JP2627322B2 - Manufacturing method of floating magnetic head - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （イ） 産業上の利用分野 本発明はハードディスク型の記録媒体に対して用いら
れる浮動型磁気ヘッドの製造方法に関する。The present invention relates to a method of manufacturing a floating magnetic head used for a hard disk type recording medium.

（ロ） 従来の技術 近年、ハードディスクドライブ装置は高密度記録によ
る大容量化が図られており、磁気ディスクのディスク径
が5.25インチや3.5インチの小型のものが登場し、大型
コンピュータ用だけでなく、パーソナルコンピュータ等
の民生機器用としても急速に普及している。(B) Conventional technology In recent years, the capacity of hard disk drives has been increased by high-density recording, and small magnetic disks with a disk diameter of 5.25 inches or 3.5 inches have appeared. It is also rapidly spreading for consumer devices such as personal computers.

従来、このハードディスクドライブ装置用の磁気ヘッ
ドとしては、第12図に示すように浮動体（１）と磁気コ
ア（２）とがフェライトで形成されたモノリシック型の
磁気ヘッドが主流であった。しかし乍ら、この構造の磁
気ヘッドにおいて高密度記録を図るためにトラック幅ｔ
を20μｍ以下にしようとする場合、加工が困難であると
同時に完成品においてもトラック部を側面から補強する
ものがないため、トラック部にカケやワレが発生する虞
れがあった。Conventionally, as a magnetic head for a hard disk drive, a monolithic magnetic head in which a floating body (1) and a magnetic core (2) are formed of ferrite as shown in FIG. 12 has been mainly used. However, in order to achieve high-density recording in the magnetic head having this structure, the track width t is required.
If the thickness is set to 20 μm or less, processing is difficult, and at the same time, there is no reinforcement in the finished product that reinforces the track portion from the side.

そこで、上述の欠点を解決するために、特開昭61−61
222号公報（G11B5/60）等に開示されているようなコン
ポジット型の磁気ヘッドが提案されている。In order to solve the above-mentioned drawbacks, Japanese Patent Laid-Open No.
A composite magnetic head as disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 222 (G11B5 / 60) has been proposed.

次に、このコンポジット型の浮動型磁気ヘッドの製造
方法について説明する。Next, a method of manufacturing the composite floating magnetic head will be described.

先ず、第13図（ａ）（ｂ）に示すようにフェライト等
の強磁性酸化物材料よりなる第１、第２の基板（3a）
（3b）の上面及び下面を鏡面研磨した後、第１の基板
（3a）の上面にSiO₂、ガラス等よりなるギャップスペー
サ（４）をスパッタリング等によって被着し、第２の基
板（3b）の上面に巻線溝（５）を複数形成する。First, as shown in FIGS. 13A and 13B, first and second substrates (3a) made of a ferromagnetic oxide material such as ferrite.
After the upper and lower surfaces of (3b) are mirror-polished, a gap spacer (4) made of SiO ₂ , glass or the like is deposited on the upper surface of the first substrate (3a) by sputtering or the like, and the second substrate (3b) A plurality of winding grooves (5) are formed on the upper surface of the.

次に、第14図に示すように前記第１、第２の基板（3
a）（3b）の上面同士を衝き合わせた状態で、前記巻線
溝（５）内にガラス棒（６）を挿入し、該ガラス棒
（６）を溶融固化して溶着ブロックを形成する。Next, as shown in FIG. 14, the first and second substrates (3
a) A glass rod (6) is inserted into the winding groove (5) with the upper surfaces of (3b) abutting each other, and the glass rod (6) is melted and solidified to form a welding block.

次に、前記溶着ブロックを破線Ａ−Ａ′に沿って切断
して第15図に示すようなコアブロック（７）を複数形成
する。（８）は前記ガラス棒（６）が溶融固化してなる
溶着用のガラスである。Next, the welding block is cut along the broken line AA 'to form a plurality of core blocks (7) as shown in FIG. (8) is a glass for welding formed by melting and solidifying the glass rod (6).

次に、前記コアブロック（７）を破線Ｂ−Ｂ′に沿っ
て切断して第16図に示すような第１、第２コア半体（16
a）（16b）からなるヘッドチップ（９）を形成する。Next, the core block (7) is cut along a dashed line BB 'to form first and second core halves (16) as shown in FIG.
a) A head chip ( 9 ) composed of (16b) is formed.

次に、前記ヘッドチップ（９）の両側面を鏡面研磨し
た後、上面（9a）にトラック加工を施して第17図に示す
所望のトラック幅ｔの作動ギャップ（10）を有する媒体
対向部（11）を形成する。Next, after mirror polishing the both side surfaces of the head chip ( 9 ), the upper surface (9a) is subjected to track processing, and the medium facing portion (10) having an operation gap (10) having a desired track width t shown in FIG. Form 11).

次に、第18図に示すような切り溝（12）を有するスラ
イダ（13）を用意し、該スライダ（13）の切り溝（12）
に第17図に示す前記ヘッドチップ（９）を挿入した後、
第19図に示すように前記ヘッドチップ（９）の上にガラ
ス片（14）を載置し、該ガラス片（14）を溶融固化する
ことにより第20図に示すように前記ヘッドチップ（９）
と前記切り溝（12）との間にガラス（15）を充填して前
記ヘッドチップ（９）を前記スライダ（13）に固定す
る。Next, a slider (13) having a cut groove (12) as shown in FIG. 18 is prepared, and the cut groove (12) of the slider (13) is prepared.
After inserting the head chip ( 9 ) shown in FIG.
A glass piece (14) is placed on the head chip ( 9 ) as shown in FIG. 19, and the glass piece (14) is melted and solidified to form the head chip ( 9 ) as shown in FIG. )
A glass (15) is filled between the groove and the cut groove (12) to fix the head chip ( 9 ) to the slider (13).

そして最後に、ヘッドチップ（９）が固定されたスラ
イダ（13）にチャンファー加工等の外形成形を施すこと
により第21図に示すコンポジット型の浮動型磁気ヘッド
が完成する。Finally, the slider (13) to which the head chip ( 9 ) is fixed is subjected to an outer shape such as chamfering to complete the composite floating magnetic head shown in FIG.

しかし乍ら、上記従来の製造方法では、ギャップスペ
ーサ（４）としてSiO₂を用いると、第16図において第
１、第２コア半体（16a）（16b）同士が接合されている
のは巻線溝（５）内のガラス（８）が存在する部分だけ
であるので前記第１、第２コア半体（16a）（16b）同士
の接合強度は弱く、第16図から第17図の製造工程中の側
面研磨時やトラック加工時にヘッドチップ（９）が割れ
たり、作動ギャップ（10）のギャップ長が拡大したりし
て、製造歩留りが悪い。However, in the above-described conventional manufacturing method, when SiO ₂ is used as the gap spacer (4), the first and second core halves (16a) and (16b) in FIG. Since only the portion where the glass (8) exists in the line groove (5) is present, the bonding strength between the first and second core halves (16a) and (16b) is weak, and the production shown in FIGS. 16 to 17 is performed. The head yield ( 9 ) is broken at the time of side surface polishing or track processing during the process, and the gap length of the working gap (10) is increased, resulting in poor production yield.

また、ギャップスペーサ（４）としてガラスを用いる
と、このガラスの軟化点が溶着温度よりも低い場合は、
第１、第２コア半体（16a）（16b）同士は強固に接合さ
れるが、溶着時の圧力によりガラスの厚みが大幅に変化
し、ギャップ長を制御するのが困難である。また、ガラ
スの軟化点が溶着温度よりも高い場合は、ガラスの厚み
の変化は少ないものの第１、第２コア半体（16a）（16
b）同士の十分な接合強度は得られない。When glass is used as the gap spacer (4), when the softening point of the glass is lower than the welding temperature,
Although the first and second core halves (16a) and (16b) are firmly joined to each other, the thickness of the glass greatly changes due to the pressure during welding, and it is difficult to control the gap length. When the softening point of the glass is higher than the welding temperature, the first and second core halves (16a) (16a)
b) Sufficient joint strength between them cannot be obtained.

（ハ） 発明が解決しようとする課題 本発明は上記従来例の欠点に鑑み成されたものであ
り、ヘッドチップ外形加工時に、ヘッドチップが割れた
り、ギャップ長が拡大するのを防止し、更に、ギャップ
長の精度を劣化させることなく、ヘットチップのコア半
体同士の接合を強固にした浮動型磁気ヘッドの製造方法
を提供することを目的とするものである。(C) Problems to be Solved by the Invention The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the conventional example, and prevents the head chip from being cracked or the gap length from being enlarged at the time of processing the outer shape of the head chip. It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing a floating magnetic head in which the bonding between the core halves of the head chip is strengthened without deteriorating the accuracy of the gap length.

（ニ） 課題を解決するための手段 本発明の第１の浮動型磁気ヘッドの製造方法は、強磁
性酸化物よりなる第１、第２コア半体が、該第２コア半
体の接合面中央に形成されたガラス充填溝に充填したガ
ラスにより前記ガラス充填溝の側方に位置するギャップ
スペーサを介して接合されているヘッドチップを形成し
た後、前記ヘッドチップの上面のうち前記ガラス充填溝
形成部を除去して所定のトラック幅の作動ギャップを有
する媒体対向部を形成し、その後、前記ヘッドチップを
非磁性材料よりなるスライダの切り溝に固定することを
特徴とする。(D) Means for Solving the Problems In the first method for manufacturing a floating magnetic head according to the present invention, the first and second core halves made of ferromagnetic oxide are bonded to the second core half. After forming a head chip joined by a glass filled in a glass filling groove formed in the center via a gap spacer located on a side of the glass filling groove, the glass filling groove on the upper surface of the head chip is formed. The formation portion is removed to form a medium facing portion having an operation gap with a predetermined track width, and thereafter, the head chip is fixed to a cutting groove of a slider made of a non-magnetic material.

また、本発明の第２の浮動型磁気ヘッドの製造方法
は、前記第１、第２コア半体が前記ガラス充填溝及び作
動ギャップの下端を規定するギャップ下端規定溝に充填
されているガラスにより接合されていることを特徴とす
る。In a second method of manufacturing a floating magnetic head according to the present invention, the first and second core halves are filled with a glass filled in a glass lower end defining groove defining a lower end of the glass filling groove and an operating gap. It is characterized by being joined.

更に、本発明の上記第１の浮動型磁気ヘッドの製造方
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝に充填されて
いるガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して
接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充
填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成する
ことを特徴とする。Further, in the method for manufacturing a first floating magnetic head according to the present invention, the first substrate and the second substrate made of a ferromagnetic oxide are filled in the glass filling groove on the joint surface of the second substrate. The head chip is formed by joining a non-magnetic gap length defining material with glass to form a block, and cutting the block at the portion where the glass filling groove is not formed.

また、本発明の上記第２の浮動型磁気ヘッドの製造方
法は、強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の基板と
を該第２の基板の接合面上のガラス充填溝及び該ガラス
充填溝と直交するギャップ下端規定溝に充填されている
ガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介して接合
してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス充填溝
未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成すること
を特徴とする。Further, in the method of manufacturing a second floating magnetic head according to the present invention, the first substrate and the second substrate made of a ferromagnetic oxide are formed by a glass filling groove on a joint surface of the second substrate, and The glass filled in the gap lower end defining groove orthogonal to the glass filling groove is joined via a non-magnetic gap length defining material to form a block, and the block is cut at the glass filling groove non-formed portion to form a block. A head chip is formed.

更に、本発明の上記第１、第２の浮動型磁気ヘッドの
製造方法は、前記第１の基板と前記第２の基板とをガラ
スにより接合してブロックを形成する際、ガラス充填溝
形成部の側部において前記ギャップ長規定材料は前記ガ
ラスと反応する部分と反応しない部分とを有することを
特徴とする。Further, in the method of manufacturing the first and second floating magnetic heads according to the present invention, when the first substrate and the second substrate are joined by glass to form a block, Wherein the gap length defining material has a portion that reacts with the glass and a portion that does not react with the glass.

（ホ） 作用 第１の製造方法に依れば、ヘッドチップの第１、第２
コア半体はガラス充填溝に充填されているガラスにより
強固に接合される。(E) Function According to the first manufacturing method, the first and second head chips are formed.
The core halves are firmly joined by the glass filling the glass filling grooves.

また、第２の製造方法に依れば、前記第１、第２コア
半体の接合はギャップ下端規定溝に充填されたガラスに
より更に強固になる。Further, according to the second manufacturing method, the joining of the first and second core halves is further strengthened by the glass filled in the gap lower end defining groove.

また、前記ヘッドチップを形成するにおいて、前記第
１の基板と第２の基板とをガラス接合する際、ギャップ
長規定材料が前記ガラスと反応する部分と反応しない部
分とを有する上記製造方法に依れば、前記反応する部分
は前記第１、第２の基板の接合力を強化し、前記反応し
ない部分はギャップ長を高精度に保つ。Further, in the formation of the head chip, when the first substrate and the second substrate are bonded to each other with a glass, the above-described manufacturing method includes a portion where a gap length defining material reacts with the glass and a portion which does not react with the glass. If so, the reacting portion enhances the bonding strength between the first and second substrates, and the non-reacting portion maintains the gap length with high precision.

（ヘ） 実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を詳細に説
明する。(F) Example Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第１図乃至第11図は本実施例の浮動型磁気ヘッドの製
造方法を示す図である。1 to 11 are views showing a method of manufacturing a floating magnetic head according to the present embodiment.

先ず、第２図（ａ）（ｂ）に示すようなフェライト等
の強磁性酸化物材料よりなる一対の第１、第２の基板
（17a）（17b）の上面及び下面に鏡面研磨を施した後、
第２の基板（17b）の上面にガラス充填溝（18）を複数
形成する。First, the upper and lower surfaces of a pair of first and second substrates (17a) and (17b) made of a ferromagnetic oxide material such as ferrite as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b) were mirror-polished. rear,
A plurality of glass filling grooves (18) are formed on the upper surface of the second substrate (17b).

次に、第３図（ａ）（ｂ）に示すように前記第１の基
板（17a）の上面にはSiO₂やガラス等によりなる所望の
ギャップ長に等しい膜厚のギャップ長規定薄膜（19）を
スパッタリング等により被着し、前記第２の基板（17
b）の上面には前記ガラス充填溝（18）と直交する方向
にギャップ下端規定溝（20）を複数形成する。Next, as shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), on the upper surface of the first substrate (17a), a gap length defining thin film (19) made of SiO ₂ , glass or the like and having a thickness equal to a desired gap length. ) By sputtering or the like, and the second substrate (17)
On the upper surface of b), a plurality of gap lower end defining grooves (20) are formed in a direction orthogonal to the glass filling groove (18).

次に、第４図に示すように前記第２の基板（17b）の
ガラス充填溝（18）及びギャップ下端規定溝（20）に第
１のガラス（21）を充填した後、前記第２の基板（17
b）の上面に鏡面研磨を施す。Next, as shown in FIG. 4, after filling the glass filling groove (18) and the gap lower end defining groove (20) of the second substrate (17b) with the first glass (21), the second substrate (17b) is filled with the first glass (21). Substrate (17
b) Apply mirror polishing to the upper surface.

次に、前記第２の基板（17b）の上面に前記ギャップ
下端規定溝（20）と平行に巻線溝（22）を複製形成し、
その後前記第１、第２の基板（17a）（17b）の上面同士
を衝き合わせた後、第５図に示すように前記第１のガラ
ス（21）を溶融固化して前記第１、第２の基板（17a）
（17b）を接合しブロック（23）を形成する。尚、前記
第１のガラス（21）の溶融条件（加熱ピーク温度、保持
時間等）を調整することにより、前記ブロック（23）の
要部拡大図である第６図に示すようにギャップ長規定薄
膜（19）と第１のガラス（21）とを反応させ、反応部分
（24a）（24b）の距離T_X、T_Y及び未反応部分（25）の距
離Ｓを調整する。Next, a winding groove (22) is duplicatedly formed on the upper surface of the second substrate (17b) in parallel with the gap lower end defining groove (20),
Thereafter, the upper surfaces of the first and second substrates (17a) and (17b) are brought into contact with each other, and then the first glass (21) is melted and solidified as shown in FIG. PCB (17a)
(17b) is joined to form a block ( 23 ). By adjusting the melting conditions (heating peak temperature, holding time, etc.) of the first glass (21), the gap length is regulated as shown in FIG. 6, which is an enlarged view of the main part of the block ( 23 ). The thin film (19) and the first glass (21) are caused to react with each other, and the distances T _X and T _Y between the reaction portions (24a) and (24b) and the distance S between the unreacted portions (25) are adjusted.

次に、前記ブロック（23）を破線Ｃ−Ｃ′に沿って切
断して第７図に示すコアブロック（26）を複数形成す
る。Next, the block ( 23 ) is cut along the broken line CC 'to form a plurality of core blocks ( 26 ) shown in FIG.

次に、前記コアブロック（26）の前記ガラス充填溝
（18）未形成部分を破線Ｄ−Ｄ′に沿って切断して第８
図に示す第１、第３コア半体（32a）（32b）よりなるヘ
ッドチップ（27）を複数形成する。このヘッドチップ
（27）は前述の切断工程後、該切断面が鏡面研磨されて
おり、前記ガラス充填溝（18）両側の衝き合わせ部の距
離T₁、T₂は所望のトラック幅ｔよりも大きい。また、前
記衝き合わせ部（28a）（28b）の距離T₁、T₂と第６図に
示す反応部分（24a）（24b）の距離T_X、T_Yとの関係は
T_X、T_Y≧T₁、T₂である。このため、このヘッドチップ
（27）の衝き合わせ部（28a）（28b）は全域がギャップ
長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反応部分
（24a）（24b）である。Next, a portion of the core block ( 26 ) where the glass filling groove (18) is not formed is cut along a broken line DD 'to form an eighth portion.
A plurality of head chips ( 27 ) composed of the first and third core halves (32a) (32b) shown in the figure are formed. After the head chip (27) the above cutting step,該切cross section is mirror polished, the distance T _1, T ₂ of the glass-filled grooves (18) on both sides of the Butt section than the desired track width t large. The relationship between the distances T ₁ and T ₂ of the abutting portions (28a) and (28b) and the distances T _X and T _Y of the reaction portions (24a) and (24b) shown in FIG.
T _X , T _Y ≧ T ₁ , T ₂ . For this reason, the abutting portions (28a) (28b) of the head chip ( 27 ) are all reaction areas (24a) (24b) between the gap length defining thin film (19) and the first glass (21).

次に、前記ヘッドチップ（27）の上面（27a）のうち
第９図の斜線部分（29）、即ち衝き合わせ部（28b）、
ガラス充填溝（18）形成部及び衝き合わせ部（28a）の
一部分を除去して第10図に示すようにトラック幅ｔの作
動ギャップ（30）を有する媒体対向部（31）を形成す
る。尚、前記作動ギャップ（30）のギャップスペーサは
ギャップ長規定薄膜（19）と第１のガラス（21）との反
応部分（24b）のみである。Next, on the upper surface (27a) of the head chip ( 27 ), a hatched portion (29) in FIG.
A portion of the glass filling groove (18) forming portion and a part of the abutting portion (28a) are removed to form a medium facing portion (31) having an operating gap (30) having a track width t as shown in FIG. The gap spacer of the working gap (30) is only a reaction portion (24b) between the gap length defining thin film (19) and the first glass (21).

以後は、従来の第18図乃至第21図と同様にして第10図
に示すヘッドチップ（27）を前記第１のガラス（21）よ
りも低融点の第２のガラス（33）によりスライダ（13）
の切り溝（12）に取り付けた後、チャンファー加工等の
外形成形を行って第１図に示す本実施例の浮動型磁気ヘ
ッドが完成する。Thereafter, in the same manner as in the conventional FIGS. 18 to 21, the head chip ( 27 ) shown in FIG. 10 is made of a slider ( 27 ) using a second glass (33) having a lower melting point than the first glass (21). 13)
Then, the floating magnetic head of this embodiment shown in FIG. 1 is completed by forming the outer shape such as chamfering.

上述のような浮動型磁気ヘッドの製造方法では、第８
図に示すヘッドチップ（27）の第１、第２コア半体（32
a）（32b）間の接合がガラス充填溝（18）及びギャップ
下端規定溝（20）に充填された第１のガラス（21）によ
り強固に行われているので、第８図のヘッドチップ（2
7）の切断面研磨や第９図及び第10図のトラック幅加工
によりヘッドチップ（27）が割れたり、作動ギャップ
（30）のギャップ長が拡大するのが防止される。また、
第１、第２の基板（17a）（17b）とをガラス接合してブ
ロック（23）を形成する際、第６図に示すようにギャッ
プ長規定薄膜（19）の一部が第１のガラス（21）の未反
応であるため、作動ギャップ（30）のギャップ長を高精
度に保つことが出来る。しかも、第１、第２コア半体
（32a）（32b）はギャップ長規定薄膜（19）と第１のガ
ラス（21）との反応部分（24b）であるギャップスペー
サによっても接合されており、ギャップ接合が強力とな
る。In the method of manufacturing a floating magnetic head as described above,
The first and second core halves (32) of the head chip ( 27 ) shown in FIG.
Since the bonding between a) and (32b) is performed firmly by the first glass (21) filled in the glass filling groove (18) and the gap lower end defining groove (20), the head chip (FIG. 8) Two
The head chip ( 27 ) is prevented from being broken or the gap length of the working gap (30) is prevented from being increased by the cutting surface polishing of ( 7 ) and the track width processing of FIGS. 9 and 10. Also,
When forming the block ( 23 ) by glass bonding the first and second substrates (17a) and (17b), as shown in FIG. 6, a part of the gap length defining thin film (19) is formed of the first glass. Since there is no reaction in (21), the gap length of the working gap (30) can be maintained with high accuracy. Moreover, the first and second core halves (32a) and (32b) are also joined by a gap spacer which is a reaction part (24b) between the gap length defining thin film (19) and the first glass (21). Gap joining becomes strong.

また、他の実施例として、第１の基板（17a）にもギ
ャップ下端規定溝を設け、該ギャップ下端規定溝にガラ
スを充填した後、前記第１の基板（17a）上面に鏡面研
磨を行ってからギャップ長規定薄膜を形成し、その後、
前記第１、第２の基板（17a）（17b）のギャップ下端規
定溝同士を位置合わせした状態で前記第１、第２の基板
（17a）（17b）同士を接合してブロックを形成する方法
もある。第11図はこの他の実施例の製造方法により形成
されるヘッドチップの外観を示す斜視図である。As another embodiment, a gap lower end defining groove is also provided in the first substrate (17a), and after filling the gap lower end defining groove with glass, mirror polishing is performed on the upper surface of the first substrate (17a). After forming a gap length defining thin film,
A method of forming a block by joining the first and second substrates (17a) and (17b) with the gap lower end defining grooves of the first and second substrates (17a) and (17b) aligned with each other. There is also. FIG. 11 is a perspective view showing the appearance of a head chip formed by the manufacturing method of another embodiment.

（ト） 発明の効果 本発明に依れば、ヘットチップの割れやギャップ精度
の劣化を防止し、製造歩留りのよい浮動型磁気ヘッドの
製造方法を提供し得る。(G) Effects of the Invention According to the present invention, it is possible to provide a method of manufacturing a floating magnetic head with a good manufacturing yield by preventing cracking of a head chip and deterioration of gap accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第１図乃至第11図は本発明に係り、第１図は浮動型磁気
ヘッドの外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、
第５図、第６図、第７図、第８図、第９図及び第10図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図、第11図は他
の実施例のヘッドチップの外観を示す斜視図である。第
12図乃至第21図はは従来例に係り、第12図は浮動型磁気
ヘッドの外観を示す斜視図、第13図、第14図、第15図、
第16図、第17図、第18図、第19図、第20図及び第21図は
夫々浮動型磁気ヘッドの製造方法を示す図である。 （12）……切り溝、（13）……スライダ、（17a）……
第１の基板、（17b）……第２の基板、（18）……ガラ
ス充填溝、（19）……ギャップ長規定薄膜（ギャップ長
規定材料）、（20）……ギャップ下端規定溝、（21）…
…第１のガラス、（23）……ブロック、（24a）（24b）
……反応部分、（25）……未反応部分、（26）……コア
ブロック、（ブロック）、（27）……ヘッドチップ、
（27a）……上面、（30）……作動ギャップ、（31）…
…媒体対向部、（32a）……第１コア半体、（32b）……
第２コア半体。1 to 11 relate to the present invention, and FIG. 1 is a perspective view showing the appearance of a floating magnetic head, FIG. 2, FIG. 3, FIG.
5, 6, 7, 8, 9, and 10 each show a method of manufacturing a floating magnetic head, and FIG. 11 shows the appearance of a head chip of another embodiment. FIG. No.
12 to 21 relate to a conventional example, and FIG. 12 is a perspective view showing the appearance of a floating magnetic head, FIG. 13, FIG. 14, FIG.
FIG. 16, FIG. 17, FIG. 18, FIG. 19, FIG. 20, and FIG. 21 each show a method of manufacturing a floating magnetic head. (12) ... Groove, (13) ... Slider, (17a) ...
A first substrate, (17b)... A second substrate, (18)... A glass filling groove, (19)... A gap length defining thin film (gap length defining material), (20). (twenty one)…
... first glass, ( 23 ) ... block, (24a) (24b)
… Reactive part, (25)… Unreacted part, ( 26 )… Core block, (block), ( 27 )… Head chip,
(27a)… top surface, (30)… working gap, (31)…
... medium facing portion, (32a) ... first core half, (32b) ...
Second core half.

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】強磁性酸化物よりなる第１、第２コア半体
が、該第２コア半体の接合面中央に形成されたガラス充
填溝に充填したガラスにより前記ガラス充填溝の側方に
位置するギャップスペーサを介して接合されているヘッ
ドチップを形成した後、該ヘッドチップの上面のうち前
記ガラス充填溝形成部を除去して所定のトラック幅の作
動ギャップを有する媒体対向部を形成し、その後、前記
ヘッドチップを非磁性材料よりなるスライダの切り溝に
固定することを特徴とする浮動型磁気ヘッドの製造方
法。The first and second core halves made of a ferromagnetic oxide are filled with glass filled in the center of a glass filling groove formed at the center of the joint surface of the second core half. After forming a head chip joined via a gap spacer located at a position above, the glass filling groove forming portion is removed from the upper surface of the head chip to form a medium facing portion having a working gap with a predetermined track width. And thereafter, fixing the head chip to a cut groove of a slider made of a non-magnetic material. 【請求項２】前記第１、第２コア半体が前記ガラス充填
溝及び作動ギャップの下端を規定するギャップ下端規定
溝に充填されているガラスにより接合されていることを
特徴とする請求項（１）記載の浮動型磁気ヘッドの製造
方法。2. The method according to claim 1, wherein the first and second core halves are joined by a glass filling a gap lower end defining groove for defining a lower end of the glass filling groove and an operating gap. 1) A method of manufacturing the floating magnetic head according to the above. 【請求項３】強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の
基板とを該第２の基板の接合面上のガラス充填溝に充填
されているガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を
介して接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガ
ラス充填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形
成することを特徴とする請求項（１）記載の浮動型磁気
ヘッドの製造方法。3. A method according to claim 1, wherein the first substrate and the second substrate are made of a ferromagnetic oxide and a non-magnetic gap length defining material is made of glass filled in a glass filling groove on a bonding surface of the second substrate. 2. The method for manufacturing a floating magnetic head according to claim 1, wherein the head chip is formed by forming a block by joining through a step, and cutting the block at a portion where the glass filling groove is not formed. 【請求項４】強磁性酸化物よりなる第１の基板と第２の
基板とを該第２の基板の接合面上のガラス充填溝及び該
ガラス充填溝と直交するギャップ下端規定溝に充填され
ているガラスにより非磁性のギャップ長規定材料を介し
て接合してブロックを形成し、該ブロックを前記ガラス
充填溝未形成部分で切断して前記ヘッドチップを形成す
ることを特徴とする請求項（２）記載の浮動型磁気ヘッ
ドの製造方法。4. A first substrate and a second substrate made of a ferromagnetic oxide are filled in a glass filling groove on a joint surface of the second substrate and a gap lower end defining groove orthogonal to the glass filling groove. The head chip is formed by joining a non-magnetic gap length defining material with the forming glass to form a block, and cutting the block at the portion where the glass filling groove is not formed. 2) The method for manufacturing the floating magnetic head according to the above. 【請求項５】前記第１の基板と前記第２の基板とをガラ
スにより接合してブロックを形成する際、ガラス充填溝
形成部の側部において前記ギャップ長規定材料は前記ガ
ラスと反応する部分と反応しない部分とを有することを
特徴とする請求項（３）又は（４）記載の浮動型磁気ヘ
ッドの製造方法。5. When the first substrate and the second substrate are joined by glass to form a block, the gap length defining material reacts with the glass on the side of the glass filling groove forming portion. 5. The method of manufacturing a floating magnetic head according to claim 3, further comprising a portion that does not react with the magnetic head.