JP2629761B2 - ヒドロキシアパタイト皮膜の形成方法 - Google Patents
ヒドロキシアパタイト皮膜の形成方法Info
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- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L27/00—Materials for grafts or prostheses or for coating grafts or prostheses
- A61L27/28—Materials for coating prostheses
- A61L27/30—Inorganic materials
- A61L27/32—Phosphorus-containing materials, e.g. apatite
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61F—FILTERS IMPLANTABLE INTO BLOOD VESSELS; PROSTHESES; DEVICES PROVIDING PATENCY TO, OR PREVENTING COLLAPSING OF, TUBULAR STRUCTURES OF THE BODY, e.g. STENTS; ORTHOPAEDIC, NURSING OR CONTRACEPTIVE DEVICES; FOMENTATION; TREATMENT OR PROTECTION OF EYES OR EARS; BANDAGES, DRESSINGS OR ABSORBENT PADS; FIRST-AID KITS
- A61F2310/00—Prostheses classified in A61F2/28 or A61F2/30 - A61F2/44 being constructed from or coated with a particular material
- A61F2310/00389—The prosthesis being coated or covered with a particular material
- A61F2310/00592—Coating or prosthesis-covering structure made of ceramics or of ceramic-like compounds
- A61F2310/00796—Coating or prosthesis-covering structure made of a phosphorus-containing compound, e.g. hydroxy(l)apatite
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は基体の表面にヒドロキシアパタイトの皮膜を
形成する方法に関する。
形成する方法に関する。
ヒドロキシアパタイトは生体適合性に優れ、吸着能も
大きいことから種々の応用の検討がされてきた。特に生
体硬組織の置換あるいは修復用のインプラント材として
の利用は活発に研究が進められている。インプラント材
としては生体適合性のほかに生体力学的強度が要求され
る。しかしながらヒドロキシアパタイト自体は焼結体に
おいても強度の点で不十分である。したがって金属材
料、セラミックス、ガラス等を基体あるいは芯材として
その表面にヒドロキシアパタイトの皮膜を形成すること
が実用的に最も有望視されている。
大きいことから種々の応用の検討がされてきた。特に生
体硬組織の置換あるいは修復用のインプラント材として
の利用は活発に研究が進められている。インプラント材
としては生体適合性のほかに生体力学的強度が要求され
る。しかしながらヒドロキシアパタイト自体は焼結体に
おいても強度の点で不十分である。したがって金属材
料、セラミックス、ガラス等を基体あるいは芯材として
その表面にヒドロキシアパタイトの皮膜を形成すること
が実用的に最も有望視されている。
ヒドロキシアパタイトの皮膜を形成する方法として、
これまで種々の方法が提案されている。たとえば特開昭
52−82893号公報にはプラズマ溶射法、特開昭59−10904
9号公報にはスパッタリング法、特開昭59−111753号公
報にはPVD、CVD法、特開昭53−128190号公報には電気泳
動法、特開昭53−118411号公報には塗布法がそれぞれ開
示されている。
これまで種々の方法が提案されている。たとえば特開昭
52−82893号公報にはプラズマ溶射法、特開昭59−10904
9号公報にはスパッタリング法、特開昭59−111753号公
報にはPVD、CVD法、特開昭53−128190号公報には電気泳
動法、特開昭53−118411号公報には塗布法がそれぞれ開
示されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、プラズマ溶射法、スパッタリング法、CVD
法、PVD法においては多孔体の内部など複雑な形状をし
た基体表面には皮膜の形成が困難であり、電気泳動法に
おいては基体が非導電性のものには皮膜を形成できない
という問題点を有している。塗布法は操作も簡便であ
り、前記特開昭53−118411号公報には、アパタイトの微
粉末を水に懸濁させ、この懸濁液を基体の表面に塗布し
焼成する方法が開示されているが、微粉末をより細かい
粒子にすることが一般に難しく凝集粒が存在し易いこと
並びに分散している粒子の大きさが一般に0.5μｍを超
えていることなどのために基体表面へのアパタイトの付
着強度が弱く、剥離し易いという問題点を有している。
法、PVD法においては多孔体の内部など複雑な形状をし
た基体表面には皮膜の形成が困難であり、電気泳動法に
おいては基体が非導電性のものには皮膜を形成できない
という問題点を有している。塗布法は操作も簡便であ
り、前記特開昭53−118411号公報には、アパタイトの微
粉末を水に懸濁させ、この懸濁液を基体の表面に塗布し
焼成する方法が開示されているが、微粉末をより細かい
粒子にすることが一般に難しく凝集粒が存在し易いこと
並びに分散している粒子の大きさが一般に0.5μｍを超
えていることなどのために基体表面へのアパタイトの付
着強度が弱く、剥離し易いという問題点を有している。
かかる事情に鑑み本発明者らは塗布法により付着強度
の高い皮膜を形成するためには皮膜厚をクラックの発生
しない１〜２μｍ以下にすること、凝集のない微粒子を
分散した状態で塗布することが重要であるという構想の
下に鋭意検討した結果、ヒドロゾルを使用することによ
り良好なヒドロキシアパタイトの皮膜が形成できること
を見出し本発明を完成するに至った。
の高い皮膜を形成するためには皮膜厚をクラックの発生
しない１〜２μｍ以下にすること、凝集のない微粒子を
分散した状態で塗布することが重要であるという構想の
下に鋭意検討した結果、ヒドロゾルを使用することによ
り良好なヒドロキシアパタイトの皮膜が形成できること
を見出し本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は保護コロイドの存在下に水酸化カル
シウム水溶液とリン酸水溶液をCa/P＝1.50〜2.0（原子
比）の割合で混合し調整したヒドロゾルを基体に被覆し
た後、乾燥し不溶化処理することを特徴とするヒドロキ
シアパタイト皮膜の形成方法を提供するものである。
シウム水溶液とリン酸水溶液をCa/P＝1.50〜2.0（原子
比）の割合で混合し調整したヒドロゾルを基体に被覆し
た後、乾燥し不溶化処理することを特徴とするヒドロキ
シアパタイト皮膜の形成方法を提供するものである。
以下本発明を詳細に説明する。
ここにヒドロゾルとは水を分散媒とするコロイドを称
するもので乳濁液や懸濁液に比較して分散している粒子
が小さいものである。一般にコロイド粒子の大きさは0.
1〜0.001μｍである。
するもので乳濁液や懸濁液に比較して分散している粒子
が小さいものである。一般にコロイド粒子の大きさは0.
1〜0.001μｍである。
ヒドロキシアパタイトのヒドロゾルの一般的な製法に
ついて次の文献、グメリンス ハンドブック デル ア
ンオーガニシェ ヘミー（Gmelins Handbuch der Anorg
anischen Chemie）第28巻Ｂ−３号、1158〜1159（196
1）に以下の３つの方法が開示されている。
ついて次の文献、グメリンス ハンドブック デル ア
ンオーガニシェ ヘミー（Gmelins Handbuch der Anorg
anischen Chemie）第28巻Ｂ−３号、1158〜1159（196
1）に以下の３つの方法が開示されている。
リン酸水溶液と水酸化カルシウム水溶液との混合によ
り生成した沈澱を母体と共に攪拌してヒドロキシアパタ
イトのヒドロゾルを製造する。
り生成した沈澱を母体と共に攪拌してヒドロキシアパタ
イトのヒドロゾルを製造する。
リン酸水溶液とカルシウム塩水溶液をCa/P＝1.50の割
合で混合して生成した第三リン酸カルシウムの沈澱物を
0.0008〜0.0016Nの濃度で複分解することによりヒドロ
キシアパタイトのヒドロゾルを製造する。
合で混合して生成した第三リン酸カルシウムの沈澱物を
0.0008〜0.0016Nの濃度で複分解することによりヒドロ
キシアパタイトのヒドロゾルを製造する。
ゼラチンの存在下に塩化カルシウム溶液にリン酸三ナ
トリウム溶液を加えたときに生成するリン酸カルシウム
よりヒドロキシアパタイトのヒドロゾルを製造する。た
だし、この際リン酸カルシウムとゼラチンの濃度に依存
する。
トリウム溶液を加えたときに生成するリン酸カルシウム
よりヒドロキシアパタイトのヒドロゾルを製造する。た
だし、この際リン酸カルシウムとゼラチンの濃度に依存
する。
しかるに本発明者らの実験によればゼラチンなどの保
護コロイドを添加せずに生成させた沈澱物は攪拌を続け
てもゾル化することなく上記、の方法は再現するこ
とが困難であった。またの方法はヒドロゾルを生成す
るが塩化ナトリウムが副生し、塩化ナトリウムの結晶が
大きいためにこのヒドロゾルを基体等に被覆した場合、
皮膜性状に悪影響を及ぼすことになり好ましくない。
護コロイドを添加せずに生成させた沈澱物は攪拌を続け
てもゾル化することなく上記、の方法は再現するこ
とが困難であった。またの方法はヒドロゾルを生成す
るが塩化ナトリウムが副生し、塩化ナトリウムの結晶が
大きいためにこのヒドロゾルを基体等に被覆した場合、
皮膜性状に悪影響を及ぼすことになり好ましくない。
本発明におけるヒドロゾルは保護コロイドの存在下に
水酸化カルシウム水溶液とリン酸水溶液をCa/P＝1.50〜
2.0（以下原子比を表わす）の割合で混合して調整され
る。特にCa/Pの割合は1.50〜1.67の範囲が好ましい。
水酸化カルシウム水溶液とリン酸水溶液をCa/P＝1.50〜
2.0（以下原子比を表わす）の割合で混合して調整され
る。特にCa/Pの割合は1.50〜1.67の範囲が好ましい。
Ca/P＝1.50未満の場合は第二リン酸カルシウムが生成
し、ヒドロキシアパタイトが生成せず、2.0を超えると
水酸化カルシウムの残留が過大となり、ヒドロキシアパ
タイトの生成割合が減少し好ましくない。
し、ヒドロキシアパタイトが生成せず、2.0を超えると
水酸化カルシウムの残留が過大となり、ヒドロキシアパ
タイトの生成割合が減少し好ましくない。
Ca/P＝1.50〜1.67の範囲で水酸化カルシウム水溶液と
リン酸水溶液を混合した場合、母液のpHは最終的には６
〜８に推移する。一方、Ca/P＝1.67を超えると未反応の
水酸化カルシウムが母液中に残留することになり、反応
終了後も母液のpHは８〜11となる。この場合は必要に応
じて酸で中性化してもよい。
リン酸水溶液を混合した場合、母液のpHは最終的には６
〜８に推移する。一方、Ca/P＝1.67を超えると未反応の
水酸化カルシウムが母液中に残留することになり、反応
終了後も母液のpHは８〜11となる。この場合は必要に応
じて酸で中性化してもよい。
Ca/P＝1.50〜1.67の範囲で水酸化カルシウム水溶液と
リン酸水溶液を混合すれば反応当初は生成するリン酸カ
ルシウムが母液内に留まる。これを攪拌下あるいは攪拌
せずに保持すると母液中の水酸化カルシウムが次第に消
費され、リン酸カルシウムのCa/Pの値が増加し母液中の
pHは低下する。pHが６〜８に達したとき、ほとんどの水
酸化カルシウムは消費され、複分解反応が終結する。こ
の際リン酸カルシウムのCa/Pの割合は原料の混合割合に
等しくなる。さらに母液から回収し風乾後に得られた粉
末を粉末Ｘ線回折により分析したところ低結晶のヒドロ
キシアパタイトを示した。
リン酸水溶液を混合すれば反応当初は生成するリン酸カ
ルシウムが母液内に留まる。これを攪拌下あるいは攪拌
せずに保持すると母液中の水酸化カルシウムが次第に消
費され、リン酸カルシウムのCa/Pの値が増加し母液中の
pHは低下する。pHが６〜８に達したとき、ほとんどの水
酸化カルシウムは消費され、複分解反応が終結する。こ
の際リン酸カルシウムのCa/Pの割合は原料の混合割合に
等しくなる。さらに母液から回収し風乾後に得られた粉
末を粉末Ｘ線回折により分析したところ低結晶のヒドロ
キシアパタイトを示した。
本発明で使用する水酸化カルシウムは通常の方法で製
造されたものでよく、特に限定されるものではない。ま
た該水溶液の濃度は水酸化カルシウムの溶解度以下であ
れば特に限定されるものではないが、生成する皮膜厚み
が薄くなりすぎないように溶解度のおよそ1/100以上が
望ましい。
造されたものでよく、特に限定されるものではない。ま
た該水溶液の濃度は水酸化カルシウムの溶解度以下であ
れば特に限定されるものではないが、生成する皮膜厚み
が薄くなりすぎないように溶解度のおよそ1/100以上が
望ましい。
また本発明で使用するリン酸も通常の方法で製造され
たものでよく、特に限定されるものではない。該水溶液
中の濃度も特に限定されるものではないが、水酸化カル
シウムの濃度と同水準とした方が望ましい。
たものでよく、特に限定されるものではない。該水溶液
中の濃度も特に限定されるものではないが、水酸化カル
シウムの濃度と同水準とした方が望ましい。
本発明で使用する保護コロイドとしてゼラチン、アル
ブミン、アラビアゴム、ブロタルビン酸、リサルビン酸
など通常のものが使用されるが、ヒドロキシアパタイト
の皮膜形成後に不溶化処理し易いものを選べばよい。保
護コロイドは水酸化カルシウム水溶液またはリン酸水溶
液のいずれか一方あるいは両方に溶解することができ
る。保護コロイドの濃度は生成するヒドロキシアパタイ
トの重量の0.5〜10倍量を含有することが望ましい。10
倍量より多い場合は皮膜中のヒドロキシアパタイトの濃
度が希釈されるので連続したヒドロキシアパタイトの層
が形成され難く、0.5倍量よる少ない場合は保護コロイ
ドの作用効果が小さくヒドロゾルの形成が難しいので好
ましくない。
ブミン、アラビアゴム、ブロタルビン酸、リサルビン酸
など通常のものが使用されるが、ヒドロキシアパタイト
の皮膜形成後に不溶化処理し易いものを選べばよい。保
護コロイドは水酸化カルシウム水溶液またはリン酸水溶
液のいずれか一方あるいは両方に溶解することができ
る。保護コロイドの濃度は生成するヒドロキシアパタイ
トの重量の0.5〜10倍量を含有することが望ましい。10
倍量より多い場合は皮膜中のヒドロキシアパタイトの濃
度が希釈されるので連続したヒドロキシアパタイトの層
が形成され難く、0.5倍量よる少ない場合は保護コロイ
ドの作用効果が小さくヒドロゾルの形成が難しいので好
ましくない。
次に本発明により得られたヒドロゾルを基体に被覆す
る方法としては塗布、噴霧、浸漬等通常の方法が採用で
きる。
る方法としては塗布、噴霧、浸漬等通常の方法が採用で
きる。
用いる基体としては金属、セラミックス、ガラス等い
ずれも可能であるが、プラスチック等疎水性のものには
適用し難しいので表面処理をして親水性にしておいた方
が好ましい。
ずれも可能であるが、プラスチック等疎水性のものには
適用し難しいので表面処理をして親水性にしておいた方
が好ましい。
本発明は特に表面が複雑な形状をしている基体に適用
することができる。たとえば表面が多孔化されたインプ
ラント材に適用することができる。このようなインプラ
ント材としてはチタン合金などの金属、アルミナなどの
セラミックス、バイオガラスなどのガラスがある。
することができる。たとえば表面が多孔化されたインプ
ラント材に適用することができる。このようなインプラ
ント材としてはチタン合金などの金属、アルミナなどの
セラミックス、バイオガラスなどのガラスがある。
基体に被覆したヒドロゾルは乾燥され、さらに不溶化
処理を施される。
処理を施される。
該不溶化はヒドロキシアパタイトの皮膜をより強力な
ものとするために必要な処理である。具体的な不溶化処
理としては架橋剤等の不溶化薬剤、たとえばホルムアル
デヒド、グルタルアルデヒド、タンニン酸等を皮膜に塗
布あるいは噴霧することにより安定で強固な皮膜を製造
する方法、焼成して保護コロイドを除去し、強固な皮膜
のみとする方法がある。不溶化処理として焼成する場合
は焼成残渣が生じない保護コロイドを選択すればよい。
焼成条件は使用する保護コロイドの焼失温度、基体の耐
熱温度を考慮して決定すればよい。ただしヒドロキシア
パタイトは1200℃以上では熱分解が著しくなるのでこの
温度以下とするのが望ましい。
ものとするために必要な処理である。具体的な不溶化処
理としては架橋剤等の不溶化薬剤、たとえばホルムアル
デヒド、グルタルアルデヒド、タンニン酸等を皮膜に塗
布あるいは噴霧することにより安定で強固な皮膜を製造
する方法、焼成して保護コロイドを除去し、強固な皮膜
のみとする方法がある。不溶化処理として焼成する場合
は焼成残渣が生じない保護コロイドを選択すればよい。
焼成条件は使用する保護コロイドの焼失温度、基体の耐
熱温度を考慮して決定すればよい。ただしヒドロキシア
パタイトは1200℃以上では熱分解が著しくなるのでこの
温度以下とするのが望ましい。
本発明によれば従来の塗布法よりも皮膜の付着強度が
強く、しかも複雑な表面形状をした基体に対しても容易
にヒドロキシアパタイトの皮膜を形成することが可能と
なり、さらに大面積の基体にも皮膜を形成でき、成膜速
度が早く安価な方法であり、得られた基体は種々の用途
に使用でき、特にインプラント材、吸着分離材、触媒と
して有用である。
強く、しかも複雑な表面形状をした基体に対しても容易
にヒドロキシアパタイトの皮膜を形成することが可能と
なり、さらに大面積の基体にも皮膜を形成でき、成膜速
度が早く安価な方法であり、得られた基体は種々の用途
に使用でき、特にインプラント材、吸着分離材、触媒と
して有用である。
以下本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。
らに限定されるものではない。
なお実施例において用いる％は重量％を表わす。
実施例１ 0.055％水酸化カルシウム水溶液500gに精製ゼラチン
1.0gを溶解し、攪拌しながら該液中に0.060％リン酸水
溶液365gを４分間で添加した。（Ca/P＝1.66）このとき
液のpHは最初12.3から11.2まで低下し、さらにこの液を
７日間静置したところpHは8.0まで低下した。その結果
沈澱物は全くなく、ヒドロゾルが生成した。
1.0gを溶解し、攪拌しながら該液中に0.060％リン酸水
溶液365gを４分間で添加した。（Ca/P＝1.66）このとき
液のpHは最初12.3から11.2まで低下し、さらにこの液を
７日間静置したところpHは8.0まで低下した。その結果
沈澱物は全くなく、ヒドロゾルが生成した。
このヒドロゾルを一部抜き取り、これに凝集剤である
硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得られた
スラリーを風乾後に粉末Ｘ線回折を行ったところ、第１
図に示すように低結晶性のヒドロキシアパタイトであっ
た。
硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得られた
スラリーを風乾後に粉末Ｘ線回折を行ったところ、第１
図に示すように低結晶性のヒドロキシアパタイトであっ
た。
基体として縦25mm、横25mm、深さ1mmの凹部を有する
縦40mm、横40mm、厚さ5mmのアルミナ緻密焼結体（純度9
9.9％）の凹部内に直径1mmのアルミナビーズが一層接合
されたものを準備した。
縦40mm、横40mm、厚さ5mmのアルミナ緻密焼結体（純度9
9.9％）の凹部内に直径1mmのアルミナビーズが一層接合
されたものを準備した。
基体の凹部内が完全に満たされるまで上記のヒドロゾ
ルを注入後、風乾し焼成した。焼成条件として室温から
800℃まで100℃/Hrで昇温し、800℃で１時間の保持をし
た。
ルを注入後、風乾し焼成した。焼成条件として室温から
800℃まで100℃/Hrで昇温し、800℃で１時間の保持をし
た。
焼成後の皮膜は光沢があり、干渉縞があった。
皮膜の厚さを膜厚計にて測定した結果、その厚さは約
0.3μｍであった。
0.3μｍであった。
得られた基体を生理食塩水に１週間浸漬したが、皮膜
は変化せず強固であった。
は変化せず強固であった。
実施例２ 0.060％リン酸水溶液405gを使用する以外は実施例１
と同様の試薬を用い同様の方法にてCa/P＝1.50のヒドロ
ゾルを調製した。調製時のpHは最初12.3から10.8まで低
下し、さらにこの液を７日間静置したところpHは8.0ま
で低下した。その結果沈澱物は全くなく、ヒドロゾルが
生成した。
と同様の試薬を用い同様の方法にてCa/P＝1.50のヒドロ
ゾルを調製した。調製時のpHは最初12.3から10.8まで低
下し、さらにこの液を７日間静置したところpHは8.0ま
で低下した。その結果沈澱物は全くなく、ヒドロゾルが
生成した。
このヒドロゾルを実施例１と同様の方法で確認したと
ころ、低結晶性のヒドロキシアパタイトであった。
ころ、低結晶性のヒドロキシアパタイトであった。
基体として表面粗さRa＝0.05μｍのアルミナ基板（純
度99.9％、縦10mm、横10mm、厚さ0.8mm）をアセトンで
洗浄したものを準備した。
度99.9％、縦10mm、横10mm、厚さ0.8mm）をアセトンで
洗浄したものを準備した。
このアルミナ基板の表面に上記のヒドロゾルを滴下し
て厚さ1mmの液膜を形成した。その後、実施例１と同様
の方法、条件で風乾、焼成した。
て厚さ1mmの液膜を形成した。その後、実施例１と同様
の方法、条件で風乾、焼成した。
焼成後の皮膜は実施例１と同様に光沢があり、干渉縞
があった。
があった。
皮膜の厚さを膜厚計にて測定した結果、その厚さは約
0.3μｍであった。
0.3μｍであった。
得られた基体を実施例１と同様に生理食塩水に１週間
浸漬したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
浸漬したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
実施例３ 実施例１と同様のヒドロゾル並びにアルミナ緻密焼結
体を用い、実施例１と同様に該焼結体の凹部内にヒドロ
ゾルを注入し風乾した。
体を用い、実施例１と同様に該焼結体の凹部内にヒドロ
ゾルを注入し風乾した。
引続き該焼結体を５％グルタルアルデヒド溶液に20時
間浸漬して不溶化処理した。
間浸漬して不溶化処理した。
該焼結体を実施例１と同様に生理食塩水に１週間浸漬
したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
実施例４ 基体として表面粗さRa＝0.2μｍのチタン板（JIS 2
種、縦10mm、横10mm、厚さ1mm）をアセトンで洗浄した
ものを準備した。
種、縦10mm、横10mm、厚さ1mm）をアセトンで洗浄した
ものを準備した。
該チタン板の表面に実施例１で用いたヒドロゾルを滴
下して厚さ1mmの液膜を形成した。その後実施例１と同
様の方法、条件で風乾し焼成した。
下して厚さ1mmの液膜を形成した。その後実施例１と同
様の方法、条件で風乾し焼成した。
焼成後の皮膜は実施例１と同様に光沢があり、干渉縞
があった。
があった。
皮膜の厚さを膜厚計にて測定した結果、その厚さは約
0.3μｍであった。
0.3μｍであった。
得られたチタン板を実施例１と同様に生理食塩水に１
週間浸漬したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
週間浸漬したが、皮膜は何ら変化せず強固であった。
比較例１ 第二リン酸アンモニウム水溶液と硝酸カルシウム水溶
液を混合し調製したヒドロキシアパタイト（未焼成品）
0.50gを0.1％ゼラチン水溶液1000gに添加し攪拌したと
ころ、１日後に全て沈澱した。これを再び攪拌し懸濁物
を実施例１と同様のアルミナ緻密焼結体の凹部内に充填
し、風乾した結果、白色の皮膜が形成した。引き続き実
施例１と同様の焼成条件にて焼成したが、得られた皮膜
は触れると容易に剥離した。
液を混合し調製したヒドロキシアパタイト（未焼成品）
0.50gを0.1％ゼラチン水溶液1000gに添加し攪拌したと
ころ、１日後に全て沈澱した。これを再び攪拌し懸濁物
を実施例１と同様のアルミナ緻密焼結体の凹部内に充填
し、風乾した結果、白色の皮膜が形成した。引き続き実
施例１と同様の焼成条件にて焼成したが、得られた皮膜
は触れると容易に剥離した。
比較例２ ゼラチン存在下でない以外は実施例１と同じ濃度およ
び量の水酸化カルシウム水溶液、リン酸水溶液を混合し
たところpHの変化は同様であったが、混合直後に沈澱が
生成しヒドロゾルの形成はなかった。
び量の水酸化カルシウム水溶液、リン酸水溶液を混合し
たところpHの変化は同様であったが、混合直後に沈澱が
生成しヒドロゾルの形成はなかった。
得られた沈澱を濾取し風乾後に粉末Ｘ線回折を行った
が、第１図と全く同様のパターンを示し、低結晶性のヒ
ドロキシアパタイトであることが判った。
が、第１図と全く同様のパターンを示し、低結晶性のヒ
ドロキシアパタイトであることが判った。
基体として実施例１で使用したアルミナ緻密焼結体を
用い、該焼結体の凹部内に上記沈澱物を充填した後、実
施例１と同様の方法、条件で風乾し、焼成した。
用い、該焼結体の凹部内に上記沈澱物を充填した後、実
施例１と同様の方法、条件で風乾し、焼成した。
得られた皮膜は触れると容易に剥離した。
比較例３ 0.060％リン酸水溶液434gを使用した以外は実施例１
と同じものを使用し、同様の方法にてCa/P＝1.40のヒド
ロゾルを調整した。このヒドロゾルの一部を取り凝集剤
である硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得
られたスラリーを風乾後に実施例１と同様に粉末Ｘ線回
折を行った結果、低結晶性のヒドロキシアパタイトの第
二リン酸カルシウムの混合物であった。
と同じものを使用し、同様の方法にてCa/P＝1.40のヒド
ロゾルを調整した。このヒドロゾルの一部を取り凝集剤
である硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得
られたスラリーを風乾後に実施例１と同様に粉末Ｘ線回
折を行った結果、低結晶性のヒドロキシアパタイトの第
二リン酸カルシウムの混合物であった。
比較例４ 0.060％リン酸水溶液243gを使用した以外は実施例１
と同じものを使用し、同様の方法にてCa/P＝2.50のヒド
ロゾルを調製した。このヒドロゾルの一部を取り凝集剤
である硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得
られたスラリーを風乾後に実施例１と同様に粉末Ｘ線回
折を行った結果、低結晶性のヒドロキシアパタイトと低
結晶性の水酸化カルシウムの混合物であった。
と同じものを使用し、同様の方法にてCa/P＝2.50のヒド
ロゾルを調製した。このヒドロゾルの一部を取り凝集剤
である硫酸ナトリウムを添加して凝集させ濾取した。得
られたスラリーを風乾後に実施例１と同様に粉末Ｘ線回
折を行った結果、低結晶性のヒドロキシアパタイトと低
結晶性の水酸化カルシウムの混合物であった。
第１図は本発明によって得られたヒドロゾルを凝集させ
て濾取し、風乾した後の粉末Ｘ線回折図を示す。
て濾取し、風乾した後の粉末Ｘ線回折図を示す。
Claims (1)
- 【請求項１】保護コロイドの存在下に水酸化カルシウム
水溶液とリン酸水溶液をCa/P＝1.50〜2.0（原子比）の
割合で混合した後に母液中に保持して複分解反応を終結
させることにより調整したヒドロゾルを基体に被覆した
後、乾燥し不溶化処理することを特徴とするヒドロキシ
アパタイト皮膜の形成方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62327727A JP2629761B2 (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | ヒドロキシアパタイト皮膜の形成方法 |
| DE8888312265T DE3865421D1 (de) | 1987-12-23 | 1988-12-22 | Hydroxyapatit enthaltende beschichtungsfluessigkeit und verfahren zur herstellung eines hydroxyapatitueberzugs unter verwendung derselben. |
| EP88312265A EP0322250B1 (en) | 1987-12-23 | 1988-12-22 | Coating liquor containing hydroxyapatite and method for forming hydroxyapatite coating film using the same |
| US07/576,166 US5030474A (en) | 1987-12-23 | 1990-08-31 | Method for forming hydroxyapatite coating film using coating liquor containing hydroxyapatite |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62327727A JP2629761B2 (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | ヒドロキシアパタイト皮膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01168872A JPH01168872A (ja) | 1989-07-04 |
| JP2629761B2 true JP2629761B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=18202311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62327727A Expired - Fee Related JP2629761B2 (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 | ヒドロキシアパタイト皮膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2629761B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4586170B2 (ja) * | 2003-12-09 | 2010-11-24 | 富士通株式会社 | 光触媒活性を有するアパタイト含有膜及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62221359A (ja) * | 1986-03-24 | 1987-09-29 | ペルメレツク電極株式会社 | リン酸カルシウム化合物被覆チタン複合材とその製造方法 |
| JPS62252307A (ja) * | 1986-04-25 | 1987-11-04 | Sekisui Plastics Co Ltd | 水酸アパタイトを湿式合成する方法 |
-
1987
- 1987-12-23 JP JP62327727A patent/JP2629761B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01168872A (ja) | 1989-07-04 |
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