JP2589087B2 - 超電導薄膜の製造方法 - Google Patents
超電導薄膜の製造方法Info
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- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は溶融浸漬法によって基板にセラミックス系超
電導体を付着させてつくる超電導薄膜の製造方法に関す
る。
電導体を付着させてつくる超電導薄膜の製造方法に関す
る。
[従来の技術] 超電導体の利用法の一つとしてデバイスに用いる素子
(たとえばジョセフソン素子)その他プリント基板の配
線などが考えられ実用化に向けて開発が急である。
(たとえばジョセフソン素子)その他プリント基板の配
線などが考えられ実用化に向けて開発が急である。
その場合、超電導体を薄膜を形成する必要がありその
製法として従来スパッタリング法が提案されている。
製法として従来スパッタリング法が提案されている。
その方法とは密閉容器中で、電極に電流を印加してグ
ロー放電させ陰極に入射する気体イオンによって陰極物
質(ターゲット材)を飛散させ陽極に設置されている物
質に衝突、付着させて薄膜を製造する方法である。
ロー放電させ陰極に入射する気体イオンによって陰極物
質(ターゲット材)を飛散させ陽極に設置されている物
質に衝突、付着させて薄膜を製造する方法である。
[発明が解決しようとする問題点] 前記スパッタリング法は超電導薄膜を基板上に付着さ
せるためターゲット材(板材)が必要であるが、そのタ
ーゲット材の組成によって飛び出しやすい元素とそうで
ない元素をどのように混ぜて組成とするか試行錯誤しな
がらターゲット材を作製しなければならないうえに、付
着させるときの温度によっては薄膜が多結晶化せずアモ
ルファスとなり超電導特性を呈さない場合があったりし
て薄膜の収率を低いものにしていた。
せるためターゲット材(板材)が必要であるが、そのタ
ーゲット材の組成によって飛び出しやすい元素とそうで
ない元素をどのように混ぜて組成とするか試行錯誤しな
がらターゲット材を作製しなければならないうえに、付
着させるときの温度によっては薄膜が多結晶化せずアモ
ルファスとなり超電導特性を呈さない場合があったりし
て薄膜の収率を低いものにしていた。
そのうえ、スパッタリング法は、薄膜を作製するさい
にその都度雰囲気を真空に近い状態でスパッタリングす
るためバッチ式で製造するしかなく量産性にも欠けてい
た。
にその都度雰囲気を真空に近い状態でスパッタリングす
るためバッチ式で製造するしかなく量産性にも欠けてい
た。
[問題を解決するための手段] そこで本発明者らは工程が比較的単純で収率および量
産性の高い超電導薄膜の製造方法について研究した結
果、原料溶融液に基板を浸漬する方法が前記目的を達成
できることを知見し、以下に述べる発明を完成した。
産性の高い超電導薄膜の製造方法について研究した結
果、原料溶融液に基板を浸漬する方法が前記目的を達成
できることを知見し、以下に述べる発明を完成した。
すなわち、本発明は周期律表のII−A族およびIII−
A族の元素を含むそれぞれの化合物ならびに、銅を含む
化合物の配合物を溶融し、その溶融液の中に基板を浸漬
したのち、引上げ、急冷し、アニール処理してつくる超
電導薄膜の製造方法を要旨とするものである。
A族の元素を含むそれぞれの化合物ならびに、銅を含む
化合物の配合物を溶融し、その溶融液の中に基板を浸漬
したのち、引上げ、急冷し、アニール処理してつくる超
電導薄膜の製造方法を要旨とするものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で使用される周期律表II−A族の元素にはCa、
Sr、Ba等が、III−A族の元素にはSc、YおよびLaなど
の希土類等の金属元素が挙げられる。
Sr、Ba等が、III−A族の元素にはSc、YおよびLaなど
の希土類等の金属元素が挙げられる。
上記各元素および銅を含むそれぞれの化合物には酸化
物、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩などが示される
が、好ましいのは酸化物および炭酸塩である。
物、炭酸塩、硫酸塩、硝酸塩、酢酸塩などが示される
が、好ましいのは酸化物および炭酸塩である。
各化合物は最終的に得られる超電導薄膜を構成する金
属元素が所定の比率になるように配合し、混合される。
属元素が所定の比率になるように配合し、混合される。
得られた混合物は電気炉等慣用の溶融炉で溶融され
る。
る。
溶融温度は混合物が溶融可能な温度以上であればよ
い。たとえばBa−Y−Cu−O系超電導薄膜をつくるため
に、BaCO3、Y2O3およびCuOの原料混合物を用いた場合に
は溶融温度はおよそ1250℃以上にすれば溶融液が得られ
る。
い。たとえばBa−Y−Cu−O系超電導薄膜をつくるため
に、BaCO3、Y2O3およびCuOの原料混合物を用いた場合に
は溶融温度はおよそ1250℃以上にすれば溶融液が得られ
る。
しかし、溶融温度はできるだけ高くすることが望まし
い。その理由は溶融温度を高くすることによって溶融液
の粘性を下げ、対流によって混合が十分になると同時に
脱泡されて製膜がスムーズにでき、また製膜面に凹凸が
できないからである。前記配合例でいえば溶融温度を14
00℃以上にするのが好ましい。
い。その理由は溶融温度を高くすることによって溶融液
の粘性を下げ、対流によって混合が十分になると同時に
脱泡されて製膜がスムーズにでき、また製膜面に凹凸が
できないからである。前記配合例でいえば溶融温度を14
00℃以上にするのが好ましい。
以上のようにして得られた溶融液に基板を浸漬し、溶
融液を付着させる。この場合基板の種類により異なる
が、あまり長時間浸漬したままにしない方がよい。この
基板の材質は酸化物系のものと金属系のものとがある
が、前者にはAl2O3、ZrO2、MgOなど、後者にはZr、Ni−
Cr合金などが示されるが、本発明では特にこれらに限定
するものではない。
融液を付着させる。この場合基板の種類により異なる
が、あまり長時間浸漬したままにしない方がよい。この
基板の材質は酸化物系のものと金属系のものとがある
が、前者にはAl2O3、ZrO2、MgOなど、後者にはZr、Ni−
Cr合金などが示されるが、本発明では特にこれらに限定
するものではない。
次に、溶融液を付着させた基板を引上げる。引上げ速
度は適当に行なえばよいが、製膜厚さを一定にする必要
がある場合には一定の速度で引上げねばならない。
度は適当に行なえばよいが、製膜厚さを一定にする必要
がある場合には一定の速度で引上げねばならない。
膜厚は任意であるが、その厚さは以上のように溶融液
の粘性(あるいは溶融温度)と引上げ速度によって決め
られる。
の粘性(あるいは溶融温度)と引上げ速度によって決め
られる。
たとえば、前記Ba−Y−Cu−O系の混合原料の場合、
溶融温度1400℃、引上げ速度10cm/secのとき厚さは100
μmになり、1500℃、15cm/secのとき50μm程度にな
る。なお、膜厚は浸漬・急冷を繰り返すことによっても
制御が可能である。
溶融温度1400℃、引上げ速度10cm/secのとき厚さは100
μmになり、1500℃、15cm/secのとき50μm程度にな
る。なお、膜厚は浸漬・急冷を繰り返すことによっても
制御が可能である。
引上げられた基板は大気中に放置して急冷し、次いで
800〜950℃、大気中でアニール処理したのち徐冷すれば
セラミックス系超電導薄膜を付着させた基板が製造でき
る。
800〜950℃、大気中でアニール処理したのち徐冷すれば
セラミックス系超電導薄膜を付着させた基板が製造でき
る。
以上の製膜法が適用できるセラミックス系超電導薄膜
の材質としては前記Ba−Y−Cu−O系のほかに、Sr−La
−Cu−O系、Ca−La−Cu−O系、Ba−Yb−Cu−O系等が
例示される。
の材質としては前記Ba−Y−Cu−O系のほかに、Sr−La
−Cu−O系、Ca−La−Cu−O系、Ba−Yb−Cu−O系等が
例示される。
以下、本発明を実施例によって説明する。
[実施例] 下記の要領によってBa−Y−Cu−O系に属するBa2YCu
3O7-δ組成の超電導薄膜を製造した。
3O7-δ組成の超電導薄膜を製造した。
BaCO3(純度99.9%)、Y2O3(純度99.99%)およびCu
O(純度99.9%)の化合物をそれぞれ2モル、1/2モルお
よび3モル配合し、乳鉢で十分混合して全量で100gの混
合物を得た。この混合物をPtルツボに入れ電気炉に挿入
し、1400℃2時間加熱して完全に溶融させた。
O(純度99.9%)の化合物をそれぞれ2モル、1/2モルお
よび3モル配合し、乳鉢で十分混合して全量で100gの混
合物を得た。この混合物をPtルツボに入れ電気炉に挿入
し、1400℃2時間加熱して完全に溶融させた。
この溶融液中にアルミナ基板を浸漬した後、一定速度
10cm/secで引上げ基板表面に溶融液を均一に付着させ、
引続き室温にまで大気中で急冷した。
10cm/secで引上げ基板表面に溶融液を均一に付着させ、
引続き室温にまで大気中で急冷した。
次いでそれを電気炉で900℃、24時間、空気中でアニ
ール処理し急冷した。
ール処理し急冷した。
かくして得られた超電導薄膜の電気抵抗の温度特性を
測定した結果、超電導薄膜の臨界温度は63Kであった。
超電導薄膜の膜厚は100μmであった。
測定した結果、超電導薄膜の臨界温度は63Kであった。
超電導薄膜の膜厚は100μmであった。
[発明の効果] 本発明は溶融浸漬法でセラミックス系超電導薄膜を製
造する方法であり、従来のように製造過程で組成変動す
ることも、またアモルファスを生成することもない簡易
な製法である。
造する方法であり、従来のように製造過程で組成変動す
ることも、またアモルファスを生成することもない簡易
な製法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 審査官 辻 徹二 (56)参考文献 特開 昭63−310759(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】周期律表のII−A族およびIII−A族の元
素を含むそれぞれの化合物ならびに銅を含む化合物の溶
融液の中に、基板を浸漬したのち、引上げ、急冷し、急
冷して生成した前記化合物から成る混合物を超電導体と
すべく、さらにアニール処理することを特徴とする超電
導薄膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62166499A JP2589087B2 (ja) | 1987-07-03 | 1987-07-03 | 超電導薄膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62166499A JP2589087B2 (ja) | 1987-07-03 | 1987-07-03 | 超電導薄膜の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6410530A JPS6410530A (en) | 1989-01-13 |
JP2589087B2 true JP2589087B2 (ja) | 1997-03-12 |
Family
ID=15832497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62166499A Expired - Lifetime JP2589087B2 (ja) | 1987-07-03 | 1987-07-03 | 超電導薄膜の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2589087B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01131099A (ja) * | 1987-11-17 | 1989-05-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 酸化物超伝導体の単結晶作製方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62144922A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-29 | Toray Ind Inc | 熱可塑性重合体シ−トの製造方法 |
-
1987
- 1987-07-03 JP JP62166499A patent/JP2589087B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6410530A (en) | 1989-01-13 |
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