JP2651754B2 - 複層鋳片の連続鋳造鋳型 - Google Patents
複層鋳片の連続鋳造鋳型Info
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- JP2651754B2 JP2651754B2 JP5366591A JP5366591A JP2651754B2 JP 2651754 B2 JP2651754 B2 JP 2651754B2 JP 5366591 A JP5366591 A JP 5366591A JP 5366591 A JP5366591 A JP 5366591A JP 2651754 B2 JP2651754 B2 JP 2651754B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、鋳型内の静磁場により
溶融金属の混合を防止し、かつ外層部の厚みを容易に変
更可能とする複層鋳片の連続鋳造鋳型に関する。
溶融金属の混合を防止し、かつ外層部の厚みを容易に変
更可能とする複層鋳片の連続鋳造鋳型に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に複層鋳片における外層厚みは、最
終製品での必要厚みを考慮して決定されるが、機能上外
層側溶鋼コストは内層に比較して高価なことが多く、鋳
造段階で要求される外層厚みも一定ではない。
終製品での必要厚みを考慮して決定されるが、機能上外
層側溶鋼コストは内層に比較して高価なことが多く、鋳
造段階で要求される外層厚みも一定ではない。
【0003】従来の複層鋳片の鋳造方法として、例えば
特開昭63−108947号公報や、特願平2−130
185号で提案されるように、電磁ブレーキと2本ノズ
ル,又は1本ノズルと添加材との組み合わせにより複層
鋳片を製造する技術が提案されている。しかし上述の理
由から、複層鋳片の外層厚みを変更する技術は、生産効
率,および設備メンテナンスの点からも待望の技術であ
るにかかわらず、この点に着目した技術の開示は今まで
に行われていない。
特開昭63−108947号公報や、特願平2−130
185号で提案されるように、電磁ブレーキと2本ノズ
ル,又は1本ノズルと添加材との組み合わせにより複層
鋳片を製造する技術が提案されている。しかし上述の理
由から、複層鋳片の外層厚みを変更する技術は、生産効
率,および設備メンテナンスの点からも待望の技術であ
るにかかわらず、この点に着目した技術の開示は今まで
に行われていない。
【0004】図9に2本ノズル方式による複層鋳片の鋳
造の模式図を示す。
造の模式図を示す。
【0005】図において、別々に溶製された組成の異な
る溶鋼は、それぞれの鍋11a,11bからタンディッ
シ12a,12b,注入ノズル1a,1bを介して鋳型
30に注入される。
る溶鋼は、それぞれの鍋11a,11bからタンディッ
シ12a,12b,注入ノズル1a,1bを介して鋳型
30に注入される。
【0006】注入されたそれぞれの溶鋼は、電磁ブレー
キ5により鋳型内にて上下に分離されて凝固を開始す
る。1次メニスカス16は通常の連続鋳造に於ける大気
と接する湯面であり、2次メニスカス17は外層と内層
の分離位置,即ち内層の凝固開始点に相当するものであ
る。従って、鋳片の外層厚み14bはこれら2つのメニ
スカスの間で成長する凝固シェル厚で決定される。なお
図において、14aは外層溶鋼プール,15aは内層溶
鋼プールである。
キ5により鋳型内にて上下に分離されて凝固を開始す
る。1次メニスカス16は通常の連続鋳造に於ける大気
と接する湯面であり、2次メニスカス17は外層と内層
の分離位置,即ち内層の凝固開始点に相当するものであ
る。従って、鋳片の外層厚み14bはこれら2つのメニ
スカスの間で成長する凝固シェル厚で決定される。なお
図において、14aは外層溶鋼プール,15aは内層溶
鋼プールである。
【0007】図10に1本の注入ノズルと添加材による
複層鋳片の鋳造の模式図を示す。
複層鋳片の鋳造の模式図を示す。
【0008】これは先ず、溶鋼鍋11からタンディッシ
ュ12,注入ノズル1を介して溶鋼が鋳型30に注入さ
れ、ついで電磁ブレーキ5の下方の溶鋼に添加材13を
投入し、微小成分の異なる複層鋳片を製造するものであ
る。
ュ12,注入ノズル1を介して溶鋼が鋳型30に注入さ
れ、ついで電磁ブレーキ5の下方の溶鋼に添加材13を
投入し、微小成分の異なる複層鋳片を製造するものであ
る。
【0009】他方、内外層の明確な境界を有する複層鋳
片を得る方法としては、湯面下凝固を利用して初期凝固
位置を制御する技術が特開平2−55641号公報に報
告されている。しかしながら、鋳造中における外層厚み
を適宜変更する方法に関する技術については、従来は報
告されていない。
片を得る方法としては、湯面下凝固を利用して初期凝固
位置を制御する技術が特開平2−55641号公報に報
告されている。しかしながら、鋳造中における外層厚み
を適宜変更する方法に関する技術については、従来は報
告されていない。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】以上のようなプロセス
にて、外層厚みを変更しようとする場合の問題点につい
て以下に説明する。
にて、外層厚みを変更しようとする場合の問題点につい
て以下に説明する。
【0011】先ず1次メニスカスレベルを変更する方法
として、図11に1次メニスカスレベルを変更すること
により、外層厚みを変更する方法を模式図に示す。図中
の破線は、1次メニスカスが16aのレベルにある場
合、実線はそのレベルが16aより上方の16にある場
合の外層用溶鋼鍋11a,外層用タンディッシュ12
a,注入ノズル1a,及び外層溶鋼の凝固シェルの、そ
れぞれの生成曲線14b−1,15b−1を示す。
として、図11に1次メニスカスレベルを変更すること
により、外層厚みを変更する方法を模式図に示す。図中
の破線は、1次メニスカスが16aのレベルにある場
合、実線はそのレベルが16aより上方の16にある場
合の外層用溶鋼鍋11a,外層用タンディッシュ12
a,注入ノズル1a,及び外層溶鋼の凝固シェルの、そ
れぞれの生成曲線14b−1,15b−1を示す。
【0012】ここで、1次メニスカスのレベル16aを
16の位置に上げれば外層厚みは厚くなり、下げれば薄
くなるが、1次メニスカス16の変化代に対する凝固厚
みの変動代は、鋼の場合せいぜい数%である。例えば鋳
造速度0.8m/minにおいて、1次メニスカスレベ
ルを100mm変えたとしても、凝固厚みは1〜2mm
程度しか変わらない。
16の位置に上げれば外層厚みは厚くなり、下げれば薄
くなるが、1次メニスカス16の変化代に対する凝固厚
みの変動代は、鋼の場合せいぜい数%である。例えば鋳
造速度0.8m/minにおいて、1次メニスカスレベ
ルを100mm変えたとしても、凝固厚みは1〜2mm
程度しか変わらない。
【0013】従って外層厚みを数mm変えようとすれ
ば、注入ノズル1aが長くなることによる耐火物コスト
の増加のみならず、タンディッシュ12a,及び鍋11
aの昇降ストロークの増加等、周辺の設備仕様に与える
影響が、特に設備改造の場合等において増大する。
ば、注入ノズル1aが長くなることによる耐火物コスト
の増加のみならず、タンディッシュ12a,及び鍋11
aの昇降ストロークの増加等、周辺の設備仕様に与える
影響が、特に設備改造の場合等において増大する。
【0014】また1次メニスカスレベルを大きく変化さ
せることは、操業の安定性,鋳片品質の確保,湯面レベ
ルセンサーの追随性等の点からも好ましいものではな
い。
せることは、操業の安定性,鋳片品質の確保,湯面レベ
ルセンサーの追随性等の点からも好ましいものではな
い。
【0015】つぎに鋳造速度を変更する方法として、外
層厚みは鋳造速度を早くすれば薄く、遅くすれば厚くで
きるが、前記と同様に数mmの外層厚みの差を持たせよ
うとすれば、1:2くらいの速度比を必要とし、鍋の出
鋼スケジュールへの影響や溶鋼の温度低下といった問題
を引き起こし、操業の安定性を著しく損なったものとな
る。
層厚みは鋳造速度を早くすれば薄く、遅くすれば厚くで
きるが、前記と同様に数mmの外層厚みの差を持たせよ
うとすれば、1:2くらいの速度比を必要とし、鍋の出
鋼スケジュールへの影響や溶鋼の温度低下といった問題
を引き起こし、操業の安定性を著しく損なったものとな
る。
【0016】また次に2次メニスカスレベルを変更する
方法として、1次メニスカスレベルを一定に保ち、2次
メニスカスレベルすなわち静磁場帯を発生させる電磁石
位置を変化させれば、外層厚みを変更可能である。
方法として、1次メニスカスレベルを一定に保ち、2次
メニスカスレベルすなわち静磁場帯を発生させる電磁石
位置を変化させれば、外層厚みを変更可能である。
【0017】しかしこの場合、鋳型と電磁石とをそれぞ
れ別個に支持する必要があるが、2種類の溶融金属を分
離させる電磁石は通常3000〜5000gaussの
磁束密度が要求されるため、磁石本体が大型となり、周
辺装置例えばタンディシュカー,鋳型振動装置等との取
り合い上設置スペースが制約され、電磁石本体の高さを
遠隔で変更する機構を組み込むことが困難である。
れ別個に支持する必要があるが、2種類の溶融金属を分
離させる電磁石は通常3000〜5000gaussの
磁束密度が要求されるため、磁石本体が大型となり、周
辺装置例えばタンディシュカー,鋳型振動装置等との取
り合い上設置スペースが制約され、電磁石本体の高さを
遠隔で変更する機構を組み込むことが困難である。
【0018】本発明は上記課題を解決し、安定した操業
状態を確保しつつ、外層厚みの変更を可能し、特にスペ
ースの制約上からも、鋳型と電磁石を一体構造とせざる
を得ない場合に適する複層鋳片の連続鋳造鋳型を提供す
る。
状態を確保しつつ、外層厚みの変更を可能し、特にスペ
ースの制約上からも、鋳型と電磁石を一体構造とせざる
を得ない場合に適する複層鋳片の連続鋳造鋳型を提供す
る。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明は以下の構成を要
旨とする。
旨とする。
【0020】その1は、断面長方形の連続鋳造鋳型内
に、溶融金属噴出部の高さを異にして2本の注入ノズル
を挿入し、該鋳型の長辺側にこの長辺幅とほぼ等しい幅
を有する電磁石の磁極を対向させて前記溶融金属噴出部
の間に静磁場帯を形成し、該静磁場帯の上下に組成の異
なる金属を供給して鋳造を行うようにした連続鋳造鋳型
において、前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な可動
磁極を設けたことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造鋳型
である。
に、溶融金属噴出部の高さを異にして2本の注入ノズル
を挿入し、該鋳型の長辺側にこの長辺幅とほぼ等しい幅
を有する電磁石の磁極を対向させて前記溶融金属噴出部
の間に静磁場帯を形成し、該静磁場帯の上下に組成の異
なる金属を供給して鋳造を行うようにした連続鋳造鋳型
において、前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な可動
磁極を設けたことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造鋳型
である。
【0021】その2は、断面長方形の連続鋳造鋳型内に
1本の注入ノズルを挿入し、該ノズルの溶融金属噴出部
より下方位置で鋳型長辺側の中央部に、長辺幅の40〜
80%の幅に亙り静磁場帯を形成するように電磁石の磁
極を対向させて設置し、鋳型長辺側両端部の非静磁場帯
域より添加材を投入して鋳造を行うようにした連続鋳造
鋳型において、前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な
可動磁極を設けたことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造
鋳型である。
1本の注入ノズルを挿入し、該ノズルの溶融金属噴出部
より下方位置で鋳型長辺側の中央部に、長辺幅の40〜
80%の幅に亙り静磁場帯を形成するように電磁石の磁
極を対向させて設置し、鋳型長辺側両端部の非静磁場帯
域より添加材を投入して鋳造を行うようにした連続鋳造
鋳型において、前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な
可動磁極を設けたことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造
鋳型である。
【0022】また前記連続鋳造鋳型において、可動磁極
の透磁率を電磁石磁極よりも高い材料を使用するもので
ある。
の透磁率を電磁石磁極よりも高い材料を使用するもので
ある。
【0023】
【作用】本発明は、1次メニスカスレベル,あるいは鋳
造速度を変更することなく、2次メニスカスの位置を変
えることにより、外層厚みの変更を可能とするものであ
る。即ち特にスペースの制約上から、鋳型と電磁石を一
体構造とせざるを得ない場合にも、電磁石本体の位置を
変更することなく、磁束分布のみを鋳型外部から制御可
能とすることにより2次メニスカスの位置を変え、容易
に外層厚みの変更を実現するものである。
造速度を変更することなく、2次メニスカスの位置を変
えることにより、外層厚みの変更を可能とするものであ
る。即ち特にスペースの制約上から、鋳型と電磁石を一
体構造とせざるを得ない場合にも、電磁石本体の位置を
変更することなく、磁束分布のみを鋳型外部から制御可
能とすることにより2次メニスカスの位置を変え、容易
に外層厚みの変更を実現するものである。
【0024】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づき詳細に説
明する。
明する。
【0025】図1は鋳型の中央部付近の要部を示す断面
図,図2は鋳型の両側付近の断面図,図3は鋳型の平面
図を示し、図1は図3のC−C,図2は同様にB−Bの
断面を示す図面である。また図4は図2のA−A部断面
図である。
図,図2は鋳型の両側付近の断面図,図3は鋳型の平面
図を示し、図1は図3のC−C,図2は同様にB−Bの
断面を示す図面である。また図4は図2のA−A部断面
図である。
【0026】鋳型構造は、溶鋼に接する銅板2によって
断面長方形に形成され、これら銅板2を鋳型フレーム3
およびタイロッド4により強固に固定されて鋳型を形作
っている。
断面長方形に形成され、これら銅板2を鋳型フレーム3
およびタイロッド4により強固に固定されて鋳型を形作
っている。
【0027】鋳型30の上下方向のほぼ中央部には、鋳
型の長辺側にこの長辺幅とほぼ等しい幅を有する電磁石
の磁極10を対向して設けられ、鋳型内に2次メニスカ
ス17を形成する静磁場帯を生じさせる。なお5は鋳型
を囲繞するヨーク,9は電磁石のコイルである。
型の長辺側にこの長辺幅とほぼ等しい幅を有する電磁石
の磁極10を対向して設けられ、鋳型内に2次メニスカ
ス17を形成する静磁場帯を生じさせる。なお5は鋳型
を囲繞するヨーク,9は電磁石のコイルである。
【0028】なおこの電磁石の構造としては、図12に
示す片ヨーク型,図13に示す環状ヨーク型があるが、
周辺の状況に応じて適宜選択すればよい。
示す片ヨーク型,図13に示す環状ヨーク型があるが、
周辺の状況に応じて適宜選択すればよい。
【0029】この磁極10先端の鋳型30との間に、高
さ方向に移動可能とした可動磁極10aが挿着されてい
る。この可動磁極10aは図7に示すT溝20aにより
鋳型両端部にて支持され、且つこの溝に案内されて上下
にしゅう動する。なお図7の右側の図は電磁石が通電状
態、左側の図は電磁石が非通電状態を表している。
さ方向に移動可能とした可動磁極10aが挿着されてい
る。この可動磁極10aは図7に示すT溝20aにより
鋳型両端部にて支持され、且つこの溝に案内されて上下
にしゅう動する。なお図7の右側の図は電磁石が通電状
態、左側の図は電磁石が非通電状態を表している。
【0030】可動磁極10aにはそれぞれ両端部の2か
所にラック8が取り付けられ、ピニオンギヤ7および同
期軸18を介して駆動軸19に連結しており、一対の可
動磁極10aは水平を維持しながら外部より駆動制御し
て磁極10と鋳型30との間を昇降する。なお図におい
て6はギヤボックス,20はベベルギヤボックスであ
る。
所にラック8が取り付けられ、ピニオンギヤ7および同
期軸18を介して駆動軸19に連結しており、一対の可
動磁極10aは水平を維持しながら外部より駆動制御し
て磁極10と鋳型30との間を昇降する。なお図におい
て6はギヤボックス,20はベベルギヤボックスであ
る。
【0031】図5は可動磁極10aが磁極10のほぼ中
心位置にある場合の、水平方向から見た溶鋼内に生ずる
磁力線分布21を示す。また図6にそれぞれの場合の縦
方向の磁束密度分布を示す。
心位置にある場合の、水平方向から見た溶鋼内に生ずる
磁力線分布21を示す。また図6にそれぞれの場合の縦
方向の磁束密度分布を示す。
【0032】図6において、可動磁極10aがほぼ中心
位置10a−1にある場合の磁束密度分布は分布曲線2
2−1のようにほぼ中心位置で最大となる。つぎに可動
磁極10aを上方の10a−2に移動させた場合の磁束
密度分布は、分布曲線22−2のように可動磁極10a
の移動に伴って上方に移動し、また可動磁極10aを下
方の10a−3に移動させた場合の磁束密度分布は、分
布曲線22−3のように下方に移動する。
位置10a−1にある場合の磁束密度分布は分布曲線2
2−1のようにほぼ中心位置で最大となる。つぎに可動
磁極10aを上方の10a−2に移動させた場合の磁束
密度分布は、分布曲線22−2のように可動磁極10a
の移動に伴って上方に移動し、また可動磁極10aを下
方の10a−3に移動させた場合の磁束密度分布は、分
布曲線22−3のように下方に移動する。
【0033】このように電磁石本体を固定させたまま
で、可動磁極10aを上下に移動させることにより磁束
密度分布の最大値を移動させる、即ち電磁石本体を上下
動させることと同様の効果を生ずるものである。
で、可動磁極10aを上下に移動させることにより磁束
密度分布の最大値を移動させる、即ち電磁石本体を上下
動させることと同様の効果を生ずるものである。
【0034】この場合可動磁極10aと磁極10とを透
磁率の同じ材料を使用すれば、可動磁極10aと磁極1
0とが重畳する面積が減少するために、発生する磁束密
度分布の分布曲線22−2,22−3は22−1に対し
て最大値の低下,可動磁極10aの移動量との位置ずれ
等を伴う。そこで本発明では、可動磁極10aの透磁率
を磁極10より大な材料を使用してこの欠点を補うもの
である。
磁率の同じ材料を使用すれば、可動磁極10aと磁極1
0とが重畳する面積が減少するために、発生する磁束密
度分布の分布曲線22−2,22−3は22−1に対し
て最大値の低下,可動磁極10aの移動量との位置ずれ
等を伴う。そこで本発明では、可動磁極10aの透磁率
を磁極10より大な材料を使用してこの欠点を補うもの
である。
【0035】例えば高透磁率材料として、Hiperc
o、Permendurとアームコ鉄との組合せ等があ
る。
o、Permendurとアームコ鉄との組合せ等があ
る。
【0036】このようにして、可動磁極10aを上方に
移動させることにより磁束密度分布の位置を変えて2次
メニスカス17を上方に押し上げれば、薄い外層シェル
が形成され、また可動磁極10aを下方に移動させるこ
とにより、厚い外層シェルが形成される。
移動させることにより磁束密度分布の位置を変えて2次
メニスカス17を上方に押し上げれば、薄い外層シェル
が形成され、また可動磁極10aを下方に移動させるこ
とにより、厚い外層シェルが形成される。
【0037】図8に上記鋳型30に対して可動磁極10
aを移動させた場合の、200mm厚鋳片の外層シェル
のクラッド比と鋳造速度との関係を示す。
aを移動させた場合の、200mm厚鋳片の外層シェル
のクラッド比と鋳造速度との関係を示す。
【0038】クラッド比は鋳片厚みに対する外層厚みの
比であり、一般に圧延比が大きいほど鋳片段階で要求さ
れるクラッド比も大きくなるが、10%程度が標準とな
っている。
比であり、一般に圧延比が大きいほど鋳片段階で要求さ
れるクラッド比も大きくなるが、10%程度が標準とな
っている。
【0039】一方可動磁極10aの鋳型にたいする位置
は、注入ノズルの1次メニスカス16からの浸漬深さを
200mm,可動磁極10aの磁極高さ400mm程度
を考慮すると、1次メニスカス16と磁極中心の距離は
400mmが可動磁極10aの上限に近い。また鋳型の
実用上の長さ1200〜1300mmと可動磁極10a
の磁極高さ400mm程度から、下限は700mm程度
になる。従って可動磁極10aの移動ストロークhは、
上記範囲の中心である550mmの位置を基準として±
150mmが実用的である。
は、注入ノズルの1次メニスカス16からの浸漬深さを
200mm,可動磁極10aの磁極高さ400mm程度
を考慮すると、1次メニスカス16と磁極中心の距離は
400mmが可動磁極10aの上限に近い。また鋳型の
実用上の長さ1200〜1300mmと可動磁極10a
の磁極高さ400mm程度から、下限は700mm程度
になる。従って可動磁極10aの移動ストロークhは、
上記範囲の中心である550mmの位置を基準として±
150mmが実用的である。
【0040】図8から判る如く、可動磁極10a中心と
1次メニスカスの距離を550mmにてクラッド比10
%としたとき、得られるクラッド比は従来方法では8.
2〜12.3%であるのに対し、本発明では6.5〜1
4.5%と許容範囲が大幅に増加した。ここで鋳造可能
な速度の上下限はそれぞれ鋳片の品質,鍋の出鋼時間か
ら定まるものである。
1次メニスカスの距離を550mmにてクラッド比10
%としたとき、得られるクラッド比は従来方法では8.
2〜12.3%であるのに対し、本発明では6.5〜1
4.5%と許容範囲が大幅に増加した。ここで鋳造可能
な速度の上下限はそれぞれ鋳片の品質,鍋の出鋼時間か
ら定まるものである。
【0041】本発明は、2本の注入ノズルを有する連続
鋳造鋳型のみならず、前記図10に示した1本の注入ノ
ズルを有する連続鋳造鋳型に対しても適用可能である。
この場合は、前記図1〜図4に示した連続鋳造鋳型にお
いて、長辺幅の40〜80%の幅に亙り静磁場帯を形成
するように、電磁石の磁極面10および可動磁極10a
を対向させて設置し、鋳型長辺側両端部の非静磁場帯域
より添加材13を投入して鋳造を行う。このようにすれ
ば、静磁場帯を乱すことなく内層の溶融金属に添加材1
3を投入して連続鋳造作業を継続できる。
鋳造鋳型のみならず、前記図10に示した1本の注入ノ
ズルを有する連続鋳造鋳型に対しても適用可能である。
この場合は、前記図1〜図4に示した連続鋳造鋳型にお
いて、長辺幅の40〜80%の幅に亙り静磁場帯を形成
するように、電磁石の磁極面10および可動磁極10a
を対向させて設置し、鋳型長辺側両端部の非静磁場帯域
より添加材13を投入して鋳造を行う。このようにすれ
ば、静磁場帯を乱すことなく内層の溶融金属に添加材1
3を投入して連続鋳造作業を継続できる。
【0042】
【発明の効果】以上のように構成される本発明は、下記
の如き効果を奏する。
の如き効果を奏する。
【0043】電磁石の先端に可動磁極を取り付けるのみ
で、容易に2次メニスカスの位置を変更することが可能
となり、電磁石の支持構造が簡単となり、鋳型に対する
負荷が軽減され、装置全体の小型化を図り得る。
で、容易に2次メニスカスの位置を変更することが可能
となり、電磁石の支持構造が簡単となり、鋳型に対する
負荷が軽減され、装置全体の小型化を図り得る。
【0044】同一の鋳型にて、従来に比して複層鋳片の
大幅な外層厚みの変更が可能となり、外層厚みの変更に
際してそれぞれ電磁石位置の異なる鋳型を保有する必要
がなく、従って設備費やメンテナンス費用の削減が可能
となる。
大幅な外層厚みの変更が可能となり、外層厚みの変更に
際してそれぞれ電磁石位置の異なる鋳型を保有する必要
がなく、従って設備費やメンテナンス費用の削減が可能
となる。
【0045】外層用注入ノズルを長くしたり、また鍋,
タンディッシュの昇降ストローク延長等が不要となり、
耐火物コストや設備改造費等が削減できる。
タンディッシュの昇降ストローク延長等が不要となり、
耐火物コストや設備改造費等が削減できる。
【0046】鋳造時間等の変動がないので、溶鋼の温度
低下によるノズル詰まり,鍋の出鋼スケジュール変更に
対する影響が緩和される。
低下によるノズル詰まり,鍋の出鋼スケジュール変更に
対する影響が緩和される。
【0047】1次メニスカス,鋳造速度の変動の最小化
が図れるため、安定した操業条件、および良質の鋳片品
質が得られる。
が図れるため、安定した操業条件、および良質の鋳片品
質が得られる。
【0048】外層厚み変更時間が短くなり、多品種少量
の鋼種を連続して生産する際の歩留りが向上する。
の鋼種を連続して生産する際の歩留りが向上する。
【図1】本発明実施例の連続鋳造鋳型の中央部付近の要
部(図3C−C断面位置)を示す縦断面図である。
部(図3C−C断面位置)を示す縦断面図である。
【図2】鋳型の両側付近(図3B−B断面位置)の縦断
面図である。
面図である。
【図3】連続鋳造鋳型の全体平面図である。
【図4】図2のA−A位置における水平断面図である。
【図5】可動磁極が磁極のほぼ中心位置にある場合の溶
鋼内に生ずる磁力線分布を示す図面である。
鋼内に生ずる磁力線分布を示す図面である。
【図6】可動磁極を移動させた場合の縦方向の磁束密度
分布の移動の状態を説明する図面である。
分布の移動の状態を説明する図面である。
【図7】可動磁極を支持するT溝の形状と作用を説明す
る図面である。
る図面である。
【図8】鋳造速度,可動磁極位置とクラッド比の関係を
示す図面である。
示す図面である。
【図9】従来の2本ノズル方式による複層鋳片の鋳造を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図10】従来の1本ノズルと添加材による複層鋳片の
鋳造を示す模式図である。
鋳造を示す模式図である。
【図11】従来の1次メニスカスレベル変更により外層
厚みを変更する方式の模式図である。
厚みを変更する方式の模式図である。
【図12】静磁場帯を発生させる電磁石の構造例を示す
図面である。
図面である。
【図13】静磁場帯を発生させる電磁石の他の構造例を
示す図面である。
示す図面である。
1 注入ノズル 1a 外層用注入ノズル 1b 内層用注入ノズル 2 銅板 3 鋳型フレーム 4 タイロッド 5 ヨーク 6 ギヤボックス 7 ピニオンギヤ 8 ラック 9 コイル 10 電磁石磁極 10a 可動磁極 13 添加材 14a 外層溶鋼プール 14b 内層溶鋼プール 15a 外層溶鋼シェル 15b 内層溶鋼シェル 16 1次メニスカス 17 2次メニスカス 18 同期軸 19 駆動軸 20 ベベルギヤボックス 20a T溝 21 磁力線 22−1,22−2,22−3 磁力の分布曲線 30 鋳型
Claims (3)
- 【請求項1】 断面長方形の連続鋳造鋳型内に、溶融金
属噴出部の高さを異にして2本の注入ノズルを挿入し、
該鋳型の長辺側にこの長辺幅とほぼ等しい幅を有する電
磁石の磁極を対向させて前記溶融金属噴出部の間に静磁
場帯を形成し、該静磁場帯の上下に組成の異なる金属を
供給して鋳造を行うようにした連続鋳造鋳型において、
前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な可動磁極を設け
たことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造鋳型。 - 【請求項2】 断面長方形の連続鋳造鋳型内に1本の注
入ノズルを挿入し、該ノズルの溶融金属噴出部より下方
位置で鋳型長辺側の中央部に、長辺幅の40〜80%の
幅に亙り静磁場帯を形成するように電磁石の磁極を対向
させて設置し、鋳型長辺側両端部の非静磁場帯域より添
加材を投入して鋳造を行うようにした連続鋳造鋳型にお
いて、前記磁極の先端に高さ方向に移動可能な可動磁極
を設けたことを特徴とする複層鋳片の連続鋳造鋳型。 - 【請求項3】 可動磁極の透磁率を、電磁石磁極よりも
高い材料を使用した請求項1または2記載の複層鋳片の
連続鋳造鋳型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5366591A JP2651754B2 (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 複層鋳片の連続鋳造鋳型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5366591A JP2651754B2 (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 複層鋳片の連続鋳造鋳型 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04274846A JPH04274846A (ja) | 1992-09-30 |
JP2651754B2 true JP2651754B2 (ja) | 1997-09-10 |
Family
ID=12949149
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5366591A Expired - Lifetime JP2651754B2 (ja) | 1991-02-27 | 1991-02-27 | 複層鋳片の連続鋳造鋳型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2651754B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SE516850C2 (sv) | 2000-07-05 | 2002-03-12 | Abb Ab | Förfarande och anordning för styrning av omröring i en gjutsträng |
-
1991
- 1991-02-27 JP JP5366591A patent/JP2651754B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04274846A (ja) | 1992-09-30 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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