JP2619921B2 - Analog type transparent touch panel - Google Patents
Analog type transparent touch panelInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は、コンピューターなどの入力時に使用される
アナログ型透明タッチパネルに関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an analog type transparent touch panel used at the time of input of a computer or the like.
発明の技術的背景ならびにその問題点 コンピューターの入力機器は、多数開発されている。
その代表的なものに、キーボード、トラックボール、マ
ウス、感圧パッド、デジタイザー、タッチパネルがあ
る。ところが、表示画面を見ながら直接表示画面上で所
定の情報を入力できるタッチパネルは、他の入力機器よ
り使いやすく便利なことが多い。Technical background of the invention and its problems Many computer input devices have been developed.
Typical examples include a keyboard, trackball, mouse, pressure-sensitive pad, digitizer, and touch panel. However, a touch panel capable of directly inputting predetermined information on the display screen while watching the display screen is often easier and more convenient than other input devices.
代表的なタッチパネルとしては、マトリックス型とア
ナログ型がある。マトリックス型のタッチパネルでは、
透明絶縁基材上の透明電極を短冊状にエッチング加工し
たものを二枚用い、これらの間にスペーサーを介在さ
せ、前記透明電極を縦と横に交差させて対向させてい
る。また、アナログ型のタッチパネルでは、透明電極を
短冊状に加工せずに、透明電極の両端に銀ペーストなど
で電極を設け、これら透明電極間にスペーサーを介在し
て縦横に対向させて、アナログ／デジタル（A/D）変換
器で位置座標を検出するようにしている。マトリックス
型は、短冊の幅によって位置検出分解能が左右されるた
め、文字・図形入力時に適さず、もっぱらタッチスイッ
チ的に使用される。これに対して、アナログ型は、A/D
変換器の能力により、高分解能が期待できるため、文字
・図形入力の主流になっている。Typical touch panels include a matrix type and an analog type. In a matrix type touch panel,
Two strips of a transparent electrode on a transparent insulating substrate are etched and used. A spacer is interposed between the strips, and the transparent electrodes are opposed to each other so as to intersect vertically and horizontally. In the analog type touch panel, the transparent electrodes are not processed into strips, but electrodes are provided at both ends of the transparent electrodes with silver paste or the like. The position coordinates are detected by a digital (A / D) converter. The matrix type is not suitable for inputting characters and figures because the position detection resolution is affected by the width of the strip, and is used exclusively as a touch switch. On the other hand, analog type is A / D
Since high resolution can be expected due to the capability of the converter, it has become the mainstream of character / graphic input.
ところが、このようなアナログ型のタッチパネルにあ
って、前記透明絶縁基材として透明プラスチックを用
い、透明電極として蒸着法・スパッタリング法・CVD法
などの気相法により形成された導電性酸化インジウム膜
（以下ITO膜という）を用いたものでは、外部から照射
される紫外線量、あるいは表示画面の発光素子またはバ
ックライトからの紫外線量により電極の抵抗値が経時的
に変化することが本発明者等によって発見された。電極
の抵抗値が経時的に変化すると、文字・図形を入力した
座標と、それらが表示される座標とにずれが生じる。し
たがって、表示される文字・図形がいびつな形になった
り、あるいは表示されない虞があった。However, in such an analog type touch panel, a transparent plastic is used as the transparent insulating base material, and a conductive indium oxide film (formed by a vapor phase method such as an evaporation method, a sputtering method, or a CVD method) as a transparent electrode ( In the case of using an ITO film), the present inventors and others have found that the resistance value of the electrode changes with time due to the amount of ultraviolet light radiated from the outside or the amount of ultraviolet light from the light emitting element of the display screen or the backlight. It's been found. When the resistance value of the electrode changes over time, a difference occurs between the coordinates at which the characters / graphics are input and the coordinates at which they are displayed. Therefore, there is a possibility that the displayed characters and graphics may be distorted or may not be displayed.
発明の目的 本発明は、上記のような従来技術に伴う問題点を解決
するものであり、紫外線による電極の抵抗値の経時的変
化を抑え、高精細な文字・図形などの入力を常時可能と
するアナログ型透明タッチパネルの提供を目的としてい
る。Object of the Invention The present invention is to solve the problems associated with the prior art as described above, and suppresses the temporal change of the resistance value of the electrode due to ultraviolet rays, and enables always inputting high-definition characters and figures. The purpose is to provide an analog type transparent touch panel.
発明の概要 本発明に係る第１アナログ型透明タッチパネル（以下
本第１タッチパネルという）は、略平行で所定の間隔に
配置された透明絶縁基材の対向する表面に、抵抗膜がそ
れぞれ形成され、対向する前記抵抗膜の一部を接触して
電気的に導通させ、高精細な文字・図形を入力するもの
であって、該アナログ型タッチパネルの外光が入射する
側の透明絶縁基材上に、可視光線未満の波長の電磁波を
遮蔽する紫外線遮蔽層を設けたことを特徴としている。SUMMARY OF THE INVENTION A first analog type transparent touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the first touch panel) has a resistance film formed on opposing surfaces of transparent insulating base materials arranged substantially in parallel and at predetermined intervals, A part of the opposing resistive film is brought into contact with and electrically connected to input a high-definition character or graphic, and is provided on the transparent insulating substrate on the side of the analog type touch panel where external light is incident. And an ultraviolet shielding layer for shielding an electromagnetic wave having a wavelength less than visible light.
本発明に係る第２のアナログ型透明タッチパネル（以
下本第２タッチパネルという）は、略平行で所定の間隔
に配置された透明絶縁基材の対向する表面に、抵抗膜が
それぞれ形成され、対向する前記抵抗膜の一部を接触し
て電気的に導通させ、高精細な文字・図形を入力するも
のであって、両方の透明絶縁基材外部表面に、可視光線
未満の波長の電磁波を遮蔽する紫外線遮蔽層を設けたこ
とを特徴としている。In a second analog type transparent touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as the second touch panel), resistive films are respectively formed on opposing surfaces of transparent insulating base materials which are arranged substantially parallel and at a predetermined interval, and are opposed to each other. A part of the resistive film is brought into electrical contact with and electrically connected to input high-definition characters and figures, and shields electromagnetic waves of wavelengths shorter than visible light on both transparent insulating substrate outer surfaces. It is characterized in that an ultraviolet shielding layer is provided.
本発明に係る第３アナログ型透明タッチパネル（以下
本第３タッチパネルという）は、略平行で所定の間隔に
配置された透明絶縁基材の対向する表面に、抵抗膜がそ
れぞれ形成され、対向する前記抵抗膜の一部を接触して
電気的に導通させ、高精細な文字・図形を入力するもの
であって、該アナログ型タッチパネルの外光が入射する
側の透明絶縁基材として、可視光線未満の波長の電磁波
を遮蔽する紫外線遮蔽透明絶縁基材を用いたことを特徴
としている。In a third analog type transparent touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as a third touch panel), resistive films are respectively formed on opposing surfaces of transparent insulating base materials that are arranged substantially in parallel and at predetermined intervals, and the opposing opposing surfaces are formed. A part of the resistive film is brought into contact with and electrically conducted to input high-definition characters and figures, and as a transparent insulating substrate on the side of the analog type touch panel where external light is incident, less than visible light Characterized in that an ultraviolet-shielding transparent insulating base material for shielding electromagnetic waves having the following wavelengths is used.
本発明に係る第４のアナログ型透明タッタパネル（以
下本第４タッチパネルという）は、略平行で所定の間隔
に配置された透明絶縁基材の対向する表面に、抵抗膜が
それぞれ形成され、対向する前記抵抗膜の一部を接触し
て電気的に導通させ、高精細な文字・図形を入力するも
のであって、両方の透明絶縁基材として、可視光線未満
の波長の電磁波を遮蔽する紫外線遮蔽透明絶縁基材を用
いたことを特徴としている。In a fourth analog type transparent touch panel according to the present invention (hereinafter referred to as a fourth touch panel), a resistive film is formed on each of opposing surfaces of transparent insulating base materials that are arranged substantially in parallel and at a predetermined interval. A part of the resistive film is electrically contacted and electrically connected to input high-definition characters and figures, and as both transparent insulating bases, ultraviolet rays that shield electromagnetic waves having wavelengths shorter than visible light It is characterized by using a shielding transparent insulating base material.
発明の具体的説明 以下、本発明に係るタッチパネルを図面に示す実施例
を参照しつつ説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Hereinafter, a touch panel according to the present invention will be described with reference to embodiments shown in the drawings.
第１図は、本第１タッチパネルの一実施例であり、そ
の要部断面図である。第１図に示す本第１タッチパネル
１では、略平行で所定の間隔に配置された透明絶縁基材
2,3における対向する表面に所定膜厚の抵抗膜4,5をそれ
ぞれ形成している。さらに外光が入射する側の透明絶縁
基材２上に紫外線遮蔽層６を設けている。FIG. 1 is an embodiment of the present first touch panel, and is a sectional view of a main part thereof. In the present first touch panel 1 shown in FIG. 1, a transparent insulating base material which is substantially parallel and is arranged at a predetermined interval is provided.
Resistive films 4 and 5 having a predetermined thickness are formed on the opposing surfaces of 2 and 3, respectively. Further, an ultraviolet shielding layer 6 is provided on the transparent insulating substrate 2 on the side where external light is incident.
第２図は、本第２タッチパネルの一実施例であり、そ
の要部断面図である。第２図に示す本第２タッチパネル
１では、略平行で所定の間隔に配置された透明絶縁基材
2,3における対向する表面に所定膜厚の抵抗膜4,5をそれ
ぞれ形成している。さらに透明絶縁基材2,3の外部表面
に紫外線遮蔽層6,7を設けている。FIG. 2 shows an embodiment of the present second touch panel, and is a cross-sectional view of a main part thereof. In the second touch panel 1 shown in FIG. 2, a transparent insulating base material which is substantially parallel and is arranged at a predetermined interval is provided.
Resistive films 4 and 5 having a predetermined thickness are formed on the opposing surfaces of 2 and 3, respectively. Further, ultraviolet shielding layers 6 and 7 are provided on the outer surfaces of the transparent insulating substrates 2 and 3, respectively.
第３図は、本第３タッチパネルの一実施例であり、そ
の要部断面図である。第３図に示す本第３タッチパネル
１では、略平行で所定の間隔に配置された紫外線遮蔽透
明絶縁基材８および透明絶縁基材３における対向する表
面に所定膜厚の抵抗膜4,5をそれぞれ形成している。FIG. 3 is an example of the third touch panel, and is a cross-sectional view of a main part thereof. In the third touch panel 1 shown in FIG. 3, resistive films 4 and 5 having a predetermined thickness are provided on opposing surfaces of the ultraviolet shielding transparent insulating base material 8 and the transparent insulating base material 3 which are arranged substantially in parallel and at predetermined intervals. Each is formed.
第４図は、本第４タッチパネルの一実施例であり、そ
の要部断面図である。第４図に示す本第４タッチパネル
１では、略平行で所定の間隔に配置された紫外線遮蔽透
明絶縁基材8,9における対向する表面に所定膜厚の抵抗
膜4,5をそれぞれ形成している。FIG. 4 is an example of the present fourth touch panel, and is a cross-sectional view of a main part thereof. In the fourth touch panel 1 shown in FIG. 4, resistance films 4 and 5 having a predetermined thickness are formed on opposing surfaces of the ultraviolet shielding transparent insulating base materials 8 and 9 which are arranged substantially in parallel and at predetermined intervals. I have.
前述した透明絶縁基材2,3および紫外線遮蔽透明絶縁
基材8,9は、板状であり、その材質としては、絶縁性を
有する材料、たとえば硝子もしくはプラスチック等が用
いられる。ただし、本第１〜第４のタッチパネルにおい
ては、いずれか一方の透明絶縁基材として透明プラスチ
ックを用い、その基材上に形成されている抵抗膜として
ITO膜を用いている。これは、いずれか一方の透明絶縁
基材は、可撓性を有する必要があり、いずれか一方の透
明絶縁基材を押圧することにより、当該透明絶縁基材を
撓ませ、抵抗膜4,5同士の一部を接触させ、電気的に導
通させる必要があるからである。第１〜４図に示す実施
例では、一方の透明絶縁基材2,8を可撓性を有する可動
パネル10として用い、他方の透明絶縁基材3,9を固定パ
ネル11として用いていることから、少なくとも一方の透
明絶縁基材2,8は透明プラスチックで構成される必要が
ある。The transparent insulating bases 2 and 3 and the ultraviolet shielding transparent insulating bases 8 and 9 described above have a plate shape, and are made of an insulating material such as glass or plastic. However, in the first to fourth touch panels, a transparent plastic is used as one of the transparent insulating base materials, and the resistive film formed on the base material is used as a transparent film.
An ITO film is used. This is because one of the transparent insulating substrates needs to have flexibility, and by pressing one of the transparent insulating substrates, the transparent insulating substrate is bent, and the resistive films 4 and 5 are pressed. This is because it is necessary to bring a part of the members into contact with each other and electrically conduct them. In the embodiment shown in FIGS. 1 to 4, one of the transparent insulating substrates 2 and 8 is used as a flexible movable panel 10 and the other transparent insulating substrates 3 and 9 are used as a fixed panel 11. Therefore, at least one of the transparent insulating substrates 2 and 8 needs to be made of transparent plastic.
紫外線遮蔽層6,7および紫外線遮蔽透明絶縁基材8,9
は、波長が可視光線未満の紫外線を遮蔽するものであっ
て、好ましくは約380nm以下の波長を遮蔽するものであ
る。遮蔽する光線の波長が可視光線域から始まっている
と、透明性が要求されるタッチパネルについては、タッ
チパネルの透明性を低下させるため好ましくない。紫外
線遮蔽層6,7を透明絶縁基材２または３上に形成するに
は、たとえば、紫外線を反射または吸収する物質を含有
した透明プラスチックまたは透明ガラスを、透明絶縁基
材2,3上に貼合わせればよい。あるいは、透明絶縁基材
2,3上に紫外線遮蔽層6,7をコーティングまたは蒸着法、
スパッタリング法、CVD法などの気相法により積層して
もよい。紫外線を反射または吸収する物質としては、Ti
O2、ZnO2、Fe2O3、CeO2などの酸化物粒子あるいは周知
の紫外線遮蔽能を持つ物質が用いられる。これら物質を
透明プラスチックまたは透明ガラス等に予め含有させた
ものを紫外線遮蔽層6,7として用いてもよい。またはそ
れら物質を透明な平板状物質にコーティングしたものを
紫外線遮蔽層6,7として用いてもよい。UV shielding layers 6 and 7 and UV shielding transparent insulating substrates 8 and 9
Is for blocking ultraviolet light having a wavelength of less than visible light, and preferably for blocking wavelengths of about 380 nm or less. If the wavelength of the light to be blocked starts from the visible light range, it is not preferable for a touch panel that requires transparency because the transparency of the touch panel is reduced. In order to form the ultraviolet ray shielding layers 6 and 7 on the transparent insulating base material 2 or 3, for example, a transparent plastic or transparent glass containing a substance that reflects or absorbs ultraviolet light is pasted on the transparent insulating base material 2 or 3. You just have to match. Alternatively, a transparent insulating substrate
Coating or vapor deposition of UV shielding layers 6, 7 on 2,3,
The layers may be stacked by a vapor phase method such as a sputtering method and a CVD method. As a substance that reflects or absorbs ultraviolet light, Ti
Oxide particles such as O 2 , ZnO 2 , Fe 2 O 3 , and CeO 2, or a substance having a known ultraviolet shielding ability are used. A material in which these substances are previously contained in transparent plastic or transparent glass may be used as the ultraviolet shielding layers 6 and 7. Alternatively, a material obtained by coating such a substance on a transparent plate-like substance may be used as the ultraviolet shielding layers 6 and 7.
なお、紫外線遮蔽透明絶縁基材8,9も、紫外線遮蔽層
6,7と同様にして形成することができる。In addition, the ultraviolet shielding transparent insulating substrates 8 and 9 also have an ultraviolet shielding layer.
It can be formed in the same manner as in 6 and 7.
このような紫外線遮蔽層6,7もしくは紫外線遮蔽透明
絶縁基材8,9により遮蔽される電磁波の波長の最大値は
約380nmであることが好ましい。すなわち、約380nm以下
の波長の電磁波がすべて遮蔽されることが好ましい。遮
蔽される電磁波の波長の最大値が約380nmより小さい
と、第７図、第８図に示すように、抵抗値が変化してし
まい、文字・図形を入力した座標とそれらが表示される
座標とにずれが生じるからである。一方の表面に紫外線
遮蔽層6,7が設けられ、他方の表面に抵抗膜が形成され
た透明絶縁基材2,3においては、その全光線透過率が70
％以上、ヘーズが20％未満であるのが好ましい。透明絶
縁基材として、紫外線遮蔽透明絶縁基材8,9を用いる場
合も同様である。It is preferable that the maximum value of the wavelength of the electromagnetic wave shielded by the ultraviolet shielding layers 6, 7 or the ultraviolet shielding transparent insulating bases 8, 9 is about 380 nm. That is, it is preferable that all electromagnetic waves having a wavelength of about 380 nm or less are shielded. If the maximum value of the wavelength of the electromagnetic wave to be shielded is smaller than about 380 nm, the resistance value changes as shown in FIGS. 7 and 8, and the coordinates at which characters and graphics are input and the coordinates at which they are displayed This is because there is a shift between. In the transparent insulating base materials 2 and 3 in which the ultraviolet shielding layers 6 and 7 are provided on one surface and the resistive film is formed on the other surface, the total light transmittance is 70%.
% And less than 20% haze. The same applies to the case where the ultraviolet shielding transparent insulating substrates 8 and 9 are used as the transparent insulating substrates.
抵抗膜4,5は、50Ω／□≦表面抵抗≦3000Ω／□の抵
抗値を有し、かつ抵抗膜4,5が形成された透明絶縁基材
2,3の全光線透過率が70％以上、ヘーズが20％未満であ
るのが好ましい。The resistive films 4 and 5 have a resistance value of 50Ω / □ ≦ surface resistance ≦ 3000Ω / □, and the transparent insulating substrate on which the resistive films 4 and 5 are formed
It is preferable that the total light transmittance of a few is 70% or more and the haze is less than 20%.
抵抗膜は、蒸着法・スパッタリング法・CVD法等の気
相法により、透明絶縁基材2,3,8,9上に、導電性酸化イ
ンジウム膜（ITO膜）、あるいは導電性酸化錫膜（NESA
膜）等を被着することによって得ることができる。また
（ａ）導電性酸化インジウム粉末を、（ｂ）キャリアー
移動速度が10-8cm2/V・sec以上のバインダー樹脂（以下
抵抗膜用バインダー樹脂という）中に分散された抵抗膜
用塗料を塗布して透明絶縁基材2,3,8,9上に形成するこ
ともできる。The resistive film is formed on a transparent insulating base material 2, 3, 8, or 9 by a vapor phase method such as a vapor deposition method, a sputtering method, or a CVD method on a conductive indium oxide film (ITO film) or a conductive tin oxide film (ITO film). NESA
Film) or the like. Also, (a) a conductive indium oxide powder, and (b) a resistive film paint dispersed in a binder resin (hereinafter referred to as a resistive film binder resin) having a carrier moving speed of 10 −8 cm 2 / V · sec or more. It can also be applied and formed on the transparent insulating substrates 2, 3, 8, and 9.
この抵抗膜用塗料で用いられる（ｂ）抵抗膜用バイン
ダー樹脂としては、ポリピロール、ポリアセタール、ポ
リピリジン等の導電性樹脂、あるいはポリビニルカルバ
ゾール、ジフェニルアミノスチレン等の光導電性樹脂な
どが使用できる。キャリアー移動速度が10-8cm2/V・sec
未満であると、抵抗が高くなりすぎて、抵抗膜の機能を
保てない。さらに熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線
硬化性樹脂のうちから、一種以上を抵抗膜用バインダー
樹脂と混合すると、抵抗膜用塗料の塗工性を向上させた
り、得られる抵抗膜4,5と透明絶縁基材2,3との密着性を
向上させたりすることができる。抵抗膜用バインダー樹
脂と、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂
との混合割合は、混合されたバインダー樹脂でのキャリ
アー移動速度が10-8cm2/V・sec以上に保持すれば良い。As the (b) binder resin for the resistive film used in the resistive film paint, a conductive resin such as polypyrrole, polyacetal, or polypyridine, or a photoconductive resin such as polyvinylcarbazole or diphenylaminostyrene can be used. Carrier moving speed is 10 -8 cm 2 / Vsec
If it is less than 1, the resistance becomes too high and the function of the resistive film cannot be maintained. Further, when one or more of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable resin are mixed with a binder resin for a resistive film, the coatability of a paint for a resistive film can be improved, or the resistive films 4,5 obtained. And the transparent insulating substrates 2 and 3 can be improved in adhesion. The mixing ratio of the binder resin for the resistive film, the thermoplastic resin, the thermosetting resin, and the ultraviolet curable resin is such that the carrier moving speed of the mixed binder resin is maintained at 10 -8 cm 2 / Vsec or more. Good.
この熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂
としては、具体的には、メタクリル樹脂などのアクリル
系樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂などのアミノ系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド
イミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテル系樹
脂、アルキッド樹脂などのポリエステル系樹脂、エポキ
シ系樹脂、塩素化ポリエーテル樹脂などの塩素化物系樹
脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などのポリ
オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコー
ン樹脂、ポリスチレン系樹脂、ABS系樹脂、ポリアミン
スルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂などのポ
リスルフォン系樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン
樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルカルバゾール樹脂、
ブチラール樹脂などのビニル系樹脂、フッ素系樹脂、ポ
リフェニレンオキシド系樹脂、ポリピロール系樹脂、ポ
リファラフェニレン系樹脂、紫外線硬化性樹脂あるいは
セルロース誘導体などが用いられる。また、上記樹脂の
共重合体等を、一種または二種以上組み合わせて使用す
ることもできる。Specific examples of the thermoplastic resin, thermosetting resin, and ultraviolet curable resin include acrylic resins such as methacrylic resin, urea resins, amino resins such as melamine resins, polyamide resins, polyimide resins, and polyamide resins. Polyimide resins such as imide resins, polyurethane resins, polyether resins and alkyd resins, epoxy resins, chlorinated resins such as chlorinated polyether resins, polyolefin resins such as polyethylene resins and polypropylene resins, and polycarbonate resins Resins, silicone resins, polystyrene resins, ABS resins, polyamine sulfone resins, polysulfone resins such as polyether sulfone resins, vinyl chloride resins, vinylidene chloride resins, vinyl acetate resins, polyvinyl carbazole resins,
Vinyl-based resins such as butyral resin, fluorine-based resins, polyphenylene oxide-based resins, polypyrrole-based resins, polyfaraphenylene-based resins, ultraviolet-curable resins, and cellulose derivatives are used. Further, copolymers of the above resins and the like may be used alone or in combination of two or more.
キャリアー移動速度とは、樹脂に電界をかけた場合
に、樹脂中で電子または正孔が動く速さを意味してお
り、モビリティ（mobility）ともいう。このキャリアー
移動速度は、以下のようにして測定される。The carrier moving speed refers to the speed at which electrons or holes move in the resin when an electric field is applied to the resin, and is also referred to as mobility. This carrier moving speed is measured as follows.
距離ｌの電極間に厚さｌの樹脂を差し込む。次に樹脂
に光を照射して樹脂内の電子を励起させ、正極に電子を
移動させる。この際、光を照射した時刻t0と、正極に電
子が到達した時刻t1との差を測定機器により計測する。
ここでキャリアー移動速度関数ν（Ｅ）は、次式で表わ
される。A resin having a thickness of l is inserted between the electrodes at a distance of l. Next, the resin is irradiated with light to excite electrons in the resin and move the electrons to the positive electrode. In this case, the time t 0 when irradiated with light, is measured by the measuring device the difference between the time t 1 that electrons reaches the positive electrode.
Here, the carrier moving speed function ν (E) is represented by the following equation.
（式中のμは、キャリアー移動速度、Ｅは電界、Ｖは電
圧である。） （ａ）導電性酸化インジウム粉末は、酸化インジウム
に、錫、フッ素、塩素などの元素を、一種または二種以
上ドープした導電性酸化インジウム粉末が、あるいは前
記元素がドープされた導電性酸化インジウムを被覆した
粉体が用いられる。 (Μ in the formula is a carrier moving speed, E is an electric field, and V is a voltage.) (A) The conductive indium oxide powder is obtained by adding one or two kinds of elements such as tin, fluorine, and chlorine to indium oxide. The conductive indium oxide powder doped above or the powder coated with the conductive indium oxide doped with the above element is used.
さらに（ａ）導電性酸化インジウム粉末と、導電性酸
化錫粉末とを、混合して使用することもできる。その時
に使用する導電性酸化錫粉末は、酸化錫に、アンチモ
ン、フッ素、リン、塩素などの元素を一種または二種以
上ドープした導電性酸化錫粉末あるいは前記元素がドー
プされた導電性酸化錫を被覆した粉体である。これらの
粉末は、本出願人が先に出願した特開昭60−50813号公
報、特開昭60−253112号公報、特開昭63−11519号公報
によって得られるものが好ましい。Further, (a) the conductive indium oxide powder and the conductive tin oxide powder can be mixed and used. The conductive tin oxide powder used at that time is a conductive tin oxide powder doped with one or two or more elements such as antimony, fluorine, phosphorus, and chlorine, or a conductive tin oxide doped with the element. It is a coated powder. These powders are preferably those obtained according to Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 60-50813, 60-253112, and 63-11519, which were previously filed by the present applicant.
さらに、塗料中における導電性酸化インジウム粉末あ
るいは導電性酸化錫粉末の平均粒径が、0.01〜0.6μｍ
好ましくは0.01〜0.5μｍの範囲で0.8μｍ以上の粗大粒
子が、少量しか含まれていないものがよい。これらの粉
末としては、本出願人が先に出願した特開昭63−11519
号公報によって得られるものが特に好ましい。Furthermore, the average particle size of the conductive indium oxide powder or conductive tin oxide powder in the coating is 0.01 to 0.6 μm
Preferably, it contains only a small amount of coarse particles of 0.8 μm or more in the range of 0.01 to 0.5 μm. These powders include those described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
What is obtained by the gazette is especially preferable.
（ａ）導電性酸化インジウム粉末と、（ｂ）キャリア
ー移動速度が10-8cm2/V・sec以上のバインダー樹脂との
混合割合は、それぞれの重量において、70≦（ａ）／
（（ａ）＋（ｂ））≦95重量％が好ましい。（ａ）が70
重量％未満では、得られる抵抗膜の導電性が悪くなる。
一方95重量％を越えると抵抗膜と透明絶縁基材との密着
性および得られる抵抗膜の透明性が悪くなるので好まし
くない。The mixing ratio of (a) the conductive indium oxide powder and (b) the binder resin having a carrier moving speed of 10 −8 cm 2 / V · sec or more is 70 ≦ (a) /
((A) + (b)) ≦ 95% by weight is preferred. (A) is 70
When the amount is less than the weight percentage, the conductivity of the obtained resistive film deteriorates.
On the other hand, when the content exceeds 95% by weight, the adhesion between the resistive film and the transparent insulating substrate and the transparency of the obtained resistive film are undesirably deteriorated.
本発明で用いられる抵抗膜用塗料は、前記各成分が溶
剤中に、溶解あるいは分散されている。この溶剤として
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂お
よびキャリアー移動速度が10-8cm2/V・sec以上のバイン
ダー樹脂を、溶解または希釈しうるものを使用する。た
とえば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタ
ノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール等
のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ホロン、イソ
ホロン等のケトン類、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリモノエチルエーテル、カルビトー
ル、メチルカルビトール、ジオキサン等のエーテル類、
酢酸ｎ−ブチル等のエステル類、ヘキサン、シクロヘキ
サン等の石油ナフサ類、トルエン、キシレン、メシチレ
ン、ソルベントナフサ等のベンゾール類、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンおよびその誘導体などが一種または二種
以上組み合わせて使用する。このような溶剤は、所望の
膜厚および塗料を塗布しうる粘度となるような量で用い
られる。また水溶性バインダー樹脂を用いた場合には、
溶剤として水を用いることもできる。In the coating material for a resistive film used in the present invention, each of the above components is dissolved or dispersed in a solvent. As the solvent, a solvent capable of dissolving or diluting a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin, and a binder resin having a carrier moving speed of 10 −8 cm 2 / V · sec or more is used. For example, methanol, ethanol, propanol, butanol, diacetone alcohol, alcohols such as cyclohexanol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, holone, ketones such as isophorone, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glymonoethyl ether, Ethers such as carbitol, methyl carbitol, dioxane,
Esters such as n-butyl acetate, petroleum naphthas such as hexane and cyclohexane, benzols such as toluene, xylene, mesitylene, and solvent naphtha, N-methyl-
2-Pyrrolidone and its derivatives are used alone or in combination of two or more. Such a solvent is used in such an amount as to have a desired film thickness and a viscosity at which a paint can be applied. When a water-soluble binder resin is used,
Water can be used as the solvent.
抵抗膜用塗料を製造する際には、（ａ）導電性酸化イ
ンジウム粉末の分散性を向上させて、粒子同士の再凝集
を防止するため、界面活性剤あるいはカップリング剤を
前記塗料に添加すると良い。When producing a coating for a resistive film, (a) a surfactant or a coupling agent is added to the coating to improve the dispersibility of the conductive indium oxide powder and prevent reaggregation of particles. good.
界面活性剤としては、アニオン系、ノニオン系、カチ
オン系などのものを広く用いることもできる。またカッ
プリング剤としては、シラン系、チタン系、アルミニウ
ム系、ジルコニウム系、マグネシウム系のものが使用で
きる。As the surfactant, anionic, nonionic, cationic and the like can be widely used. As the coupling agent, silane-based, titanium-based, aluminum-based, zirconium-based, and magnesium-based coupling agents can be used.
このようにして得られる抵抗膜用塗料を用い、従来公
知の塗工法、たとえばスピンナー法、バーコート法、デ
ィップ法、メイヤバー法、エアーナイフ法あるいはグラ
ビア、スクリーン、ロールコーター等の印刷法によっ
て、透明絶縁基材上に塗工し、ついで乾燥することによ
って抵抗膜が得られる。本発明では、これらの方法によ
って得られた透明絶縁基材を、各抵抗膜が対向するよう
に重ねてタッチパネルを構成している。Using the coating for the resistive film obtained in this manner, by a conventionally known coating method, for example, a spinner method, a bar coating method, a dip method, a Meyer bar method, an air knife method or a gravure, screen, a printing method such as a roll coater, transparent. A resistive film is obtained by coating on an insulating base material and then drying. In the present invention, a touch panel is formed by stacking the transparent insulating base materials obtained by these methods so that the respective resistive films face each other.
本発明に係るタッチパネル１では、たとえば第５図
（座標読み取り原理図の一例）または第６図に示すよう
に、可動パネル（上側）10により押圧位置Ａ点のＹ座標
を、固定パネル（下側）11によりＸ座標を読み取る。押
圧位置Ａ点で、抵抗膜４と抵抗膜５が接触すると、定電
流装置16により供給された電流Ｉは、I1とI2とに分配さ
れて可動パネル（上側）10を流れ、Ａ点で下側のＡ′に
移る。さらにＡ′点で電流Ｉは、I3とI4とに分配された
後、固定パネル（下側）11を流れて回路を形成する。こ
こでI1とI2を検出すれば、Ａ点のＹ座標が算出され、同
じくI3とI4を検出すれば、Ａ点のＸ座標が算出されて、
Ａ点の座標が決定される。In the touch panel 1 according to the present invention, for example, as shown in FIG. 5 (an example of a coordinate reading principle diagram) or FIG. 6, the movable panel (upper side) 10 moves the Y coordinate of the pressed position A to the fixed panel (lower side). ) Read the X coordinate by 11. In pressing position the point A, when the resistive film 4 is resistive film 5 contacts, current I supplied by the constant current device 16 flows through the movable panel (upper side) 10 is partitioned between I 1 and I 2, the point A To move to A 'on the lower side. Furthermore current I at point A ', after being distributed to the I 3 and I 4, to form a circuit flows through the fixed panel (the lower) 11. Here, if I 1 and I 2 are detected, the Y coordinate of point A is calculated, and if I 3 and I 4 are also detected, the X coordinate of point A is calculated.
The coordinates of point A are determined.
なお、本発明に係るタッチパネル１の座標読み取り回
路としては、第5,6図に示すものに限定されず、種々の
従来公知の回路が用いられる。Note that the coordinate reading circuit of the touch panel 1 according to the present invention is not limited to those shown in FIGS. 5 and 6, and various conventionally known circuits are used.
発明の効果 本発明に係るアナログ型透明タッチパネルは、略平行
で所定の間隔に配置された透明絶縁基材の対向する表面
に、抵抗膜がそれぞれ形成され、該アナログ型タッチパ
ネルの外光が入射する側の透明絶縁基材上に、または対
向する両透明絶縁基材の外部表面に、波長が可視光線未
満の紫外線を遮蔽する層を設けている。あるいは、前記
タッチパネルにおいて透明絶縁基材として紫外線を遮蔽
する基材を用いている。このため紫外線による抵抗値の
経時的変化が紫外線遮蔽層で抑えられる。したがって、
入力座標と表示（表示）座標とが経時的にもずれず、高
精細な文字・図形などの入力が常時可能となる。このよ
うなタッチパネルの用途には、コンピューターの入力装
置として使用できるのはもちろんのこと、さらにコピー
機では、複写位置を指定する際にも使用できる。Effect of the Invention In the analog type transparent touch panel according to the present invention, the resistive films are respectively formed on the opposing surfaces of the transparent insulating base materials arranged substantially in parallel and at predetermined intervals, and external light of the analog type touch panel is incident. A layer that blocks ultraviolet light having a wavelength less than visible light is provided on the transparent insulating base material on the side or on the outer surfaces of the transparent insulating base materials facing each other. Alternatively, a substrate that blocks ultraviolet light is used as the transparent insulating substrate in the touch panel. For this reason, the temporal change of the resistance value due to the ultraviolet light is suppressed by the ultraviolet light shielding layer. Therefore,
The input coordinates and the display (display) coordinates do not shift over time, and high-definition characters and figures can be always input. Such a touch panel can be used not only as an input device of a computer, but also in a copy machine for designating a copy position.
以下本発明に係るタッチパネルを、より具体的な実施
例によって説明するが、本発明は、これら実施例に限定
されるものではない。Hereinafter, the touch panel according to the present invention will be described with more specific examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例１ 可動パネル10として蒸着法によって得られたITO膜フ
ィルム（帝人（株）製、商品名Ｔ−COAT,F−175−Ｈ）
を用い、固定パネル11としてCVD法によって得られてNES
A膜ガラス（日本板硝子（株）製、商品名TO−F110C−A1
5）を用い、さらに紫外線遮蔽フィルム６として、東レ
（株）製、商品名ルミラーＷ＃150を用い、透明絶縁基
材２の上に貼付して第１図で示されるタッチパネル１を
作製した。Example 1 An ITO film film obtained by a vapor deposition method as a movable panel 10 (trade name: T-COAT, F-175-H, manufactured by Teijin Limited)
NES obtained by CVD method as fixed panel 11 using
A film glass (Nippon Sheet Glass Co., Ltd., trade name TO-F110C-A1)
5), and a UV-shielding film 6 using Lumilar W # 150 (trade name, manufactured by Toray Industries, Inc.) was stuck on the transparent insulating substrate 2 to produce the touch panel 1 shown in FIG.
実施例２〜３および比較例１〜２ 表１の構成にしたがって、実施例１と同様にしてタッ
チパネルを作製した。Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 A touch panel was manufactured in the same manner as in Example 1 according to the configuration shown in Table 1.
実施例４ 実施例１で得られたタッチパネルにおいて、固定タッ
チパネル11の外表面上に紫外線遮蔽フィルム（商品名
ルミラーＷ＃150）を貼付けて、第２図で示されるタッ
チパネルを得た。Example 4 In the touch panel obtained in Example 1, an ultraviolet shielding film (trade name) was formed on the outer surface of the fixed touch panel 11.
And the touch panel shown in FIG. 2 was obtained.
実施例５ 実施例１で得られたタッチパネルにおいて、可動パネ
ルとして、紫外線遮蔽フィルムにITO膜を蒸着したもの
（ユニチカ製、商品名 ゼロームLU−100）を用いて、
第３図で示されるタッチパネルを作製した。Example 5 In the touch panel obtained in Example 1, as a movable panel, a material obtained by vapor-depositing an ITO film on an ultraviolet shielding film (trade name: Xerome LU-100, manufactured by Unitika) was used.
The touch panel shown in FIG. 3 was produced.
以上のようにして得られたタッチパネルについて下記
の評価を行なった。The touch panel obtained as described above was evaluated as follows.
1.80W/cmの紫外線ランプを備えた紫外線照射装置に、紫
外線ランプから8cm離してタッチパネルを設置し、5m/分
の速度でパネルを移動させながら可動パネル側から紫外
線ランプを照射した。これを所定回数繰り返した後の可
動パネルの抵抗膜の抵抗値を測定した。A touch panel was installed 8 cm away from the ultraviolet lamp in an ultraviolet irradiation device equipped with a 1.80 W / cm ultraviolet lamp, and the movable panel was irradiated with the ultraviolet lamp while moving the panel at a speed of 5 m / min. After repeating this a predetermined number of times, the resistance value of the resistive film of the movable panel was measured.
2.15Wの白色円形蛍光灯を、タッチパネルから8cm離して
可動パネル側から照射し、所定時間照射後の可動パネル
の抵抗膜の抵抗値を測定した。A 2.15 W white circular fluorescent lamp was irradiated from the movable panel side at a distance of 8 cm from the touch panel, and the resistance value of the resistive film of the movable panel after irradiation for a predetermined time was measured.
以上の結果を表２、表３、第７図、第８図に示す。 The above results are shown in Tables 2, 3 and 7 and 8.
なお、第７図および第８図で、横軸の紫外線遮蔽波長
とは、それぞれの紫外線遮蔽フイルムで遮蔽された最大
波長を意味し、310nm、340nm、370nmにおけるデーター
は、それぞれ比較例１、実施例３、実施例１を用いた。In FIGS. 7 and 8, the ultraviolet shielding wavelength on the horizontal axis means the maximum wavelength blocked by each ultraviolet shielding film, and the data at 310 nm, 340 nm, and 370 nm correspond to Comparative Example 1 and Example 3, respectively. Example 3 and Example 1 were used.
第１図は本第１タッチパネルの一実施例であり、その要
部断面図、第２図は本第２タッチパネルの一実施例であ
り、その要部断面図、第３図は本第３タッチパネルの一
実施例であり、その要部断面図、第４図は本第４タッチ
パネルの一実施例であり、その要部断面図、第５図は座
標読み取り原理図、第６図はタッチパネルの概略斜視
図、第７図は紫外線を照射したときの抵抗変化率と紫外
線遮蔽波長の関係を示すグラフ、第８図は螢光灯を照射
したときの抵抗変化率と紫外線遮蔽波長の関係を表わす
グラフである。 １……タッチパネル、2,3……透明絶縁基材 4,5……抵抗膜、6,7……紫外線遮蔽層 8,9……紫外線遮蔽透明絶縁基材 10……可動パネル（上側） 11……固定パネル（下側） 12,13,14,15……端子 16……定電流装置、17……電流計 18……電圧計、19……入力ペンFIG. 1 is an example of the first touch panel according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an example of the second touch panel according to an embodiment of the present invention. FIG. FIG. 4 is an embodiment of the present fourth touch panel, and FIG. 5 is a sectional view of the principle of coordinate reading, and FIG. 6 is a schematic diagram of the touch panel. FIG. 7 is a graph showing the relationship between the resistance change rate when irradiating ultraviolet rays and the ultraviolet shielding wavelength, and FIG. 8 is a graph showing the relationship between the resistance change rate when irradiating a fluorescent lamp and the ultraviolet shielding wavelength. It is. 1 ... Touch panel, 2,3 ... Transparent insulating substrate 4,5 ... Resistance film, 6,7 ... Ultraviolet shielding layer 8,9 ... Ultraviolet shielding transparent insulating substrate 10 ... Movable panel (upper side) 11 …… Fixed panel (lower side) 12,13,14,15… Terminal 16… Constant current device, 17… Ammeter 18… Voltmeter, 19… Input pen
Claims (4)
基材における対向する表面に抵抗膜がそれぞれ形成さ
れ、前記いずれか一方の絶縁基材の一部を押圧すること
により、該抵抗膜同士の一部を接触させて電気的に導通
させるアナログ型タッチパネルにおいて、該アナログ型
タッチパネルの外光が入射する側の透明絶縁基材上に、
可視光線未満の波長の電磁波を遮蔽する紫外線遮蔽層を
設けたことを特徴とするアナログ型透明タッチパネル。1. A resistive film is formed on opposing surfaces of transparent insulating base materials that are arranged substantially in parallel and at predetermined intervals, and a resistance film is formed by pressing a part of one of the insulating base materials. In an analog touch panel in which a part of the films are brought into electrical contact with each other to electrically conduct, on the transparent insulating substrate on the side where external light of the analog touch panel is incident,
An analog transparent touch panel comprising an ultraviolet shielding layer for shielding electromagnetic waves having a wavelength shorter than visible light.
基材における対向する表面に抵抗膜がそれぞれ形成さ
れ、前記いずれか一方の絶縁基材の一部を押圧すること
により、該抵抗膜同士の一部を接触させて電気的に導通
させるアナログ型タッチパネルにおいて、両方の透明絶
縁基材の外側表面に可視光線未満の波長の電磁波を遮蔽
する紫外線遮蔽層を設けたことを特徴とするアナログ型
透明タッチパネル。2. A resistance film is formed on opposing surfaces of substantially parallel transparent insulating substrates arranged at predetermined intervals, and a part of one of said insulating substrates is pressed to form said resistance film. In an analog type touch panel in which a part of the films is brought into contact and made electrically conductive, an ultraviolet shielding layer for shielding electromagnetic waves having a wavelength shorter than visible light is provided on the outer surfaces of both transparent insulating substrates. Analog type transparent touch panel.
基材における対向する表面に抵抗膜がそれぞれ形成さ
れ、前記いずれか一方の絶縁基材の一部を押圧すること
により、該抵抗膜同士の一部を接触させて電気的に導通
させるアナログ型タッチパネルにおいて、該アナログ型
タッチパネルの外光が入射する側の透明絶縁基材とし
て、可視光線未満の波長の電磁波を遮蔽する紫外線遮蔽
透明絶縁基材を用いることを特徴とするアナログ型透明
タッチパネル。3. A resistive film is formed on opposing surfaces of transparent insulating base materials which are arranged substantially in parallel and at a predetermined interval, and a resistance film is formed by pressing a part of one of said insulating base materials. In an analog type touch panel in which a part of the films are brought into electrical contact with each other to electrically conduct, as a transparent insulating base material on the side where external light of the analog type touch panel is incident, ultraviolet shielding transparent for shielding electromagnetic waves having wavelengths shorter than visible light. An analog type transparent touch panel characterized by using an insulating base material.
基材において、対向する表面に抵抗膜がそれぞれ形成さ
れ、前記いずれか一方の絶縁基材の一部を押圧すること
により、該抵抗膜同士の一部を接触させて電気的に導通
させるアナログ型タッチパネルにおいて、両方の透明絶
縁基材として、可視光線未満の波長の電磁波を遮蔽する
紫外線遮蔽透明絶縁基材を用いることを特徴とするアナ
ログ型透明タッチパネル。4. A transparent insulating base material which is substantially parallel and arranged at a predetermined interval, a resistive film is formed on each of opposing surfaces, and a part of said one of the insulating base materials is pressed to form said resistive film. In an analog type touch panel in which a part of the resistive films are brought into electrical contact with each other to electrically conduct, an ultraviolet shielding transparent insulating base material that shields electromagnetic waves having a wavelength shorter than visible light is used as both transparent insulating base materials. Analog transparent touch panel.
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- 1988-06-27 JP JP16035788A patent/JP2619921B2/en not_active Expired - Fee Related
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