JP2597763B2 - ワークの外観検査装置 - Google Patents

ワークの外観検査装置

Info

Publication number
JP2597763B2
JP2597763B2 JP3066974A JP6697491A JP2597763B2 JP 2597763 B2 JP2597763 B2 JP 2597763B2 JP 3066974 A JP3066974 A JP 3066974A JP 6697491 A JP6697491 A JP 6697491A JP 2597763 B2 JP2597763 B2 JP 2597763B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
work
magnetic disk
turntable
visual inspection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP3066974A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH04301714A (ja
Inventor
洋一 佐藤
忠利 黒住
Original Assignee
昭和アルミニウム株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 昭和アルミニウム株式会社 filed Critical 昭和アルミニウム株式会社
Priority to JP3066974A priority Critical patent/JP2597763B2/ja
Publication of JPH04301714A publication Critical patent/JPH04301714A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2597763B2 publication Critical patent/JP2597763B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばアルミニウム
(その合金を含む)磁気ディスク基板等の円板状基板か
らなるワークの表面欠陥の有無等を検査するワークの外
観検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】アルミニウム磁気ディスク基板等のワー
クには、その品質上鏡面ないしそれに近い状態の高度な
表面精度が要求され、局部的にもキズ、ピンホール、ふ
くれ等の表面欠陥のないことが要求される。このため、
精密切削、研磨、洗浄乾燥等の各工程を経て一般に製作
されるアルミニウム磁気ディスク基板の製造工程におい
ては、所定の工程の終了後あるいは全工程の終了後に表
面欠陥の有無等を検査する外観検査が行われている。
【0003】従来、かかる外観検査工程は次のような手
順で行われていた。即ち、前工程からケースに入れられ
送られてきたワークを外観検査機の保持部にチャッキン
グしたのち、ワークを回転させて片面の外観検査を行
い、次いでワークを反転して他面の外観検査を行い、検
査が終了すると該ワークを取外すとともに次のワークを
該保持部に装着して検査を行い、以後1枚ずつこの動作
を繰返すことにより行われていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な方法では、ワークの着脱作業に時間を要するととも
に、1のワークの検査工程が終了するまで次のワークの
外観検査を行うことができないことから、単位時間あた
りのワークの検査処理数が少なく検査効率が悪いという
欠点があった。
【0005】この発明はかかる欠点を解消し、円板状基
板からなるワークの外観検査の効率向上を図ることを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にこの発明は、図面の符号を参照して示すと、円板状基
板からなる複数のワーク(A)を平面内において着脱自
在に保持するワーク保持部(2)を回転軸の周囲に有す
るターンテーブル(1)が、回転、停止自在に配置され
るとともに、該ターンテーブル(1)の回転まわりに少
なくともワークの受取ステージ(I)、ワーク片面の第
外観検査ステージ(II)、反転ステージ(III )、ワ
ークの他方の片面の第2外観検査ステージ(IV)、取出
ステージ(V)の各ステージが設定され、前記ワーク受
取ステージ(I)で前記ワーク保持部(2)に保持され
たワーク(A)が、ターンテーブル(1)の間欠的な回
転送りにより各ステージを巡って前記ワーク取出ステー
ジ(V)へと移送される過程において、前記第1外観検
査ステージ(II)で片面を外観検査され、前記反転ステ
ージ(III )で反転され、前記第2外観検査ステージ
(IV)で他方の片面を外観検査されるものとなされてい
ることを特徴とするワークの外観検査装置を提供するも
のである。
【0007】
【作用】図2において、前工程から搬送装置(3)によ
ってワーク受取ステージ(I)に搬送されてきたワーク
(A)は、ターンテーブル(1)上の保持部(2)に渡
され、チャック部(2a)に装着される。次に、ターンテ
ーブル(1)が時計方向に1/5回転して停止する。
これにより受取ステージ(I)のワーク(A)は第1
観検査ステージ(II)に移送される。第1外観検査ステ
ージ(II)では、移行されてきたワーク(A)に片面の
表面検査が実施される。この間、受取ステージ(I)で
は、搬送装置(3)により次のワークが前工程から搬送
され、受取ステージ(I)に待機している次段の保持部
(2)に装着される。外観検査終了後、さらにターンテ
ーブル(1)が1/5回転し、受取ステージ(I)の次
のワーク(A)が第1外観検査ステージ(II)へと移送
され、外観検査が行われる。こうして、ターンテーブル
(1)の間欠的な回転送りによりワークが次々と第1
観検査ステージ(II)へ移送され外観検査に供される。
外観検査されたワーク(A)は、反転ステージ(III
)、第2外観検査ステージ(IV)を巡ってワーク取出
ステージ(V)へと送られ、待機している搬送装置
(7)によって取出され次工程に送られる。
【0008】
【実施例】以下、この発明を、図4に示すようなワーク
としてのアルミニウム磁気ディスク基板(A)の外観検
査を行う装置に適用した実施例に基いて説明する。
【0009】図1は縦型の外観検査装置を示している。
この外観検査装置において、(1)は回転軸を前後水平
方向に向けて配置された円板状の縦型ターンテーブルで
ある。このターンテーブル(1)の前面には周方向の5
等分位置に5個のワーク保持部(2)が設けられてい
る。各ワーク保持部(2)は拡径、縮径自在な前方突出
状のチャック部(2a)を有し、該チャック部(2a)が基
板(A)の軸孔に通された状態で拡径することにより、
基板(A)を内周からチャックする一方、チャック部の
縮径により基板(A)のャックを解除可能となされてい
る。そして各チャック部(2a)は自軸まわりで回転を行
いうるようになされており、この回転駆動によりチャッ
クした基板(A)を必要に応じて回転させるものとなさ
れている。
【0010】前記ターンテーブル(1)の回転まわりの
5等分位置には、左上から時計方向へ順にワーク受取
ステージ(I)、第1外観検査ステージ(II)、反転ス
テージ(III )、第2外観検査ステージ(IV)、ワーク
取出ステージ(V)の5つのステージが設定されてい
る。そして、前記ターンテーブル(1)は、図示しない
駆動装置によって鉛直面内で回転停止自在に制御可能と
なされるとともに、時計方向に1/5回転ごとに回転
送りと停止を繰返し、ワーク保持部(2)に装着した基
板(A)を各ステージを巡って移送するものとなされて
いる。
【0011】上記各ステージについて説明すると次のと
おりである。即ち、前記ワーク受取ステージ(I)は、
搬送装置(3)によって前工程から搬送されてきた磁気
ディスク基板(A)を保持部(2)に装着するステージ
である。なお、搬送装置(3)から保持部(2)へのデ
ィスク基板(A)の装着は搬送装置に設けられた外周チ
ャック方式のチャッカーを介して行われるものとなされ
ている。
【0012】前記第1外観検査ステージ(II)は、磁気
ディスク基板(A)の片面について表面のキズやピンホ
ール等の表面欠陥の有無の検査を行うものであり、この
ための外観検査装置(4)が設置されている。かかる外
観検査装置(4)の構成は特に限定されることはない
が、この実施例では図3に示すように、磁気ディスク基
板表面に向けて光を間欠的に照射する光源(41)と、該
照射光に同期して磁気ディスク基板からの反射光を受領
するCCDカメラ等の撮像装置(42)と、該撮像装置に
よって撮影された画像の濃淡から表面欠陥の有無を電気
的に検出する表面欠陥検出装置(43)を備えたものが用
いられている。そして、チャック部(2a)の回転駆動に
よる磁気ディスク基板の回転と要すれば光源及び撮像装
置の半径方向への移動とによって、磁気ディスク基板
(A)の片面全面の外観検査を行うものとなされてい
る。
【0013】前記反転ステージ(III )は磁気ディスク
基板(A)を表裏反転させてワーク保持部(2)に再装
着するものであり、このための反転装置(5)が設置さ
れている。この反転装置(5)は、基板(A)の外周を
チャックするアーム部を有し、このアーム部で反転ステ
ージ(III )に移送されてきた基板(A)の外周部をチ
ャックして側方に移動することにより基板(A)をチャ
ック部(2a)から一旦外したのち、アーム部を180度
回転させることにより基板(A)を裏返して再度ワーク
保持部(2)のチャック部(2a)に装着する動作を行う
ものである。
【0014】前記第2外観検査ステージ(IV)は、反転
ステージ(III )で反転された磁気ディスク基板(A)
の他面側について外観検査を行うものであり、第1外観
検査ステージ(II)と同様の外観検査装置(6)が設置
されている。
【0015】前記ワーク取出ステージ(V)は、外観検
査を終えて該ステージへ移送されてきた磁気ディスク基
板(A)をワーク保持部(2)から取出すとともに、取
出した磁気ディスク基板を搬送装置(7)によって次工
程へ搬送するものである。かかる磁気ディスク基板
(A)の取外しも搬送装置(7)に設けた図示しないチ
ャッカーを介して行われるものとなされている。
【0016】次に、図1に示す外観検査装置の動作をそ
の制御方式と併せて図2に基いて説明する。
【0017】前工程例えば洗浄乾燥工程から搬送装置
(3)によってワーク受取ステージ(I)に移送されて
きた磁気ディスク基板(A)は、搬送装置(3)のチャ
ッカーからターンテーブル(1)上のワーク保持部
(2)に渡され、チャック部(2a)に装着される。
【0018】次に、搬送装置(3)は次の磁気ディスク
基板を搬送すべく前工程側に移動する一方、ターンテー
ブル(1)が時計方向に1/5回転して停止する。こ
のターンテーブル(1)の回転送りにより、前段のステ
ージに位置していた各ワーク保持部(2)は次段のステ
ージへと移行する。即ち、受取ステージ(I)で磁気デ
ィスク基板(A)を装着された保持部(2)は第1外観
検査ステージ(II)に移行し、取出ステージ(V)に位
置していた保持部(2)は受取ステージ(I)へと移行
し、そこで停止する。
【0019】第1外観検査ステージ(II)では、移送さ
れてきた磁気ディスク基板(A)に片面側の表面検査が
実施され、キズ、ピンホール等の表面欠陥の有無や個数
が判定される。この間、受取ステージ(I)では、搬送
装置(3)により次の磁気ディスク基板が前工程から搬
送され、受取ステージ(I)に待機している次段の保持
部(2)に装着される。
【0020】上記の外観検査終了後、さらにターンテー
ブル(1)が1/5回転する。これにより第1外観検査
ステージ(II)の磁気ディスク基板(A)は反転ステー
ジ(III )へ、受取ステージ(I)の磁気ディスク基板
(A)は第1外観検査ステージ(II)へと移送され、取
出ステージ(V)に位置していたワーク保持部(2)は
受取ステージ(I)へと移行する。反転ステージ(III
)へ移送された磁気ディスク基板は、反転装置(5)
でチャック部(2a)から一旦外されて表裏が反転された
のち、ワーク保持部(2)へ再装着される。この間に、
第1外観検査ステージ(II)では2番目の磁気ディスク
基板の外観検査が行われ、受取ステージ(I)では3番
目の磁気ディスク基板の装着が行われる。
【0021】反転ステージ(III )での反転工程終了後
ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し、各磁気デ
ィスク基板(A)はそれぞれ次段のステージへと移送さ
れるとともに、取出ステージ(V)に位置していたワー
ク保持部(2)は受取ステージ(I)へ移行する。反転
ステージ(III )から第2外観検査ステージ(IV)へと
移送された磁気ディスク基板(A)には、次いで外観検
査装置(4)により他面側の外観検査が行われ、表面欠
陥の有無や個数が判定される。この間に、反転ステージ
(III )、第1外観検査ステージ(II)、受取ステージ
(I)では、それぞれ磁気ディスク基板の反転動作、片
面外観検査、受取動作が行われる。
【0022】第2外観検査ステージ(IV)での外観検査
終了後、ターンテーブル(1)がさらに1/5回転し、
各磁気ディスク基板は次段のステージへと移送される。
取出ステージ(V)へ移送された磁気ディスク基板は、
搬送装置(7)のチャッカーによってワーク保持部
(2)から取出される。この間に、第2外観検査ステー
ジ(IV)、反転ステージ(III )、第1外観検査ステー
ジ(II)、受取ステージ(I)では、それぞれ磁気ディ
スク基板の他面外観検査、反転動作、片面外観検査、受
取動作が行われる。
【0023】取出ステージ(V)での磁気ディスク基板
(A)の取出し終了後、ターンテーブル(1)がさらに
1/5回転し、各磁気ディスク基板は次段のステージへ
と移送されるとともに、取出ステージ(V)の空き状態
となったワーク保持部(2)は受取ステージ(I)へと
移行し、以下同様の動作が繰返される。
【0024】このように、ターンテーブル(1)の1/
5回転ずつの送りと停止により、各ステージを順次的に
巡らせながら磁気ディスク基板を移送していくから、多
数の磁気ディスク基板を次々と連続的かつ自動的に外観
検査に供することができる。なお、取出ステージ(V)
で取出された磁気ディスク基板(A)は、搬送装置
(3)によって例えば良否選別工程等に送られ、第1、
第2外観検査ステージ(II)(IV)での外観検査結果に
基いて、良品、不良品、再加工品の別に仕分けされる。
【0025】なお、図示実施例に係る外観検査装置は、
ターンテーブル(1)が垂直に配置されかつ鉛直面内に
おいて回転する縦型のものとしてこれを示したが、ター
ンテーブル(1)が水平に配置されかつ水平面内におい
て回転する横型のものとして構成しても良いし、またタ
ーンテーブルを任意角度に傾斜させて配置しても良い。
而して、縦型の装置として構成した場合には、ターンテ
ーブル(1)上で磁気ディスク基板(A)の表面にほこ
りやごみが付着しにくく、また付着した場合も容易に落
下し易いため、確度の高い検査結果を得ることができる
利点がある。しかも、装置の設置に必要な床面積を少な
くすることができ、設置空間の有効利用を図りうるとい
う利点もある。一方、横型の装置として構成した場合に
は、ワーク保持部(2)に装着保持した際に磁気ディス
ク基板(A)の自重安定作用により該基板の水平面を得
やすいことから、基板(A)を回転させたときのぶれの
発生を防止でき、ひいては外観検査装置(4)(6)に
おける光源(41)や撮像装置(42)と基板(A)との距
離を常時一定に保持しえて精度の高い外観検査結果が得
られるという利点がある。
【0026】
【発明の効果】この発明は上述の次第で、円板状基板か
らなる複数のワークを平面内において着脱自在に保持す
るワーク保持部(2)を回転軸の周囲に有するターンテ
ーブルが、回転、停止自在に配置されるとともに、該タ
ーンテーブルの回転まわりに少なくともワークの受取ス
テージ、ワーク片面の第1外観検査ステージ、反転ステ
ージ、ワークの他方の片面の第2外観検査ステージ、
出ステージの各ステージが設定され、前記ワーク受取ス
テージで前記ワーク保持部に保持されたワークが、ター
ンテーブルの間欠的な回転送りにより各ステージを巡っ
て前記ワーク取出ステージへと移送される過程におい
て、前記第1外観検査ステージで片面を外観検査され、
前記反転ステージで反転され、前記第2外観検査ステー
ジで他方の片面を外観検査されるものとなされているこ
とを特徴とするものである。従って、1のワークの外観
検査工程の終了を待つことなく、多数のワークを次々と
連続的に外観検査することができることになり、従来の
ように、1のワークの検査工程終了を待って次のワーク
の外観検査を行う場合に較べて、単位時間に外観検査で
きるワークの数を段に増加することができ、外観検査
効率の著しい向上を図りうる。しかも、磁気ディスク基
板等の円板状基板からなるワークに対し、第1外観検査
ステージで片面を外観検査され、反転ステージで反転さ
れ、第2外観検査 ステージで他方の片面を外観検査され
るものとなされているので、受取ステージから取出ステ
ージまでの間にワーク両面が外観検査されることにな
り、より一層の外観検査効率の向上を図りうる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係る外観検査装置の正面
図である。
【図2】ワークの外観検査を実際に行っている状態の正
面図である。
【図3】外観検査装置の概略構成図である。
【図4】実施例に用いたワークとしてのアルミニウム磁
気ディスク基板を示す斜視図である。
【符号の説明】
A…アルミニウム磁気ディスク基板(ワーク) 1…ターンテーブ 2…ワーク保持部 I…ワークの受取ステージ II、IV…外観検査ステージ V…ワーク取出ステージ

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 円板状基板からなる複数のワーク(A)
    を平面内において着脱自在に保持するワーク保持部
    (2)を回転軸の周囲に有するターンテーブル(1)
    が、回転、停止自在に配置されるとともに、該ターンテ
    ーブル(1)の回転まわりに少なくともワークの受取ス
    テージ(I)、ワーク片面の第1外観検査ステージ(I
    I)、反転ステージ(III )、ワークの他方の片面の第
    2外観検査ステージ(IV)、取出ステージ(V)の各ス
    テージが設定され、前記ワーク受取ステージ(I)で前
    記ワーク保持部(2)に保持されたワーク(A)が、タ
    ーンテーブル(1)の間欠的な回転送りにより各ステー
    ジを巡って前記ワーク取出ステージ(V)へと移送され
    る過程において、前記第1外観検査ステージ(II)で
    面を外観検査され、前記反転ステージ(III )で反転さ
    れ、前記第2外観検査ステージ(IV)で他方の片面を
    観検査されるものとなされていることを特徴とするワー
    クの外観検査装置。
JP3066974A 1991-03-29 1991-03-29 ワークの外観検査装置 Expired - Lifetime JP2597763B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3066974A JP2597763B2 (ja) 1991-03-29 1991-03-29 ワークの外観検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3066974A JP2597763B2 (ja) 1991-03-29 1991-03-29 ワークの外観検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04301714A JPH04301714A (ja) 1992-10-26
JP2597763B2 true JP2597763B2 (ja) 1997-04-09

Family

ID=13331506

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3066974A Expired - Lifetime JP2597763B2 (ja) 1991-03-29 1991-03-29 ワークの外観検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2597763B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY120950A (en) * 1996-09-10 2005-12-30 Hitachi High Tech Corp Apparatus and method for inspecting disks
JP2003002430A (ja) * 2001-06-21 2003-01-08 Shibuya Kogyo Co Ltd 物品検査方法とその装置

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01291110A (ja) * 1988-05-18 1989-11-22 Kanebo Ltd 検査装置
JPH01116439A (ja) * 1987-10-30 1989-05-09 Toshiba Corp 光学的情報記憶媒体検査装置
JPH0260860U (ja) * 1988-10-27 1990-05-07

Also Published As

Publication number Publication date
JPH04301714A (ja) 1992-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3455458B2 (ja) 塗布、現像装置及び塗布現像処理における基板再生システム
US10937697B2 (en) Method of processing a semiconductor wafer that involves cutting to form grooves along the dicing lines and grinding reverse side of the wafer
JP2011066342A (ja) ウェーハ研磨装置およびウェーハの製造方法
JP2020136357A (ja) チャックテーブル及び検査装置
CN114643208B (zh) 一种光学镜片瑕疵自动检测设备
JP2008082900A (ja) 外観検査装置
JPH10113864A (ja) 自動研削機械
JP2597763B2 (ja) ワークの外観検査装置
US20120075624A1 (en) Method and apparatus for inspecting magnetic disk
JPH04315037A (ja) ワーク端面の外観検査装置
JP2000114329A (ja) 基板端部の研削面の検査方法とその装置
JPH04359109A (ja) 円板状ディスクワークの両面同時式外観検査装置
JP2974441B2 (ja) 研磨、洗浄乾燥及び外観検査を必要とするワークの製造装置
JPH07248300A (ja) 部品検査装置
JPS59108934A (ja) レンズ光学検査装置
JP3765557B2 (ja) 多品種のワーク移送装置
JP5654782B2 (ja) 研削加工装置
JPH0352226A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JPH0521406A (ja) 多連式全自動ウエハーポリツシング装置とポリツシング方法
JP4477974B2 (ja) 研磨装置
JP2021126744A (ja) 加工装置
JP4291631B2 (ja) 研磨洗浄方法及び研磨洗浄装置
JPH0316098Y2 (ja)
JP2000156391A (ja) 半導体ウェーハ検査装置
JPH0875667A (ja) チップ部品外観検査装置