JP2642959B2 - 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 - Google Patents
光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、酵素阻害剤，生物活性物質，抗ガン剤及び
強誘電性液晶として用いられるエステル，エーテル及び
カルボン酸の原料として有用な光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物に関する。
強誘電性液晶として用いられるエステル，エーテル及び
カルボン酸の原料として有用な光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物に関する。
液晶や医薬品等に応用される光学活性含フッ素アルコ
ール（含フッ素ヒドロキシ化合物）として、従来、若干
の化合物が報告されている。
ール（含フッ素ヒドロキシ化合物）として、従来、若干
の化合物が報告されている。
しかしながら、光学純度に関して満足なフッ素ヒドロ
キシ化合物は、今だ報告されていない。従って、本発明
は、光学純度の高い新規光学活性含フッ素ヒドロキシ化
合物を提供することを目的とする。
キシ化合物は、今だ報告されていない。従って、本発明
は、光学純度の高い新規光学活性含フッ素ヒドロキシ化
合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、特に、シクロプロパン環を有する光学
活性ヒドロキシ化合物を種々検討し、酵素を用いる不斉
加水分解により光学純度の高い光学活性含フッ素ヒドロ
キシ化合物が得られることを見出し、本発明を完成し
た。
活性ヒドロキシ化合物を種々検討し、酵素を用いる不斉
加水分解により光学純度の高い光学活性含フッ素ヒドロ
キシ化合物が得られることを見出し、本発明を完成し
た。
すなわち本発明は、一般式 （式中、R1,R2はそれぞれ炭素原子数１〜２のフッ素置
換アルキル基，炭素原子数１〜10のアルキル基，炭素原
子数７〜10のアラルキル基あいは炭素原子数６〜10のア
リール基を示す。ただし、R1及びR2の少なくとも一方は
炭素原子数１〜２のフッ素置換アルキル基を示す。） で表わされることを特徴とする光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物を提供するものであ
る。
換アルキル基，炭素原子数１〜10のアルキル基，炭素原
子数７〜10のアラルキル基あいは炭素原子数６〜10のア
リール基を示す。ただし、R1及びR2の少なくとも一方は
炭素原子数１〜２のフッ素置換アルキル基を示す。） で表わされることを特徴とする光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物を提供するものであ
る。
本発明に係る一般式（Ｉ）の光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物は、置換基R1,R2の種
類により各種のものがあるが、いずれもヒドロキシル基
（OH）に結合する炭素原子が不斉中心となった光学活性
な化合物であり、さらに置換基R2の配置によりトランス
型，シス型のそれぞれの構造をとり得る。R1,R2は、上
述の如く炭素原子数１〜２のフッ素置換アルキル基（例
えば、メチル基，エチル基などの水素の一部または全部
がフッ素に置換したもの）、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基（メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，イ
ソブチル基，ヘキシル基，オクチル基，ノニル基な
ど）、炭素原子数７〜10のアラルキル基（ベンジル基，
フェネチル基など）あるいは炭素原子数６〜10のアリー
ル基（フェニル基，トルイル基,p−クロロフェニル基,m
−クロロフェニル基など）を示す。ただし、R1及びR2の
少なくとも一方は前記炭素原子数１〜２のフッ素置換ア
ルキル基であることが必要である。
ヒドロキシシクロプロパン化合物は、置換基R1,R2の種
類により各種のものがあるが、いずれもヒドロキシル基
（OH）に結合する炭素原子が不斉中心となった光学活性
な化合物であり、さらに置換基R2の配置によりトランス
型，シス型のそれぞれの構造をとり得る。R1,R2は、上
述の如く炭素原子数１〜２のフッ素置換アルキル基（例
えば、メチル基，エチル基などの水素の一部または全部
がフッ素に置換したもの）、炭素原子数１〜10のアルキ
ル基（メチル基，エチル基，プロピル基，ブチル基，イ
ソブチル基，ヘキシル基，オクチル基，ノニル基な
ど）、炭素原子数７〜10のアラルキル基（ベンジル基，
フェネチル基など）あるいは炭素原子数６〜10のアリー
ル基（フェニル基，トルイル基,p−クロロフェニル基,m
−クロロフェニル基など）を示す。ただし、R1及びR2の
少なくとも一方は前記炭素原子数１〜２のフッ素置換ア
ルキル基であることが必要である。
このような本発明の光学活性な含フッ素α−ヒドロキ
シシクロプロパン化合物の具体例としては、各種のもの
があるが、後述の実施例で記載したもの以外に、各種構
造のものを製造することが可能である。
シシクロプロパン化合物の具体例としては、各種のもの
があるが、後述の実施例で記載したもの以外に、各種構
造のものを製造することが可能である。
ところで、この含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパ
ン化合物は、様々な方法により製造可能であるが、一般
的には下記の反応式により製造することができる。
ン化合物は、様々な方法により製造可能であるが、一般
的には下記の反応式により製造することができる。
上記式中、COR′はアシル基を表わす。
次に各製造工程について詳述する。
還元工程 一般式（II）の三重結合を有する含フッ素ヒドロキシ
化合物（含ッ素アルコール誘導体）を還元して一般式
（III）の二重結合を有する含フッ素ヒドロキシ化合物
を製造する。この工程に使用しうる還元剤は、三重結合
を二重結合に還元するために常用される任意の還元剤で
あればよいが、還元剤の種類により還元後に得られる二
重結合の両側の結合構造に差異を生じる。
化合物（含ッ素アルコール誘導体）を還元して一般式
（III）の二重結合を有する含フッ素ヒドロキシ化合物
を製造する。この工程に使用しうる還元剤は、三重結合
を二重結合に還元するために常用される任意の還元剤で
あればよいが、還元剤の種類により還元後に得られる二
重結合の両側の結合構造に差異を生じる。
例えばこの結合構造をトランス型とする場合には、水
素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリ
ウム;Na〔AlH2（OCH2CH2OCH3）２〕，水素化ジイソブチ
ルメチルアルミニウムリチウム;LiAlH〔（CH3）2CHC
H2〕2CH3,水素化トリブチルスズ；（C4H9）3SnHなどが
挙げられるが、特に、水素化ビス（２−メトキシエトキ
シ）アルミニウムナトリウムが最適である。
素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリ
ウム;Na〔AlH2（OCH2CH2OCH3）２〕，水素化ジイソブチ
ルメチルアルミニウムリチウム;LiAlH〔（CH3）2CHC
H2〕2CH3,水素化トリブチルスズ；（C4H9）3SnHなどが
挙げられるが、特に、水素化ビス（２−メトキシエトキ
シ）アルミニウムナトリウムが最適である。
この還元反応を行うにあたっては、エーテル等の有機
溶媒中で行うのが好ましく、反応温度は低温から高温ま
で可能であるが、−30〜−50℃の範囲が特に好ましい。
溶媒中で行うのが好ましく、反応温度は低温から高温ま
で可能であるが、−30〜−50℃の範囲が特に好ましい。
また結合構造をシス型とする場合には、水素と共にリ
ンドラー触媒;Pd/CaCO3−Pd（OAc）２あるいはPd/BaSO4
−キノリン触媒を用いる方法、水素化ジイソブチルアル
ミニウム； AlH〔（CH3）2CHCH2）２などを還元剤として使用する方
法などがあるが、特に水素と共にリンドラー触媒を用い
る組合せが好ましい。この反応はヘキサン等の有機溶媒
中で行うことが好ましい。
ンドラー触媒;Pd/CaCO3−Pd（OAc）２あるいはPd/BaSO4
−キノリン触媒を用いる方法、水素化ジイソブチルアル
ミニウム； AlH〔（CH3）2CHCH2）２などを還元剤として使用する方
法などがあるが、特に水素と共にリンドラー触媒を用い
る組合せが好ましい。この反応はヘキサン等の有機溶媒
中で行うことが好ましい。
アシル化工程 アシル化は、常法で実施することができる。アシル化
剤としては、例えば塩化アセチル，塩化プロピオニル，
塩化ブチリル，塩化ベンゾイル，塩化オクチル等が挙げ
られる。
剤としては、例えば塩化アセチル，塩化プロピオニル，
塩化ブチリル，塩化ベンゾイル，塩化オクチル等が挙げ
られる。
酵素加水分解工程 アシル化工程で得られた化合物を、酵素で不斉加水分
解することにより、光学純度の高い一般式（Ｖ）の化合
物が得られる。
解することにより、光学純度の高い一般式（Ｖ）の化合
物が得られる。
酵素としては、所謂加水分解酸素であれば様々なもの
を用いることができ、例えばリパーゼP,リパーゼMY,リ
パーゼM10,リパーゼOF,リパーゼP679,セルラーゼ,PLE等
を使用することができる。この場合には、選択する酵素
により光学活性は変動し、例えばリパーゼMYを使用した
とき、生成するヒドロキシ化合物（アルコール誘導体）
が右施性であれば、アシル化体（Va）をセルラーゼ等の
酵素あるいは水酸化ナトリウム等の塩基性触媒などで処
理すると、左施性のヒドロキシ化合物となる場合があ
る。また、リパーゼＰを使用するときは、リパーゼMYの
ときの逆の施光性を有するヒドロキシ化合物が得られる
場合もある。
を用いることができ、例えばリパーゼP,リパーゼMY,リ
パーゼM10,リパーゼOF,リパーゼP679,セルラーゼ,PLE等
を使用することができる。この場合には、選択する酵素
により光学活性は変動し、例えばリパーゼMYを使用した
とき、生成するヒドロキシ化合物（アルコール誘導体）
が右施性であれば、アシル化体（Va）をセルラーゼ等の
酵素あるいは水酸化ナトリウム等の塩基性触媒などで処
理すると、左施性のヒドロキシ化合物となる場合があ
る。また、リパーゼＰを使用するときは、リパーゼMYの
ときの逆の施光性を有するヒドロキシ化合物が得られる
場合もある。
シクロプロパン化工程 酸素加水分解により得られた光学活性化合物をシクロ
プロパン化することにより、本発明の一般式（Ｉ）の化
合物が得られる。
プロパン化することにより、本発明の一般式（Ｉ）の化
合物が得られる。
シクロプロパン化は、ヨウ化メチレン（CH2I2）とSm,
Zn−CuあるいはZn（C2H5）２またはジアゾメタン（CH2N
2）とZnI2触媒の組合せ等により行うことができる。特
にヨウ化メチレンとSmの組合せが立体選択的反応として
望ましい。この反応は、テトラヒドロフラン等の有機溶
媒中で行い、反応温度は低温から高温まで可能である
が、０℃前後が最適である。
Zn−CuあるいはZn（C2H5）２またはジアゾメタン（CH2N
2）とZnI2触媒の組合せ等により行うことができる。特
にヨウ化メチレンとSmの組合せが立体選択的反応として
望ましい。この反応は、テトラヒドロフラン等の有機溶
媒中で行い、反応温度は低温から高温まで可能である
が、０℃前後が最適である。
なお、各工程の反応は、それぞれ最適な条件下で行わ
れるもので、溶媒の種類や各種助剤の添加量等の条件に
より適宜反応時間や温度等を適宜選択して行う。
れるもので、溶媒の種類や各種助剤の添加量等の条件に
より適宜反応時間や温度等を適宜選択して行う。
次に、実施例により本発明をさらに詳しく説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1A （1R）−（＋）−１−（トランス−２−フェニルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 窒素雰囲気下、三つ口フラスコにエーテル40mlを加
え、ドライアイス−アセトン浴で反応容器を−30℃に保
った。水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウ
ムナトリウムを4.5ml（15.3ミリモル）加え、ドライア
イス−アセトン浴を−50℃とした後、4,4,4−トリフル
オロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブチン2.81
g（14.0ミリモル）のエーテル溶液（10ml）を10分間で
滴下して１時間反応させ、続いて室温でさらに１時間反
応させた。
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 窒素雰囲気下、三つ口フラスコにエーテル40mlを加
え、ドライアイス−アセトン浴で反応容器を−30℃に保
った。水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウ
ムナトリウムを4.5ml（15.3ミリモル）加え、ドライア
イス−アセトン浴を−50℃とした後、4,4,4−トリフル
オロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブチン2.81
g（14.0ミリモル）のエーテル溶液（10ml）を10分間で
滴下して１時間反応させ、続いて室温でさらに１時間反
応させた。
これに１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、エーテ
ルにより抽出した。次に、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液，飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製した。
ルにより抽出した。次に、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液，飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。エーテルを減圧留去した後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで分離精製した。
（ｂ）アシル化工程 還元工程で得た（Ｅ）−4,4,4−トリフルオロ−３−
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテン3.75g（17.7ミ
リモル）とピリジン1.6ml（19.4ミリモル）のジクロロ
メタン溶液（20ml）を氷浴で撹拌し、塩化アセチル1.6m
l（23.0ミリモル）を５分間で滴下し、室温で13時間反
応させた。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止さ
せ、ジクロロメタンにより抽出した。次に、水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタン
を減圧留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで分離精製した。
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテン3.75g（17.7ミ
リモル）とピリジン1.6ml（19.4ミリモル）のジクロロ
メタン溶液（20ml）を氷浴で撹拌し、塩化アセチル1.6m
l（23.0ミリモル）を５分間で滴下し、室温で13時間反
応させた。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止さ
せ、ジクロロメタンにより抽出した。次に、水で洗浄
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタン
を減圧留去した後，シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで分離精製した。
（ｃ）加水分解工程 アシル化工程で得た（Ｅ）−３−アセトキシ−4,4,4
−トリフルオロ−１−フェニル−１−ブテン4.23g（17.
5ミリモル）を蒸留水70mlに懸濁させ、恒温槽で40〜41
℃に保った。そこにリパーゼMY（各糖産業社製）2.0gを
加え、６時間30分反応させた。これに１規定の塩酸を加
えて反応を停止させ、酢酸エチルを加え、セライト吸引
濾過した後、酢酸エチルにより抽出した。次に飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを乾燥した。酢酸エ
チルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで分離精製し、（3R）−（−）−（Ｅ）−4,4,4
−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−
ブテンと（3S）−（Ｅ）−３−アセトキシ−4,4,4−ト
リフルオロ−１−フェニル−１−ブテンとを得た。
−トリフルオロ−１−フェニル−１−ブテン4.23g（17.
5ミリモル）を蒸留水70mlに懸濁させ、恒温槽で40〜41
℃に保った。そこにリパーゼMY（各糖産業社製）2.0gを
加え、６時間30分反応させた。これに１規定の塩酸を加
えて反応を停止させ、酢酸エチルを加え、セライト吸引
濾過した後、酢酸エチルにより抽出した。次に飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを乾燥した。酢酸エ
チルを減圧留去した後、シリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで分離精製し、（3R）−（−）−（Ｅ）−4,4,4
−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−
ブテンと（3S）−（Ｅ）−３−アセトキシ−4,4,4−ト
リフルオロ−１−フェニル−１−ブテンとを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 アルゴン雰囲気下、三つ口フラスコにサマリウム1.60
g（10.6ミリモル），テトラヒドロフラン（THF）3mlを
加え、氷浴０℃に反応容器を保った。そこに塩化第二水
銀0.14g（0.5ミリモル）のTHF溶液3mlを10分間で滴下
し、さらに加水分解工程で得た（3R）−（−）−（Ｅ）
−4,4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニ
ル−１−ブテン0.20g（1.0ミリモル）のTHF溶液3mlを10
分間で滴下し、30分間撹拌した。次にヨウ化メチレン0.
81ml（10.0ミリモル）のTHF溶液3mlを１時間で滴下し、
０℃で１時間，室温で２時間反応させた。これに飽和炭
酸カリウム水溶液を加えて反応を停止させ、エーテルに
より抽出した。次に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分解精製した。
g（10.6ミリモル），テトラヒドロフラン（THF）3mlを
加え、氷浴０℃に反応容器を保った。そこに塩化第二水
銀0.14g（0.5ミリモル）のTHF溶液3mlを10分間で滴下
し、さらに加水分解工程で得た（3R）−（−）−（Ｅ）
−4,4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニ
ル−１−ブテン0.20g（1.0ミリモル）のTHF溶液3mlを10
分間で滴下し、30分間撹拌した。次にヨウ化メチレン0.
81ml（10.0ミリモル）のTHF溶液3mlを１時間で滴下し、
０℃で１時間，室温で２時間反応させた。これに飽和炭
酸カリウム水溶液を加えて反応を停止させ、エーテルに
より抽出した。次に飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。エーテルを減圧留去した後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで分解精製した。
得られた（1R）−（＋）−１−（トランス−２−フェ
ニルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノー
ルの物理的性質を以下に示す。
ニルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノー
ルの物理的性質を以下に示す。
なお、プロトン核磁気共鳴（1H−NMR）スペクトルは
四塩化炭素溶媒を用い、またフッ素核磁気共鳴19F−NM
R）スペクトルはジエチルエーテル溶媒を用いて測定し
た。
四塩化炭素溶媒を用い、またフッ素核磁気共鳴19F−NM
R）スペクトルはジエチルエーテル溶媒を用いて測定し
た。
分子量 216.201 H−NMR δ（ppm） 0.93〜1.50（m,3H）,1.88〜2.31
（m,2H）,3.67（dq,J＝6.3,12.6Hz,1H）,7.24（m,5H）19 F−NMR ＋0.82（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3400,2940,1610,1505,1445 実施例1B （1S）−（−）−１−（トランス−２−フェニルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 上記実施例1A（ｃ）加水分解工程で得た（3S）−
（Ｅ）−３−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−
フェニル−１−ブテン2.57g（10.6ミリモル）を蒸留水5
0mlに懸濁させ、恒温槽で40〜41℃に保った。そこにセ
ルラーゼ1.2g（天野製薬製）を加え、30時間反応させ
た。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルを加え、セライト吸引懸過した後、酢酸エチルに
より抽出した。次に、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
（3S）−（＋）−（Ｅ）−4,4,4−トリフルオロ−３−
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテンを得た。
（m,2H）,3.67（dq,J＝6.3,12.6Hz,1H）,7.24（m,5H）19 F−NMR ＋0.82（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3400,2940,1610,1505,1445 実施例1B （1S）−（−）−１−（トランス−２−フェニルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 上記実施例1A（ｃ）加水分解工程で得た（3S）−
（Ｅ）−３−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−
フェニル−１−ブテン2.57g（10.6ミリモル）を蒸留水5
0mlに懸濁させ、恒温槽で40〜41℃に保った。そこにセ
ルラーゼ1.2g（天野製薬製）を加え、30時間反応させ
た。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸
エチルを加え、セライト吸引懸過した後、酢酸エチルに
より抽出した。次に、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。酢酸エチルを減圧留去した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
（3S）−（＋）−（Ｅ）−4,4,4−トリフルオロ−３−
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテンを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 実施例1A（ｄ）のシクロプロパン化工程と同様の操作
を行い、（1S）−（−）−１−（トランス−２−フェニ
ルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノール
を得た。
を行い、（1S）−（−）−１−（トランス−２−フェニ
ルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノール
を得た。
実施例2A （1R）−（＋）−１−（シス−２−フェニルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 水素雰囲気下、三つ口フラスコにリンドラー触媒0.40
g,ヘキサン35mlを加え、ドライアイス−アセトン浴で反
応容器−78℃に保った。そこに、4,4,4−トリフルオロ
−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブチンを4.52g
（20,1ミリモル）を５分間で滴下し、室温で14時間反応
させた。
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 水素雰囲気下、三つ口フラスコにリンドラー触媒0.40
g,ヘキサン35mlを加え、ドライアイス−アセトン浴で反
応容器−78℃に保った。そこに、4,4,4−トリフルオロ
−３−ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブチンを4.52g
（20,1ミリモル）を５分間で滴下し、室温で14時間反応
させた。
反応溶液を濾過し、ヘキサンを減圧留去した後、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（Ｚ）−4,
4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−
１−ブテンを得た。
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、（Ｚ）−4,
4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１−フェニル−
１−ブテンを得た。
（ｂ）アシル化工程 実施例1A（ｂ）と同様の操作を行い、（Ｚ）−３−ア
セトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−フェニル−１−
ブテンを得た。
セトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−フェニル−１−
ブテンを得た。
（ｃ）加水分解工程 実施例1A（ｃ）と同様の操作を行い、（3R）−（＋）
−（Ｚ）−4,4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１
−フェニル−１−ブテンと（3S）−（Ｚ）−３−アセト
キシ−4,4,4−トリフルオロ−１−フェニル−１−ブテ
ンとを得た。
−（Ｚ）−4,4,4−トリフルオロ−３−ヒドロキシ−１
−フェニル−１−ブテンと（3S）−（Ｚ）−３−アセト
キシ−4,4,4−トリフルオロ−１−フェニル−１−ブテ
ンとを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 この工程も実施例1A（ｄ）と同様の操作を行った。
得られた（1R）−（＋）−１−（シス−２−フェニル
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの
物理的性質を以下に示す。
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの
物理的性質を以下に示す。
分子量 216.201 H−NMR δ（ppm）0.94〜1.29（m,2H）,1.46（ddt,J＝
6.5,8.9,8.9Hz,1H）,2.12（d,J＝6.5Hz,1H）,2.37（dt,
J＝6.5,8.7Hz,1H）,3.19（dq,J＝8.9,6.3Hz,1H）,7.29
（m,5H）19 F−NMR ＋1.08（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3400,2945,1605,1500,1450 実施例2B （1S）−（−）−１−（シス−２−フェニルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 上記実施例2A（ｃ）の加水分解工程で得た（3S）−
（Ｚ）−３−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−
フェニル−１−ブテン1.41g（5.8ミリモル）とメタノー
ル15ml,水1mlに炭酸カリウム2.61g（17.4ミリモル）を
加え、室温で３時間反応させた。溶媒を減圧留去した
後、１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロロメ
タンにより抽出した。次に水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
（3S）−（−）−（Ｚ）−4,4,4−トリフルオロ−３−
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテンを得た。
6.5,8.9,8.9Hz,1H）,2.12（d,J＝6.5Hz,1H）,2.37（dt,
J＝6.5,8.7Hz,1H）,3.19（dq,J＝8.9,6.3Hz,1H）,7.29
（m,5H）19 F−NMR ＋1.08（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3400,2945,1605,1500,1450 実施例2B （1S）−（−）−１−（シス−２−フェニルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 上記実施例2A（ｃ）の加水分解工程で得た（3S）−
（Ｚ）−３−アセトキシ−4,4,4−トリフルオロ−１−
フェニル−１−ブテン1.41g（5.8ミリモル）とメタノー
ル15ml,水1mlに炭酸カリウム2.61g（17.4ミリモル）を
加え、室温で３時間反応させた。溶媒を減圧留去した
後、１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジクロロメ
タンにより抽出した。次に水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留去した後、
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離精製し、
（3S）−（−）−（Ｚ）−4,4,4−トリフルオロ−３−
ヒドロキシ−１−フェニル−１−ブテンを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 実施例1A（ｄ）と同様の操作を行い、シクロプロパン
化し、（1S）−（−）−１−（シス−２−フェニルシク
ロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールを得
た。
化し、（1S）−（−）−１−（シス−２−フェニルシク
ロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールを得
た。
実施例3A （1R）−（＋）−１−（トランス−２−ヘキシルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 実施例1A（ａ）と同様の行い、1,1,1−トリフルオロ
−２−ヒドロキシ−３−デシンから（Ｅ）−1,1,1−ト
リフルオロ−２−ヒドロキシ−３−デセンを得た。
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 実施例1A（ａ）と同様の行い、1,1,1−トリフルオロ
−２−ヒドロキシ−３−デシンから（Ｅ）−1,1,1−ト
リフルオロ−２−ヒドロキシ−３−デセンを得た。
（ｂ）アシル化工程 実施例1A（ｂ）と同様の操作を行い、（Ｅ）−２−ア
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンを得た。
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンを得た。
（ｃ）加水分解工程 実施例1A（ｃ）と同様の操作を行い、（2R）−（＋）
−（Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−３
−デシンと（2S）−（Ｅ）−２−アセトキシ−1,1,1−
トリフルオロ−３−デセンとを得た。
−（Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−３
−デシンと（2S）−（Ｅ）−２−アセトキシ−1,1,1−
トリフルオロ−３−デセンとを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 （2R）−（＋）−（Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−２
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行った。
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行った。
得られた（1R）−（＋）−１−（トランス−２−ヘキ
シルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノー
ル物理的性質を以下に示す。
シルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノー
ル物理的性質を以下に示す。
分子量 224.271 H−NMR δ（ppm）0.72〜1.57（m,17H）,2.48（bs,1
H）,3.32（dq,J＝11.9,6.5Hz,1H）19 F−NMR ＋1.05（d,J＝6.2Hz） IR（cm-1） 3360,2900 実施例3B （1S）−（−）−１−（トランス−２−ヘキシルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 実施例3A（ｃ）で得た（2S）−（Ｅ）−２−アセトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンに実施例2B
（ｃ）の加水分解工程と同様の操作を行った。
H）,3.32（dq,J＝11.9,6.5Hz,1H）19 F−NMR ＋1.05（d,J＝6.2Hz） IR（cm-1） 3360,2900 実施例3B （1S）−（−）−１−（トランス−２−ヘキシルシクロ
プロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ｃ）加水分解工程 実施例3A（ｃ）で得た（2S）−（Ｅ）−２−アセトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンに実施例2B
（ｃ）の加水分解工程と同様の操作を行った。
（ｄ）シクロプロパン化工程 得られた（2R）−（−）−（Ｅ）−1,1,1−トリフル
オロ−２−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と
同様の操作を行い、（1S）−（−）−１−（トランス−
２−ヘキシルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロ
エタノールを得た。
オロ−２−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と
同様の操作を行い、（1S）−（−）−１−（トランス−
２−ヘキシルシクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロ
エタノールを得た。
実施例4A （1R）−（＋）−１−（シス−２−ヘキシルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 実施例2A（ａ）と同様の行い、1,1,1−トリフルオロ
−２−ヒドロキシ−３−デシンから（Ｚ）−1,1,1−ト
リフルオロ−２−ヒドロキシ−３−デセンを得た。
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 （ａ）還元工程 実施例2A（ａ）と同様の行い、1,1,1−トリフルオロ
−２−ヒドロキシ−３−デシンから（Ｚ）−1,1,1−ト
リフルオロ−２−ヒドロキシ−３−デセンを得た。
（ｂ）アシル化工程 実施例1A（ｂ）と同様の操作を行い、（Ｚ）−２−ア
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンを得た。
セトキシ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンを得た。
（ｃ）加水分解工程 実施例1A（ｃ）と同様の操作を行い、（2R）−（＋）
−（Ｚ）−1,1,1−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−３
−デゼンと（2S）−（Ｚ）−２−アセトキシ−1,1,1−
トリフルオロ−３−デセンとを得た。
−（Ｚ）−1,1,1−トリフルオロ−２−ヒドロキシ−３
−デゼンと（2S）−（Ｚ）−２−アセトキシ−1,1,1−
トリフルオロ−３−デセンとを得た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 （2R）−（＋）−（Ｚ）−1,1,1−トリフルオロ−２
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行った。
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行った。
得られた（1R）−（＋）−１−（シス−２−ヘキシル
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの
物理的性質を以下に示す。
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの
物理的性質を以下に示す。
分子量 224.271 H−NMR δ（ppm） 0.70〜1.89（m,17H）,2.28（bd,1
H）,3.52（dq,J＝13.1,6.3Hz,1H）19 F−NMR ＋1.07（d,J＝6.2Hz） IR（cm-1） 3370,2900 実施例4B （1S）−（−）−１−（シス−２−ヘキシルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 実施例4A（ｃ）で得た（2S）−（Ｚ）−２−アセトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンに上記実施例2B
（ｃ）と同様の操作を行った。
H）,3.52（dq,J＝13.1,6.3Hz,1H）19 F−NMR ＋1.07（d,J＝6.2Hz） IR（cm-1） 3370,2900 実施例4B （1S）−（−）−１−（シス−２−ヘキシルシクロプロ
ピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールの合成 実施例4A（ｃ）で得た（2S）−（Ｚ）−２−アセトキ
シ−1,1,1−トリフルオロ−３−デセンに上記実施例2B
（ｃ）と同様の操作を行った。
（ｄ）シクロプロパン化工程 （2S）−（−）−（Ｚ）−1,1,1−トリフルオロ−２
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行い、（1S）−（−）−１−（シス−２−ヘキシル
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールを
得た。
−ヒドロキシ−３−デセンに実施例1A（ｄ）と同様の操
作を行い、（1S）−（−）−１−（シス−２−ヘキシル
シクロプロピル）−2,2,2−トリフルオロエタノールを
得た。
実施例５ （＋）−（トランス−２−トリフルオロメチルシクロプ
ロピル）フェニルメタノールの合成 （ｂ）アシル化工程 （Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４
−フェニル−２−ブテン3.00g（14.8ミリモル）とピリ
ジン1.8ml（22.2ミリモル）のジクロロメタン溶液（10m
l）を氷浴で撹拌し、イソブチリルクロライド2.3ml（2
2.2ミリモル）を５分間で滴下し、室温で２時間反応さ
せた。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジ
クロロメタンにより抽出した。次に、水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離
精製した。
ロピル）フェニルメタノールの合成 （ｂ）アシル化工程 （Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４
−フェニル−２−ブテン3.00g（14.8ミリモル）とピリ
ジン1.8ml（22.2ミリモル）のジクロロメタン溶液（10m
l）を氷浴で撹拌し、イソブチリルクロライド2.3ml（2
2.2ミリモル）を５分間で滴下し、室温で２時間反応さ
せた。これに１規定の塩酸を加えて反応を停止させ、ジ
クロロメタンにより抽出した。次に、水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。ジクロロメタンを減圧留
去した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで分離
精製した。
（ｃ）加水分解工程 実施例1A（ｃ）と同様の操作を行い、（＋）−（Ｅ）
−1,1,1−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４−フェニ
ル−２−ブテンと（Ｅ）−４−イソブチリルオキシ−1,
1,1−トリフルオロ−４−フェニル−２−ブテンとを得
た。
−1,1,1−トリフルオロ−４−ヒドロキシ−４−フェニ
ル−２−ブテンと（Ｅ）−４−イソブチリルオキシ−1,
1,1−トリフルオロ−４−フェニル−２−ブテンとを得
た。
（ｄ）シクロプロパン化工程 （＋）−（Ｅ）−1,1,1−トリフルオロ−４−ヒドロ
キシ−４−フェニル−２−ブテンに実施例１（ｄ）と同
様の操作を行った。
キシ−４−フェニル−２−ブテンに実施例１（ｄ）と同
様の操作を行った。
得られた（＋）−（トランス−２−トリフルオロメチ
ルシクロプロピル）フェニルメタノールの物理的性質を
以下に示す。
ルシクロプロピル）フェニルメタノールの物理的性質を
以下に示す。
分子量 216.201 H−NMR δ（ppm） 0.78〜1.09（m,2H）,1.36〜1.77
（m,2H）,1.92（ds,1H）,4.59（d,J＝4.2Hz,1H）,7.24
〜7.49（m,5H）19 F−NMR −10.67（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3330 次表に各実施例で得たものの光学純度〔％e.e〕，比
旋光度〔α〕D,収率（％）をまとめて示す。
（m,2H）,1.92（ds,1H）,4.59（d,J＝4.2Hz,1H）,7.24
〜7.49（m,5H）19 F−NMR −10.67（d,J＝6.8Hz） IR（cm-1） 3330 次表に各実施例で得たものの光学純度〔％e.e〕，比
旋光度〔α〕D,収率（％）をまとめて示す。
〔発明の効果〕 以上述べたように、本発明る係る光学活性な含フッ素
α−ヒドロキシシクロプロパン化合物は、著しく高い光
学純度を有し、液晶を始め各種の医薬品等、あるいはそ
の中間体などとして幅広くかつ有効な利用が期待され
る。
α−ヒドロキシシクロプロパン化合物は、著しく高い光
学純度を有し、液晶を始め各種の医薬品等、あるいはそ
の中間体などとして幅広くかつ有効な利用が期待され
る。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 （式中、R1,R2はそれぞれ炭素原子数１〜２のフッ素置
換アルキル基，炭素原子数１〜10のアルキル基，炭素原
子数７〜10のアラルキル基あいは炭素原子数６〜10のア
リール基を示す。ただし、R1及びR2の少なくとも一方は
炭素原子数１〜２のフッ素置換アルキル基を示す。） で表わされることを特徴とする光学活性な含フッ素α−
ヒドロキシシクロプロパン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20022988A JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20022988A JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0249742A JPH0249742A (ja) | 1990-02-20 |
| JP2642959B2 true JP2642959B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=16420960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20022988A Expired - Fee Related JP2642959B2 (ja) | 1988-08-12 | 1988-08-12 | 光学活性な含フッ素α−ヒドロキシシクロプロパン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2642959B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6096908A (en) * | 1992-01-31 | 2000-08-01 | Kashima Oil Company | Optically active fluorinated compounds |
| KR100335134B1 (ko) * | 1995-01-21 | 2002-10-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 시클로프로판화합물및그제조방법과이를이용한액정화합물 |
| JP6438441B2 (ja) | 2016-08-04 | 2018-12-12 | ファナック株式会社 | エンコーダの信号処理装置、エンコーダ、信号処理方法及びプログラム |
-
1988
- 1988-08-12 JP JP20022988A patent/JP2642959B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0249742A (ja) | 1990-02-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |