JP2650289B2 - Organic film fabrication method - Google Patents
Organic film fabrication methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 精密な制御を必要とする有機膜の作製方法に関し、 超格子構造および分子配向が制御された構造等を備え
る有機膜を作製することを目的とし、 反応性の基を有する有機分子を真空チャンバ内でガス
化して基板に到達させ、該基板上で隣接する各有機分子
の基同士を化学反応させ、該各有機分子を前記基板上に
結合堆積させるように構成する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] The present invention relates to a method for producing an organic film that requires precise control, with the object of producing an organic film having a superlattice structure and a structure in which molecular orientation is controlled. The organic molecules having an acidic group are gasified in a vacuum chamber to reach the substrate, and the groups of adjacent organic molecules on the substrate are chemically reacted with each other to bond and deposit the organic molecules on the substrate. To be configured.
本発明は有機膜の作製方法に関し、特に、精密な制御
を必要とする有機膜の作製方法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing an organic film, and more particularly to a method for manufacturing an organic film that requires precise control.
従来、有機膜を作製する方法としては、溶媒蒸発法，
溶融固化法，スピンコーティング,LB法（Langmuir−Blo
dgett's technique）および蒸発法等が知られている。Conventionally, methods for producing an organic film include a solvent evaporation method,
Melt solidification method, spin coating, LB method (Langmuir-Blo
dgett's technique) and the evaporation method are known.
上述した従来の有機膜の作製方法の内、溶媒蒸発法，
溶融固化法およびスピンコーティングは、簡便ではある
ものの超格子構造等の人工的な膜設計を行うことができ
ない。また、LB法は、人工的な膜設計を行うことができ
るウェットな方法であり、作製された有機膜は欠陥が多
いためにその有機膜を使用してデバイスを製造するのは
困難である。さらに、蒸発法は、溶媒蒸発法，溶融固化
法およびスピンコーティングに比べれば膜設計の自由度
は多いけれども超格子構造等の精密な制御を必要とする
有機膜を作製するのは困難である。Among the above-mentioned conventional methods for producing an organic film, a solvent evaporation method,
Although the melt solidification method and the spin coating method are simple, artificial film design such as a super lattice structure cannot be performed. Further, the LB method is a wet method capable of performing an artificial film design, and it is difficult to manufacture a device using the organic film because the produced organic film has many defects. Further, the evaporation method has more freedom in film design than the solvent evaporation method, the melt solidification method, and the spin coating method, but it is difficult to produce an organic film that requires precise control of a superlattice structure or the like.
本発明は、上述した従来の有機膜の作製方法が有する
問題点に鑑み、超格子構造および分子配向が制御された
構造等を備える有機膜を作製することを目的とする。An object of the present invention is to produce an organic film having a superlattice structure, a structure in which molecular orientation is controlled, and the like in view of the problems of the above-described conventional method for producing an organic film.
第１図は本発明に係る有機膜の作製方法の原理を示す
フローチャートである。FIG. 1 is a flowchart showing the principle of the method for producing an organic film according to the present invention.
本発明によれば、反応性の基を有する複数種の有機分
子を真空チャンバ内でガス化して基板に到達させ
（１）、該基板上で隣接する複数種の有機分子の基同士
を化学反応させ（２）、該複数種の有機分子を前記基板
上に交互に結合堆積させる（３）ことを特徴とする有機
膜の作製方法が提供される。According to the present invention, a plurality of types of organic molecules having reactive groups are gasified in a vacuum chamber to reach a substrate (1), and a group of adjacent types of organic molecules on the substrate is chemically reacted with each other. And (3) alternately bonding and depositing the plurality of types of organic molecules on the substrate (3).
上述した構成を有する本発明の有機膜の作製方法によ
れば、反応性の基を有する複数種の有機分子は真空チャ
ンバ内でガス化されて基板に到達させられる。そして、
基板上で隣接する複数種の有機分子の基同士は化学反応
して、基板上に交互に結合堆積されることになる。According to the method for manufacturing an organic film of the present invention having the above-described structure, a plurality of types of organic molecules having a reactive group are gasified in a vacuum chamber and reach the substrate. And
Groups of a plurality of types of organic molecules adjacent to each other on the substrate undergo a chemical reaction and are alternately bonded and deposited on the substrate.
これにより、超格子構造や分子配向が揃った精密な制
御を必要とする有機膜を作製することができる。As a result, an organic film having a superlattice structure and a uniform molecular orientation and requiring precise control can be manufactured.
以下、図面を参照して本発明に係る有機膜の作製方法
を詳述する。Hereinafter, a method for manufacturing an organic film according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第２図は本発明の有機膜の作製方法が適用される装置
を模式的に示す図である。同図に示されるように、本発
明の有機膜の作製方法が適用される有機膜作製装置20
は、従来の有機MBE（Molecular Beam Epitaxy）装置を
そのまま利用することができる。有機膜作製装置20にお
いて、真空ポンプ（図示しない）により真空とされた真
空チャンバ21内には基板４が取付けられた基板ホルダ22
が設けられている。この基板ホルダ22は、ヒータ22aと
水または液体窒素、液体ヘリウム等により冷却される冷
却器22bとにより温度制御可能とされていて、基板４を
最適な温度に設定できるようになされている。FIG. 2 is a diagram schematically showing an apparatus to which the method for producing an organic film of the present invention is applied. As shown in the figure, an organic film production apparatus 20 to which the method for producing an organic film of the present invention is applied.
Can use a conventional organic MBE (Molecular Beam Epitaxy) apparatus as it is. In the organic film forming apparatus 20, a substrate holder 22 on which the substrate 4 is mounted is placed in a vacuum chamber 21 evacuated by a vacuum pump (not shown).
Is provided. The temperature of the substrate holder 22 can be controlled by a heater 22a and a cooler 22b cooled by water, liquid nitrogen, liquid helium, or the like, so that the substrate 4 can be set to an optimum temperature.
真空チャンバ21内において、基板ホルダ22に取付けら
れた基板４に対面する位置に３つのＫセル23a,23b,23c
が設けられている。これら３つのＫセルの内、２つのＫ
セル23aおよび23b内には固体ソース24aおよび24bが入れ
られ、また、残りのＫセル23cには真空チャンバ21の外
部に設けられガスボンベまたはアンプル等（図示しな
い）から気体ソース24cが供給されるようになされてい
る。そして、これら３つのＫセル23a,23b,23cの上方に
はそれぞれシャッタ25a,25b,25cが設けられていて、基
板４に到達する各Ｋセルのソースの種類および量を制御
するようになされている。また、真空チャンバ21の側部
には、基板４上に紫外線等の光を照射するための光照射
窓21aが設けられている。In the vacuum chamber 21, three K cells 23a, 23b, 23c are located at positions facing the substrate 4 attached to the substrate holder 22.
Is provided. Of these three K cells, two K
The solid sources 24a and 24b are placed in the cells 23a and 23b, and the remaining K cells 23c are supplied with a gas source 24c from a gas cylinder or an ampule (not shown) provided outside the vacuum chamber 21. Has been made. Shutters 25a, 25b, and 25c are provided above the three K cells 23a, 23b, and 23c, respectively, to control the type and amount of the source of each K cell that reaches the substrate 4. I have. At the side of the vacuum chamber 21, a light irradiation window 21a for irradiating the substrate 4 with light such as ultraviolet light is provided.
第３図は本発明の有機膜の作製方法の一実施例を説明
するための図であり、基板４上に２種類の有機分子Ａお
よびＢを交互に積層させるものの説明図である。以下、
第２図および第３図を参照して本発明の有機膜の作製方
法の一実施例を説明する。FIG. 3 is a view for explaining an embodiment of the method for producing an organic film of the present invention, and is an explanatory view of alternately stacking two types of organic molecules A and B on a substrate 4. Less than,
One embodiment of the method for producing an organic film according to the present invention will be described with reference to FIGS.
まず、第２図および第３図（ａ）に示されるように、
例えば、Ｋセル23a上のシャッタ25aを開いてガス化され
た固体ソース24a（有機分子Ａ）を基板４に到達させ
る。ここで、有機分子Ａの両端には−OH基（第３図中で
は略して−Ｈ基と記載）がそれぞれ設けられている。こ
の−OH基は、有機分子Ａ自体が両端に有しているもので
あったり、または、作製する有機膜の材料となる有機分
子（例えば、メロシアンニン:Merocyanine,SPCD:Styryl
pyridinium−Cyanine−Dye,MNMA:Methyl−Amino−Nitro
anilineおよびジアセチレン系化合物等の非線形光学効
果をする有機分子）が両端に−OH基を有していない場合
には、有機合成の適切な手法により有機分子Ａの両端に
−OH基を付加し、その−OH基を利用することになる。ま
た、基板４は有機分子Ａが結合堆積される前に、例え
ば、スパッタエッチングやリアクティブエッチングさ
れ、例えば、Ｐ型またはＮ型の半導体物質で形成された
基板４の表面に直接その半導体製物質が露出するように
なされている。そして、この半導体物質が露出した基板
４上に有機分子Ａの一端の−OH基が結合することにな
る。このようにして、基板４の全面に有機分子Ａの単分
子層膜が形成されると、Ｋセル23a上のシャッタ25aを閉
じて真空チャンバ21内に残った有機分子Ａを真空ポンプ
により排気する。First, as shown in FIGS. 2 and 3 (a),
For example, the shutter 25a on the K cell 23a is opened to allow the gasified solid source 24a (organic molecule A) to reach the substrate 4. Here, -OH groups (abbreviated as -H groups in FIG. 3) are provided at both ends of the organic molecule A, respectively. This —OH group is the one that the organic molecule A itself has at both ends, or an organic molecule (eg, merocyanine, SPCD: Styryl) which is a material of an organic film to be formed.
pyridinium-Cyanine-Dye, MNMA: Methyl-Amino-Nitro
(aniline and an organic molecule having a nonlinear optical effect such as a diacetylenic compound) do not have -OH groups at both ends, and -OH groups are added to both ends of the organic molecule A by an appropriate method of organic synthesis. , The -OH group will be utilized. Further, the substrate 4 is subjected to, for example, sputter etching or reactive etching before the organic molecules A are bonded and deposited, and for example, the semiconductor material is directly formed on the surface of the substrate 4 formed of a P-type or N-type semiconductor material. Is to be exposed. Then, the -OH group at one end of the organic molecule A is bonded to the substrate 4 where the semiconductor substance is exposed. When the monolayer film of the organic molecule A is formed on the entire surface of the substrate 4 in this manner, the shutter 25a on the K cell 23a is closed, and the organic molecule A remaining in the vacuum chamber 21 is exhausted by the vacuum pump. .
次に、第２図および第３図（ｂ）に示されるように、
例えば、Ｋセル23b上のシャッタ25bを開いてガス化され
た固体ソース24b（有機分子Ｂ）を基板４（基板４上に
形成された有機分子Ａの単分子層）に到達させる。ここ
で、有機分子Ｂの両端には−COCl基（第３図中では略し
て−Clと記載）がそれぞれ設けられている。この−COCl
基に関しても有機分子Ａの−OH基と同様に、有機分子Ｂ
自体が両端に有しているものか、または、有機合成の適
切な手法により有機分子Ｂの両端に付加したものを利用
することになる。これにより、基板４に結合した有機分
子Ａの全面に到達させられた有機分子Ｂは、有機分子Ａ
と化学結合することになる。すなわち、有機分子Ａの他
端（単板４とは反対側）における−OH基は、有機分子Ｂ
の一端における−COCl基と縮合反応してHCl（塩化水
素）が脱離し、第３図（ｃ）に示されるように、有機分
子Ａ上に一層の有機分子Ｂが結合堆積することになる。
そして、有機分子Ａ上の全面に対する有機分子Ｂの結合
が終了すると、Ｋセル23b上のシャッタ25bを閉じて真空
チャンバ21内に残った有機分子Ｂを真空ポンプにより排
気する。Next, as shown in FIGS. 2 and 3 (b),
For example, the shutter 25b on the K cell 23b is opened to allow the gasified solid source 24b (organic molecule B) to reach the substrate 4 (the monolayer of the organic molecule A formed on the substrate 4). Here, -COCl groups (abbreviated as -Cl in FIG. 3) are provided at both ends of the organic molecule B, respectively. This -COCl
As for the group, similarly to the —OH group of the organic molecule A, the organic molecule B
Either one that has itself at both ends or one that is added to both ends of the organic molecule B by an appropriate method of organic synthesis is used. As a result, the organic molecules B reaching the entire surface of the organic molecules A bonded to the substrate 4
Will be chemically bonded. That is, the —OH group at the other end of the organic molecule A (the side opposite to the single plate 4) is
HCl (hydrogen chloride) is desorbed due to a condensation reaction with the -COCl group at one end of the organic molecule A, and one organic molecule B is bonded and deposited on the organic molecule A as shown in FIG.
When the binding of the organic molecule B to the entire surface of the organic molecule A is completed, the shutter 25b on the K cell 23b is closed, and the organic molecule B remaining in the vacuum chamber 21 is exhausted by a vacuum pump.
さらに、第２図および第３図（ｄ）に示されるよう
に、再び、Ｋセル23a上にシャッタ25aを開いて有機分子
Ａを基板４（有機分子Ａ上に結合堆積された有機分子Ｂ
の単分子層）に到達させる。これにより、有機分子Ａの
一端の−OH基は有機分子Ｂの他端の−COCl基と反応する
ことになる。すなわち、基板４上に一層目の有機分子Ａ
を介して堆積した有機分子Ｂの他端の−COCl基は、有機
分子Ａの一端における−OH基と縮合反応してHClが離脱
し、第３図（ｅ）に示されるように、有機分子Ｂ上に一
層の有機分子Ａが再び結合堆積することになる。そし
て、有機分子Ｂの全面に対する有機分子Ａの付着が終了
すると、再びＫセル23a上のシャッタ25aを閉じて真空チ
ャンバ21内に残った有機分子Ａを真空ポンプにより排気
する。Further, as shown in FIGS. 2 and 3 (d), the shutter 25a is opened again on the K cell 23a, and the organic molecules A are transferred to the substrate 4 (the organic molecules B bonded and deposited on the organic molecules A).
Monolayer). Thereby, the -OH group at one end of the organic molecule A reacts with the -COCl group at the other end of the organic molecule B. That is, the first organic molecules A
The -COCl group at the other end of the organic molecule B deposited via the above reacts with the -OH group at one end of the organic molecule A to release HCl, and as shown in FIG. One more organic molecule A is bound and deposited on B again. When the attachment of the organic molecule A to the entire surface of the organic molecule B is completed, the shutter 25a on the K cell 23a is closed again, and the organic molecule A remaining in the vacuum chamber 21 is exhausted by the vacuum pump.
以上のステップを繰り返すことにより、基板４に対し
て有機分子４と有機分子Ｂを交互に単分子層ずつ形成す
ることができる。ここで、有機分子Ａおよび有機分子Ｂ
は２種類に限定されるものではなく、複数種の有機分子
を交互に結合堆積させるように構成することもできる。
このとき、複数種の有機分子の一種類としてMMA（Methy
l Methacrylate:メタクリル酸メチル）またはHEMA（Hyd
roxyethyl Methacrylate:ヒドロキシエチル・メタクリ
レート）等のポリマー形成可能な分子を使用すれば有機
膜の強度を向上させることができる。また、有機分子Ａ
およびＢの反応性の基はそれぞれ−OH基および−COCl基
に限定されるものではなく、例えば、−CHO基，−COOH
基および−NH2基等の反応性の基を利用することがで
き、縮合反応で離脱する物質も塩化水素に限定されず、
例えば、水（H2O:この場合は脱水縮合反応）等の物質と
なる場合もある。さらに、基板４には、有機分子が結合
堆積される前に予め電子受容性層または電子供与性層、
或いは、液晶配向膜を形成しておくこともできる。By repeating the above steps, the organic molecules 4 and the organic molecules B can be alternately formed on the substrate 4 by monolayers. Here, the organic molecule A and the organic molecule B
Is not limited to two types, and a plurality of types of organic molecules may be alternately bonded and deposited.
At this time, MMA (Methy
l Methacrylate: methyl methacrylate or HEMA (Hyd
Use of a polymer-formable molecule such as roxyethyl methacrylate (hydroxyethyl methacrylate) can improve the strength of the organic film. The organic molecule A
And the reactive groups of B are not limited to -OH group and -COCl group, respectively, for example, -CHO group, -COOH
Can utilize reactive groups such as groups and -NH 2 groups, a substance that splits off at the condensation reaction is not limited to hydrogen chloride,
For example, it may be a substance such as water (H 2 O: in this case, a dehydration condensation reaction). Further, before the organic molecules are bonded and deposited on the substrate 4, an electron-accepting layer or an electron-donating layer,
Alternatively, a liquid crystal alignment film can be formed.
上記した有機分子Ａおよび有機分子Ｂ、並びに、作製
された有機膜（生成物）の具体例は、次の表１に示され
る。Specific examples of the above-described organic molecules A and B, and the produced organic film (product) are shown in Table 1 below.
第４図は本発明の有機膜の作製方法の他の実施例を説
明するための図である。この第４図に示す有機膜の作製
方法は、特に、二次の非線形光学効果を有する有機膜を
作製するのに適したものである。すなわち、二次の非線
形光学効果を有する有機膜は、使用する非線形光学物質
の分子配向が一定方向に揃っている必要があるが、本実
施例ではこのような分子配向が一定方向に揃った有機膜
を作製することができるものである。 FIG. 4 is a view for explaining another embodiment of the method for producing an organic film of the present invention. The method for producing an organic film shown in FIG. 4 is particularly suitable for producing an organic film having a second-order nonlinear optical effect. That is, the organic film having the second-order nonlinear optical effect needs to have the molecular orientation of the nonlinear optical substance used in a certain direction. In the present embodiment, the organic film having such a molecular orientation in a certain direction is required. A film can be produced.
まず、第２図および第４図（ａ）に示されるように、
例えば、Ｋセル23c上のシャッタ25cを開いて真空チャン
バ21の外部に設けられガスボンベまたはアンプル等から
供給されている気体ソース24c（有機分子Ｃ）を基板４
に到達させる。ここで、有機分子Ｃの両端には−OH基
（第４図中では略して−Ｈと記載）および−COCl基（第
４図中では略して−Clと記載）がそれぞれ設けられてい
る。この−OH基および−COCl基は、有機分子Ｃ自体が両
端に有しているものであったり、または、作製する有機
膜の材料となる有機物質（例えば、DANSやメロシアニン
等の極性を有する非線形光学物質）に対して有機合成の
適切な手法により有機分子Ｃの両端にその有機分子Ｃの
極性に従って付加した−OH基および−COCl基を利用する
ことになる。これにより、有機分子Ｃの−OH基は基板４
と結合し、基板４上には一層の有機分子Ｃが−COCl基の
存在する側を表面として堆積する。First, as shown in FIGS. 2 and 4 (a),
For example, the shutter 25c on the K cell 23c is opened, and the gas source 24c (organic molecule C) provided from the gas cylinder or the ampule provided outside the vacuum chamber 21 is supplied to the substrate 4.
To reach. Here, both ends of the organic molecule C are provided with a -OH group (abbreviated as -H in Fig. 4) and a -COCl group (abbreviated as -Cl in Fig. 4), respectively. The —OH group and the —COCl group may be those that the organic molecule C itself has at both ends, or an organic substance (for example, DANS or merocyanine, etc.) In this case, an —OH group and a —COCl group added to both ends of the organic molecule C in accordance with the polarity of the organic molecule C by an appropriate method of organic synthesis for the optical material) are used. Thereby, the —OH group of the organic molecule C is
And one organic molecule C is deposited on the substrate 4 with the side where the -COCl group is present as the surface.
さらに、第４図（ｂ）に示されるように、基板４の全
面に一層の有機分子Ｃが結合すると、その基板４に結合
した一層の有機分子Ｃ上には次の層として堆積する有機
分子Ｃが到達する。そして、基板４に結合した一層の有
機分子Ｃの表面側に位置する−COCl基に対して、次の層
となる有機分子Ｃの−OH基が縮合反応してHClが脱離す
る。これにより、第３図（ｃ）に示されるように、基板
４上に結合堆積した一層の有機分子Ｃに対して、さらに
一層の有機分子Ｃが結合堆積することになる。Further, as shown in FIG. 4 (b), when one organic molecule C is bonded to the entire surface of the substrate 4, the organic molecule deposited as a next layer is formed on the one organic molecule C bonded to the substrate 4. C arrives. Then, the —COCl group located on the surface side of the one organic molecule C bonded to the substrate 4 is condensed with the —OH group of the organic molecule C to be the next layer, and HCl is eliminated. As a result, as shown in FIG. 3 (c), further organic molecules C are bonded and deposited on the organic molecules C bonded and deposited on the substrate 4.
そして、第４図（ｄ）および（ｅ）に示されるよう
に、同様なステップを繰り返すことにより、有機分子Ｃ
は、基板４上にその極性を一致させて一層ずつ順次結合
堆積されることになる。ここで、有機分子Ｃの両端にお
ける反応性の基は、それぞれ−OH基および−COCl基に限
定されるものではなく、例えば、−CHO基，−COOH基お
よび−NH2基等の官能基を利用することができ、また、
基板４上に結合堆積する有機分子Ｃの極性はその有機分
子Ｃの両端の基および反応を行わせる条件等により規定
することができる。さらに、基板４には、有機分子が結
合堆積される前に予め電子受容性層または電子供与性
層、或いは、液晶配向膜を形成しておいてもよいのは第
３図の場合と同様である。Then, as shown in FIGS. 4 (d) and (e), by repeating the same steps, the organic molecule C is obtained.
Will be sequentially deposited on the substrate 4 with their polarities matched one by one. Here, the reactive groups at both ends of the organic molecule C are not limited to the —OH group and the —COCl group, respectively. For example, functional groups such as a —CHO group, a —COOH group, and a —NH 2 group are used. Available, and
The polarity of the organic molecule C bonded and deposited on the substrate 4 can be defined by the groups at both ends of the organic molecule C, conditions for causing the reaction, and the like. Further, an electron-accepting layer, an electron-donating layer, or a liquid crystal alignment film may be formed on the substrate 4 before the organic molecules are bonded and deposited, as in the case of FIG. is there.
上記した有機分子Ｃおよび作製された有機膜の具体例
として、二次の非線形光学効果を有するDANSおよびメロ
シアニンが次の表２に示される。Table 2 below shows DANS and merocyanine having a second-order nonlinear optical effect as specific examples of the above-described organic molecule C and the produced organic film.
〔発明の効果〕 以上、詳述したように、本発明に係る有機膜の作製方
法は、反応性の基を有する有機分子を真空チャンバ内で
ガス化して基板に到達させ、基板上で隣接する各有機分
子の基同士を化学反応させてその基板上に結合堆積させ
ることによって、超格子構造および分子配向が制御され
た構造等を備える有機膜を作製することができる。 [Effects of the Invention] As described above, in the method for manufacturing an organic film according to the present invention, an organic molecule having a reactive group is gasified in a vacuum chamber to reach a substrate, and the organic molecule having a reactive group is adjacent to the substrate. An organic film having a superlattice structure, a structure in which molecular orientation is controlled, and the like can be manufactured by chemically reacting the groups of the respective organic molecules and bonding and depositing them on the substrate.
第１図は本発明に係る有機膜の作製方法の原理を示すフ
ローチャート、 第２図は本発明の有機膜の作製方法が適用される装置を
模式的に示す図、 第３図は本発明の有機膜の作製方法の一実施例を説明す
るための図、 第４図は本発明の有機膜の作製方法の他の実施例を説明
するための図である。 （符号の説明） ４……基板、 20……有機膜作製装置、 21……真空チャンバ、 21a……光照射窓、 22……基板ホルダ、 22a……ヒータ、 22b……冷却器、 23a,23b,23c……Ｋセル、 24a,24b……固体ソース、 24c……ガスソース、 25a,25b,25c……シャッタ。FIG. 1 is a flowchart showing the principle of the method for producing an organic film according to the present invention, FIG. 2 is a diagram schematically showing an apparatus to which the method for producing an organic film of the present invention is applied, and FIG. FIG. 4 is a view for explaining one embodiment of a method for manufacturing an organic film, and FIG. 4 is a view for explaining another embodiment of a method for manufacturing an organic film of the present invention. (Explanation of reference numerals) 4 ... substrate, 20 ... organic film production apparatus, 21 ... vacuum chamber, 21a ... light irradiation window, 22 ... substrate holder, 22a ... heater, 22b ... cooler, 23a, 23b, 23c: K cell, 24a, 24b: Solid source, 24c: Gas source, 25a, 25b, 25c: Shutter.
Claims (3)
空チャンバ内でガス化して基板に到達させ、 該基板上で隣接する複数種の有機分子の基同士を化学反
応させ、 該複数種の有機分子を前記基板上に交互に結合堆積させ
ることを特徴とする有機膜の作製方法。A plurality of organic molecules having a reactive group are gasified in a vacuum chamber to reach a substrate, and a plurality of types of organic molecules adjacent to each other on the substrate are chemically reacted with each other; A method for producing an organic film, wherein seed organic molecules are alternately bonded and deposited on the substrate.
機分子に付加されるようになっている特許請求の範囲第
１項に記載の有機膜の作製方法。2. The method according to claim 1, wherein said reactive group is added to said organic molecule by organic synthesis.
し，且つ，反転対称性を持たない非線形光学有機分子
を、真空チャンバ内でガス化して基板に到達させ、該基
板上で反応させて結合堆積させることを特徴とする有機
膜の作製方法。3. A nonlinear optical organic molecule having two or more kinds of groups reactive with each other and having no inversion symmetry is gasified in a vacuum chamber, reaches a substrate, and is reacted on the substrate. A method for producing an organic film, characterized in that the organic film is bonded and deposited.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63003895A JP2650289B2 (en) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Organic film fabrication method |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP63003895A JP2650289B2 (en) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Organic film fabrication method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01180531A JPH01180531A (en) | 1989-07-18 |
| JP2650289B2 true JP2650289B2 (en) | 1997-09-03 |
Family
ID=11569920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63003895A Expired - Lifetime JP2650289B2 (en) | 1988-01-13 | 1988-01-13 | Organic film fabrication method |
Country Status (1)
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| JP (1) | JP2650289B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61211339A (en) * | 1985-03-18 | 1986-09-19 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of heat-resistant thin membrane of high-molecular material |
-
1988
- 1988-01-13 JP JP63003895A patent/JP2650289B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01180531A (en) | 1989-07-18 |
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