JP2640276B2

JP2640276B2 - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2640276B2
Application number: JP1198677A
Authority: JP
Inventors: 晃鎌田; 毅角田; 信郎日比野
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1989-07-31
Filing date: 1989-07-31
Publication date: 1997-08-13
Anticipated expiration: 2012-08-13
Also published as: JPH0363928A; US4997696A

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明は、磁気記録媒体、特に電磁変換特性を著しく
改良した磁気記録媒体に関する。

（従来の技術）近年磁気記録媒体は高密度記録が要求され、高度の電
磁変換特性が要求されると共に、走行性も満足すること
が必要であった。良好な電磁変換特性を得るために従来
より平坦な磁性層面が検討され、カレンダー処理工程が
採用されてきた。又走行性を改良するためにバック層に
フィラーを混入して適度な粗さにすることが行われてき
た。

ところが最近のＳ−VHSビデオテープに代表される微
粒子の強磁性粉末を採用したビデオテープにおいては、
更なる高密度記録のための表面設計が要求されており、
磁気ヘッドとのスペーシングロスを極力小さくしなけれ
ばならない。すなわち従来の1/2″用ベースフィルムで
は粗すぎて電磁変換特性が悪くなってしまう。

これを解決するためには、１つの方法として、表裏と
も平坦面（触針式粗さ計でのRaが0.005μｍ以下）であ
るベースを使い、磁性層（以下マグネ層ということもあ
る）・バック層の処方で望みの表面粗さを有した磁気テ
ープとする方法があり、これに対応して製造できるベー
スフィルムとしては、特開昭62−130848号に示されてい
るものがある。しかし、このベースフィルムは製膜工程
における巻取部でシワやキズを発生させる比率が高く、
ベースフィルムの製造得率を著しく下げ、コストを５〜
10倍（対1/2インチ用ベース）にしてしまうものであ
る。

また別の方法として特開昭62−248131号には、表裏の
表面粗さが違う、いわゆるデュアルサーフェスベースフ
ィルムで本課題を解決しようとする方法が記されている
が、バック層側に使用するベースフィルム面の表面粗さ
が粗すぎるために、磁性層面への形状転写が巻取保存時
におこり、電特を下げてしまうことがわかった。

このようにビデオテープの高C/N化を磁性層表面性を
向上させる事により実現する方策が種々と行われてきた
が、使用ベースフィルムの表面性向上は、単にその表面
粗さのRa値（中心線平均表面粗さ;JIS B0601）の最小
化ということにのみ着眼されてきた傾向が強かった。使
用ベースフィルムのRa値をより小さい方向にすれば、磁
気テープの出力は向上するが、その分使用ベース製造工
程のハンドリングが悪化して大幅な得率ダウンによるコ
ストアップが避けられない。つまり、使用ベースフィル
ムの表面粗さの最適化という問題は容易ではなく、現在
の市販磁気テープでは特に高C/N化を要求されている品
種において十分達成されているとは言えない。ここにお
いて言う高C/N化を要求されている品種とは、Ｓ−VHS規
格の様にハイバンド化された品種のことを指す。

従来塗布型磁気テープ用市販非磁性支持体用フィルム
はその表面粗さが光波干渉式三次元粗さ計で250μｍ角
のエリアを測定して10点平均突起高さ（P₁₀）を測定し
たところ両面ともP₁₀≧38nm以上であった。

この様なベースフィルムを用いるとマグネ層表面に
も、ベース表面突起形状がかなり残ってきてその凹凸
が、磁気ヘッドと磁気テープのスペーシングロスを増大
させ高S/N化が不可能となる。

一方蒸着用ベースフィルムは例外的にP₁₀が低く、１
〜10nm程度であり、これを使用して1/2インチ磁気テー
プを作成してもＳ−VHS用ビデオテープとして高C/Nのも
のを実現できるが、ベースフィルムの巻取得率が非常に
悪く、また磁性層塗布工程においてもスクラッチを発生
して性能や得率をダウンしやすいため、最終目的物であ
る磁気テープの製造コストが高くなってしまう。

このように磁気テープ製造コストを上昇させることな
く、高C/N化でき、Ｓ−VHS用としても使えるベースフィ
ルムが求められた。

（発明の目的）すなわち本発明の目的は磁気テープ製造コストを上昇
させることなく、電磁変換特性、特に高出力と高C/Nの
磁気記録媒体を提供することにある。更に本発明の目的
はハイバンド、Ｓ−VHS用磁気テープに適した磁気記録
媒体を提供することにある。

（発明の構成）本発明の上記目的は、非磁性支持体上に強磁性酸化鉄
粉末を結合剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒
体において、前記非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉
式三次元表面粗さのP₁₀が15〜35nmであり、Rmax/P₁₀が
2.8以下であり、磁性層面側と反対の面のP₁₀も15〜35nm
であることを特徴とする磁気記録媒体によって達成でき
る。

すなわち、本発明はP₁₀が15〜35nmという適度な平滑
ベースを用い、かつRmaxも大きくない均一なベースフィ
ルムを用いることにより、磁気テープ製造コストを上昇
させることなく、高C/N、高出力を達成した磁気記録媒
体である。

更に好ましくは本発明の上記目的は、前記強磁性酸化
鉄粉末がCo含有酸化鉄粉末で保磁力Hcが850Oe〜1200Oe
結晶子サイズが200〜400Åの強磁性粉末であることを特
徴とする磁気記録媒体によって達成することができる。

すなわち本発明はハイバンドＳ−HVS用磁気テープに
好適な高Hc、微粒子のCo含有酸化鉄を組合わせて用いる
ことにより高出力、高C/Nが得られ、かつ製造コストを
上昇させることがない磁気記録媒体を提供するものであ
る。

本発明においてP₁₀とRmaxは光波干渉式三次元粗さ計
により測定されたものである。

尚測定面積は0.25mm角＝0.06mm²である。

光波干渉式次元粗さ計は、USAアリゾナ州立大のWYANT
教授によって提唱され、WYKO社の名によって米国特許US
4639139として開示されている測定原理に基づくもので
ある。アウトプット形式としては、JIS−B0601に表され
ている様な、表面粗さ曲線が基本であるが、三次元的に
微小面積内の表面座標情報を鳥観図（第１図）として出
力できる。尚、JIS−B0601に示されている様に、表面粗
さを定量化しようとすれば、必ず、規定長さ内の形状全
体にわたる傾斜・うねり等を除去しなければならない。
光波干渉計の情報は直接の画像情報には、この傾斜・う
ねりが含まれてしまうため、画像からの座標情報に下記
の３つの補正を加えて、250μｍ角内の傾斜・うねりを
排除した。

（１）傾斜補正ある平面を想定した際に、その平面と原信号座標の偏
差の二乗平均平方根（RMS）が最小となる様な平面を算
出し、その平面の座標分を各点の原信号座標から引く。
これを第１補正座標と呼ぶ。

（２）球面補正第１補正座標に対し、ある球面を想定し、その球面と
第１補正座標の偏差のRMSが最小となる様な球面を算出
し、その球面の座標分を第１補正座標から引く。これを
第１補正座標と呼ぶ。

（３）円筒補正第２補正座標に対し、中心面（前点の相加平均レベ
ル）に平行な中心軸をもつ円筒面を想定し、その円筒面
と第２補正座標の偏差のRMSが最小となる様な円筒面を
算出し、その円筒面の座標分を第２補正座標から引く。
これを第３補正座標と呼ぶ。

Rmax:第３補正座標のＺ軸（高さ）方向における最大値
と最小値の間隔をいう。

P₁₀:第３補正座標により描き出された表面形状において
凸状の部分の山頂のＺ座標で、値の大きいもの10点の平
均値である。但し、Ｚ座標において中心面を０とした。

本発明において、特に光波干渉式三次元表面粗さの規
定を設けた理由は触針式表面粗さ計では、本件の様な微
妙な表面粗さを記述する事が不可能であるからである。
このことは、特願平１−123696からも明らかである。

本発明に使用される非磁性支持体はポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート等のポ
リエステル類；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリ
オレフィン類；セルローストリアセテート、セルロース
ダイアセテート、セルロースアセテートブチレート、セ
ルロースアセテートプロピオネート等のセルロース誘導
体；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル計
樹脂；ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド等のプラスチックの他に用途に応じてアルミニウム、
銅、スズ、亜鉛またはこれらを含む非磁性合金、不銹銅
などの非磁性金属類；紙、バライタまたはポリエチレ
ン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重合体などの
炭素数２〜10のα−ポリオレフィン類を塗布またはラミ
ネートした紙などである。

最も好ましい非磁性支持体は、上述にあるプラスチッ
クフィルムに不活性無機粒子、或いは有機粒子の類を含
有させて表裏の表面粗さを所定の範囲に調整したもので
ある。

これら有機、無機の添加粒子として好ましいものは微
細な球状の粒子である。この中で比較的大きな粒子のも
のと、比較的小さな粒子のものを用いることが好まし
い。大きな粒子のものは巻き特性をもたせるために必要
であり、小さな粒子のものは易滑性を持たせるのに必要
である。

上述の不活性無機粒子の例としては、無機粉体もしく
は研磨剤と称さるもので、成分を挙げると、α−アルミ
ナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、リン化鉄、炭化チタン、窒化チタン、α−と
β−酸化ケイ素、アルミニウム、蓚酸カルシウム、鉄、
α−酸化第１鉄、亜鉛、二酸化亜鉛、酸化第２ニッケ
ル、ニケル、銅、クロミア、水酸化マグネシウム、ジル
コニア、イットリア、セリア、ジルコン、酸化アンチモ
ンなどがある。

有機微粒子としては、ベンゾグアナミンホルムアルデ
ヒド、ポリテトラフルオロエチレンのように有機マット
材として市販されているものが使用できる。これら粒子
の平均粒径は0.001〜３μ、好ましくは0.01〜0.5μｍで
あることが好ましい。

尚、前述のように粗大突起密度を低減するには、上記
の粒子添加後、多段フィルターにより濾過して除去する
こともできるが、もともとの添加粒子粉体自身に粗大粒
子が存在しない方が好ましい。その点からみて、α−と
β−酸化ケイ素或いは有機微粒子が最も好ましい。添加
量としては粒径0.1〜１μのものを0.01〜1.0重量％、粒
径0.3〜5.0μのものを0.005〜1.0重量％という２成分系
が最も好ましい。

このような条件を選定することにより、本発明の磁性
層面及び反対面側の光波干渉式三次元表面粗さのP₁₀が1
5〜35nmであり、好ましくは20〜30nmであり、かつRmax/
P₁₀が1.1〜2.8である非磁性支持体が得られる。P₁₀が15
nm未満であるとフィルム−フィルム間の滑り性が悪くな
り、巻得率が70％に満たなくなる。その結果ベースフィ
ルムの製造コストが高くなってしまう。P₁₀が35nmより
大であると磁性層表面が粗くなり、C/Nが低くなってし
まう。一方Rmax/P₁₀が2.8より大であると、250μｍ角に
１個〜２個程度の大きな突起が存在することになり、P
₁₀としては15〜35nmの値であってもC/Nは低くなってし
まう。

本発明に使用される強磁性酸化鉄粉末はCo含有（被
着、ドープ、固溶を含む）酸化鉄粉末であることが好ま
しい。例えば“Co含有γ−Fe₂O₃、Co含有Fe₂O₄、Co含有
FeOx（1.3＜Ｘ＜1.5）等が好ましい。強磁性粉末の特性
としては保磁力Hcが磁性層で850Oe〜1200Oe、好ましく
は850Oe〜1000Oeである。850Oeより小さいと7MHzの出力
が低くなる。又1200Oeより大であると記録が十分できな
くなり、又消去もしにくくなる。又結晶子サイズとして
は200〜400Åが好ましい。200Å未満であると強磁性粉
末の分散性が悪くなり、磁性層表面が粗れてきて、7MHz
の出力が低下してしまう。又400Åより大であるとノイ
ズが高くなってくる。

Co量は１〜10重量％が好ましく、特に３〜７重量％が
好ましい。

本発明の磁気記録媒体を得るためにはこのように高H
c、高微粒子で高充填の強磁性粉末であることが好まし
い。高充填すなわち最大磁束密度Bmが1600ガウス以上で
あることが好ましい。このような強磁性酸化鉄粉末と前
記非磁性支持体とを組合わせて用いることにより、顕著
に高出力、高C/Nが達成でき、製造コストも上昇せずＳ
−VHS用として好適な磁気テープが得られる。

本発明に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が
使用される。

熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃以下、平均分
子量が10,000〜300,000、重合℃が約50〜1,000程度のも
ので、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アクリロニト
リル共重合体、アクリル酸エステル・アクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステル・塩化ビニリデン共重合
体、アクリル酸エステル・スチレン共重合体、メタクリ
ル酸エステル・アクリロニトリル共重合体、メタクリル
酸エステル・塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エ
ステル・スチレン共重合体、ウレタンエラストマー、ナ
イロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミ
ド樹脂、ポリ弗化ビニル、塩化ビニリデン・アクリロニ
トリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合
体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体（セルロースアセテートブチレート、セルロー
スダイアセテート、セルローストリアセテート、セルロ
ースプロピオネート、ニトロセルロース等）、スチレン
ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニル
エーテルアクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各
種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が
使用される。

さらに熱可塑性樹脂として好ましいものとして側鎖に
下記一般式 −SO₃M、−OSO₂M、−OSO₃M、−COOM、および（式中、ＭはＨ、Li、NaまたはＫを表わす）で表わされる極性基からなる群から選ばれた極性基を有
する樹脂、特に塩化ビニル系共重合体を使用するとその
効果が顕著に表われる。

熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態で
は200,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に加熱す
ることにより、縮合、付加等の反応により分子量は無限
大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹脂が熱
分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好まし
い。具体的には例えばフエノール樹脂、エポキシ樹脂、
ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッド樹脂、シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エ
ポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹
脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポ
リマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシア
ネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオール
とポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒ
ド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／トリ
フエニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリアミ
ン樹脂及びこれらの混合物等である。

これらの結合剤の単独又は組合わされたものが使わ
れ、ほかに添加剤が加えられる。強磁性粉末と結合剤と
の混合割合は重量比で強磁性粉末100重量部に対して結
合剤５〜300重量部の範囲で使用される。

添加剤は分散剤、潤滑剤、研磨剤等が加えられる。

本発明にもちいるポリイソシアネートとしては、トリ
レンジイソシアネート、4,4′−ジフエニルメタンジイ
ソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシ
リレンジイソシアネート、ナフチレン−1,5−ジイソシ
アネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、トリフエニルメタントリイソシア
ネート等のイソシアネート類、又当該イソシアネート類
とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート類の縮
合に依って生成したポリイソシアネート等を使用するこ
とができる。これらポリイソシアネート類の市販されて
いる商品名としては、コロネートＬ、コロネートHL、コ
ロネート2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミリ
オネートMTL（日本ポリウレタン（株）製）、タケネー
トＤ−102、タケネートＤ−110N、タケネートＤ−200、
タケネートＤ−202（武田薬品（株）製）、デスモジュ
ールＬ、デスモジュールIL、デスモジュールN,デスモジ
ュールHL（住友バイエル社製）等があり、これらを単独
若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若しくはそれ以
上の組み合わせによって使用することができる。

本発明に使用する分散剤としては、カプリル酸、カプ
リン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、
リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数10〜22個の脂肪
酸（R₁COOH、R₁は炭素数９〜21個のアルキル基）、前記
の脂肪酸のアルカリ金属（Li、Na、Ｋ等）またはアルカ
リ土類金属（Mg、Ca、Ba等）、Cu、Pd等から成る金属石
鹸；レシチン等が使用される。この他に炭素数10以上の
高級アルコール、及びこれらの硫酸エステル、燐酸エス
テル等も使用可能である。これらの分散剤は結合剤100
重量部に対して0.05〜20重量部の範囲で添加される。こ
れら分散剤の使用方法は、強磁性粉末や非磁性微粉末の
表面に予め被着させても良く、また分散途中で添加して
もよい。

本発明に使用される潤滑剤としては、シリコンオイ
ル、グラファィト、二硫化モリブデン、窒化硼素、弗化
黒鉛、弗素アルコール、ポリオレフィン（ポリエチレン
ワックス等）、ポリグリコール（ポリエチレンオキシド
ワックス等）、アルキル燐酸エステル、ポリフエニルエ
ーテル、二硫化タングステン、炭素数10〜20の一塩基性
脂肪酸と炭素数３〜12個の一価のアルコールもしくは二
価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコー
ル、六価のアルコールのいずれか１つもしくは２つ以上
とから成る脂肪酸エステル類、炭素数10個以上の一塩基
性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が11〜28
個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸エステ
ル類等が使用できる。又、炭素数８〜22の脂肪酸或いは
脂肪酸アミド、脂肪族アルコールも使用できる。これら
有機化合物潤滑剤の具体的な例としては、カプリル酸ブ
チル、カプリル酸オクチル、ラウリン酸エチル、ラウリ
ン酸ブチル、ラウリン酸オクチル、ミリスチン酸エチ
ル、ミリスチン酸ブチル、ミリスチン酸オクチル、パル
ミチン酸エチル、パルミチン酸ブチル、パルミチン酸オ
クチル、ステアリン酸エチル、ステアリン酸ブチル、ス
テアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、アンヒドロ
ソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジ
ステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレー
ト、アンヒドロソルビタンテトラステアレート、オレイ
ルアルコール、ラウリルアルコール等がある。また本発
明に使用される潤滑剤としては所謂潤滑油添加剤も単独
で使用出来、酸化防止剤（アルキルフエノール等）、錆
どめ剤（ナフテン酸、アルケニルコハク酸、ジラウリル
フォスフエード等）、油性剤（ナタネ油、ラウリルアル
コール等）、極圧剤（ジベンジルスルフィド、トリクレ
ジルフォスフエート、トリブチルホスファイト等）、清
浄分散剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡どめ剤等
がある。これらの潤滑剤は結合剤100重量部に対して0.0
5〜20重量部の範囲で添加される。

本発明に用いる帯電防止剤としてはグラファイト、カ
ーボンブラック、カーボンブラックグラフトポリマー等
の導電性粉末；サポニン等の天然界面活性剤；アルキレ
ンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、多価
アルコール、多価アルコールエーテル、アルキルフエノ
ールEO付加体等のノニオン界面活性剤；高級アルキルア
ミン類、環状アミン、ヒダントイン誘導体、アミドアミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ピリジ
ンそのほかの複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウ
ム類、等のカチオン界面活性剤；カルボン酸、スルホン
酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基などの酸性
基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスル
ホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等が使用さ
れる。

本発明に使用されるカーボンブラックはゴム用ファー
ネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレン
ブラック等を用いる事ができる。これらカーボンブラッ
クの米国における省略の具体例を示すとSAF、ISAF、IIS
AF、Ｔ、HAF、SPF、FF、FEF、HMF、GPF、APF、SRF、MP
F、ECF、SCF、CF、FT、MT、HCC、HCF、MCF、LFF、RCF等
があり、米国のASTM規格のＤ−1765−82aに分類されて
いるものを使用することができる。本発明に使用される
これらカーボンブラックの平均粒子サイズは10〜1000ミ
リミクロン（電子顕微鏡）、窒素吸着法比表面積は１〜
800m²/g、pHは６〜11（JIS規格Ｋ−6221−1982法）、DB
P吸油量は10〜400ml/100g（JIS規格Ｋ−6221−1982法）
である。本発明に使用されるカーボンブラックのサイズ
は、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で10〜100ミリ
ミクロンのカーボンブラックを、また塗布膜の強度を制
御するときに50〜1000ミリミクロンのカーボンブラック
を用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスペ
ーシングロス減少のための平滑化のためにより微粒子の
カーボンブラック（100ミリミクロン以下）を、粗面化
して摩擦係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック
（50ミリミクロン以上）を用いる。このようにカーボン
ブラックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目
的に応じて使い分けられる。また、これらのカーボンブ
ラックを、後述の分散剤などで表面処理したり、樹脂で
グラフト化して使用してもよい。また、カーボンブラッ
クを製造するときの炉の温度を2000℃以上で処理して表
面の一部をグラファイト化したものも使用できる。ま
た、特殊なカーボンブラックとして中空カーボンブラッ
クを使用することもできる。これらのカーボンブラック
は磁性層の場合、強磁性粉末100重量部に対して0.1〜20
重量部で用いることが望ましい。

本発明に使用できるカーボンブラックは例えば「カー
ボンブラック便覧」、カーボンブラック協会編（昭和46
年発行）を参考にすることが出来る。

本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒と
しては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロ
ン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メタノール、エ
タノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサ
ノールなどのアルコール系；酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸
エチル、酢酸グリコール、モノエチルエーテル等のエス
テル系；エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリ
コールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコー
ルエーテル系；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾ
ール、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系（芳香
族炭化水素）；メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭酸、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N,N−ジメ
チルホルムアルデヒド、ヘキサン等のものが使用でき
る。

混練の方法には特に制限はなく、また各成分の添加順
序などは適宜設定することができる。磁性塗料の調製に
は通常の混練機、例えば、二本ロールミル、三本ロール
ミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグ
ラインダー、Szegvariアトライター、高速インペラー、
分散機、高速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパ
ー、ニーダー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニ
ーダー、インテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダ
ー、ディスパーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー
押し出し機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分
散機などを用いることができる混練分散に関する技術の
詳細は、T.C.PATTON著“Paint Flow and Pigment Dispe
rsion"（1964年John Wiley＆Sons社発行）や田中信一著
「工業材料」25巻37（1977）などに記載されている。ま
た、米国特許第2,581,414号及び同第2,855,156号などの
明細書にも記載がある。本発明においても上記の文献な
どに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料を
調製することができる。

磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機
溶媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥す
る。テープとして使用する場合には支持体の厚み2.5〜1
00ミクロン程度、好ましくは３〜70ミクロン程度が良
い。

これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理、
プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属蒸
着処理、アルカリ処理を行ってもよい。これら支持体に
関しては例えば***特許3,338,854A、特開昭59−116926
号、米国特許第4,388,368号；三石幸夫著「繊維と工
業」31巻p50〜55、1975年などに記載されている。

支持体上へ前記の磁性層を塗布する方法としてはエア
ードクターコート、ブレードコート、エアナイフコー
ト、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコー
ト、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キ
スコート、キャストコート、スプレイコート等が利用出
来、その他の方法も可能であり、これらの具体的説明は
朝倉書店発行の「コーティング工学」253頁〜277頁（昭
和46年３月20日発行）に詳細に記載されている。

このような方法により、支持体上に塗布された磁性層
は必要により層中の強磁性粉末を直ちに乾燥しながら配
向させる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥す
る。このときの支持体の搬送速度は、通常10m/分〜500m
/分で行われ、乾燥温度が20℃〜120℃で制御される。又
必要によりカレンダー処理等の表面平滑化加工を施した
り、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録媒
体を製造する。

（発明の効果）本発明により、特にＳ−VHS規格において高出力、高C
/Nを実現する磁気テープを、製造コストを上げることな
く生産できる。その理由は、まず使用するベースフィル
ムであり、光波干渉式三次元表面粗さのP₁₀を15〜35nm
に均一に調整することで、製造得率を落さず、しかも磁
性層表面に粗すことがないため表面性の優れた磁気テー
プを安価に生産できる。そして、使用する強磁性粉末と
して、保磁力Hcが850〜1200Oe結晶子サイズが200〜400
Åの磁磁性Co含有酸化鉄を用いることで、Ｓ−VHSシス
テムにおいて高出力でしかもノイズの少ない磁性層が製
作できるものである。

〔実施例〕

次に実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。

尚、実施例中の「部」との表示は「重量部」を示すも
のとする。

実施例（１）下記に示す組成の磁性塗料を調整して厚さ13μｍのポ
リエチレンテレフタレートベースフィルム上に各々塗布
し、カレンダー処理後スリットして1/2"ビデオテープサ
ンプルNo.1〜19を得た。

＜磁性塗料＞ Co含有強磁性粉末（針状比＝８） 300部リン酸基含有塩化ビニル共重合体 30部ポリウレタン樹脂 20部ポリイソシアネート 10部カーボンブラック８部研磨剤（α−Al₂O₃）５部レシチン３部ラウリン酸３部オレイン酸３部酢酸ブチル 100部メチルエチルケトン 150部尚、各サンプルは表に示す通り強磁性粉末とベースフ
ィルムの特性に差を付けてある。

得られた磁気記録媒体について、再生RF出力及びC/N
について調べた。

再生RF出力について市販のＳ−VHSデッキにフエライ
トヘッドを使用して、記録波長0.83μｍにおける再生RF
出力（つまり7MHzの出力）を測定した。C/Nについては
上記再生RF出力に対するノイズとの比を測定した。

尚、再生出力及びC/Nは富士写真フイルム（株）性ス
ーパーXG−Ｔ−120の再生出力を0dBとしたときの相対値
である。ここでＳ−VHS用テープとしては7MHzにおけるC
/Nが＋2.2dB以上が実用可能レベルである。

使用ベース特性評価は下記の方法で行った。

製造得率：各実施例におけるベースフィルムを製膜し
た次の得率製膜機から直接巻取られるベースフィルムロールは、
幅約5m、長さ約10000mである。これを磁気テープ製造工
程に流す際には前もって1m幅×10000m長にスリットする
が、その工程において巻取形状不良のために得率が低下
する。ここにおいて定義する得率とはこのスリット工程
における得率を指す。

光波干渉式三次元表面粗さ（Rmax,P₁₀） WYKO社（U.S.A.アリゾナ州）製，光波干渉式三次元粗
さ計商標「TOPO−3D」を用い、250μｍ角の表面粗さを
測定（対物レンズ40x）して最大高さから最低深さまで
の間隔をRmax（nm）とした。

更にこの表面粗さを形状情報を元に、高い突起から順
に10点の突起の中心面（全点の平均高さ）からの高さを
抽出し相加平均として10点平均突起高さP₁₀（nm）とし
た。

サンプルNo.2〜６、８〜10、12〜17が本発明の範囲内
の磁気テープであるが表に示すとおり、高C/N（λ＝0.8
3μｍにおいて2.4dB以上）を出している。これに対し、
非磁性支持体マグネ面側のP₁₀が本特許請求範囲より大
きくなっているNo.7ではC/Nがあまり高くない。また前
記P₁₀が本特許請求範囲より小さくなっているNo.1で
は、高C/Nは実現できているがベース製造得率が悪く、
これでは磁気テープ製造コストが大幅に上がってしま
う。また前記P₁₀は本特許請求範囲内であるがRmaxが該
範囲外であるNo.11ではやはり高C/Nが実現できていな
い。また非磁性支持体バック面側のP₁₀が本特許請求範
囲より大きくなっているNo.18、19ではバック面粗さの
磁性層面への転写の影響が大きくなってやはり高C/Nが
実現できていない。

以上のことから、本特許請求範囲が示す様なP₁₀とRma
xを有するベースフィルムを使って作成した磁気テープ
においては製造コストを上げることなく、高C/Nが実現
できることがわかる。この効果は特にＳ−VHS規格にお
いて著しいものがあるが通常のVHS、βなど各規格にお
いても同様な効果は期待できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は光波干渉式三次元粗さ計により測定した表面粗
さを三次元的に微少面積内の表面座標情報として出力し
た鳥観図である。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に強磁性酸化鉄粉末を結合
剤中に分散させた磁性層を設けた磁気記録媒体におい
て、前記非磁性支持体の磁性層面側の光波干渉式三次元
表面粗さのP₁₀が15〜35nmであり、Rmax/P₁₀が2.8以下で
あり、磁性層面側と反対の面のP₁₀も15〜35nmであるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】前記強磁性酸化鉄粉末がCo含有酸化鉄粉末
で保磁力Hcが850Oe〜1200Oe結晶子サイズが200〜400Å
の強磁性粉末であることを特徴とする請求項（１）の磁
気記録媒体。