JP2590352B2 - Vertical heat treatment equipment - Google Patents
Vertical heat treatment equipmentInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は、縦型熱処理装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a vertical heat treatment apparatus.
（従来の技術） 例えば、半導体の製造においては、従来より非接触で
ウエハを熱処理炉に出し入れする装置としてソフトラン
ディング、カンチレバー、アトムスキャン（商品名）が
知られている。(Prior Art) For example, in the manufacture of semiconductors, soft landing, cantilever, and atom scan (trade name) have been conventionally known as devices for bringing a wafer into and out of a heat treatment furnace in a non-contact manner.
ソフトランディング方式とは、第７図（ａ）に示すボ
ート１を、第７図（ｂ）又は同図（ｃ）のような形状の
フォークと呼ばれるウエハ搬送アーム２により下から持
ち上げて保持し、第８図に示すように、非接触でウエハ
８を搭載した前記ボート１を熱処理炉４に搬入し、熱処
理炉４内にボート１をおろして搬送アーム２は熱処理炉
４外に搬出して熱処理を行うものである。そして、ウエ
ハ３の処理が終った後、搬送アーム２が熱処理炉４内に
入り、ボート１を保持して熱処理炉４外に搬出するよう
になっている。The soft landing method means that the boat 1 shown in FIG. 7A is lifted from below and held by a wafer transfer arm 2 called a fork having a shape as shown in FIG. 7B or FIG. As shown in FIG. 8, the boat 1 on which the wafers 8 are mounted in a non-contact manner is carried into the heat treatment furnace 4, the boat 1 is lowered into the heat treatment furnace 4, and the transfer arm 2 is carried out of the heat treatment furnace 4 to perform the heat treatment. Is what you do. After the processing of the wafer 3 is completed, the transfer arm 2 enters the heat treatment furnace 4, holds the boat 1, and carries it out of the heat treatment furnace 4.
カンチレバー方式とは、ソフトランディングと同様
に、ボート１を搬送アーム２により下から持ち上げて保
持し、非接触でウエハ３を熱処理炉４に搬入するもので
ある。In the cantilever method, similarly to the soft landing, the boat 1 is lifted from below by the transfer arm 2 and held, and the wafer 3 is loaded into the heat treatment furnace 4 in a non-contact manner.
ソフトランディングと異なる点は、ボート１を搬送ア
ーム２によって保持した状態で熱処理炉に挿入してウエ
ハ３の熱処理を行う点である。The difference from the soft landing is that the boat 1 is inserted into the heat treatment furnace while the boat 1 is held by the transfer arm 2 and heat treatment of the wafer 3 is performed.
アトムスキャン方式は、搬送アームを第９図の形状と
し、ボート１を中空円筒状の搬送アーム５の長手方向先
方より搬送アーム５に挿入して保持し、さらに、第10図
（ａ），（ｂ）に示すように搬送アーム５内にチッ素等
の不活性ガスを導入し、大気中の酸素とウエハが反応す
ることによる不必要な酸化膜ができないようにしてい
る。さらに搬送アーム５を熱処理４内に挿入し、熱処理
を行なった後ウエハを取出し、搬送アーム５内に不活性
ガスを再度導入して熱処理を終了する。In the atom scan method, the transfer arm has the shape shown in FIG. 9, and the boat 1 is inserted into and held by the transfer arm 5 from the forward end of the hollow cylindrical transfer arm 5, and furthermore, FIGS. As shown in b), an inert gas such as nitrogen is introduced into the transfer arm 5 so that an unnecessary oxide film due to the reaction between oxygen in the atmosphere and the wafer is prevented. Further, the transfer arm 5 is inserted into the heat treatment 4, the wafer is taken out after the heat treatment, and an inert gas is introduced again into the transfer arm 5 to complete the heat treatment.
（発明が解決しようとする問題点） ところで、近年チップの高集積化に伴いウエハの微細
加工化の傾向があり、膜厚も薄くなっている。この場
合、ウエハ３を熱処理炉４に挿入，取出しする際の大気
中の酸素ガス等による気流の外乱により酸化膜が形成さ
れ、膜厚を制御することがむずかしくなってきている。(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in recent years, there has been a tendency for fine processing of wafers with high integration of chips, and the film thickness has been reduced. In this case, when the wafer 3 is inserted into and removed from the heat treatment furnace 4, an oxide film is formed due to disturbance of an air flow due to oxygen gas or the like in the atmosphere, and it is difficult to control the film thickness.
この点に対処して、熱処理の前後においてウエハに不
活性ガスを供給する方法がとられるようになっている。To cope with this, a method of supplying an inert gas to the wafer before and after the heat treatment has been adopted.
特に、ソフトランディング及びカンチレバーにおいて
は、搬送アーム２が第１図のような形状となっており、
ウエハ３は熱処理前後に大気中の酸素などの外乱の影響
を大きく受ける。熱処理を行う熱処理炉４内以外の部分
において、ウエハ３が大気中の酸素などと反応し酸化膜
が成長することは、膜厚をコントロールすることを困難
にしている。特に、近年ウエハ３は高集積化、薄膜化す
る傾向にあり、上記不具合が大きな問題となってきてい
る。In particular, in a soft landing and a cantilever, the transfer arm 2 has a shape as shown in FIG.
The wafer 3 is greatly affected by disturbance such as oxygen in the atmosphere before and after the heat treatment. The fact that the wafer 3 reacts with atmospheric oxygen or the like to grow an oxide film in a portion other than the inside of the heat treatment furnace 4 for performing the heat treatment makes it difficult to control the film thickness. In particular, in recent years, the wafer 3 tends to be highly integrated and thinned, and the above problem has become a serious problem.
一方、アトムスキャンにおいては、ウエハ３を熱処理
炉４内に搬入するため、まず、搬送アーム５がボート１
の存在位置より後ろに位置し、ウエハ３を保持したボー
ト１を搬送アーム５の前方に置いた状態で搬送アーム５
はボート１が搬送アーム５内に完全に入るまで前進駆動
され、搬送アーム５はボート１を保持した後さらに前進
してウエハ３を熱処理炉４内に搬入している。On the other hand, in the atom scan, the transfer arm 5 first moves the boat 1
The boat 1 holding the wafer 3 is positioned behind the transfer arm 5 and is positioned behind the transfer arm 5.
Is driven forward until the boat 1 completely enters the transfer arm 5. The transfer arm 5 further moves forward after holding the boat 1 and carries the wafers 3 into the heat treatment furnace 4.
このように、アトムスキャンの場合には搬送アームの
移動ストロークを確保する点で装置の占有スペースが大
きくならざるを得ないが、一般に半導体製造工場のクリ
ーンルーム内においては、単位面積当りのコストは大変
大きく、装置の占有面積が小さいことが望まれている。As described above, in the case of the atom scan, the space occupied by the apparatus is inevitably large in terms of securing the movement stroke of the transfer arm, but generally, the cost per unit area is very large in a clean room of a semiconductor manufacturing plant. It is desired that the device is large and the area occupied by the device is small.
そこで、本発明の目的はこのような従来の欠点に鑑み
なされたもので、省スペースでかつ熱処理炉への搬入出
における被処理体の不要な成膜を回避ならしめた縦型熱
処理装置を提供することにある。Therefore, an object of the present invention has been made in view of such a conventional drawback, and provides a vertical heat treatment apparatus that is space-saving and avoids unnecessary film formation of an object to be processed when being carried into and out of a heat treatment furnace. Is to do.
［発明の構成］ （問題点を解決するための手段） 本発明は、被処理体を配列支持するボートと、前記ボ
ートを支持する搬送アームと、前記ボートが搬入出され
る縦型熱処理炉と、を有し、前記搬送アームの長手軸を
水平状態として、前記搬送アームに対して前記ボートを
搭載、離脱し、前記搬送アームの前記長手軸を垂直状態
として、前記搬送アームを進退駆動して前記ボートを縦
型熱処理炉に対して搬入出する縦型熱処理装置であっ
て、 前記ボートには、その長手方向の両端部に、前記搬送
アームに係止される被係止用部材が形成され、 前記搬送アームは、その基端側が中空筒形状部に形成
され、かつ、その自由端側が半割形状部に形成され、前
記ボートに形成された前記被係止用部材を係止する係止
用部材が、前記中空筒形状部と前記半割形状部との境界
部と、前記自由端部とにそれぞれ形成され、 前記ボートの被係止用部材が前記搬送アームの係止用
部材に係止されることで、前記ボート上の前記被処理体
が前記半割形状部により包囲され、かつ、前記ボートが
前記搬送アームの基端側へ移動することが規制されるこ
とを特徴とする。[Structure of the Invention] (Means for Solving the Problems) The present invention provides a boat for arranging and supporting objects to be processed, a transfer arm for supporting the boat, a vertical heat treatment furnace for loading and unloading the boat, Having the longitudinal axis of the transfer arm in a horizontal state, mounting the boat with respect to the transfer arm, detaching, setting the longitudinal axis of the transfer arm to a vertical state, driving the transfer arm forward and backward, and A vertical heat treatment apparatus for loading / unloading a boat from / to a vertical heat treatment furnace, wherein the boat has, at both ends in a longitudinal direction thereof, a member to be locked to be locked to the transfer arm, The transfer arm has a base end side formed in a hollow cylindrical shape part, and a free end side formed in a half-shaped part, and is used for locking the locked member formed on the boat. The member has the hollow cylindrical shape portion and the The locked portion of the boat is formed at the boundary between the half-shaped portion and the free end, and the locked member of the boat is locked to the locking member of the transfer arm. The object to be processed is surrounded by the half-shaped portion, and the movement of the boat to the base end side of the transfer arm is regulated.
（作用） 本発明によれば、縦型熱処理炉にボートを搬入出する
際に、ボートを支持する搬送アームを垂直移動させて
も、搬送アームに形成された係止用部材と、ボートに形
成された被係止用部材とが係合し、ボートが搬送アーム
の基端側に移動することが規制されるため、ボートは搬
送アームより脱落することはない。しかも、ボートの搬
送中及び処理中に亘って、被処理体を搬送アームの半割
形状部により包囲することができる。(Operation) According to the present invention, when loading / unloading a boat into / from the vertical heat treatment furnace, even if the transfer arm supporting the boat is vertically moved, the locking member formed on the transfer arm and the lock member formed on the boat can be formed. The boat engages with the locked member, and the boat is prevented from moving toward the base end of the transfer arm, so that the boat does not fall off the transfer arm. Moreover, the object to be processed can be surrounded by the half-shaped portion of the transfer arm during the transfer of the boat and during the processing.
また、このボートは、係止用部材と被係止用部材との
係合に必要なストローク量だけ、搬送アームの軸方向に
相対的に移動すれば支持が可能であるので、軸方向への
長い移動ストロークを要せず、装置の設置面積を大幅に
低減することができる。Further, the boat can be supported if it is relatively moved in the axial direction of the transfer arm by the stroke amount necessary for the engagement between the locking member and the locked member. A long moving stroke is not required, and the installation area of the device can be greatly reduced.
（実施例） 以下、本発明を半導体ウエハの熱処理装置に適用した
実施例について、図面を参照して具体的に説明する。(Example) Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a heat treatment apparatus for a semiconductor wafer will be specifically described with reference to the drawings.
搬送アーム10は、耐熱性を有する材料例えば石英ガラ
スからなり略中空円筒状に形成され、その一端10aはア
ーム保持具11に固定されて支持されている。この搬送ア
ーム10の他端側は上側領域の半円部分のみで形成された
半割形状部の一例である円弧状部材10bとなっている。The transfer arm 10 is made of a heat-resistant material, for example, quartz glass, and is formed in a substantially hollow cylindrical shape. One end 10a of the transfer arm 10 is fixed to and supported by the arm holder 11. The other end of the transfer arm 10 is an arc-shaped member 10b which is an example of a half-shaped portion formed only by a semicircular portion in the upper region.
そして、前記円弧状部材10bの先端及び中空筒状部材1
0aと円弧状部材10bとの段差部10cには、それぞれれ２箇
所に係止用スリット12,13が形成されている。Then, the tip of the arc-shaped member 10b and the hollow cylindrical member 1
Engagement slits 12 and 13 are formed at two places in a step portion 10c between 0a and the arc-shaped member 10b.
尚、前記アーム保持具11に、不活性ガス例えばチッ素
等のガスを前記搬送アーム10内に導入するためのガス導
入口９が形成されている。The arm holder 11 is provided with a gas inlet 9 for introducing a gas such as an inert gas such as nitrogen into the transfer arm 10.
前記搬送アーム10の円弧状部材10bに支持可能なボー
ト20は、前記搬送アーム10の前記円弧状部材10bと共に
中空円筒状を形成するように、下側領域に半円形状の円
弧状部材21を有した外形となっていて、その両端の側面
板21a,21aには、例えば２本の支持棒22が掛け渡され、
この支持棒22には、図示しない半導体ウエハを所定間隔
毎に配列支持するための溝22aが形成されている。ま
た、このボート20の前記側面板21a,21aには、前記搬送
アーム10の係止用スリット12,13に係止される被係止用
突起23,24が設けられている。The boat 20 that can be supported by the arc-shaped member 10b of the transfer arm 10 has a semicircular arc-shaped member 21 in the lower region so as to form a hollow cylindrical shape together with the arc-shaped member 10b of the transfer arm 10. It has an outer shape, and for example, two support rods 22 are hung over side plates 21a, 21a at both ends thereof,
The support rod 22 is formed with a groove 22a for arranging and supporting semiconductor wafers (not shown) at predetermined intervals. The side plates 21a, 21a of the boat 20 are provided with locking projections 23, 24 which are locked by the locking slits 12, 13 of the transfer arm 10.
次に、前記搬送アーム10を駆動するための機構につい
て説明すると、この搬送アーム10は、ガイドレール30,3
0に沿って移動自在に支持されていて、第１のモータ31
の駆動力をベルト32を介してシャフト33に伝達し、この
シャフト33の回転により前記搬送アーム10を前記ガイド
レール30,30に沿って移動させ、この搬送アーム10の先
端側に支持したボート20を、図示しない熱処理炉に搬入
出可能となっている。また、第２のモータ34は前記搬送
アーム10の上下方向の駆動を実行するものであり、第３
のモータ35は、前記搬送アーム10と熱処理炉の炉芯との
水平度を出す場合に、カム36を駆動するために使用され
るモータである。Next, a mechanism for driving the transfer arm 10 will be described.
0 so that the first motor 31
Is transmitted to the shaft 33 via the belt 32, and the rotation of the shaft 33 moves the transfer arm 10 along the guide rails 30, 30, and the boat 20 supported on the distal end side of the transfer arm 10 Can be carried in and out of a heat treatment furnace (not shown). The second motor 34 drives the transfer arm 10 in the vertical direction.
The motor 35 is a motor used to drive the cam 36 when the transfer arm 10 and the core of the heat treatment furnace are set to be horizontal.
次に、作用について説明する。 Next, the operation will be described.
先ず、ボート20を円弧状部材10bに取り付け又は取り
外す動作について説明する。First, the operation of attaching or detaching the boat 20 to or from the arc-shaped member 10b will be described.
上記の動作は、第２図（ａ）〜第２図（ｃ）に示すい
ずれかの移動方式によって実現可能である。The above operation can be realized by any of the movement methods shown in FIGS. 2 (a) to 2 (c).
第２図（ａ）は、搬送アーム10のみの駆動による方式
を示し、矢印A1で示す下方に搬送アーム10を移動して、
前記被係止用突起23,34と係止用スリット12,13が対向す
る位置まで搬送アーム10を移動し、次に矢印A2に示すよ
うに水平移動させ、前記係止用スリット12,13に被係止
用突起23,24を挿入する。そして、最後に、搬送アーム1
0を矢印A3で示すように上方に移動することで、ボート2
0を円弧状部材10bに支持した状態とすることができる。FIG. 2A shows a method in which only the transfer arm 10 is driven, and the transfer arm 10 is moved downward as indicated by an arrow A1.
Move the transfer arm 10 to a position where the locked projections 23, 34 and the locking slits 12, 13 face each other, and then horizontally move as shown by an arrow A2, The locked projections 23 and 24 are inserted. And finally, transfer arm 1
By moving 0 upward as indicated by arrow A3, boat 2
0 can be supported by the arc-shaped member 10b.
第２図（ｂ）に示す方式は、ボート20のみの移動によ
り上述した支持を実現するもので、矢印B1,矢印B2,矢印
B3の順でボート20を移動することにより、第２図（ａ）
と同様にしてボート20を支持することができる。The method shown in FIG. 2 (b) realizes the above-described support by moving only the boat 20, and the arrow B1, arrow B2, arrow
By moving the boat 20 in the order of B3, FIG.
The boat 20 can be supported in the same manner as described above.
第２図（ｃ）は、第２図（ａ）の搬送アーム10の矢印
A1の移動を、ボート20の矢印B1の移動に置き換えたもの
である。FIG. 2 (c) is an arrow of the transfer arm 10 of FIG. 2 (a).
The movement of A1 is replaced by the movement of arrow B1 of boat 20.
上述したいずれの移動方式の場合にも、搬送アーム10
の長手方向の移動は、係止用スリット12,13に被係止用
突起23,24を挿入するのに必要な少ない移動ストローク
で足りる。In any of the above-described movement methods, the transfer arm 10
In the longitudinal direction requires only a small movement stroke necessary to insert the locked projections 23, 24 into the locking slits 12, 13.
従って、第３図に示すように、従来のアトムスキャン
の場合にはボート１を搬送アーム５に支持するために、
搬送アーム５の長手方向に長い移動ストロークを要して
いたので、搬送アーム５のステーションの長さを長くせ
ざるを得なかったが、本実施例の場合、搬送アーム10の
長手方向の移動ストロークは従来よりも大幅に短縮され
るので、ステーションの長さを同図の距離Ｌだけ短くす
ることができ、クリーンルーム内の占有面積を著しく小
さくすることができる。Therefore, as shown in FIG. 3, in the case of the conventional atom scan, the boat 1 is
Since a long moving stroke in the longitudinal direction of the transfer arm 5 was required, the length of the station of the transfer arm 5 had to be increased, but in the case of the present embodiment, the moving stroke of the transfer arm 10 in the longitudinal direction was required. Is significantly shorter than in the prior art, so that the length of the station can be shortened by the distance L in the figure, and the area occupied in the clean room can be significantly reduced.
次に、ボート20を支持した前記搬送アーム10を熱処理
炉に搬入出する動作について第４図を参照して説明す
る。Next, the operation of carrying the transfer arm 10 supporting the boat 20 into and out of the heat treatment furnace will be described with reference to FIG.
第４図（ａ）は熱処理炉内でボート20を搬送アーム10
によって支持しながら熱処理を実行するカンチレバー方
式の場合を示し、この場合には単に搬送アーム10をその
長手方向に沿って往復移動するか、あるいは熱処理炉外
で同図（ａ）の矢印1,4で示す揺動を加えても良い。FIG. 4 (a) shows a boat 20 transported in a heat treatment furnace.
In the case of the cantilever method in which the heat treatment is executed while being supported by the support arm, in this case, the transfer arm 10 is simply reciprocated along its longitudinal direction, or outside the heat treatment furnace, arrows 1 and 4 in FIG. May be added.
第４図（ｂ）は熱処理炉内にボート20のみを残して熱
処理を実行するソフトランディング方式の動作を示すも
ので、この場合には、搬送アーム10によってボート20を
熱処理炉内に搬入した後に、同図（ｂ）に示すように搬
送アーム10を矢印２で示すように下降させ、搬送アーム
10を矢印３で示すように熱処理炉より取り出すことで、
ボート20を熱処理炉内に載置して熱処理を実行すること
ができる。FIG. 4 (b) shows a soft landing type operation in which heat treatment is performed while leaving only the boat 20 in the heat treatment furnace. In this case, after the boat 20 is carried into the heat treatment furnace by the transfer arm 10, Then, the transfer arm 10 is lowered as shown by arrow 2 as shown in FIG.
By taking 10 out of the heat treatment furnace as shown by arrow 3,
The boat 20 can be placed in a heat treatment furnace to perform the heat treatment.
あるいは、同図（ｂ）の矢印１〜５で示す搬入出駆動
方式であっても良い。Alternatively, a loading / unloading driving method indicated by arrows 1 to 5 in FIG.
第４図（ｃ）は上述した搬送アーム10によって縦型炉
にボート20を搬入するもので、この場合には水平状態の
搬送アーム10を、矢印１のように揺動して垂直状態に設
定し、その後矢印２で示すように垂直上方に移動させて
縦型炉に搬入することが可能となる。FIG. 4 (c) shows the transfer of the boat 20 to the vertical furnace by the transfer arm 10 described above. In this case, the transfer arm 10 in the horizontal state is swung as shown by the arrow 1 to set it in the vertical state. Thereafter, as shown by arrow 2, it is possible to move vertically upward and carry it into the vertical furnace.
このように、本実施例の搬送装置を用いれば、カンチ
レバー方式，ソフトランディング方式に兼用でき、さら
には縦型炉にも使用できるが、本実施例装置による特に
効果的な使用態様としては、熱処理炉外でボート20に搭
載されたウエハ３に対して、不活性ガスをパージ可能な
ことである。すなわち、前記搬送アーム10は、略中空筒
状に形成されており、その一端側の円弧状部材10bの下
側には、同様な円弧状部材21を有するボート20が支持さ
れるようになっているので、搬送アーム10の一端側に設
けられたガス導入口９より例えばチッ素ガスを導入する
と、このガスは円筒状部材10aを介して前記円弧状部材1
0bとボート20とで形成された中空円筒部に導かれ、この
中のウエハ３をチッ素雰囲気で覆うことができる。従っ
て、ボート20を熱処理炉に搬入する際に不要な空気等が
熱処理炉内に導入されることを大幅に低減でき、また、
熱処理後にボート20を熱処理炉より搬出しても、高温下
にあるウエハ３がただちに空気に接触することがなくな
る。As described above, if the transfer apparatus of this embodiment is used, it can be used for both the cantilever method and the soft landing method, and can also be used for a vertical furnace. The inert gas can be purged from the wafer 3 mounted on the boat 20 outside the furnace. That is, the transfer arm 10 is formed in a substantially hollow cylindrical shape, and a boat 20 having a similar arc-shaped member 21 is supported below the arc-shaped member 10b at one end thereof. Therefore, when, for example, nitrogen gas is introduced from a gas introduction port 9 provided on one end side of the transfer arm 10, this gas is supplied to the arc-shaped member 1 through a cylindrical member 10a.
The wafer 3 is guided to a hollow cylindrical portion formed by the boat 0b and the boat 20, and the wafer 3 therein can be covered with a nitrogen atmosphere. Therefore, when the boat 20 is carried into the heat treatment furnace, unnecessary air and the like can be significantly reduced from being introduced into the heat treatment furnace.
Even if the boat 20 is unloaded from the heat treatment furnace after the heat treatment, the wafer 3 at a high temperature does not immediately come into contact with air.
このように、熱処理炉にボート20を搬入する前又は熱
処理炉よりボート20を搬出した後に、大気中の酸素等の
影響を受けることが無いので、ウエハ３上に不要な酸化
膜が形成されることを防止でき、近年の高集積化に伴う
微細加工の要求にも満足できる膜厚コントロールが可能
となる。As described above, before the boat 20 is loaded into the heat treatment furnace or after the boat 20 is unloaded from the heat treatment furnace, the oxide 20 is not affected by atmospheric oxygen or the like, so that an unnecessary oxide film is formed on the wafer 3. This makes it possible to control the film thickness so as to satisfy the demands of fine processing accompanying the recent high integration.
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。The present invention is not limited to the above embodiment,
Various modifications can be made within the scope of the present invention.
本発明の特徴的構成である前記搬送アーム10とボート
20との形状については種々変形実施が可能であり、搬送
アーム10の変形例を挙げれば第５図（ａ）〜（ｄ）に示
すものが考えられ、また、この搬送アーム10に対応する
ボート20としては第６図（ａ）〜（ｄ）に示すものを挙
げることができる。The transfer arm 10 and the boat, which are characteristic configurations of the present invention.
Various modifications of the shape of the transfer arm 10 are possible, and the modifications shown in FIGS. 5 (a) to 5 (d) can be considered as a modification of the transfer arm 10, and a boat corresponding to the transfer arm 10 Examples of 20 include those shown in FIGS. 6 (a) to 6 (d).
以下、上記実施例と異なる構成についてのみ説明する
と、第５図（ａ）に示す搬送アーム10は、その係止用部
際として、段差部10c側を係止用載置台13aとしたもの
で、この搬送アーム10に支持されるボート20は、第６図
（ａ）に示すように前記係止用載置台13aの上面に係止
される被係止用突起24aを有したものである。Hereinafter, only the structure different from the above embodiment will be described. The transfer arm 10 shown in FIG. 5 (a) has a step 10c side as a locking mounting table 13a on the side of the locking portion. As shown in FIG. 6 (a), the boat 20 supported by the transfer arm 10 has a locking projection 24a locked on the upper surface of the locking mounting table 13a.
第５図（ｂ）に示す搬送アーム10は、スリットに代え
て係止用突起12aを有し、この搬送アーム10に支持され
るボート20は、第６図（ｂ）に示すように、前記係止用
突起12aに係止される被係止用溝23aを有している。The transfer arm 10 shown in FIG. 5 (b) has a locking projection 12a instead of the slit, and the boat 20 supported by the transfer arm 10 has the above-mentioned structure as shown in FIG. 6 (b). It has a locked groove 23a that is locked by the locking projection 12a.
第５図（ｃ）に示す搬送アーム10は、先端側の係止部
材を鍵穴12bとすると共に、段差部10c側の係止用部材と
して前記係止用載置台13aの先端に、上方に突出する垂
直片13bを形成している。一方、この搬送アーム10に支
持されるボート20は、第６図（ｃ）に示すように、前記
鍵穴12bに係止される被係止用突起23と、その他端側に
前記被係止用突起24a及びこの先端より下方に突出した
垂直片24bとを有している。The transfer arm 10 shown in FIG. 5 (c) has a keyhole 12b as a locking member on the distal end side and protrudes upward from a distal end of the locking mounting table 13a as a locking member on the stepped portion 10c side. The vertical piece 13b is formed. On the other hand, as shown in FIG. 6 (c), the boat 20 supported by the transfer arm 10 has a locked projection 23 locked in the keyhole 12b and the locked It has a projection 24a and a vertical piece 24b projecting below the tip.
第５図（ｄ）に示す搬送アーム10は、一端に前記鍵穴
12bを具備し、その段差部10cには何等の突起又はスリッ
トを要せずに、円弧状の内面を係止用部材13cとしてい
る。一方、この搬送アーム10に支持されるボート20は、
第６図（ｄ）に示すように、前記鍵穴12bに挿入される
被係止用突起23を具備すると共に、その他端側には前記
円弧状部材21よりも小径の被係止用円弧状部24cを有し
ている。また、このボート20は、一端側の側面板21bが
ほぼ円形に形成され、このボート20が搬送アーム10に支
持された場合の開口端からの空気の流入を極力少なくす
るようにしている。The transfer arm 10 shown in FIG.
The stepped portion 10c does not require any projection or slit, and the inner surface of the arc is used as the locking member 13c. On the other hand, the boat 20 supported by the transfer arm 10
As shown in FIG. 6 (d), it has a locking projection 23 to be inserted into the keyhole 12b, and has a locking arc-shaped portion having a smaller diameter than the arc-shaped member 21 on the other end side. 24c. Further, in the boat 20, the side plate 21b on one end side is formed in a substantially circular shape, and the inflow of air from the open end when the boat 20 is supported by the transfer arm 10 is minimized.
上述した以外の係止，被係止部材を適用できることは
いうまでもなく、少なくとも搬送アーム10の長手方向の
移動ストロークをさほど要せずに係合することができ、
しかも相当重量のボート及びウエハを確実に支持できる
形状のものであれば良い。また、不活性ガスをボート上
のウエハに供給するためには、前記搬送アーム10は中空
筒状に形成されていれば足り、必ずしも円筒状のものに
限らず、中空矩形断面等種々の変形実施が可能である。It goes without saying that locking and locked members other than those described above can be applied, and at least the transfer arm 10 can be engaged without requiring a long moving stroke in the longitudinal direction,
In addition, any shape can be used as long as it can reliably support a boat and a wafer of considerable weight. Further, in order to supply the inert gas to the wafers on the boat, it is sufficient that the transfer arm 10 is formed in a hollow cylindrical shape. Is possible.
［発明の効果］ 本発明によれば、搬送アームの長手軸を水平状態とし
て、搬送アームに対してボートを搭載、離脱し、搬送ア
ームの長手軸を垂直状態として、搬送アームを進退駆動
してボートを縦型熱処理炉に対して搬入出しても、搬送
中にボートが搬送アームより脱落することがない。[Effects of the Invention] According to the present invention, the boat is mounted on and detached from the transfer arm with the longitudinal axis of the transfer arm in a horizontal state, and the transfer arm is driven forward and backward with the longitudinal axis of the transfer arm in a vertical state. Even when the boat is carried in and out of the vertical heat treatment furnace, the boat does not fall off from the transfer arm during the transfer.
第１図は本発明の一実施例である被処理体の搬送装置の
概略斜視図、 第２図は搬送アームとボートとの係合動作を説明するた
めの概略説明図、 第３図は実施例装置と従来装置との省スペース化の比較
を説明するための概略説明図、 第４図は搬送アームを熱処理炉に搬入出する動作を説明
するための概略説明図、 第５図は搬送アームの係止用部材の変形例を説明するた
めの概略説明図、 第６図はボートの変形例を説明するための概略説明図、 第７図はカンチレバー，ソフトランディングに使用され
る従来の搬送アーム及びボートを説明するための概略斜
視図、 第８図は第７図に示す搬送アーム及びボートを使用して
の熱処理炉内への搬入動作を示す概略断面図、 第９図はアトムスキャンに使用される従来の搬送アーム
及びボートの概略斜視図、 第10図は第９図の装置を用いてのチッ素パージ動作を説
明するための概略説明図である。 ３……被処理体、 10……搬送アーム、 10b……半割形状部、 12,13……係止用部材、 20……ボート、 23,24……被係止用部材。FIG. 1 is a schematic perspective view of an apparatus for transporting an object to be processed according to one embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic explanatory view for explaining an engagement operation between a transport arm and a boat, and FIG. FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining a comparison of space saving between the example apparatus and the conventional apparatus, FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining an operation of loading and unloading a transfer arm to and from a heat treatment furnace, and FIG. FIG. 6 is a schematic explanatory view for explaining a modified example of the locking member of FIG. 6, FIG. 6 is a schematic explanatory view for explaining a modified example of the boat, and FIG. 7 is a conventional transfer arm used for cantilever and soft landing. And FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing the loading operation into the heat treatment furnace using the transfer arm and the boat shown in FIG. 7, and FIG. 9 is used for atom scanning. Conventional transfer arm and boat FIG, FIG. 10 is a schematic explanatory view for explaining a nitrogen purge operation using the apparatus of Figure 9. 3 ... Workpiece, 10 ... Transfer arm, 10b ... Half-shaped part, 12,13 ... Locking member, 20 ... Boat, 23, 24 ... Locked member.
Claims (3)
ートを支持する搬送アームと、前記ボートが搬入出され
る縦型熱処理炉と、を有し、前記搬送アームの長手軸を
水平状態として、前記搬送アームに対して前記ボートを
搭載、離脱し、前記搬送アームの前記長手軸を垂直状態
として、前記搬送アームを進退駆動して前記ボートを縦
型熱処理炉に対して搬入出する縦型熱処理装置であっ
て、 前記ボートには、その長手方向の両端部に、前記搬送ア
ームに係止される被係止用部材が形成され、 前記搬送アームは、その基端側が中空筒形状部に形成さ
れ、かつ、その自由端側が半割形状部に形成され、前記
ボートに形成された前記被係止用部材を係止する係止用
部材が、前記中空筒形状部と前記半割形状部との境界部
と、前記自由端部とにそれぞれ形成され、 前記ボートの被係止用部材が前記搬送アームの係止用部
材に係止されることで、前記ボート上の前記被処理体が
前記半割形状部により包囲され、かつ、前記ボートが前
記搬送アームの基端側へ移動することが規制されること
を特徴とする縦型熱処理装置。1. A boat for arranging and supporting objects to be processed, a transfer arm for supporting the boat, and a vertical heat treatment furnace for loading and unloading the boat, wherein a longitudinal axis of the transfer arm is set in a horizontal state. Loading and unloading the boat with respect to the transfer arm, setting the longitudinal axis of the transfer arm in a vertical state, driving the transfer arm forward and backward, and loading and unloading the boat into and from a vertical heat treatment furnace. In the heat treatment apparatus, the boat has a member to be locked which is locked to the transfer arm at both ends in a longitudinal direction thereof, and the transfer arm has a hollow cylindrical portion at a base end side. And a locking member formed on a free end side of the half-shaped portion, the locking member for locking the locked member formed on the boat, the hollow cylindrical portion and the half-shaped portion. And the free end. Respectively, the locked member of the boat is locked to the locking member of the transfer arm, so that the object to be processed on the boat is surrounded by the half-shaped portion, and The vertical heat treatment apparatus is characterized in that the boat is restricted from moving toward the base end of the transfer arm.
ムの係止用部材に係止されることで、前記ボートが前記
搬送アームの自由端側へ移動することが規制されること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の縦型熱処理装
置。2. A lockable member of the boat is locked to a lock member of the transfer arm, so that movement of the boat to a free end side of the transfer arm is restricted. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, characterized in that:
入するためのガス導入口が設けられるものである特許請
求の範囲第１項又は第２項に記載の縦型熱処理装置。3. The vertical heat treatment apparatus according to claim 1, wherein a gas inlet for introducing an inert gas is provided at a base end side of the transfer arm.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62322195A JP2590352B2 (en) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | Vertical heat treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62322195A JP2590352B2 (en) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | Vertical heat treatment equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01162329A JPH01162329A (en) | 1989-06-26 |
| JP2590352B2 true JP2590352B2 (en) | 1997-03-12 |
Family
ID=18141008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62322195A Expired - Lifetime JP2590352B2 (en) | 1987-12-18 | 1987-12-18 | Vertical heat treatment equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2590352B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11288893A (en) | 1998-04-03 | 1999-10-19 | Nec Corp | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacture of semiconductor device |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5746647A (en) * | 1980-08-29 | 1982-03-17 | Hitachi Chem Co Ltd | Manufacture of mold commutator |
| US4459104A (en) * | 1983-06-01 | 1984-07-10 | Quartz Engineering & Materials, Inc. | Cantilever diffusion tube apparatus and method |
| JPS60101747U (en) * | 1983-12-16 | 1985-07-11 | 信越石英株式会社 | Wafer transfer device |
| US4543059A (en) * | 1984-07-18 | 1985-09-24 | Quartz Engineering & Materials, Inc. | Slotted cantilever diffusion tube system and method and apparatus for loading |
-
1987
- 1987-12-18 JP JP62322195A patent/JP2590352B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01162329A (en) | 1989-06-26 |
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