JP2599610B2 - ２β―置換メチルペニシリン誘導体の製造法 - Google Patents
２β―置換メチルペニシリン誘導体の製造法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は一般式（Ｉ） ［式中Ｒはペニシリンカルボキシル保護基を、 は置換基を有することがあり、異項原子として１〜４個
の窒素原子を有する複素環式基を示す］ で表わされる２β−置換メチルペニシリン誘導体の工業
的に有利な製造法に関する。
の窒素原子を有する複素環式基を示す］ で表わされる２β−置換メチルペニシリン誘導体の工業
的に有利な製造法に関する。
一般式（Ｉ）で表わされる２β−置換メチルペニシリ
ン誘導体は、文献未載の新規化合物であり、β−ラクタ
マーゼ阻害活性を有する２β−置換メチルペニシリン
1,1−ジオキシド誘導体の製造中間体として有用であ
る。前記1,1−ジオキド体としては、例えば、特開昭59
−148788号、特開昭60−84291号及びジャーナル オブ
メディシナル ケミストリー（J.Med.Chem.）30巻,14
69（1987年）に記載された一般式（II） ［式中、Ｒは前記に同じ。R1′及びR2′は同一又は相異
なり水素原子、トリアルキルシリル基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、置換基としてハロゲン原子、低
級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基を有
することのあるフェニル基、低級アシル基、トリフルオ
ロメチル基、カルバモイル基、低級アルキル置換カルバ
モイル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、シアノ
基、ホルミノ基、式−Ｓ（Ｏ）nR3′（式中R3′は低級
アルキル基を、ｎは0,1又は２を示す）で表わされる基
又は式−COOR4′（式中R4′は水素原子、置換又は非置
換ベンジル基、アルカリ金属原子、アルキル基、低級ア
ルケニル基又は低級アルキニル基を示す）で表わされる
基を示す］で表わされる化合物を挙げることができる。
ン誘導体は、文献未載の新規化合物であり、β−ラクタ
マーゼ阻害活性を有する２β−置換メチルペニシリン
1,1−ジオキシド誘導体の製造中間体として有用であ
る。前記1,1−ジオキド体としては、例えば、特開昭59
−148788号、特開昭60−84291号及びジャーナル オブ
メディシナル ケミストリー（J.Med.Chem.）30巻,14
69（1987年）に記載された一般式（II） ［式中、Ｒは前記に同じ。R1′及びR2′は同一又は相異
なり水素原子、トリアルキルシリル基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、置換基としてハロゲン原子、低
級アルキル基及び低級アルコキシ基から選ばれる基を有
することのあるフェニル基、低級アシル基、トリフルオ
ロメチル基、カルバモイル基、低級アルキル置換カルバ
モイル基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、シアノ
基、ホルミノ基、式−Ｓ（Ｏ）nR3′（式中R3′は低級
アルキル基を、ｎは0,1又は２を示す）で表わされる基
又は式−COOR4′（式中R4′は水素原子、置換又は非置
換ベンジル基、アルカリ金属原子、アルキル基、低級ア
ルケニル基又は低級アルキニル基を示す）で表わされる
基を示す］で表わされる化合物を挙げることができる。
従来の技術 一般式（II）の化合物は、特開昭59−148788号、特開
昭60−84291号、シンセシス（Synthesis）1986,282,ジ
ャーナル オブ メディカシナル ケミストリー（J.Me
d.Chem.）30巻,1469（1987年）等に記載の方法で製造さ
れている。
昭60−84291号、シンセシス（Synthesis）1986,282,ジ
ャーナル オブ メディカシナル ケミストリー（J.Me
d.Chem.）30巻,1469（1987年）等に記載の方法で製造さ
れている。
即ち、下記反応行程式に示すように、アゼチジノンジ
スルフィド誘導体をＡ工程で２β−ハロゲノメチルペニ
シリン誘導体とし、Ｂ工程でアジド化、Ｃ工程で酸化を
行った後にアセチレン誘導体と反応（Ｄ工程）させるこ
とにより上記化合物が製造されている。
スルフィド誘導体をＡ工程で２β−ハロゲノメチルペニ
シリン誘導体とし、Ｂ工程でアジド化、Ｃ工程で酸化を
行った後にアセチレン誘導体と反応（Ｄ工程）させるこ
とにより上記化合物が製造されている。
（上記各式中、Ｒ、R1′及びR2′は前記に同じ。Ｘはハ
ロゲン原子を示す。） 発明が解決しようとする課題 上記方法では反応工程数が長く、不安定な２β−ハロ
ゲノメチルペニシリン誘導体を経由するため目的物の収
率が極めて低く、しかも導入し得る含窒素複素環は1,2,
3−トリアゾール誘導体のみである。
ロゲン原子を示す。） 発明が解決しようとする課題 上記方法では反応工程数が長く、不安定な２β−ハロ
ゲノメチルペニシリン誘導体を経由するため目的物の収
率が極めて低く、しかも導入し得る含窒素複素環は1,2,
3−トリアゾール誘導体のみである。
課題を解決するための手段 本発明者は、上記従来技術の課題に鑑みて鋭意研究を
重ねた結果、特定のアゼチジノン誘導体と含窒素複素環
式化合物とを反応させた場合には、1,2,3−トリアゾー
ル誘導体に限られない広い範囲の含窒素複素環式化合物
が位置選択的に導入された新規なペニシリン誘導体が得
られ、該ペニシリン誘導体から目的物である一般式（I
I）の化合物が短工程で収率よく製造できることを見出
し、本発明を完成した。
重ねた結果、特定のアゼチジノン誘導体と含窒素複素環
式化合物とを反応させた場合には、1,2,3−トリアゾー
ル誘導体に限られない広い範囲の含窒素複素環式化合物
が位置選択的に導入された新規なペニシリン誘導体が得
られ、該ペニシリン誘導体から目的物である一般式（I
I）の化合物が短工程で収率よく製造できることを見出
し、本発明を完成した。
即ち本発明は、一般式 ［式中Ｒは前記に同じ。］ で表わされるアゼチジノンジスルフィド誘導体と一般式 ［式中 は前記に同じ。］ で表わされる複素環式化合物を金属化合物の存在下で反
応させることにより、一般式 ［式中、Ｒ及び は前記に同じ。］ で表わされる２β−置換メチルペニシリン誘導体を得る
ことを特徴とする２β−置換メチルペニシリン誘導体の
製造法に係る。
応させることにより、一般式 ［式中、Ｒ及び は前記に同じ。］ で表わされる２β−置換メチルペニシリン誘導体を得る
ことを特徴とする２β−置換メチルペニシリン誘導体の
製造法に係る。
本発明製造法によって得られる上記一般式（Ｉ）の化
合物は、文献未載の新規化合であり、上記一般式（II）
で表わされる化合物等の２β−置換メチルペニシリン
1,1−ジオキシド誘導体の製造中間体として有用であ
る。
合物は、文献未載の新規化合であり、上記一般式（II）
で表わされる化合物等の２β−置換メチルペニシリン
1,1−ジオキシド誘導体の製造中間体として有用であ
る。
上記一般式（Ｉ）においてＲで表わされるペニシリン
カルボキシル保護基としては、通常公知のものでよく、
具体的には、例えば特開昭49−81680号公報及びエッ
チ．イー．フライン編セファロスポリン アンド ペニ
シリンズ、ケミストリー アンド バイオロジー（1972
年 アカデミックプレス発行）に記載のものをいずれも
使用できる好ましいＲ基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、トリクロロエチ
ル等の置換または非置換アルキル基；ベンジル、ジフェ
ニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル等の置換または非置換アラルキル基；アセトキシメチ
ル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、ピ
バロイルオキシプロピル、ベンゾイルオキシメチル、ベ
ンゾイルオキシエチル、ベンジルカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等のアシル
オキシアルキル基；メトキシメチル、エトキシメチル、
ベンジルオキシメチル等のアルコキシアルキル基；その
他、テトラヒドロピラニル、ジメチルアミノエチル、ジ
メチルクロロシリル、トリクロロシリル基等が例示され
る。
カルボキシル保護基としては、通常公知のものでよく、
具体的には、例えば特開昭49−81680号公報及びエッ
チ．イー．フライン編セファロスポリン アンド ペニ
シリンズ、ケミストリー アンド バイオロジー（1972
年 アカデミックプレス発行）に記載のものをいずれも
使用できる好ましいＲ基としては、例えばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、tert−ブチル、トリクロロエチ
ル等の置換または非置換アルキル基；ベンジル、ジフェ
ニルメチル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル等の置換または非置換アラルキル基；アセトキシメチ
ル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシエチル、ピ
バロイルオキシプロピル、ベンゾイルオキシメチル、ベ
ンゾイルオキシエチル、ベンジルカルボニルオキシメチ
ル、シクロヘキシルカルボニルオキシメチル等のアシル
オキシアルキル基；メトキシメチル、エトキシメチル、
ベンジルオキシメチル等のアルコキシアルキル基；その
他、テトラヒドロピラニル、ジメチルアミノエチル、ジ
メチルクロロシリル、トリクロロシリル基等が例示され
る。
R1で表わされる含窒素複素環式基としては、ヘテロ原
子として窒素原子を１〜４個含有する複素環式基であ
り、これらは更にヘテロ原子として酸素原子又はイオウ
原子を１個含んでいてもよい。また、これら含窒素複素
環式基は、置換基として炭素数１〜４の低級アルキル基
を１〜３個有していてもよい。好ましい含窒素複素環式
基としては、ベンゾチアゾリル（BTと略）、１−メチル
テトラゾール（MTと略）、５−メチルチアジアゾリル
（MTDと略）、ピリジル（Ｐと略）、ピリミジル（PMと
略）及びベンゾオキサゾリル基（BOと略）等を例示でき
る。
子として窒素原子を１〜４個含有する複素環式基であ
り、これらは更にヘテロ原子として酸素原子又はイオウ
原子を１個含んでいてもよい。また、これら含窒素複素
環式基は、置換基として炭素数１〜４の低級アルキル基
を１〜３個有していてもよい。好ましい含窒素複素環式
基としては、ベンゾチアゾリル（BTと略）、１−メチル
テトラゾール（MTと略）、５−メチルチアジアゾリル
（MTDと略）、ピリジル（Ｐと略）、ピリミジル（PMと
略）及びベンゾオキサゾリル基（BOと略）等を例示でき
る。
基 で示される含窒素複素環式基としてはピロリル、イミダ
ゾリル、ピラゾリル、テトラゾリル、1,2,3−トリアゾ
リル、1,2,4−トリアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベ
ンヅイミダゾリル等が例示され、これらの含窒素複素環
式基はメチル、エチル、プロピル等の炭素数１〜６のア
ルキル基、メトキシ、プロポキシ基等の炭素数１〜６の
アルコキシ基、ヒドロキシル基、フッ素、塩素、臭素等
のハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル等の炭素数２〜７のアルコキ
シカルボニル基、ホルミル基等から選ばれた置換基を有
していてもよい。
ゾリル、ピラゾリル、テトラゾリル、1,2,3−トリアゾ
リル、1,2,4−トリアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベ
ンヅイミダゾリル等が例示され、これらの含窒素複素環
式基はメチル、エチル、プロピル等の炭素数１〜６のア
ルキル基、メトキシ、プロポキシ基等の炭素数１〜６の
アルコキシ基、ヒドロキシル基、フッ素、塩素、臭素等
のハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、メトキシカルボ
ニル、エトキシカルボニル等の炭素数２〜７のアルコキ
シカルボニル基、ホルミル基等から選ばれた置換基を有
していてもよい。
金属化合物としては銀、セリウム、銅、鉛、水銀、タ
リウム等の貴金属の塩もしくは酸化物が使用できる。こ
こで塩としては酢酸等の有機酸の塩、炭酸塩等が挙げら
れる。好ましい金属化合物としては酢酸銀、炭酸銀、酢
酸水銀（Ｉ）、酢酸水銀（II）、酸化水銀、酢酸セリウ
ム等が例示される。
リウム等の貴金属の塩もしくは酸化物が使用できる。こ
こで塩としては酢酸等の有機酸の塩、炭酸塩等が挙げら
れる。好ましい金属化合物としては酢酸銀、炭酸銀、酢
酸水銀（Ｉ）、酢酸水銀（II）、酸化水銀、酢酸セリウ
ム等が例示される。
上記一般式（Ｉ）の化合物は、下記反応工程式に従っ
て製造できる。
て製造できる。
［上記各式中、Ｒ、R1、 は前記に同じ。］ 反応は一般式（III）で表わされるアゼチジノンジス
ルフィド誘導体１モルに対して約２〜20倍モル当量、好
ましくは５〜10倍モル当量の一般式（IV）で表わされる
含窒素複素環式化合物とを、1.5〜５倍モル当量、好ま
しくは２〜３倍モル当量の金属化合物存在下、適当な溶
媒中で、室温下あるいは加熱することによって行なわれ
る。使用される溶媒としては反応に影響を与えないもの
であれば特に制限はなく、例えばアセトニトリル、ニト
ロメタン、メチルエチルケトン等の溶媒、又はこれら有
機溶媒と水との混合溶媒がいずれも使用できる。反応
は、約20〜100℃、好ましくは50〜70℃の温度下に行な
われる。。反応時間は約0.5〜24時間で、通常原料が消
失した時点で反応を停止する。反応終了後、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等の公知の方法で本発明による
化合物を単離精製できる。
ルフィド誘導体１モルに対して約２〜20倍モル当量、好
ましくは５〜10倍モル当量の一般式（IV）で表わされる
含窒素複素環式化合物とを、1.5〜５倍モル当量、好ま
しくは２〜３倍モル当量の金属化合物存在下、適当な溶
媒中で、室温下あるいは加熱することによって行なわれ
る。使用される溶媒としては反応に影響を与えないもの
であれば特に制限はなく、例えばアセトニトリル、ニト
ロメタン、メチルエチルケトン等の溶媒、又はこれら有
機溶媒と水との混合溶媒がいずれも使用できる。反応
は、約20〜100℃、好ましくは50〜70℃の温度下に行な
われる。。反応時間は約0.5〜24時間で、通常原料が消
失した時点で反応を停止する。反応終了後、再結晶、カ
ラムクロマトグラフィー等の公知の方法で本発明による
化合物を単離精製できる。
かくして得られる一般式（Ｉ）の化合物から、酸化反
応によって、例えば、一般式（II）の化合物が製造でき
る。前記酸化反応は、通常の酸化剤例えば過マンガン
酸、過ヨウ素酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息
香酸、ｍ−クロル過安息香酸、過酸化水素等を利用し、
一般に適当な溶媒中で行なわれる。酸化剤は大過剰用い
てもよいが、通常好ましくは化合物（Ｉ）に対して１〜
５倍モル量程度とすればよい。
応によって、例えば、一般式（II）の化合物が製造でき
る。前記酸化反応は、通常の酸化剤例えば過マンガン
酸、過ヨウ素酸、過酢酸、トリフルオロ過酢酸、過安息
香酸、ｍ−クロル過安息香酸、過酸化水素等を利用し、
一般に適当な溶媒中で行なわれる。酸化剤は大過剰用い
てもよいが、通常好ましくは化合物（Ｉ）に対して１〜
５倍モル量程度とすればよい。
実 施 例 次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例１ ２α−メチル−２β−（1,2,3−トリアゾール−１−イ
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベン
ジルエステルの製造法 ３−メチル−２−｛２−オキソ−４−（ベンゾチアゾ
ール−２−イル）ジチオアゼチジン−１−イル｝−３−
ブテン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル195mgに酢酸
水銀（Ｉ）（97％含有）210mg、1H−1,2,3−トリアゾー
ル282mg、アセトニトリル3mlを加え、アルゴン雰囲気
下、浴温70℃にて、６時間加熱撹拌した。反応液を放冷
後、ジクロルメタンで洗浄しつつセライト過し、液
を重曹水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、２α−メチル−２β−（1,2,
3−トリアゾール−１−イル）メチルペナム−３α−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル114.8mg（収
率74％）を油状物として得た。
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベン
ジルエステルの製造法 ３−メチル−２−｛２−オキソ−４−（ベンゾチアゾ
ール−２−イル）ジチオアゼチジン−１−イル｝−３−
ブテン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル195mgに酢酸
水銀（Ｉ）（97％含有）210mg、1H−1,2,3−トリアゾー
ル282mg、アセトニトリル3mlを加え、アルゴン雰囲気
下、浴温70℃にて、６時間加熱撹拌した。反応液を放冷
後、ジクロルメタンで洗浄しつつセライト過し、液
を重曹水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、２α−メチル−２β−（1,2,
3−トリアゾール−１−イル）メチルペナム−３α−カ
ルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル114.8mg（収
率74％）を油状物として得た。
赤外吸収スペクトル（Neat） νmax（cm-1）＝1775,1735 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3） δ（ppm）＝1.34（3H,S） 3.03,3.53（2H,AB−X,J＝16Hz,J＝2Hz,J＝4Hz） 3.78（3H,s） 4.58（2H,s） 4.75（1H,s） 5.09（2H,s） 5.39（1H,dd,J＝4,2Hz） 6.83（2H,d,J＝8Hz） 7.26（2H,d,J＝8Hz） 7.68（2H,m） 実施例２ ２α−メチル−２β−（1,2,3−トリアゾール−１−イ
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸 ｐ−メトキシベ
ンジルエステルの製造法 ３−メチル−２−｛２−オキソ−４−（ピリジン−２
−イル）ジチオアゼチジン−１−イル｝−３−ブテン酸
ｐ−メトキシベンジルエステル176mgに酢酸水銀
（Ｉ）（97％含有）219mg、1H−1,2,3−トリアゾール28
2mg、アセトニトリル2mlを加え、アルゴン雰囲気下、浴
温70℃にて、６時間加熱撹拌した。反応液を放冷後、ジ
クロルメタンで洗浄しつつセライト過し、液を重曹
水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、２α−メチル−２β−（1,2,3−トリ
アゾール−１−イル）メチルペナム−３α−カルボン酸
ｐ−メトキシベンジルエステル78.6mg（収率56％）を
油状物として得た。
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸 ｐ−メトキシベ
ンジルエステルの製造法 ３−メチル−２−｛２−オキソ−４−（ピリジン−２
−イル）ジチオアゼチジン−１−イル｝−３−ブテン酸
ｐ−メトキシベンジルエステル176mgに酢酸水銀
（Ｉ）（97％含有）219mg、1H−1,2,3−トリアゾール28
2mg、アセトニトリル2mlを加え、アルゴン雰囲気下、浴
温70℃にて、６時間加熱撹拌した。反応液を放冷後、ジ
クロルメタンで洗浄しつつセライト過し、液を重曹
水で洗浄した。有機層を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、２α−メチル−２β−（1,2,3−トリ
アゾール−１−イル）メチルペナム−３α−カルボン酸
ｐ−メトキシベンジルエステル78.6mg（収率56％）を
油状物として得た。
赤外吸収スペクトル（Neat）、核磁気共鳴スペクトル
（CDCl3）は実施例１の化合物に一致した。
（CDCl3）は実施例１の化合物に一致した。
実施例３−15 実施例１に示した方法に従い、同様に反応を行った。
第１表に生成物と収率、第２表に物理恒数を示す。
実施例16〜18 第３表には、酢酸水銀（Ｉ）存在下アセトニトリル以
外の溶媒を用いて行なった結果を示す。
外の溶媒を用いて行なった結果を示す。
参考例１ ２α−メチル−２β−（1,2,3−トリアゾール−１−イ
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベン
ジルエステル 1,1−ジオキシドの製造法 ２α−メチル−２β−（1,2,3−トリアゾール−１−
イル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベ
ンジルエステル980mgをアセトン6ml及び水2mlに溶解
後、酢酸3mlを加えた。次に氷冷撹拌下に過マンガン酸
カリウム814mgを加えて室温で３時間撹拌した。次に30
％過酸化水素を反応液の色が消失するまで加えた後、塩
化メチレン50mlで抽出した。塩化メチレンを留去して得
られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、目的物
976mg（収率92％）を泡状物として得た。
ル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベン
ジルエステル 1,1−ジオキシドの製造法 ２α−メチル−２β−（1,2,3−トリアゾール−１−
イル）メチルペナム−３α−カルボン酸ｐ−メトキシベ
ンジルエステル980mgをアセトン6ml及び水2mlに溶解
後、酢酸3mlを加えた。次に氷冷撹拌下に過マンガン酸
カリウム814mgを加えて室温で３時間撹拌した。次に30
％過酸化水素を反応液の色が消失するまで加えた後、塩
化メチレン50mlで抽出した。塩化メチレンを留去して得
られた残渣をカラムクロマトグラフィーに付し、目的物
976mg（収率92％）を泡状物として得た。
赤外吸収スペクトル（KBr） νmax（cm-1）＝1800,1792,1760 核磁気共鳴スペクトル（CDCl3） δ＝（ppm）＝1.20（3H,s） 3.50〜3.55（2H,m） 3.82（3H,s） 4.55（1H,s） 4.59〜4.66（1H,m） 5.03（2H,s） 5.21（2H,s） 6.92（2H,d,J＝8.8Hz） 7.36（2H,d,J＝8.8Hz） 7.72（1H,d,J＝1.1Hz） 7.76（1H,d,J＝1.1Hz）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 省三 埼玉県本庄市大字北堀976番地 (72)発明者 中井 章 岡山県岡山市津島本町５―６―１ (56)参考文献 特開 昭63−112588（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−126087（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−66189（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−215688（ＪＰ，Ａ) 実開 昭58−225091（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭64−6283（ＪＰ，Ｕ) Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．第30巻，第 1469頁（1987年)
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 ［式中Ｒはペニシリンカルボキシル保護基を、R1は含窒
素複素環基を示す。］ で表わされるアゼチジノンジスルフィド誘導体と一般式 ［式中 は置換基を有することがあり、異項原子として１〜４個
の窒素原子を有する複素環式基を示す。］ で表わされる複素環式化合物を金属化合物の存在下で反
応させることにより一般式 ［式中、Ｒ及び は前記に同じ。］ で表わされる２β−置換メチルペニシリン誘導体を得る
ことを特徴とする２β−置換メチルペニシリン誘導体の
製造法。
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|---|---|---|---|
| JP63049038A JP2599610B2 (ja) | 1988-03-01 | 1988-03-01 | ２β―置換メチルペニシリン誘導体の製造法 |
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| AT89301925T ATE92492T1 (de) | 1988-03-01 | 1989-02-27 | Verfahren zur herstellung von 2-betasubstituierten-methyl-penicillinderivaten. |
| DE89301925T DE68907953T2 (de) | 1988-03-01 | 1989-02-27 | Verfahren zur Herstellung von 2-beta-substituierten-Methyl-penicillinderivaten. |
| ES89301925T ES2058499T3 (es) | 1988-03-01 | 1989-02-27 | Procedimiento para la preparacion de derivados de penicilina 2 beta-metil sustituidos. |
| EP89301925A EP0331394B1 (en) | 1988-03-01 | 1989-02-27 | Process for preparing 2 beta-substituted-methylpenicillin derivatives |
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| CA000592299A CA1339124C (en) | 1988-03-01 | 1989-02-28 | Process for preparing 2.beta.-substituted-methylpenicillin derivatives |
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| US4496484A (en) * | 1983-04-22 | 1985-01-29 | Taiho Pharmaceutical Company, Limited | Penicillin derivatives |
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-
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-
1989
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- 1989-02-28 CA CA000592299A patent/CA1339124C/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-03-01 CN CN89102521A patent/CN1022836C/zh not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
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| Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．第３０巻，第１４６９頁（１９８７年） |
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