI] のアミノケトン類の合成に際して用いられる前記
一般式 [V] のアミン類は前記一般式 [IV] のケトン類
に対して通常、モル比で0.5及至5、好ましくは1及
至2の割合で使用される。
【0053】更に、ホルムアルデヒド水溶液は通常5及
至50%濃度、好ましくは10及至40%濃度で使用さ
れ、前記一般式 [IV] のケトン類に対してモル比で通常
0.5及至5、好ましくは1及至2の割合で使用され
る。
至50%濃度、好ましくは10及至40%濃度で使用さ
れ、前記一般式 [IV] のケトン類に対してモル比で通常
0.5及至5、好ましくは1及至2の割合で使用され
る。
【0054】また、反応に際しては、必要により反応溶
媒として、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、イ
ソアミルアルコール等のアルコール類を用いることがで
きる。
媒として、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、プロパノール、ブタノール、アミルアルコール、イ
ソアミルアルコール等のアルコール類を用いることがで
きる。
【0055】反応は、前記一般式 [IV] のケトン類を前
記一般式 [V] のアミン類及びホルムアルデヒド水溶液
の存在下、無溶媒、或いは前記溶媒中で通常、−30及
至100℃、好適には−10及至60℃の温度範囲で
0.5及至24時間混合攪拌することによって行なわれ
る。
記一般式 [V] のアミン類及びホルムアルデヒド水溶液
の存在下、無溶媒、或いは前記溶媒中で通常、−30及
至100℃、好適には−10及至60℃の温度範囲で
0.5及至24時間混合攪拌することによって行なわれ
る。
【0056】反応終了後、溶媒抽出等の通常用いられる
手段によって目的物の前記一般式 [VI] のアミノケトン
類が分離される。
手段によって目的物の前記一般式 [VI] のアミノケトン
類が分離される。
【0057】更に、必要に応じて、再結晶、クロマトグ
ラフィー等のそれ自体公知の精製手段が適宜採用され
る。
ラフィー等のそれ自体公知の精製手段が適宜採用され
る。
【0058】
【発明の効果】かくして本発明によれば、中枢性筋弛緩
薬として極めて有用な前記一般式 [VI] のアミノケトン
類が工業的に有利な方法で製造される。
薬として極めて有用な前記一般式 [VI] のアミノケトン
類が工業的に有利な方法で製造される。
【0059】さらに本製造法においては、出発物質であ
る前記一般式 [I] のアルコール類を製造して用いるに
あたり、前記一般式 [II] のハイポハライト類を用いて
製造できる場合は一般式 [I] のアルコール類を反応溶
液より単離することなく、本製造方法により中間体であ
る前記一般式 [IV] のケトン類を同一反応容器にて実施
できる利点がある。
る前記一般式 [I] のアルコール類を製造して用いるに
あたり、前記一般式 [II] のハイポハライト類を用いて
製造できる場合は一般式 [I] のアルコール類を反応溶
液より単離することなく、本製造方法により中間体であ
る前記一般式 [IV] のケトン類を同一反応容器にて実施
できる利点がある。
【0060】以下に実施例により本発明について詳細に
説明する。
説明する。
【0061】
【実施例】参考例1 5−(1−ヒドロキシプロピル)
−3−フェニルイソオキサゾール(一般式 [I] の化合
物)の合成;
−3−フェニルイソオキサゾール(一般式 [I] の化合
物)の合成;
【0062】
【化10】 ベンズアルドキシム2.5g (20.7mmol)、1−ペ
ンチン−3−オール2.1g (25.0mmol)をジクロ
ロメタン12.5mlに溶解した。
ンチン−3−オール2.1g (25.0mmol)をジクロ
ロメタン12.5mlに溶解した。
【0063】氷冷下、この溶液に12.0%ナトリウム
ハイポクロライト水溶液14.5g を滴下した。
ハイポクロライト水溶液14.5g を滴下した。
【0064】滴下終了後、室温にて3時間反応後、ジク
ロロメタンにて有機層を抽出した。水洗後、有機層を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
ロロメタンにて有機層を抽出した。水洗後、有機層を無
水硫酸ナトリウムにて乾燥した。
【0065】減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(クロロホルム溶出)にて精
製すると目的物である5−(1−ヒドロキシプロピル)
−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として得られ
た。
カラムクロマトグラフィー(クロロホルム溶出)にて精
製すると目的物である5−(1−ヒドロキシプロピル)
−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として得られ
た。
【0066】収量 3.3g (収率78.7%) 融点 101〜102℃ NMR (δppm, CDCl3) 1.0(3H, t, J=8Hz)
1.6〜2.2(2H, m) 3.1(1H, bs ) 4.
9(1H, t, J=6Hz) 6.5(1H, s) 7.3〜
7.6(3H, m) 7.7〜7.9(2H, m)参考例2 5−(1−ヒドロキシブチル)−3−フェニ
ルイソオキサゾール(一般式 [I] の化合物)の合成;
1.6〜2.2(2H, m) 3.1(1H, bs ) 4.
9(1H, t, J=6Hz) 6.5(1H, s) 7.3〜
7.6(3H, m) 7.7〜7.9(2H, m)参考例2 5−(1−ヒドロキシブチル)−3−フェニ
ルイソオキサゾール(一般式 [I] の化合物)の合成;
【0067】
【化11】 ベンズアルドキシム5.0g (41.3mmol)および1
−ヘキシン−3−オール4.5g (45.9mmol)をジ
クロロメタン25mlに溶解した。
−ヘキシン−3−オール4.5g (45.9mmol)をジ
クロロメタン25mlに溶解した。
【0068】氷冷下、この溶液に12.0%ナトリウム
ハイポクロライト水溶液29.0g を30分間で滴下し
た。
ハイポクロライト水溶液29.0g を30分間で滴下し
た。
【0069】滴下終了後、20℃にて2時間反応を続け
た。
た。
【0070】反応終了後、ジクロロメタン抽出し、有機
層を水洗した。
層を水洗した。
【0071】無水硫酸ナトリウム乾燥後、減圧下、溶媒
を留去した。
を留去した。
【0072】残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(クロロホルム溶出)にて精製すると目的物である5
−(1−ヒドロキシブチル)−3−フェニルイソオキサ
ゾールが油状物として得られた。
ー(クロロホルム溶出)にて精製すると目的物である5
−(1−ヒドロキシブチル)−3−フェニルイソオキサ
ゾールが油状物として得られた。
【0073】収量 6.5g (収率72.5%) NMR (δppm, CDCl3) 0.7〜1.1(3H,m)
1.1〜2.1(4H, m) 3.8(1H, m) 4.8
(1H, t, J=7Hz) 6.4(1H, s) 7.2〜7.
5(3H, m) 7.5〜7.9(2H, m)実施例1 5−プロピオニル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
1.1〜2.1(4H, m) 3.8(1H, m) 4.8
(1H, t, J=7Hz) 6.4(1H, s) 7.2〜7.
5(3H, m) 7.5〜7.9(2H, m)実施例1 5−プロピオニル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
【0074】
【化12】 5−(1−ヒドロキシプロピル)−3−フェニルイソオ
キサゾール1.0g (5.0mmol)をジクロロメタン1
0mlに溶解した。
キサゾール1.0g (5.0mmol)をジクロロメタン1
0mlに溶解した。
【0075】これにピリジン塩酸塩100mg(0.9mm
ol)を加え、さらにカルシウムハイポクロライト1.4
g (9.9mmol)を加えて室温下5時間反応した。
ol)を加え、さらにカルシウムハイポクロライト1.4
g (9.9mmol)を加えて室温下5時間反応した。
【0076】反応終了後、不溶物を濾去し、有機層を水
洗した。
洗した。
【0077】無水硫酸ナトリウムにて有機層を乾燥後、
減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノールより再結晶する
と目的である5−プロピオニル−3−フェニルイソオキ
サゾールが結晶として得られた。
減圧下溶媒を留去し、残渣をエタノールより再結晶する
と目的である5−プロピオニル−3−フェニルイソオキ
サゾールが結晶として得られた。
【0078】収量 0.9g (収率91.0%) 融点 111〜112℃ NMR (δppm, CDCl3) 1.3(3H, t, J=8Hz)
3.1(2H, q, J=8Hz) 7.2(3H, s) 7.5
〜8.0(5H, m)実施例2−1 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
3.1(2H, q, J=8Hz) 7.2(3H, s) 7.5
〜8.0(5H, m)実施例2−1 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
【0079】
【化13】 5−(1−ヒドロキシブチル)−3−フェニルイソオキ
サゾール4.4g (20mmol)をジクロロメタン12.
5mlに溶解した。
サゾール4.4g (20mmol)をジクロロメタン12.
5mlに溶解した。
【0080】この溶液を攪拌しながら、この中に12.
7%次亜塩素酸ナトリウム水溶液35.2g (60mmo
l)を滴下した。
7%次亜塩素酸ナトリウム水溶液35.2g (60mmo
l)を滴下した。
【0081】次に混合溶液(6N−塩酸1.0mlにピリ
ジン0.48g(6.1mmol)を加えた溶液)を内温を
20℃に保ちながら1時間かけて滴下した。
ジン0.48g(6.1mmol)を加えた溶液)を内温を
20℃に保ちながら1時間かけて滴下した。
【0082】反応終了後、有機層を分離し5%亜硫酸水
素ナトリウム水溶液、水、1N塩酸水溶液で順次洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣をエタノールより再結晶すると目的とする5−
ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として
得られた。
素ナトリウム水溶液、水、1N塩酸水溶液で順次洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣をエタノールより再結晶すると目的とする5−
ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として
得られた。
【0083】収量 2.9g (収率66.5%) 融点 89〜90℃ NMR (δppm, CDCl3) 1.0(3H, t, J=7Hz)
1.5〜2.1(2H, m) 2.0(2H, t, J=7Hz)
7.2(1H, s) 7.3〜7.6(3H, m)7.6
〜8.0(2H, m)実施例2−2 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
1.5〜2.1(2H, m) 2.0(2H, t, J=7Hz)
7.2(1H, s) 7.3〜7.6(3H, m)7.6
〜8.0(2H, m)実施例2−2 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサ
ゾール(一般式 [IV] の化合物)の合成;
【0084】
【化14】 ベンズアルドキシム2.5g (20.6mmol)および1
−ヘキシン−3−オール2.3g (22.9mmol)をジ
クロロメタン12.5mlに溶解した。
−ヘキシン−3−オール2.3g (22.9mmol)をジ
クロロメタン12.5mlに溶解した。
【0085】氷冷下、この溶液に12%NaOCl 水溶液1
5.6g 反応温度を5℃に保ちながら滴下した。
5.6g 反応温度を5℃に保ちながら滴下した。
【0086】その後室温にて3時間攪拌を続け5−(1
−ヒドロキシブチル)−3−フェニルイソオキサゾール
の反応溶液を得た。
−ヒドロキシブチル)−3−フェニルイソオキサゾール
の反応溶液を得た。
【0087】この溶液に12%NaOCl 水溶液39.0g
を加え、更にピリジン塩酸塩0.7g (6.1mmol)の
水3ml溶液を反応温度を15〜20℃に保ちながら滴下
した。
を加え、更にピリジン塩酸塩0.7g (6.1mmol)の
水3ml溶液を反応温度を15〜20℃に保ちながら滴下
した。
【0088】さらに同温度にて1時間反応を続けた。
【0089】反応終了後、有機層を分離し5%亜硫酸水
素ナトリウム水溶液、水、1N塩酸水溶液で順次洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣をエタノールより再結晶すると目的である5−
ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として
得られた。
素ナトリウム水溶液、水、1N塩酸水溶液で順次洗浄し
た。無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣をエタノールより再結晶すると目的である5−
ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールが結晶として
得られた。
【0090】収量 2.8g (収率63.7%) 融点とNMR は実施例2−1で合成したものに一致した。実施例3〜5 実施例2−1においてアルコール類として表1に示した
ものを用いる以外は実施例2−1と同様な反応を行なう
ことによって表1記載の目的物質である一般式[IV]の化
合物であるケトン類が得られた。
ものを用いる以外は実施例2−1と同様な反応を行なう
ことによって表1記載の目的物質である一般式[IV]の化
合物であるケトン類が得られた。
【0091】
【表1】 実施例6 5−(2−メチル−3−ピペリジノメチルプ
ロピオニル)−3−フェニルイソオキサゾール(一般式
[VI] の化合物)の合成;
ロピオニル)−3−フェニルイソオキサゾール(一般式
[VI] の化合物)の合成;
【0092】
【化15】 5−プロピオニル−3−フェニルイソオキサゾール2.
0g (10.0mmol)およびピペリジン1.7g (2
0.0mmol)をエチルアルコール10mlに加え、氷冷下
37%ホルムアルデヒド水溶液1.63ml(20.0mm
ol)を滴下した。さらに室温で2時間攪拌した後、減圧
下溶媒を留去した。
0g (10.0mmol)およびピペリジン1.7g (2
0.0mmol)をエチルアルコール10mlに加え、氷冷下
37%ホルムアルデヒド水溶液1.63ml(20.0mm
ol)を滴下した。さらに室温で2時間攪拌した後、減圧
下溶媒を留去した。
【0093】得られた残渣をエチルエーテルに溶解し、
有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
【0094】減圧下溶媒を留去すると目的である5−
(2−メチル−3−ピペリジノメチルプロピオニル)−
3−フェニルイソオキサゾールが結晶として得られた。
(2−メチル−3−ピペリジノメチルプロピオニル)−
3−フェニルイソオキサゾールが結晶として得られた。
【0095】 収量 2.3g (収率78%) 融点 114〜116℃ NMR (δppm, CDCl3) 1.3(3H, d, J=6Hz)
1.5〜1.8(6H, m) 2.3〜3.0(6H, m)
3.5〜4.0(1H, m) 7.2(1H, s)7.5
〜7.7(3H, m) 7.7〜8.0(2H, m)実施例7 3−フェニル−5−(2−(1−ピロリジノ
メチル)ブチリル)イソオキサゾール(一般式 [VI] の
化合物)の合成;
1.5〜1.8(6H, m) 2.3〜3.0(6H, m)
3.5〜4.0(1H, m) 7.2(1H, s)7.5
〜7.7(3H, m) 7.7〜8.0(2H, m)実施例7 3−フェニル−5−(2−(1−ピロリジノ
メチル)ブチリル)イソオキサゾール(一般式 [VI] の
化合物)の合成;
【0096】
【化16】 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサゾール200g
(0.93モル)およびピロリジン110ml(1.32
モル)をエチルアルコール400mlに加え、氷冷下、3
7%ホルムアルデヒド水溶液120ml(1.48モル)
を30分間かけて滴下した。
(0.93モル)およびピロリジン110ml(1.32
モル)をエチルアルコール400mlに加え、氷冷下、3
7%ホルムアルデヒド水溶液120ml(1.48モル)
を30分間かけて滴下した。
【0097】さらに室温で1.5時間攪拌した後、減圧
下反応液を濃縮乾固した。
下反応液を濃縮乾固した。
【0098】得られた残渣をエチルエーテル1リットル
に溶解し、水洗の後、無水硫酸マグネシウムを用いて有
機層を乾燥して溶媒を留去し、3−フェニル−5−(2
−(1−ピロリジノメチル)ブチリル)イソオキサゾー
ルを無色結晶として得られた。
に溶解し、水洗の後、無水硫酸マグネシウムを用いて有
機層を乾燥して溶媒を留去し、3−フェニル−5−(2
−(1−ピロリジノメチル)ブチリル)イソオキサゾー
ルを無色結晶として得られた。
【0099】 収量 264g (収率95.2%) 融点 68〜69℃ NMR (δppm, CDCl3) 0.9(3H, t, J=7Hz)
1.3〜2.0(6H, m) 7.2(1H, s) 7.2
〜7.6(3H, m) 7.6〜8.0(2H, m)実施例8 3−フェニル−5−(2−(1−ピペリジノ
メチル)ブチリル)イソオキサゾール(一般式 [VI] の
化合物)の合成;
1.3〜2.0(6H, m) 7.2(1H, s) 7.2
〜7.6(3H, m) 7.6〜8.0(2H, m)実施例8 3−フェニル−5−(2−(1−ピペリジノ
メチル)ブチリル)イソオキサゾール(一般式 [VI] の
化合物)の合成;
【0100】
【化17】 5−ブチリル−3−フェニルイソオキサゾール160g
(0.74モル)およびピペリジン103mlをエチルア
ルコール320mlに加え、氷冷下、37%ホルムアルデ
ヒド水溶液96ml(1.18モル)を30分で滴下し
た。
(0.74モル)およびピペリジン103mlをエチルア
ルコール320mlに加え、氷冷下、37%ホルムアルデ
ヒド水溶液96ml(1.18モル)を30分で滴下し
た。
【0101】室温で1.5時間攪拌した後、溶媒を留去
した。
した。
【0102】得られた残渣をエチルエーテル800mlに
溶解し、水洗の後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
した。
溶解し、水洗の後、無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥
した。
【0103】溶媒を留去して、目的とする3−フェニル
−5−(2−(1−ピペリジノメチル)ブチリル)イソ
オキサゾールを無色結晶として得た。
−5−(2−(1−ピペリジノメチル)ブチリル)イソ
オキサゾールを無色結晶として得た。
【0104】収量 223g (収率96.0%) 融点 83〜84℃ NMR (δppm, CDCl3) 0.8〜1.1(3H,m)
1.2〜2.0(8H, m) 3.4〜3.8(1H, m)
7.1(1H, s) 7.3〜7.6(3H, m)7.6
〜8.0(2H, m)実施例9〜16 実施例9〜12については、実施例6におけるピペリジ
ンの代りに表2に示す−NR6 R7 基導入用の各アミン
HNR6 R7 (−NR6 R7 は表2に示すものに対応す
る)を用いる以外は実施例6と同様にして表2に示す各
アミノケトンを得た。
1.2〜2.0(8H, m) 3.4〜3.8(1H, m)
7.1(1H, s) 7.3〜7.6(3H, m)7.6
〜8.0(2H, m)実施例9〜16 実施例9〜12については、実施例6におけるピペリジ
ンの代りに表2に示す−NR6 R7 基導入用の各アミン
HNR6 R7 (−NR6 R7 は表2に示すものに対応す
る)を用いる以外は実施例6と同様にして表2に示す各
アミノケトンを得た。
【0105】実施例13については、実施例7における
ピロリジンの代りに2−メチルピロリジンを用いる以外
は実施例7と同様にして表2に示すアミノケトンを得
た。
ピロリジンの代りに2−メチルピロリジンを用いる以外
は実施例7と同様にして表2に示すアミノケトンを得
た。
【0106】実施例14〜16については実施例7にお
ける5−ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールの代
りにそれぞれ実施例3〜4で合成したケトン類を用いる
以外は実施例7と同様にして表2に示す各アミノケトン
を得た。
ける5−ブチリル−3−フェニルイソオキサゾールの代
りにそれぞれ実施例3〜4で合成したケトン類を用いる
以外は実施例7と同様にして表2に示す各アミノケトン
を得た。
【0107】得られた各アミノケトン(一般式 [VI] の
化合物)の分析結果を表2に示す。
化合物)の分析結果を表2に示す。
【0108】
【表2】
【0109】
【表3】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 413/06 207 C07D 413/06 207 211 211 213 213 223 223 225 225 307 307 333 333 417/06 417/06 // A61K 31/42 AAC A61K 31/42 AAC 31/425 31/425 31/44 31/44 31/445 31/445 31/55 31/55 C07D 213/16 C07D 213/16 (56)参考文献 J.MED.CHEM.,VOL. 10,NO.3 (1967),P.411−418 日本化学会編 「新実験化学講座14− 有機化合物の合成と反応▲III▼」、 (昭和53年) 丸善、P.1373−1379
Claims (11)
- 【請求項1】 下記一般式 [I] [式中、Rは 【化1】 を表わし(R3 はハロゲン原子;低級アルキル基;ベン
ジル基;ベンゾイル基;ピリジル基;1以上の低級アル
キル基で置換されていても良いフリル基;1以上の低級
アルキル基で置換されていても良いチエニル基;1以上
のハロゲン原子、1以上の低級アルコキシ基、低級アル
キル基、トリフロロメチル基、シアノ基、ニトロ基、ア
ミノ基、ジメチルアミノ基、アセトアミド基、メタンス
ルホニルアミド基、アセチル基または低級アルコキシカ
ルボニル基で置換されていても良いフェニル基、または
ナフチル基を;R4 及びR5 はそれぞれ独立してフェニ
ル基または低級アルキル基を、Wは酸素原子またはイオ
ウ原子をそれぞれ表わす)、R1 は水素原子;低級アル
キル基;ベンジル基;メトキシ基;フェニル基;アリル
基;トリフロロメチル基もしくは低級アルコキシ基で置
換した低級アルキル基;またはシクロプロピルメチル基
を、R2 は水素原子または低級アルキル基をそれぞれ表
わすか、またはR1 とR2 が連結して脂環式五員環もし
くは六員環を形成しているものであっても良い。]で表
わされるアルコール類を下記一般式 [II] [式中、Mはアルカリ金属類またはアルカリ土類金属
類、Xはハロゲン原子を示す。nは、Mがアルカリ金属
類のときは1、Mがアルカリ土類金属類のときは2を示
す。]で表わされるハイポハライト類および下記一般式
[III] 【化2】 [式中、YおよびZは独立に水素原子または低級アルキ
ル基を示す。]で表わされるピリジン類またはその酸付
加塩類の存在下反応させることを特徴とする下記一般式
[IV] (R、R1 およびR2 は前記に同じ)で表わされるケト
ン類の製造方法。 - 【請求項2】 Rが5−(3−R3 イソオキサゾール)
基である請求項1の方法。 - 【請求項3】 R3 がフェニル基である請求項2の方
法。 - 【請求項4】 R1 が水素原子であり、R2 が低級アル
キル基である請求項3の方法。 - 【請求項5】 一般式 [II] のハイポハライト類が次亜
塩素酸ナトリウムである請求項1の方法。 - 【請求項6】 一般式 [III]のピリジン類またはその酸
付加塩がピリジン又はピリジン塩酸塩である請求項1の
方法。 - 【請求項7】 一般式 [II] のハイポハライト類は一般
式 [I] のアルコール類に対しモル比で1〜5である請
求項1の方法。 - 【請求項8】 一般式 [III]のピリジン類またはその酸
付加塩は一般式 [I]のアルコール類に対してモル比で
0.1〜5である請求項1の方法。 - 【請求項9】 下記一般式 [V] [式中、R6 およびR7 は低級アルキル基を示し、これ
らは同一であってもあるいは互いに異なっていてもよ
く、また互いに結合して窒素原子とともに5員環乃至8
員環の環を形成していてもよく、更に該環は1以上の分
岐を有していてもよい。]で表わされるアミン類をホル
ムアルデヒド水溶液の存在下で一般式 [IV] のケトン類
と反応させることによる下記一般式 [VI] R−CO−CR1 R2 −CH2 −NR6 R7 … [VI] (Rが5−(3−R3 イソオキサゾール)基であり、
R1は水素原子であり、R2は低級アルキル基であり、
R3がフェニル基であり、R6 、R7 は前記に同じ)で
表わされるアミノケトン類の製造方法。 - 【請求項10】 一般式 [IV] のケトン類が請求項1の
方法で得られたものである請求項9の方法。 - 【請求項11】 5−ブチリル−3−フェニルイソオキ
サゾール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3036527A JP2675924B2 (ja) | 1990-02-08 | 1991-02-07 | アミノケトン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-27119 | 1990-02-08 | ||
JP2711990 | 1990-02-08 | ||
JP3036527A JP2675924B2 (ja) | 1990-02-08 | 1991-02-07 | アミノケトン類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04210974A JPH04210974A (ja) | 1992-08-03 |
JP2675924B2 true JP2675924B2 (ja) | 1997-11-12 |
Family
ID=26365008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3036527A Expired - Lifetime JP2675924B2 (ja) | 1990-02-08 | 1991-02-07 | アミノケトン類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2675924B2 (ja) |
-
1991
- 1991-02-07 JP JP3036527A patent/JP2675924B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
J.MED.CHEM.,VOL.10,NO.3 (1967),P.411−418 |
日本化学会編 「新実験化学講座14−有機化合物の合成と反応▲III▼」、(昭和53年) 丸善、P.1373−1379 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04210974A (ja) | 1992-08-03 |
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