JP2598247B2 - Lens meter - Google Patents
Lens meterInfo
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- JP2598247B2 JP2598247B2 JP7277347A JP27734795A JP2598247B2 JP 2598247 B2 JP2598247 B2 JP 2598247B2 JP 7277347 A JP7277347 A JP 7277347A JP 27734795 A JP27734795 A JP 27734795A JP 2598247 B2 JP2598247 B2 JP 2598247B2
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、眼鏡レンズやコンタク
トレンズの屈折特性、すなわち球面度数、円柱度数、円
柱軸度数等を自動的に測定するレンズメーターに関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lens meter for automatically measuring refraction characteristics of spectacle lenses and contact lenses, that is, spherical power, cylindrical power, cylindrical axial power and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来のレンズメーターとしては、例えば
実公昭４４−２２９１２号公報に示されたように、被検
レンズに平行な照明光束を投影して、この被検レンズを
透過した照明光束を可変絞りと視標を介して接眼レンズ
で観察することにより、乱視軸や屈折度の測定を行うよ
うにしたものがある。このレンズメーターは、乱視軸の
測定においては可変絞りの口径を大きくし、屈折度測定
においては可変絞りの口径を小さくすることにより、乱
視軸や屈折度の測定をできるようにしたものである。2. Description of the Related Art As a conventional lens meter, as shown in, for example, Japanese Utility Model Publication No. 44-22912, an illumination light beam parallel to a test lens is projected, and an illumination light beam transmitted through the test lens is reflected. In some cases, the astigmatic axis and the refraction are measured by observing with an eyepiece through a variable aperture and a target. This lens meter enables measurement of the astigmatic axis and the refractive index by increasing the aperture of the variable aperture in the measurement of the astigmatic axis and decreasing the aperture of the variable aperture in the measurement of the refractive power.
【０００３】また、従来のレンズメーターとしては、例
えば特開昭６０−２１０７３５号公報に開示されたよう
に、照明光源からの照明光を拡散板で拡散して、この拡
散した照明光を回転体の半径方向に延びるスリットから
対物レンズを介して被検レンズに投影し、この被検レン
ズを透過した光束を絞り板に設けた複数の小孔及び投影
レンズを介して一次元位置検出素子に投影するようにし
たものがある。尚、絞り板の小孔は所定半径の円周状に
六角形を為すように配置されている。As a conventional lens meter, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-210735, an illuminating light from an illuminating light source is diffused by a diffusing plate, and the diffused illuminating light is rotated. From the radially extending slit to the test lens through the objective lens, and project the light beam transmitted through the test lens to the one-dimensional position detecting element through the plurality of small holes provided in the aperture plate and the projection lens. There are things that I try to do. Incidentally, the small holes of the aperture plate are arranged so as to form a hexagon in a circular shape having a predetermined radius.
【０００４】一方、近年、屈折矯正に累進多焦点レンズ
やコンタクトレンズが多用されるようになってきた。さ
らにコンタクトレンズも遠近両用にするため回転非球面
でその屈折面を形成した、いわゆるバイフォーカルコン
タクトレンズが実用化されている。On the other hand, in recent years, progressive multifocal lenses and contact lenses have been frequently used for refraction correction. Further, a so-called bifocal contact lens, in which a refracting surface is formed by a rotating aspherical surface in order to make the contact lens bifocal, has been put to practical use.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】これら累進多焦点レン
ズやバイフォーカルコンタクトレンズのように非球面の
屈折面を有するレンズにおいて、その遠用及び近用の屈
折特性を測定するには、測定野（測定光束を被検レンズ
に入射させうる領域）を小さくしなければならない。In a lens having an aspherical refraction surface such as a progressive multifocal lens or a bifocal contact lens, the distance and near refraction characteristics of the lens must be measured by using a measurement field. The area in which the measurement light beam can enter the lens to be measured) must be reduced.
【０００６】しかし、上述した実公昭４４−２２９１２
号公報に開示されたレンズメーターは、指標を被検レン
ズを介して投影し、この指標像を顕微鏡で観察し、指標
像が合焦状態になるまで光学系を調整し、その合焦位置
から被検レンズの屈折度を算出するものであるため、開
口数が検出精度に大きく影響し、どの位置が合焦位置で
あるかの特定が困難となり、累進多焦点レンズやバイフ
ォーカルコンタクトレンズ等の測定が困難であった。However, the above-mentioned Japanese Utility Model Publication No. 44-22912 is disclosed.
The lens meter disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Publication No. H10-209,197, projects an index through a lens to be inspected, observes this index image with a microscope, adjusts the optical system until the index image is in focus, and adjusts the optical system from the in-focus position. Since the refractive index of the lens to be measured is calculated, the numerical aperture greatly affects the detection accuracy, it is difficult to specify which position is the in-focus position, and it is difficult to identify a progressive multifocal lens or a bifocal contact lens. The measurement was difficult.
【０００７】即ち、この公報のレンズメーターでは、開
口数が小さいときは焦点深度が深いため、どの位置が合
焦位置であるかを正確に特定することが困難となり、指
標像も暗くなるため読取りも困難になり、又、開口数が
大きいときは鮮明な指標像が観察できなくなり、どの位
置が合焦位置であるかの特定が困難となる。従って、こ
のレンズメーターの測定原理からすれば、測定領域を変
えることは、測定精度をも変えることになるから、必要
な測定精度を保ちつつ、測定領域を変えることはできな
いものであった。この結果、実公昭４４−２２９１２号
公報に開示されたレンズメーターでは、上述した累進多
焦点レンズやバイフォーカルコンタクトレンズ等の測定
が困難であった。That is, according to the lens meter disclosed in this publication, when the numerical aperture is small, the depth of focus is deep, so that it is difficult to accurately specify which position is the in-focus position, and the index image becomes dark. Moreover, when the numerical aperture is large, a clear index image cannot be observed, and it is difficult to specify which position is the in-focus position. Therefore, according to the measurement principle of the lens meter, changing the measurement area also changes the measurement accuracy, and thus the measurement area cannot be changed while maintaining the required measurement accuracy. As a result, with the lens meter disclosed in Japanese Utility Model Publication No. 44-22912, it was difficult to measure the above-described progressive multifocal lens, bifocal contact lens, and the like.
【０００８】また、特開昭６０−２１０７３５号公報に
開示されたレンズメーターでは、回転体を回転させて被
検レンズ上でスリット像の透過位置を周方向に変化させ
ているが、被検レンズに投影されるスリット像の大きさ
は変化しないから、測定領域は変化しない。従って、こ
のレンズメーターでは累進多焦点レンズ等の測定領域の
小さいレンズの測定はできない。In the lens meter disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-210735, the rotating body is rotated to change the transmission position of the slit image on the test lens in the circumferential direction. Since the size of the slit image projected on the image does not change, the measurement area does not change. Therefore, this lens meter cannot measure a lens having a small measurement area such as a progressive multifocal lens.
【０００９】この様に従来のレンズメーターでは、測定
野を可変に出来ないため、中央部と周辺輪帯部の両方を
測定しなければならない様なバイォーカルコンタクトレ
ンズの測定が不可能であった。As described above, in the conventional lens meter, since the measurement field cannot be changed, it is impossible to measure a biological contact lens which needs to measure both the central portion and the peripheral orbicular zone. there were.
【００１０】本発明は、係る技術背景に基づいてなされ
たもので、累進多焦点レンズやコンタクトレンズなど測
定野の小さいレンズも測定できるレンズメーターを提供
することを目的としている。The present invention has been made in view of the above technical background, and an object of the present invention is to provide a lens meter capable of measuring a lens having a small measurement field such as a progressive multifocal lens or a contact lens.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、請求項１の発明は、測定光束投影手段からの測定光
束を被検レンズに投射して、前記被検レンズを透過した
前記測定光束を介して光検出器上で受光することによ
り、前記被検レンズの屈折力を測定する測定光学系が設
けられたレンズメーターに於て、前記測定光束投影手段
は、光軸方向に移動して前記測定光束の前記被検レンズ
への投射位置を可変させる光学部材を有するレンズメー
ターとしたことを特徴とする。In order to achieve the above object, according to the first aspect of the present invention, a measuring light beam projected from a measuring light beam projecting means is projected onto a lens to be measured, and the measuring light beam transmitted through the lens to be measured is transmitted. In a lens meter provided with a measurement optical system for measuring the refractive power of the lens to be measured by receiving light on a photodetector through the measurement light beam projection unit moves in the optical axis direction. A lens meter having an optical member for changing a projection position of the measurement light beam on the lens to be inspected is characterized.
【００１２】また、請求項２の発明は、所定のパターン
の測定光束を被検レンズを介して光検出器に導いて、被
検レンズの屈折特性を測定する測定光学系が設けられた
レンズメーターにおいて、前記測定光束の前記被検レン
ズへの投影パターンの大きさを変えて前記測定光束の前
記被検レンズへの投射位置を可変させる光束投射位置変
更手段を設けたレンズメーターとしたことを特徴とす
る。Further, the invention according to claim 2 is characterized in that a predetermined pattern
In the lens meter provided with a measurement optical system for guiding the measurement light beam to the photodetector through the test lens and measuring the refraction characteristics of the test lens, the measurement light beam of the test light beam
Change the size of the projection pattern to the
It is characterized in that the lens meter is provided with a light beam projection position changing means for changing the projection position on the lens to be tested .
【００１３】本発明のレンズメーターの測定光学系は、
所定パターンの測定光束の被検レンズＬへの投射位置を
被検レンズＬの半径方向へ可変させる測定光束投射手段
を有する。この測定光束投射手段は、光源10，円錐プリ
ズム11（光束投射位置変更手段），マスク12，及びコリ
メータレンズ13等の光学部材を有する。また、測定光学
系は、被検レンズＬを透過した測定光束を光検出器17上
に案内する結像レンズを受光光学系として有する。The measuring optical system of the lens meter according to the present invention comprises:
There is a measuring beam projecting means for changing the projection position of the measuring beam of the predetermined pattern onto the lens L to be measured in the radial direction of the lens L to be measured. The measuring light beam projecting means has optical members such as a light source 10, a conical prism 11 (light beam projecting position changing means), a mask 12, and a collimator lens 13. Further, the measuring optical system has an imaging lens for guiding the measuring light beam transmitted through the lens L to be detected onto the photodetector 17 as a light receiving optical system.
【００１４】円錐プリズム11は、装置光軸Ｏ上に頂点11
aを有し、光軸Ｏ外に基底 11bを有すると共に、矢印18
で示した光軸Ｏに沿う方向に移動調整可能に設けられて
いる。また、円錐プリズム11の後方には、第２図に示す
ように、円環状の開口12aを透光部として有するマスク
板 12が配置されている。The conical prism 11 has a vertex 11 on the optical axis O of the apparatus.
a, the base 11b outside the optical axis O, and the arrow 18
It is provided so as to be movable and adjustable in the direction along the optical axis O indicated by. Further, behind the conical prism 11, a mask plate 12 having an annular opening 12a as a light transmitting portion is arranged as shown in FIG.
【００１５】コリメータレンズ13は、その前側焦点をマ
スク板12の開口12aを含む平面内に有するように配置さ
れている。このため、開口12aを通過したリング状の光
束は被検レンズＬが光路内にないときにはコリメータレ
ンズ13で平行光束とされてミラー14で反射された後、結
像レンズ16で、例えば光軸上に固定配置されたエリアCC
Dからなる光検器17上に円環状パターンとして結像され
る。尚、光源10のコリメータレンズ13による光学的共役
位置はＣの位置にある。また、前述の結像レンズ16の前
側焦点はこの共役位置Ｃの位置にある。The collimator lens 13 is arranged so that its front focal point is located within a plane including the opening 12a of the mask plate 12. For this reason, when the test lens L is not in the optical path, the ring-shaped light beam that has passed through the opening 12a is converted into a parallel light beam by the collimator lens 13 and reflected by the mirror 14, and then, by the imaging lens 16, for example, on the optical axis. Area CC fixedly located at
An image is formed as an annular pattern on the photodetector 17 made of D. The optical conjugate position of the light source 10 by the collimator lens 13 is at the position C. The front focus of the imaging lens 16 is located at the conjugate position C.
【００１６】被検レンズＬは共役位置Ｃに近接して、図
示しないレンズ受け台に載置され光路内に置かれる。そ
して、円錐プリズム11を矢印18方向に移動させると、光
源10からの光束の偏向位置が変化するため、マスク板12
の開口12aを通過する円環状パターン（円形）の測定光
束の光軸Ｏ（測定光軸）に対する傾斜角が変化して、こ
の測定光束の被検レンズＬへの投射位置が被検レンズＬ
の半径方向に変化させられ、被検レンズＬを通るリング
状の測定光束の径が変化するので、測定野を変えること
ができる。尚、被検レンズＬが測定光学系に配置されて
いない場合には、マスク板12の開口12aを通過する円環
状パターン（円形）の測定光束の光軸Ｏに対する傾斜角
が変化して、光検出器17への測定光束の投射位置が測定
光軸Ｏの半径方向に変化させられることになる。即ち、
被検レンズＬを透過する測定光束の被検レンズＬ半径方
向における検出器17側への取出位置を可変させることが
できることになる。The test lens L is placed on a lens holder (not shown) near the conjugate position C, and is placed in the optical path. When the conical prism 11 is moved in the direction of arrow 18, the deflection position of the light beam from the light source 10 changes.
The inclination angle of the measurement light flux of the annular pattern (circle) passing through the opening 12a with respect to the optical axis O (measurement optical axis) changes, and the projection position of the measurement light flux onto the test lens L is changed to the test lens L.
And the diameter of the ring-shaped measurement light beam passing through the test lens L changes, so that the measurement field can be changed. When the test lens L is not disposed in the measurement optical system, the inclination angle of the measurement light flux of the annular pattern (circle) passing through the opening 12a of the mask plate 12 with respect to the optical axis O changes, and The projection position of the measurement light beam on the detector 17 is changed in the radial direction of the measurement optical axis O. That is,
This makes it possible to change the position at which the measurement light beam transmitted through the lens L to be extracted is extracted toward the detector 17 in the radial direction of the lens L to be inspected.
【００１７】第３図は、光検出器17上へ投射された円環
状パターン(被検レンズが円柱度数を有するときは楕円
形状となる)の大きさから被検レンズの屈折特性を求め
る方法を示すものである。FIG. 3 shows a method for obtaining the refraction characteristics of a lens to be measured from the size of an annular pattern projected on the photodetector 17 (an elliptical shape when the lens has a cylindrical power). It is shown.
【００１８】被検レンズＬが光路内にないときの光検出
器17上の円環状パターンの半径ａ0は結像レンズ16の焦
点距離をｆとすると、第３図より、 ａ0＝ｆtanθ0 …(1) また、共役位置Ｃに被検レンズＬを挿置したと考えると
光検出器17上の円環状パターンの半径がａに変化した場
合には、aは ａ＝ｆtanθ …(2) として表わされる。Assuming that the focal length of the imaging lens 16 is f, the radius a 0 of the annular pattern on the photodetector 17 when the lens L to be inspected is not in the optical path is: a 0 = ftan θ 0 from FIG. (1) Further, assuming that the test lens L is inserted at the conjugate position C, when the radius of the annular pattern on the photodetector 17 changes to a, a becomes a = ftan θ (2) Is represented as
【００１９】マスク板12の円環状開口12aが被検レンズL
により光検出器17上に結像されたとき、この被検レンズ
Lによる円環状開口12aの結像位置Xでの像の半径ｙ（結
像レンズ16の屈折作用は考えないとする)は、共役位置
Ｃの光源リング像の半径をｈとし、共役位置Ｃと結像位
置Xまでの距離をＤとすると、 ｙ＝Ｄtanθ0 …(3) ｙ＝Ｄtanθ−ｈ …(4) となり、(3),(4)式より、 Ｄ（tanθ0−tanθ)＝ −ｈ ゆえに、 Ｄ＝−ｈ／（tanθ0 −tanθ） …(5) となる。前記(1),(2)式と上記(5)式により、 Ｄ＝−ｈ／[（ａ0／ｆ）−（ａ／ｆ）] Ｄ＝−ｆ・ｈ／（ａ0 −ａ） が得られる。実際には被検レンズＬは共役位置Ｃから離
れているから、共役位置Ｃと被検レンズＬとの距離をΔ
ｄとすると、 Ｓ＝（ａ −ａ0）／[ｆｈ＋Δd（ａ0−ａ）] …(6) として求められる。The annular opening 12a of the mask plate 12 is
When an image is formed on the photodetector 17 by the
The radius y of the image at the image forming position X of the annular aperture 12a by L (assuming that the refraction of the image forming lens 16 is not considered) is defined as h, where the radius of the light source ring image at the conjugate position C is h. Assuming that the distance to the imaging position X is D, y = Dtan θ 0 (3) y = Dtan θ-h (4), and from the expressions (3) and (4), D (tan θ 0 −tan θ) = − h Therefore, D = −h / (tan θ 0 −tan θ) (5) From the above equations (1), (2) and the above equation (5), D = −h / [(a 0 / f) − (a / f)] D = −f · h / (a 0 −a) can get. Actually, since the test lens L is far from the conjugate position C, the distance between the conjugate position C and the test lens L is Δ
Assuming that d, S = (a−a 0 ) / [fh + Δd (a 0 −a)] (6)
【００２０】被検レンズＬが乱視レンズの場合は、光検
出器17上に投射された楕円パターンの短径と長径及びそ
れの軸角度から（6）式を利用して屈折特性を求めるこ
とができる。When the lens L to be inspected is an astigmatic lens, the refraction characteristics can be obtained from the minor axis and major axis of the elliptical pattern projected on the photodetector 17 and the axis angle thereof using the equation (6). it can.
【００２１】なお、本発明では、光検出器17は固定配置
されているので、光検出器17上に投射されたパターンが
被検レンズの屈折レンズの屈折力によりボケたパターン
となるが、パターンの中心位置を求めることにより円ま
たは楕円形状を求めることができるので、測定が可能で
ある。In the present invention, since the photodetector 17 is fixedly arranged, the pattern projected on the photodetector 17 becomes a blurred pattern due to the refractive power of the refractive lens of the lens to be measured. Since the circle or the elliptical shape can be obtained by obtaining the center position of, measurement is possible.
【００２２】上記(6)式による演算はマイクロプロセッ
サ等から構成される演算制御回路20で実行され、その演
算結果は表示器21に表示されるとともに必要に応じてプ
リンタ22で印字出力される。The calculation according to the above formula (6) is executed by a calculation control circuit 20 composed of a microprocessor or the like, and the calculation result is displayed on a display 21 and printed out by a printer 22 as required.
【００２３】本実施例においては、上述したように円錐
プリズム11を光軸Ｏにそって移動させることにより第４
図(A)及び第４図(B)に示すように被検レンズＬの測定野
φを変化させることができるため、累進焦点レンズやバ
イフォーカルコンタクトレンズ等の測定野の小さいレン
ズや、あるいは測定野をかえなければならないレンズ等
も測定可能となる。In this embodiment, by moving the conical prism 11 along the optical axis O as described above,
Since the measurement field φ of the test lens L can be changed as shown in FIGS. 4A and 4B, a lens having a small measurement field such as a progressive lens or a bifocal contact lens, or Lenses that need to change fields can be measured.
【００２４】なお、本実施例は、被検レンズＬの厚さが
薄く、その両屈折面の曲率差が小さく、第4図(A)のｈが
レンズによって変化しない場合に適用できる。This embodiment can be applied to the case where the thickness of the lens L to be measured is small, the difference in curvature between the two refraction surfaces is small, and h in FIG. 4 (A) does not change depending on the lens.
【００２５】被検レンズの屈折面の曲形状や厚さが大き
いときには、共役装置Ｃに円環状開口15aをもつ絞り15a
を第４図示すように配置し、その絞り開口を円錐プリズ
ムの移動に応じて変化させるとよい。When the curved shape and the thickness of the refraction surface of the lens to be examined are large, the conjugate device C has a diaphragm 15a having an annular aperture 15a.
May be arranged as shown in FIG. 4, and the aperture of the stop may be changed according to the movement of the conical prism.
【００２６】＜第２実施例＞第２実施例は円錐プリズム
11の移動量Ｐに応じて絞り15（光束投射位置変更手段）
の円環状開口15aの半径ｈを可変にした例を示したもの
で、第５図に示す構成を有する。尚、上述の第１実施例
と同一の構成要素には同一の符号を附して説明の重複を
さける。<Second Embodiment> A second embodiment is a conical prism.
Aperture 15 according to the movement amount P of 11 (light flux projection position changing means)
5 shows an example in which the radius h of the annular opening 15a is variable, and has a configuration shown in FIG. The same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description will not be repeated.
【００２７】絞り15は、第６図に示すように互いに半径
の異なる同心の円環状透光部151,152,153が例えば液晶
素子やフォトクロミック素子等の光電素子で構成され、
各透光部151,152,153に設けられたパターン電極(図示せ
ず)はスイッチ回路205 の接点 205a,205b,205cに接続
されている。他方、共通の(−)側電極(図示せず)は直流
電源206の(−)側に接続されている。しかも、この電源2
06の(＋)側はスイッチ回路205の可動接点205dに接続さ
れている。このスイッチ回路205は固定接点205a,205b,2
05cと可動接点205dを有していて、可動接点205dは制御
回路204の制御を受けて固定接点205a,205b,205cの何れ
かに切換え接続し得る様になっている。これにより、測
定光束は絞り15の透光部151ないし 153のいずれか一つ
のみを通過できる。なお、絞り15の透光部151〜153以外
の部分、即ち、154で示した中央部の部分は光不透過の
円形遮光部として、又、155で示した周縁部の部分は光
不透過の遮光帯として構成されている。As shown in FIG. 6, the aperture 15 has concentric annular light transmitting portions 151, 152, 153 having different radii from each other, and is constituted by a photoelectric element such as a liquid crystal element or a photochromic element.
A pattern electrode (not shown) provided on each of the light transmitting portions 151, 152, 153 is connected to contacts 205a, 205b, 205c of the switch circuit 205. On the other hand, a common (−) side electrode (not shown) is connected to the (−) side of the DC power supply 206. And this power supply 2
The (+) side of 06 is connected to the movable contact 205d of the switch circuit 205. This switch circuit 205 has fixed contacts 205a, 205b, 2
05c and a movable contact 205d, and the movable contact 205d can be switched and connected to any of the fixed contacts 205a, 205b, 205c under the control of the control circuit 204. This allows the measurement light beam to pass through only one of the light transmitting portions 151 to 153 of the stop 15. The portion of the diaphragm 15 other than the light-transmitting portions 151 to 153, that is, the central portion indicated by 154 is a light-impermeable circular light-shielding portion, and the peripheral portion indicated by 155 is light-impermeable. It is configured as a light-shielding band.
【００２８】円錐プリズム１１の移動量はボリューム20
1からの電圧変化としてとらえられ、その出力電圧Ｑは
比較器202,203の一方の入力端子に入力される。しか
も、比較器202の他方の入力端子には基準電圧aVが入力
され、比較器203の他方の入力端子には基準電圧bV(a＞
ｂ）が入力されている。比較器２０２はボリューム２０
１からの出力電圧Ｑが基準電圧aより大きくなると信号S
1を制御回路204へ出力し、比較器203はボリューム201か
らの出力Ｑが基準電圧ｂより小さくなると信号S2を制御
回路に出力するように構成されている。 制御回路204
は、比較器202からの信号S1を受けると、円錐プリズム1
1がマスク板12側にあると判断して、スイッチ回路205を
制御して図示するように可動接点 205dを固定接点205a
に接続し、 外側の透光部151のパターン電極(図示せず)
に通電し、 透光部151のみが光を通過できるようにす
る。[0028] The amount of movement of the yen cone prism 11 volume 20
The output voltage Q is regarded as a voltage change from 1, and the output voltage Q is input to one input terminal of the comparators 202 and 203. In addition, the reference voltage aV is input to the other input terminal of the comparator 202, and the reference voltage bV (a>
b) has been entered. The comparator 202 has the volume 20
Output voltage Q is ing larger than the reference voltage a from 1 the signal S
1 is output to the control circuit 204, and the comparator 203 outputs a signal S2 to the control circuit when the output Q from the volume 201 becomes smaller than the reference voltage b. Control circuit 204
Receives the signal S1 from the comparator 202,
1 is located on the mask plate 12 side, and controls the switch circuit 205 to change the movable contact 205d to the fixed contact 205a as shown in the figure.
And a pattern electrode (not shown) of the outer light transmitting portion 151
, So that only the light transmitting portion 151 can transmit light.
【００２９】比較器202,203ともに信号出力がないとき
には、ボリューム201の出力Ｑと基準電圧a,bVとがａ＞
Ｑ＞ｂとなっている。 このときには、 制御回路204
は、スイッチ回路205の可動接点205dを固定接点205bに
接続して、中央の透光部152のパターン電極(図示せず)
に通電し、この透光部152のみを測定光が通過できるよ
うにする。 さらに比較器203からの信号S2が制御回路2
04に入力されたときには、円錐プリズム11はもっとも光
源側に移動している。このときには制御回路204は、ス
イッチ回路205の可動接点205dを固定接点205cに接続し
て、内側の透光部153のパターン電極(図示せず)に通電
し、この透光部153のみを測定光束が通過できるように
する。When there is no signal output from both the comparators 202 and 203, the output Q of the volume 201 and the reference voltages a and bV satisfy a> a.
Q> b. At this time, the control circuit 204
Connects the movable contact 205d of the switch circuit 205 to the fixed contact 205b, and forms a pattern electrode (not shown) of the central light-transmitting portion 152.
, So that the measurement light can pass through only the light transmitting portion 152. Further, the signal S 2 from the comparator 203 is
When input to 04, the conical prism 11 has moved to the light source side most. At this time, the control circuit 204 connects the movable contact 205d of the switch circuit 205 to the fixed contact 205c, energizes a pattern electrode (not shown) of the inner light transmitting portion 153, and only passes the measuring light flux Pass through.
【００３０】この様に、透光部151,152,153のいずれか
ひとつを測定光束が透過するように選択することによ
り、測定光束が測定光軸Ｏの半径方向に可変させられる
ことになる。即ち、被検レンズＬを透過する測定光束の
被検レンズＬ半径方向における検出器17側への取出位置
を可変させることができることになる。As described above, by selecting any one of the light transmitting portions 151, 152, and 153 so that the measurement light beam is transmitted, the measurement light beam can be varied in the radial direction of the measurement optical axis O. That is, the position at which the measurement light flux transmitted through the lens L to be extracted is extracted toward the detector 17 in the radial direction of the lens L can be varied.
【００３１】また、 円錐プリズム11の移動量Ｐを大き
くし測定野φの変化量を大きくしたことにより、測定範
囲を確保するために、マスク板12の開口12aの半径を変
える必要がある場合、或いは、被検レンズの屈折特性に
より、その測定範囲を確保するためにマスク板12の開口
12aの半径を変える必要がある場合には、前記絞り15と
同様の構成で互いに半径の異なる複数の透光部を選択で
きるマスク板を構成すればよい。この場合、光源10，円
錐プリズム11，マスク12に代えて用いられる絞り15と同
様な構成のマスク、コリメータレンズ13等が測定光束投
射手段となり、このマスクが光束投射位置変更手段とな
る。Further, by increasing the amount of movement P of the conical prism 11 and the amount of change in the measurement field φ, it is necessary to change the radius of the opening 12a of the mask plate 12 in order to secure the measurement range. Alternatively, depending on the refraction characteristics of the test lens, the opening of the mask
When it is necessary to change the radius of 12a, a mask plate that can select a plurality of light-transmitting portions having different radii from each other may be configured in the same configuration as the stop 15. In this case, a mask having the same configuration as the diaphragm 15 used in place of the light source 10, the conical prism 11, and the mask 12, the collimator lens 13, and the like serve as a measuring light beam projecting unit, and this mask serves as a light beam projecting position changing unit.
【００３２】更に、光源10からの照明光束が平行光束で
あれば、マスク12に代えて用いられる絞り15と同様な構
成のマスクを組み合わせたものが光束投射位置変更手段
手段となる。Further, if the illuminating light beam from the light source 10 is a parallel light beam, a combination of a mask having the same configuration as the diaphragm 15 used in place of the mask 12 serves as a light beam projection position changing means.
【００３３】以上説明したように、請求項１の発明は、
測定光束投影手段からの測定光束を被検レンズに投射し
て、前記被検レンズを透過した前記測定光束を介して光
検出器上で受光することにより、前記被検レンズの屈折
力を測定する測定光学系が設けられたレンズメーターに
於て、前記測定光束投影手段は、光軸方向に移動して前
記測定光束の前記被検レンズへの投射位置を可変させる
光学部材を有する構成としたので、累進多焦点レンズや
コンタクトレンズ等の測定野が小さく、且つこの小さい
測定野が測定光学系の光学中心から半径方向のいずれの
位置にあったとしても、測定光束の被検レンズへの半径
方向への投射位置を変更して、又は被検レンズを透過し
た測定光束の内の被検レンズの半径方向に於ける取出位
置を変更して、測定光束の光検出器に入射する位置を測
定光学系の光軸の半径方向に変更することができる。こ
の結果、従来測定が困難であった累進多焦点レンズやコ
ンタクトレンズ等の測定野が小さいレンズの測定が可能
となると共に、測定領域を変えて測定野が大きいレンズ
の測定も正確にできる。また、請求項２に記載の発明
は、所定のパターンの測定光束を被検レンズを介して光
検出器に導いて、被検レンズの屈折特性を測定する測定
光学系が設けられたレンズメーターにおいて、前記測定
光束の前記被検レンズへの投影パターンの大きさを変え
て前記測定光束の前記被検レンズへの投射位置を可変さ
せる光束投射位置変更手段を設けた構成としたので、上
述と同様に累進多焦点レンズやコンタクトレンズ等の測
定野が小さく、且つこの小さい測定野が測定光学系の光
学中心から半径方向のいずれの位置にあったとしても、
測定光束の被検レンズへの半径方向への投射位置を変更
して、又は被検レンズを透過した測定光束の内の被検レ
ンズの半径方向に於ける取出位置を変更して、測定光束
の光検出器に入射する位置を測定光学系の光軸の半径方
向に変更することができる。この結果、従来測定が困難
であった累進多焦点レンズやコンタクトレンズ等の測定
野が小さいレンズの測定が可能となると共に、測定領域
を変えて測定野が大きいレンズの測定も正確にできる。
しかも、これらの請求項１，２の構成によれば、光学部
材の光軸方向への移動により測定光束の被検レンズへの
投射位置を半径方向に移動させるか、所定の パターンの
測定光束の大きさを変える光束投射位置変更手段を設け
ただけの簡単な構成でよいので、構成が簡単で大きくす
る必要がないので、レンズメーター等の小型の装置に容
易に組み込むことができる。 As explained above, the invention of claim 1 is
By measuring the refractive power of the lens to be measured by projecting the measuring light beam from the measuring light beam projecting means onto the test lens and receiving the light on the photodetector via the measuring light beam transmitted through the test lens. In a lens meter provided with a measurement optical system, the measurement light beam projection unit moves in the optical axis direction to change the projection position of the measurement light beam on the lens to be measured .
Because of the configuration having the optical member , the measurement field of the progressive multifocal lens or the contact lens is small, and even if this small measurement field is located at any position in the radial direction from the optical center of the measurement optical system, the measurement light flux Changing the radial projection position of the measurement lens on the test lens, or changing the radial extraction position of the test lens out of the measurement light flux transmitted through the test lens, The position of incidence on the instrument can be changed in the radial direction of the optical axis of the measuring optical system. As a result, it is possible to measure a lens having a small measurement field such as a progressive multifocal lens or a contact lens, which has conventionally been difficult to measure, and to accurately measure a lens having a large measurement field by changing the measurement area. According to a second aspect of the present invention, there is provided a lens meter provided with a measurement optical system for guiding a measurement light beam of a predetermined pattern to a photodetector via a test lens and measuring a refraction characteristic of the test lens. , The measurement
Change the size of the projection pattern of the light beam onto the lens to be inspected.
Variable the projection position of the measurement light beam on the lens to be inspected.
Since a structure in which a light beam projection position changing means for, in the same manner as described above progressively measurement field, such as multifocal lenses and contact lenses is small, and from this small measurement field optical center of the measuring optical system in the radial direction either Even if it is in position,
By changing the radial projection position of the measurement light beam onto the test lens, or changing the radial extraction position of the test lens in the measurement light beam transmitted through the test lens, The position of incidence on the photodetector can be changed in the radial direction of the optical axis of the measurement optical system. As a result, it is possible to measure a lens having a small measurement field such as a progressive multifocal lens or a contact lens, which has conventionally been difficult to measure, and to accurately measure a lens having a large measurement field by changing the measurement area.
Moreover, according to the configurations of claims 1 and 2, the optical unit
By moving the material in the direction of the optical axis, the measurement light beam
Move the projection position in the radial direction, having a predetermined pattern
Light beam projection position changing means for changing the size of the measurement light beam is provided.
The simple configuration is sufficient, so the configuration is simple and large.
It is not necessary to use a small device such as a lens meter
Can be easily incorporated.
【図１】本発明に係るレンズメーターの第１実施例を示
す光学配置図である。FIG. 1 is an optical layout diagram showing a first embodiment of a lens meter according to the present invention.
【図２】図１に示したマスク板及び絞り板の開口形状を
示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing an opening shape of a mask plate and an aperture plate shown in FIG.
【図３】図１の被検レンズの屈折力を求める方法を説明
するための光路図である。FIG. 3 is an optical path diagram for explaining a method for obtaining a refractive power of the lens to be inspected in FIG. 1;
【図４】(A)及び(B)は、第１の実施例の作用を示す光路
図である。FIGS. 4A and 4B are optical path diagrams showing the operation of the first embodiment.
【図５】本発明に係るレンズメーターの第２実施例を示
す光路配置図及びブロック図である。FIG. 5 is an optical path layout diagram and a block diagram showing a second embodiment of the lens meter according to the present invention.
【図６】図５の絞りの構成を示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing the configuration of the stop shown in FIG. 5;
10…光源 11…円錐プリズム 12…マスク板 12a…開口(透光部) 13…コリメーターレンズ 15…絞り 151,152,153…透光部 16…結像レンズ 17…光検出器 Ｌ…被検レンズ 10 ... Light source 11 ... Conical prism 12 ... Mask plate 12a ... Aperture (light transmitting part) 13 ... Collimator lens 15 ... Aperture 151,152,153 ... Light transmitting part 16 ... Imaging lens 17 ... Photo detector L ... Test lens
Claims (2)
レンズに投射して、前記被検レンズを透過した前記測定
光束を介して光検出器上で受光することにより、前記被
検レンズの屈折力を測定する測定光学系が設けられたレ
ンズメーターに於て、 前記測定光束投影手段は、光軸方向に移動して前記測定
光束の前記被検レンズへの投射位置を可変させる光学部
材を有することを特徴とするレンズメーター。1. A method for projecting a measurement light beam from a measurement light beam projection unit onto a lens to be measured, and receiving the measurement light beam on a photodetector via the measurement light beam transmitted through the lens to be measured, thereby detecting the measurement lens. In a lens meter provided with a measurement optical system for measuring a refractive power, the measurement light beam projection unit moves in an optical axis direction to change a projection position of the measurement light beam on the lens to be measured.
A lens meter characterized by having a material .
を介して光検出器に導いて、被検レンズの屈折特性を測
定する測定光学系が設けられたレンズメーターにおい
て、前記測定光束の前記被検レンズへの投影パターンの大き
さを変えて前記測定光束の前記被検レンズへの投射位置
を可変させる 光束投射位置変更手段を設けたことを特徴
とするレンズメーター。2. A guided to the light detector through the sample lens measuring light beam of a predetermined pattern, the lens meter measuring optical system is provided for measuring the refractive properties of the lens, the said measuring beam The size of the projection pattern on the lens to be inspected
Changing the projection position of the measurement light beam onto the lens to be inspected
A lens meter provided with a light beam projection position changing means for changing the light flux.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7277347A JP2598247B2 (en) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Lens meter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7277347A JP2598247B2 (en) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Lens meter |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08210947A JPH08210947A (en) | 1996-08-20 |
| JP2598247B2 true JP2598247B2 (en) | 1997-04-09 |
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ID=17582267
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP7277347A Expired - Fee Related JP2598247B2 (en) | 1995-10-25 | 1995-10-25 | Lens meter |
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|---|---|
| JP (1) | JP2598247B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3749152B2 (en) * | 2001-10-01 | 2006-02-22 | 株式会社トプコン | Lens meter |
| JP4830837B2 (en) * | 2006-12-19 | 2011-12-07 | パナソニック株式会社 | Lens measuring device |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223033A (en) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method for measuring aberration of distributed index lens |
-
1995
- 1995-10-25 JP JP7277347A patent/JP2598247B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58223033A (en) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method for measuring aberration of distributed index lens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH08210947A (en) | 1996-08-20 |
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