JP2630344B2 - 多色表面物品の製造方法 - Google Patents
多色表面物品の製造方法Info
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Description
調が異なり、視覚的に区別できる少なくとも2種類の被
膜を形成してなる多色表面物品及びその製造方法に関
し、具体的には、装飾品、スポーツ用品、工具又は各種
部品に装飾溶又は表示用の多色表面物品の製造方法に関
する。
の基材の表面を鏡面研磨することが、時計ケース、バン
ド、文字板などの装飾部品に用いられている。しかし、
この方法によっては、基材そのものの色彩に頼るために
単調となり、装飾的価値は制約される。また、これにエ
ッチングなどの手段によって刻印・刻字しても、鮮明な
ものが得られない。
(CVD)法や物理蒸着(PVD)法のようなドライプレーテ
ィング法;又は陽極酸化処理、電解メッキ、無電解メッ
キなどのウェットプレーティング法により、金色、銀
色、黒色などを組み合わせた複数の色相を呈する被膜を
形成してなる装飾部品に関する提案が、多数なされてい
る。これらの多色装飾部品に関する代表的な提案は、特
開昭58−100682号公報及び特開昭64−75659号公報に開
示されている。
58−100682号公報には、低炭素オーステナイト系ステン
レス鋼の表面にAl2O3とTiO2からなる溶射材料を0.1〜1m
mの厚みに溶射した後、ラッピング加工によって鏡面状
態にし、残りのステンレス部分に金メッキ又はTiNコー
ティングする時計用外装部品の製造方法が開示されてい
る。しかし、この方法による時計用外装部品は、溶射の
際の加熱及び冷却によりステンレス鋼と溶射被膜との間
に歪を生じ、溶射被膜面に微小クラックが入って美的効
果が低下することと、マスキングと溶射によっては細い
線模様を形成できないために模様の形状に制約があるこ
と、さらに金メッキの場合には金の被膜が容易に剥離す
るという問題がある。
ンプレーティング処理により硬質色層を形成した後、こ
の硬質色層の任意の部分をマスキングし、次いでイオン
プレーティング処理によって該硬質色層とは異なった色
の層を形成する多色硬質膜の製造方法が開示されてい
る。しかし、この方法によって得られる多色硬質膜物品
は、微細な模様を形成するのが困難であるうえ、AuやPt
などの貴金属を形成しても、容易に剥離して実用化でき
ないという問題がある。
面にイオンプレーティングによって有色被膜を形成した
後、レーザー加工により被膜の一部を除去し、金属を露
出させる金属表面の多色化法が開示されている。しか
し、この方法によって得られる多色物品は、被膜の材質
や色彩が制限されること、とくにAuやPtなどの貴金属の
被膜を形成する場合には、貴金属による微細な模様の形
成が困難であること、基材との密着性が悪く、容易に剥
離して実用化できないことという問題点がある。
本的には、基材の少なくとも一面の全部又は一部分にAu
やPtのような貴金属ないしCu系金属の被膜を密着性よく
被膜してなる貴金属色ないしCu系金属色の線部と、これ
とは異なる色彩及び/又は色調を有し、視覚的に区別で
きる面部とを形成して、この複数の色によって微細な模
様や文字・記号を構成することを可能にするとともに、
被膜の密着力を高めた実用性のある多色表面物品の製造
方法の提供を目的とするものである。
工程をその順序に経て、基材の表面の全部又は一部分
に、多色表面を有する物品を製造する方法に関する。
期率表4a、5a、6a族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物及
び窒酸化物;Al、Siの酸化物、炭化物及び窒化物;これ
らの相互固溶体;及び硬質カーボンの中の少なくとも1
種の単層膜もしくは複層膜からなる第1被膜を形成する
工程; (b)該第1被膜の表面にレーザーを照射して、0.1μ
m〜2mmの幅の線部を形成する工程; (c)該線部及び残存する第1被膜の面部上にウェット
プレーティング法により、Cu、Ag、Au、Pt、Ir、Os、P
d、Rh、Ru及びこれらを含有する合金の中の少なくとも
1種の単層膜もしくは複層膜からなる第2被膜を形成す
る工程;及び (d)残存する第1被膜の面部上の第2被膜のみを剥
離、除去する工程。
に適したものであれば何でもよく、特に限定されない
が、例えば軟鋼、ニッケル、ステンレス鋼、高速度鋼、
Cr−Al−Ni合金、黄銅、青銅などの金属材料;ガラス、
セラミックス、人工サファイアなどの無機材料;サーメ
ット、超硬合金のような無機材料と金属の複合体;及び
FRPのような無機材料と有機材料の複合体が例示され
る。用途的には、装飾品、工具、銘板などの材料に適し
たものが好ましい。
単層膜又は複数の膜として形成する。
r、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Co、Ni、Zn、Snのよ
うな金属;これらの金属の少なくとも1種を含有する合
金;TiC、ZrC、HfC、NbC、TaC、Cr3C2、MoC、WC、W2Cの
ような4a、5a、6a族金属の炭化物;TiN、ZrN、HfN、VN、
NbN、TaNのような4a、5a、6a族金属の窒化物;及びTi
(C・O)、Ti(N・O)、Zr(C・O)、Zr(N・
O)のような上記範囲の金属の炭酸化物及び窒酸化物が
挙げられる。
らの少なくとも1種を含有する合金も、第2被膜として
実際に使用されるものと相異なり、また異なる色彩及び
/又は色調を呈するものであれば、第1被膜として用い
ても差支えない。
は、該合金が2成分系の場合又は多成分系の場合でも、
第2被膜と第1被膜との親和性の低い合金であれば特に
制限を受けない。
ひとつの群は、遷移金属元素であるAl、及びSiの化合物
のうちAl2O3、SiO2のような酸化物;SiCのような炭化物;
AlN、Si3N4のような窒化物である。また、ここまでに第
1被膜の材質として挙げられた金属や無機化合物の相互
固溶体もまた第1被膜の材質として用いることができ
る。さらに硬質カーボンもまた第1被膜に用いることが
できる。
以上を複層膜として用い、あるいは部分的に複層化する
ことによって、該被膜自体が2色またはそれ以上に分か
れるようにしてもよい。
れらを含有する合金;これらの炭化物、窒化物、炭酸化
物及び窒酸化物(特にTiC及びTiN);及びこれらの相互
固溶体の中の少なくとも1種であることが望ましい。
好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、さ
らに好ましくは0.1〜0.5μm、とくに好ましくは0.2〜
0.4μmである。
られるものは、Cu、Ag、Au、Pt、Ir、Os、Pd、Rh、Ru及
びPtである。また、前述の定義によるこれらの金属を主
成分とする合金もまた用いることができる。そのような
合金の例としては、Au−Ag合金、Au−Ni合金、Au−Ni−
In合金、Au−Cu合金、Au−Cu−Cd合金、Pt−Rh合金、Cu
−Zn合金、Cu−Sn合金などが挙げられる。
u、Pt及びこれらを含む合金の中の少なくとも1種を用
いることが望ましい。またとくにAuやPt及びこれらを含
む合金は、本発明の方法を用いるときに、はじめて基材
の上に強固に密着させることができるので、本発明の第
2被膜の物質として好ましい。
被膜の形成を複数回行うことによって、色彩及び/また
は色調の異なる複数個の第2被膜を形成してもよい。こ
の場合、一部の第2被膜は、Tiなどの金属をドライプレ
ーティングで形成してもよい。
る物質は、互いに相異なり、かつ異なる色彩及び/又は
色調を呈して、視覚的に区別できるものでなければなら
ず、とくに色彩及び/又は色調が対象的な組合せが好ま
しい。
形成された部分で好ましくは0.01〜20μm、さらに好ま
しくは0.1〜5μm程度である。あまり厚くなると材料
が無駄であるばかりか、後述のように第1被膜の上に形
成された部分を除去するときに、境界部分の切断に外力
を多く必要とする。
が、溝状になって底部に残った第1被膜の上に形成され
ても差支えない。
被膜、第2被膜のいずれとも相違して、視覚的に区別で
きる場合は、基材の一部を露出させたままにすることに
よって、第三の色相としての効果を与えても差支えな
い。
る。
る。必要に応じて、該表面に研磨、ラッピング、洗浄な
どの前処理を施しても差支えない。
て、イオンプレーティング、真空蒸着、電子ビーム蒸
着、溶射、スパッタリング、CVDなど、任意のドライプ
レーティング法;及び陽極酸化、電解メッキ、無電解メ
ッキなどのウェットプレーティング法が用いられ、材質
に応じて選択されるが、一般にウェットプレーティング
法が好ましい。被膜形成は物品の表面全部に行ってもよ
く、物品の形状や目的に応じて、一部、たとえば多色表
面の形成が必要な部分についてのみ行ってもよい。
によって該被膜を局部的に除去する。すなわち、該被膜
を施した面より、模様、パターン、文字、記号など、後
に第2被膜を被着したい部位にのみレーザー光を照射し
て、その部位の第1被膜を溶融除去し、基材を露出させ
る。
レーザー;ルビー、YAG、ガラスなどの固体レーザー及
びGaAsなどの半導体レーザーなどが例示されるが、室温
で連続発振を容易に行いうること、及び低い照射エネル
ギー領域における制御性のよいことから、YAGレーザー
が好ましい。照射条件は被膜Bの材質と厚さによって異
なり、照射エネルギーを制御しながら照射すればよい。
幅は、0.1μm〜2mmである。
した後、第2被膜を形成する。該被膜の形成は、陽極酸
化、電解メッキ、無電解メッキのような通常のウェット
プレーティング法によって行うことができる。
る溝は第1被膜を貫いて基材に達し、第2被膜の主部は
基材表面に形成されるのが一般的である。しかし、レー
ザー照射の強さによっては、溝はさらに基材の中まで進
入することもある。また、溝が第1被膜の途中まで達す
るに留まり、第2被膜の主部が、溝の底部に残存した第
1被膜の上に形成されることがある。これは、目的に応
じて、レーザー照射を適宜制御することによってなさ
れ、いずれも本発明の趣旨を逸脱しない範囲で本発明に
含まれる。
成された第2被膜は、基材の上ないしレーザー処理によ
って生じた溝に形成された部分は基材への密着性に優
れ、基材に対して強固に接合されている。これに対し
て、第1被膜の上に形成された第2被膜は第1被膜に対
して剥離性を示す。
工程は、水、アルコール、ケトンなどやその混合溶媒で
洗浄したり、クロスやレザーでこするなど、任意の方法
により、第1被膜の上に形成されている部分の第2被膜
を剥離、除去することである。除去された第2被膜の材
料は、回収して再利用することができる。
を用いる2色表面を形成するケースについてである。第
1被膜を任意の既知の方法によって多色化するか、レー
ザー照射と第2被膜の形成を複数回行い、かつそのつど
第2被膜に用いる材質を異なる色彩及び/又は色調を呈
するものに変更することによって、3色以上の多色表面
を形成することが可能である。
な模様、パターン、文字及び/又は記号を含む多色表面
を形成することができる。先に第1被膜を形成した後、
レーザー照射によって、第2被膜を形成したい部位の第
1被膜を破壊するとともに、次に形成した第2被膜の基
材への密着税を高めることができる。
らびにそのような表面をもつ物品を容易に形成すること
ができる。本発明で得られる多色表面は、その材質固有
の色調を保つとともに、微細な模様、パターン、文字又
は記号を表現することができる。
ネクタイピン、カフスボタン、ブローチ、ライター、メ
ガネなどの装飾品及びゴルフクラブなどのスポーツ用品
における多色パターンの形成や文字などの表示;切削工
具や耐摩工具などの工具における美的効果の向上;及び
各種製品やその銘板における製品名、商標、社標、品質
などの表示に用いて、きわめて有効である。
る。実施例中に記した番号は、本発明の工程を説明する
第1図において用いた各部分の番号である。なお、本発
明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
からなる板状の基材1の、多色表面を形成したい面2
に、通常のホローカソード放電法(HCD法)によるイオ
ンプレーティングを施して、チタン被膜3を形成した。
次いで、該被膜の上からYAGレーザーを30W、12Aで照射
走行させて、1本の幅が1mmの縞状にレーザー光を当
て、その部分の被膜を溶融除去した。
ン状に残った面を、水及びアセトンによって洗浄した
後、シアン化金カリウムを用いて常法により金メッキを
行い金の被膜4を得た。この被膜4は、さきにレーザー
照射を行った部位では基材1に、それ以外の部位では薄
く3に接合していた。これを、水によって洗浄すること
により、4のうち3に接合している部分を剥離せしめて
除去し、洗浄及び乾燥を行って、銀白色と金色の2色表
面を有する本発明の物品を得た。
たところ、3の厚さは0.3μm、4の厚さは2μmであ
った。
分的にマスキングを施して、溶射法によってAl2O3−TiO
2混合被膜3を形成した。次いで、基材の表面のマスキ
ングを部分的に除去して、実施例1と同様の金メッキ4
を施し、被膜面を研磨して、2色表面をもつ比較物品を
得た。
μm、4の厚さは2μmであった。
て、外観及び被膜の剥離試験を行った。その結果は第1
表のように、外観、被膜の密着性ともに、実施例1の物
品の法が優れていた。
イオンプレーティングによる被膜3の形成、レーザー照
射、及びメッキによる被膜4の形成を行うことにより、
SUS304からなる基材の表面に、第2表に示す被膜材質と
厚さの被膜を有する2色表面を形成した、その色彩は第
2表のとおりであり、いずれも美麗な外観を示し、かつ
被膜3の基材への密着性も優れていた。
る超硬合金の円板を基材として用いた。これを鏡面ラッ
ピングした後、一部をマスキングし、イオンプレーティ
ングによってTi(C・O)の被膜3を形成した。次い
で、逆にTi(C・O)被膜面をマスキングしたのち、イ
オンプレーティングによってチタンの被膜3′を設け
た。このように異なる色彩を有する円板表面に、レーザ
ー照射によって1mm幅の平行線状模様を描いた。これ
に、実施例1と同様にして金メッキを行い、剥離除去、
洗浄及び乾燥を行って被膜4を得た。
金属光沢と金による金色という美的価値の高い3色表面
を有する物品が得られた。
Claims (1)
- 【請求項1】下記(a)、(b)、(c)及び(d)の
工程をその順序に経て、基材の表面の全部又は一部分
に、多色表面を有する物品を製造する方法。 (a)第2被膜に対して親和性が低い、金属;合金;周
期率表4a、5a、6a族金属の炭化物、窒化物、炭酸化物及
び窒酸化物;Al、Siの酸化物、炭化物及び窒化物;これ
らの相互固溶体;及び硬質カーボンの中の少なくとも1
種の単層膜もしくは複層膜からなる第1被膜を形成する
工程; (b)該第1被膜の表面にレーザーを照射して、0.1μ
m〜2mmの幅の線部を形成する工程; (c)該線部及び残存する第1被膜の面部上にウェット
プレーティング法により、Cu、Ag、Au、Pt、Ir、Os、P
d、Rh、Ru及びこれらを含有する合金の中の少なくとも
1種の単層膜もしくは複層膜からなる第2被膜を形成す
る工程;及び (d)残存する第1被膜の面部上の第2被膜のみを剥
離、除去する工程。
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