JP2614812B2 - セサモールの製造法 - Google Patents
セサモールの製造法Info
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Description
として有用なセサモールの工業的な製造法に関する。
加水分解する合成法[Chem.−Ztg.Chem.
Appar.,第28巻 第957頁(1904)]、
4−アミノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンをジ
アゾ化し、これを加水分解する合成法[Rendico
nti della Soc.chim.di Rom
a,第5巻 第135頁(1907)]、ピペロナール
を過酢酸などでエステル化し、これを加水分解する合成
法[Canad.J.Chem.,第44巻 第187
5頁(1966)、収率68%]、などが知られてい
る。しかしながら、セサモールの原料が入手困難であっ
たり、収率が低いため工業的に問題が多い。
来技術を改善して、工業的に有利なセサモールの製造法
を提供するものである。
題を解決するために鋭意検討した。その結果、工業的に
有利なセサモールの製造法を見いだすに至った。
ころは、一般式(2)
ゲノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンマグネシウ
ムを一般式(3)
で表されるホウ酸トリ−n−アルキルエステルとを20
〜60℃で反応させ、一般式(4)
nは1、2または3の整数を示す)で表されるアリール
化ホウ素、アリール化ホウ酸−モノ又はジ−アルキルエ
ステルを得、これに無機酸を添加して、一般式(5)
メチレンジオキシベンゼンホウ酸を得、これを過酸化水
素と反応させることを特徴とする、一般式(1)
法において一般式(3)のRがn−ブチル基であり、一
般式(4)のRがn−ブチル基であるか、一般式(3)
のRがn−ヘキシル基であり、一般式(4)のRがn−
ヘキシル基であることにより、目的とするセサモールが
高収率、高純度で得られることを見いだした。
りである。
Xはハロゲン原子を示し、nは1、2または3の整数を
示す。)
に説明する。
オキシ−ベンゼンマグネシウム[式(2)化合物]の合
成 グリニヤール試薬である式(2)化合物は、活性化した
金属マグネシウムを無水ジエチルエーテルあるいは無水
テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒中でかき混ぜ
つつ、4−ハロゲノ−1,2−メチレンジオキシ−ベン
ゼンを溶媒の還流温度で滴下し、さらに1〜8時間の撹
拌を続けると得られる。反応に使用する金属マグネシウ
ムは、市販のテープ状あるいは削り状(チップ状)のも
のを使用し、その使用量は、4−ハロゲノ−1,2−メ
チレンジオキシ−ベンゼンの1〜2倍モル程度である。
また、反応に先立って、金属マグネシウムの活性化を目
的に窒素雰囲気あるいは減圧条件でかき混ぜたり、微量
のヨウ素あるいはヨウ化メチル、臭化エチル、ジブロモ
エタンなどを添加することは、その後の反応を円滑に進
めるうえで有効である。式(2)化合物の合成時の溶媒
は、テトラヒドロフランやジエチルエーテルの単独ある
いはこれらとベンゼンやトルエンなどの混合系であって
も同様の結果を得ることができる。
酸−モノ又はジ−アルキルエステル〔式(4)化合物〕
の合成 式(4)化合物は、ホウ酸トリ−n−アルキルエステル
(3)にグリニヤール試薬(2)を0℃〜30℃で30
分から2時間かけて滴下し、さらに反応液を1〜2時間
撹拌する。この場合、グリニヤール試薬中にホウ酸トリ
−n−アルキルエステル(3)を滴下すると、最終目的
物であるセサモールの収率が低下する。その理由は、お
そらく望ましくないテトラメチレンジオキシベンゼンホ
ウ酸が生成することによるものと考えられる。また、反
応の際に式(3)化合物としてホウ酸トリ−n−メチル
エステル、ホウ酸トリ−n−エチルエステルを使用する
場合は、反応温度を20℃以下としなければ最終目的物
であるセサモールの収率が低下する。ホウ酸トリ−n−
プロピルエステル、ホウ酸トリ−n−ブチルエステル、
ホウ酸トリ−n−ペンチルエステル、ホウ酸トリ−n−
ヘキシルエステルを使用する場合は、反応温度を60℃
まで上げても収率に影響しない。操作性の点からは、ホ
ウ酸トリ−n−プロピルエステル、ホウ酸トリ−n−ブ
チルエステル、ホウ酸トリ−n−ペンチルエステル、ホ
ウ酸トリ−n−ヘキシルエステルを使用することが望ま
しい。式(3)化合物の使用量は、当初使用したグリニ
ヤール試薬に対して3分の1モルから1モル倍使用すれ
ばよい。この範囲の式(3)化合物の使用量により、式
(4)化合物としてトリアリール化ホウ素、アリール化
ホウ酸−モノまたはジ−アルキルエステルの混合物が得
られる。
[式(5)化合物]の合成 式(5)化合物は、式(4)化合物に無機酸を添加して
得られる。
挙げられる。無機酸の使用量は、式(4)化合物を合成
する際に副生しているマグネシウム塩を溶解させるため
に、式(2)化合物の1〜1.1当量を使用する。
0℃が好ましく、撹拌時間は30分〜1時間でよい。
成 セサモール(1)は、式(5)化合物を含む反応液に、
ベンゼンなどの有機溶媒を加えて有機層を分離後、これ
に過酸化水素水を徐々に滴下し、さらに撹拌すると得ら
れる。
ものが使用され、入手の容易な市販の過酸化水素水でよ
い。反応温度は室温で十分であるが、40〜50℃程度
で反応しても差し支えない。過酸化水素水の使用量は、
当初使用したグリニヤール試薬に対して1.0〜2.0
モル倍使用すればよい。この反応工程においては、通
常、過酸化水素水を約1時間かけて滴下し、さらに約2
時間撹拌するとよい。
に生成したホウ酸を水洗して除去し、残った反応液にチ
オ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム水溶液を加えて副
生した過酸化物を分解する。これから溶媒を留去し、残
留物を減圧蒸留して高純度のセサモールを得ることがで
きる。
に説明する。
の金属マグネシウム14.6g(0.6モル)と無水テ
トラヒドロフラン 30mlを加え、さらに、臭化エチ
ル 約2mlを加えて撹拌する。発泡による反応を確認
して4−ブロモ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼン
100.5g(0.5モル)を300mlの無水テト
ラヒドロフランに溶解し、還流温度で2時間を要して滴
下し、さらに、2時間還流を続けてグリニヤール試薬を
得る。このグリニヤール試薬の一部をとり加水分解して
ガスクロマトグラフィーにより分析を行うと、転換率は
99.7%であった。次いで、前記の操作により得られ
たグリニヤール試薬を30℃まで冷却後、未反応のマグ
ネシウムを分離するために、上澄液をグラスフィルター
で濾過して別の500ml容量の滴下ロートに移送す
る。別の1リットル容量の4径フラスコにホウ酸トリ−
n−ブチルエステル 76.7g(0.34モル)およ
びトルエン 40mlを入れ、ここにグリニヤール試薬
を60℃以下で1時間かけて滴下する。さらに、この反
応液を同温度で1時間撹拌を続けると、トリ−1,2−
メチレンジオキシ−ベンゼンホウ素、ジ−1,2−メチ
レンジオキシ−ベンゼンホウ酸−モノ−n−ブチルエス
テルおよびモノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼン
ホウ酸−ジ−n−ブチルエステルを含む反応液が得られ
る。
0%硫酸水溶液 245gを加えて、30分間室温で撹
拌すると、トリ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼン
ホウ素、ジ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンホウ
酸およびモノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンホ
ウ酸を含む反応液が得られる。そしてこの反応液に、ベ
ンゼン 300mlを加えて有機層を分離し、1リット
ル容量の4径フラスコに入れる。これに35%過酸化水
素水 48.6gを40〜50℃で1時間かけて滴下
し、さらに同温度で2時間撹拌を行った。反応終了後、
水150mlを加え、析出したホウ酸を溶かし分液す
る。さらに、得られた有機層を400mlの飽和亜硫酸
ナトリウム水溶液、400mlの水の順で洗浄する。洗
浄後、溶媒を留去して粗製のセサモールを得た。さら
に、減圧条件で蒸留し、沸点115℃/2mmHgの留
分を56.6g(収率80.2%)得た。ガスクロマト
グラフィーによる分析純度は99.8%であった。元素
分析値およびNMRスペクトルは市販の標品の値と一致
した。
の金属マグネシウム14.6g(0.6モル)と無水テ
トラヒドロフラン 30mlを加え、さらに、臭化エチ
ル 約2mlを加えて撹拌する。発泡による反応を確認
して4−ブロモ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼン
100.5g(0.5モル)を300mlの無水テト
ラヒドロフランに溶解し、還流温度で2時間を要して滴
下し、さらに2時間還流を続けてグリニヤール試薬を得
る。このグリニヤール試薬の一部をとり加水分解してガ
スクロマトグラフィーにより分析を行うと、転換率は9
9.7%であった。次いで、前記の操作により得られた
グリニヤール試薬を30℃まで冷却後、未反応のマグネ
シウムを分離するために、上澄液をグラスフィルターで
濾過して別の500ml容量の滴下ロートに移送する。
別の1リットル容量の4径フラスコにホウ酸トリ−n−
ヘキシルエステル 106.9g(0.34モル)およ
びトルエン 40mlを入れ、ここにグリニヤール試薬
を60℃以下で30分かけて滴下する。さらに、この反
応液を同温度で1時間撹拌を続けると、トリ−1,2−
メチレンジオキシ−ベンゼンホウ素、ジ−1,2−メチ
レンジオキシ−ベンゼンホウ酸−モノ−n−ヘキシルエ
ステルおよびモノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼ
ンホウ酸−ジ−n−ヘキシルエステルを含む反応液が得
られる。
0%硫酸水溶液 245gを加え、30分間室温で撹拌
すると、トリ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンホ
ウ素、ジ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンホウ酸
およびモノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンホウ
酸を含む反応液が得られる。その後の操作は実施例1に
準じて行い、粗製のセサモールを得た。さらに、減圧条
件で蒸留し、沸点115℃/2mmHgの留分を56.
3g(収率81.5%)得た。ガスクロマトグラフィー
による分析純度は99.8%であった。このものの元素
分析値、NMRスペクトルは市販の標品と一致した。
の中間体として有用なセサモールを高収率で、高純度か
つ安全に、しかも簡単な操作で得られるため、工業的に
極めて有利である。
Claims (3)
- 【請求項1】一般式(2) 【化1】 (式中、Xはハロゲン原子を示す)で表される4−ハロ
ゲノ−1,2−メチレンジオキシ−ベンゼンマグネシウ
ムを一般式(3) 【化2】 (式中、Rは炭素数3〜6の直鎖状アルキル基を示す)
で表されるホウ酸トリ−n−アルキルエステルとを20
〜60℃で反応させ、一般式(4) 【化3】 (式中、Rは炭素数3〜6の直鎖状アルキル基を示し、
nは1、2または3の整数を示す)で表されるアリール
化ホウ素、アリール化ホウ酸−モノ又はジ−アルキルエ
ステルを得、これに無機酸を添加して、一般式(5) 【化4】 (式中、nは1、2または3の整数を示す)で表される
メチレンジオキシベンゼンホウ酸を得、これを過酸化水
素と反応させることを特徴とする、一般式(1) 【化5】 で表されるセサモールの製造法。 - 【請求項2】一般式(3)のRはn−ブチル基であり、
一般式(4)のRはn−ブチル基でであることを特徴と
する、請求項1のセサモールの製造法。 - 【請求項3】一般式(3)のRはn−ヘキシル基であ
り、一般式(4)のRはn−ヘキシル基であることを特
徴とする、請求項1のセサモールの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5156387A JP2614812B2 (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | セサモールの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5156387A JP2614812B2 (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | セサモールの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06345756A JPH06345756A (ja) | 1994-12-20 |
JP2614812B2 true JP2614812B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=15626638
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5156387A Expired - Fee Related JP2614812B2 (ja) | 1993-06-03 | 1993-06-03 | セサモールの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2614812B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
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---|---|---|---|---|
KR102082532B1 (ko) * | 2012-08-20 | 2020-02-27 | 마낙 가부시끼가이샤 | 보린산 유도체의 제조 방법 및 신규 보린산 유도체 |
-
1993
- 1993-06-03 JP JP5156387A patent/JP2614812B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.ORG.CHEM.,(22)(1957)(米)P.1001 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06345756A (ja) | 1994-12-20 |
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