JP2579535B2 - 感光性組成物及び感光性複写材料 - Google Patents
感光性組成物及び感光性複写材料Info
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- JP2579535B2 JP2579535B2 JP63213862A JP21386288A JP2579535B2 JP 2579535 B2 JP2579535 B2 JP 2579535B2 JP 63213862 A JP63213862 A JP 63213862A JP 21386288 A JP21386288 A JP 21386288A JP 2579535 B2 JP2579535 B2 JP 2579535B2
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- naphthoquinone
- photosensitive
- weight
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- diazide
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
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- Materials Engineering (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、主として1,2−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−スルホン酸エステル及び水中に不溶で、アルカリ水
溶液中に可溶であるか又はその中で少なくとも膨潤可能
である結合剤を含有している感光性組成物に関する。本
発明は、この組成物を用いて製造される複写材料にも関
する。
ド−スルホン酸エステル及び水中に不溶で、アルカリ水
溶液中に可溶であるか又はその中で少なくとも膨潤可能
である結合剤を含有している感光性組成物に関する。本
発明は、この組成物を用いて製造される複写材料にも関
する。
1,2−ナフトキノン−ジアジドを基体とする感光性化
合物は、西ドイツ特許（DE−Ｃ）第938233号（英国特許
（GB−Ｂ）第379654号に該当）、米国特許（US−Ａ）第
3802885号、西ドイツ特許（DE−Ａ）第3100077号（米国
特許第4424270号に該当）、及び欧州特許（EP−Ａ）第0
052788号（米国特許第4407926号に該当）明細書から公
知である。これらの化合物は、部分的に又は完全に1,2
−ナフトキノン−ジアジド−スルホン酸でエステル化さ
れているジ−又はトリヒドロキシベンゾフエノンであ
る。これらの化合物は、主として完全にエステル化され
た代表物として使用され、即ち、これらはもはや遊離の
フエノール性ヒドロキシル基を含有しない。しかしなが
ら、この型の化合物は、特定の用途にとつては不都合に
低い感光性の欠点及び支持体例えば印刷版をコーテイン
グするために通常使用される有機溶剤中の不充分な溶解
性の欠点を有する。更に、結合剤例えばノボラツクと組
合わされて、これらは、非露光状態では、通常使用され
るアルカリ現像液に対して充分に抵抗しない層を生じ
る。これらの層は、ある程度、オフセツト印刷機での印
刷の間に、アルコール含有湿し水（fountain solution
s）が使用される際に、かつ、屡々、版から親油性印刷
インキを洗浄除去するために印刷の間に使用されるよう
な石油炭化水素によつても攻撃される。
合物は、西ドイツ特許（DE−Ｃ）第938233号（英国特許
（GB−Ｂ）第379654号に該当）、米国特許（US−Ａ）第
3802885号、西ドイツ特許（DE−Ａ）第3100077号（米国
特許第4424270号に該当）、及び欧州特許（EP−Ａ）第0
052788号（米国特許第4407926号に該当）明細書から公
知である。これらの化合物は、部分的に又は完全に1,2
−ナフトキノン−ジアジド−スルホン酸でエステル化さ
れているジ−又はトリヒドロキシベンゾフエノンであ
る。これらの化合物は、主として完全にエステル化され
た代表物として使用され、即ち、これらはもはや遊離の
フエノール性ヒドロキシル基を含有しない。しかしなが
ら、この型の化合物は、特定の用途にとつては不都合に
低い感光性の欠点及び支持体例えば印刷版をコーテイン
グするために通常使用される有機溶剤中の不充分な溶解
性の欠点を有する。更に、結合剤例えばノボラツクと組
合わされて、これらは、非露光状態では、通常使用され
るアルカリ現像液に対して充分に抵抗しない層を生じ
る。これらの層は、ある程度、オフセツト印刷機での印
刷の間に、アルコール含有湿し水（fountain solution
s）が使用される際に、かつ、屡々、版から親油性印刷
インキを洗浄除去するために印刷の間に使用されるよう
な石油炭化水素によつても攻撃される。
西ドイツ特許（DE−Ｃ）第1118606号〔英国特許（GB
−Ｃ）第935250号に相当〕明細書中には、フエノール化
合物例えばジフエニルメタンの誘導体の1,2−ナフトキ
ノン−ジアジド−スルホン酸エステルが記載されてい
る。接着性の理由からこれらエステルは、少なくとも１
個の遊離のヒドロキシル基を含有している。
−Ｃ）第935250号に相当〕明細書中には、フエノール化
合物例えばジフエニルメタンの誘導体の1,2−ナフトキ
ノン−ジアジド−スルホン酸エステルが記載されてい
る。接着性の理由からこれらエステルは、少なくとも１
個の遊離のヒドロキシル基を含有している。
本発明の目的は、感光性化合物としての1,2−ナフト
キノン−２−ジアジド−スルホン酸エステルを含有し、
その印刷時の、かつ複写技術における特性がこの型の従
来公知の最良の組成物と匹敵しうるが、より高い耐薬品
性及びアルカリ現像液及びオフセツト印刷で使用される
有機溶剤に対するより良好な抵抗性を有する、感光性
で、ポジチブ作用をする組成物を提供することである。
キノン−２−ジアジド−スルホン酸エステルを含有し、
その印刷時の、かつ複写技術における特性がこの型の従
来公知の最良の組成物と匹敵しうるが、より高い耐薬品
性及びアルカリ現像液及びオフセツト印刷で使用される
有機溶剤に対するより良好な抵抗性を有する、感光性
で、ポジチブ作用をする組成物を提供することである。
この目的を達成するために、主として、感光性化合物
としての1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−４−又は
−５−スルホン酸エステル及び水中に不溶で、アルカリ
水溶液中には可溶であるか又は少なくともこの中で膨潤
可能な樹脂状結合剤を含有する感光性組成物から出発
し、この組成物は、一般式I: 〔式中Ｄは1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホニル又は1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニル基を表わし、R1は水素又は−OD基を表わし、
R2はアルキル又は置換又は非置換のアリール基を表わ
す〕のナフトキノン−ジアジド−スルホン酸エステルを
含有する。
としての1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−４−又は
−５−スルホン酸エステル及び水中に不溶で、アルカリ
水溶液中には可溶であるか又は少なくともこの中で膨潤
可能な樹脂状結合剤を含有する感光性組成物から出発
し、この組成物は、一般式I: 〔式中Ｄは1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホニル又は1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−５−
スルホニル基を表わし、R1は水素又は−OD基を表わし、
R2はアルキル又は置換又は非置換のアリール基を表わ
す〕のナフトキノン−ジアジド−スルホン酸エステルを
含有する。
特にこの組成物は、式中のR2が炭素原子数１〜10を有
するアルキル基又は置換又は非置換のフエニルであるＩ
式のエステルを含有するのが有利である。
するアルキル基又は置換又は非置換のフエニルであるＩ
式のエステルを含有するのが有利である。
アルキル基R2は直鎖であつても、分岐していてもよ
い。アリール基R2は有利に単核であるのが有利であり、
低級アルキル又は低級アルコキシ基又はハロゲン原子に
より置換されていてよい。式中のR2がアリール基殊にフ
エニル基である化合物が有利である。従つて、4,4′−
ビス（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキシベンジ
ル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフトキノン
−２−ジアジド−スルホン酸クロリド６モルとから得ら
れるエステル化生成物である1,2−ナフトキノン−２−
ジアジド−スルホン酸エステルを使用するのが有利であ
る。
い。アリール基R2は有利に単核であるのが有利であり、
低級アルキル又は低級アルコキシ基又はハロゲン原子に
より置換されていてよい。式中のR2がアリール基殊にフ
エニル基である化合物が有利である。従つて、4,4′−
ビス（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキシベンジ
ル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフトキノン
−２−ジアジド−スルホン酸クロリド６モルとから得ら
れるエステル化生成物である1,2−ナフトキノン−２−
ジアジド−スルホン酸エステルを使用するのが有利であ
る。
本発明による組成物中に含有される1,2−ナフトキノ
ン−ジアジドは、公知方法と同様にして、出発化合物の
フエノール性水酸基を、1,2−ナフトキノン−ジアジド
−スルホン酸又はその反応性誘導体例えばスルホン酸ク
ロリドを用いてエステル化することにより製造される。
ン−ジアジドは、公知方法と同様にして、出発化合物の
フエノール性水酸基を、1,2−ナフトキノン−ジアジド
−スルホン酸又はその反応性誘導体例えばスルホン酸ク
ロリドを用いてエステル化することにより製造される。
相応する出発化合物例えば4,4′−ビス−（2,3,4−ト
リヒドロキシ−５−アシルベンジル）−ジフエニルエー
テルは、相応する４−アシル−ピロガロールと4,4′−
ビス−（メトキシメチル）−ジフエニルエーテルとを不
溶性溶剤例えばジグリコールジメチルエーテル中、130
〜140℃で、縮合剤としてのメタンスルホン酸の存在
で、反応させることにより良好な収率で得られる。
リヒドロキシ−５−アシルベンジル）−ジフエニルエー
テルは、相応する４−アシル−ピロガロールと4,4′−
ビス−（メトキシメチル）−ジフエニルエーテルとを不
溶性溶剤例えばジグリコールジメチルエーテル中、130
〜140℃で、縮合剤としてのメタンスルホン酸の存在
で、反応させることにより良好な収率で得られる。
本発明による組成物は、高い感光性及び良好な耐現像
剤性で優れている。これらは、アルコール含有湿し水及
び石油系炭化水素に対して高い抵抗をも示す。
剤性で優れている。これらは、アルコール含有湿し水及
び石油系炭化水素に対して高い抵抗をも示す。
その比較的大きい分子量に基づき、本発明による化合
物は低い拡散性を有する。従つて、これは、多色刷りで
の特定の色試験法のために例えばいわゆるサープリント
法による色試験で使用される複写層を得るためにも好適
である。この場合には、ポジのカラー分像を通常の受容
シートに転写するか又はこれらを後者上に形成すること
により、別の中間層の適用の必要なしに、多色像が形成
される。
物は低い拡散性を有する。従つて、これは、多色刷りで
の特定の色試験法のために例えばいわゆるサープリント
法による色試験で使用される複写層を得るためにも好適
である。この場合には、ポジのカラー分像を通常の受容
シートに転写するか又はこれらを後者上に形成すること
により、別の中間層の適用の必要なしに、多色像が形成
される。
感光性組成物中の本発明による1,2−ナフトキノン−
ジアジド−スルホン酸エステルの濃度は、比較的広範囲
で変動しうる。この割合は、感光性組成物の不揮発性成
分に対して３〜50重量％殊に７〜25重量％であるのが有
利である。
ジアジド−スルホン酸エステルの濃度は、比較的広範囲
で変動しうる。この割合は、感光性組成物の不揮発性成
分に対して３〜50重量％殊に７〜25重量％であるのが有
利である。
所望の場合には、1,2−ナフトキノン−ジアジド−ス
ルホン酸エステルは、他のキノン−ジアジドとの混合物
として又は少なくとも１個のＣ−Ｏ−Ｃ結合を有し、酸
で分解されうる化合物と混合して、露光時に強酸を形成
する化合物と一緒に使用することもできる。
ルホン酸エステルは、他のキノン−ジアジドとの混合物
として又は少なくとも１個のＣ−Ｏ−Ｃ結合を有し、酸
で分解されうる化合物と混合して、露光時に強酸を形成
する化合物と一緒に使用することもできる。
本発明による感光性組成物は、水に不溶で、本発明に
よる組成物を得るために使用される溶剤中に溶け、アル
カリ水溶液中に可溶であるか又はその中で少なくとも膨
潤可能な、ポリマー樹脂結合剤をも含有する。
よる組成物を得るために使用される溶剤中に溶け、アル
カリ水溶液中に可溶であるか又はその中で少なくとも膨
潤可能な、ポリマー樹脂結合剤をも含有する。
1,2−キノン−ジアジドを基体とする多くのポジチブ
複写材料中で実証されているノボラック縮合樹脂は、こ
こでも好適な結合剤であることが実証されている。ノボ
ラツクは、それらのヒドロキシ基の１部分と例えばクロ
ル酢酸、イソシアネート、エポキシド又は無水カルボン
酸との反応による公知の方法で、付加的に変性すること
ができる。フエノール類及びアルデヒド類又はケトン類
からの縮合により製造されるポリヒドロキシフエニル樹
脂、スチレンと無水マレイン酸とのコポリマー、ポリビ
ニルフエノール類又はアクリル酸又はメタクリル酸のポ
リマー又はコポリマーは、更に、アルカリ中に可溶又は
アルカリ中で膨潤可能である結合剤として使用される。
フエノール殊に多価フエノールでエステル化されている
アクリル酸及び／又はメタクリル酸のポリマー又はコポ
リマーが有利である。結合剤の種類及び量は、使用目的
に依り変えることができる。全固体中の90〜39重量％殊
に85〜55重量％が有利である。
複写材料中で実証されているノボラック縮合樹脂は、こ
こでも好適な結合剤であることが実証されている。ノボ
ラツクは、それらのヒドロキシ基の１部分と例えばクロ
ル酢酸、イソシアネート、エポキシド又は無水カルボン
酸との反応による公知の方法で、付加的に変性すること
ができる。フエノール類及びアルデヒド類又はケトン類
からの縮合により製造されるポリヒドロキシフエニル樹
脂、スチレンと無水マレイン酸とのコポリマー、ポリビ
ニルフエノール類又はアクリル酸又はメタクリル酸のポ
リマー又はコポリマーは、更に、アルカリ中に可溶又は
アルカリ中で膨潤可能である結合剤として使用される。
フエノール殊に多価フエノールでエステル化されている
アクリル酸及び／又はメタクリル酸のポリマー又はコポ
リマーが有利である。結合剤の種類及び量は、使用目的
に依り変えることができる。全固体中の90〜39重量％殊
に85〜55重量％が有利である。
更に付加的に、多くの他の樹脂、有利にエポキシ樹脂
及びビニルポリマー例えばポリ酢酸ビニル、ポリアクリ
レート、ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル、
ポリビニルピロリドン及びそれらの基礎となつているモ
ノマーのコポリマー並びに水素化又は部分的に水素化さ
れたコロホニイ誘導体も使用できる。これら樹脂の最も
有利な割合は、用途及び現像条件上への作用効果に基づ
き、かつ、これは、一般に、使用結合剤50重量％を越え
ず、有利には２〜35重量％である。特別な要件例えば可
撓性、粘着性、光沢及び着色性を得るために、この感光
性組成物は、付加的に、少量の物質例えばポリグリコー
ル、セルロース誘導体例えばエチルセルロース、湿潤
剤、染料、粘着促進剤及び微細分散性顔料及び必要に応
じてUV−吸収剤を含有していてもよい。
及びビニルポリマー例えばポリ酢酸ビニル、ポリアクリ
レート、ポリビニルアセタール、ポリビニルエーテル、
ポリビニルピロリドン及びそれらの基礎となつているモ
ノマーのコポリマー並びに水素化又は部分的に水素化さ
れたコロホニイ誘導体も使用できる。これら樹脂の最も
有利な割合は、用途及び現像条件上への作用効果に基づ
き、かつ、これは、一般に、使用結合剤50重量％を越え
ず、有利には２〜35重量％である。特別な要件例えば可
撓性、粘着性、光沢及び着色性を得るために、この感光
性組成物は、付加的に、少量の物質例えばポリグリコー
ル、セルロース誘導体例えばエチルセルロース、湿潤
剤、染料、粘着促進剤及び微細分散性顔料及び必要に応
じてUV−吸収剤を含有していてもよい。
更に、露光後の色変化を得るために、露光時に強酸を
形成又は放出し、適当な染料との２次的反応で色変化を
起こす照射線感能性成分少量をこの感光性組成物に添加
することもできる。このような照射線感能性成分の例
は、1,2−ナフトキノン−ジアジド−４−スルホン酸ク
ロリド、発色団で置換されたハロゲノメチル−ｓ−トリ
アジン又は複合酸例えばフルオロホウ酸又はヘキサフル
オロ燐酸との塩の形のジアゾニウム化合物である。
形成又は放出し、適当な染料との２次的反応で色変化を
起こす照射線感能性成分少量をこの感光性組成物に添加
することもできる。このような照射線感能性成分の例
は、1,2−ナフトキノン−ジアジド−４−スルホン酸ク
ロリド、発色団で置換されたハロゲノメチル−ｓ−トリ
アジン又は複合酸例えばフルオロホウ酸又はヘキサフル
オロ燐酸との塩の形のジアゾニウム化合物である。
本発明は、支持体及び本発明の組成物を含有する感光
層よりなる感光性複写材料にも関する。
層よりなる感光性複写材料にも関する。
適当な支持体を被覆するために、組成物を、一般に、
溶剤又は溶剤混合物中に溶かす。溶剤の選択は、意図す
る被覆法、層厚及び乾燥条件に適合させるべきである。
好適な溶剤は、ケトン類例えばメチルエチルケトン、塩
素化された炭化水素類例えばトリクロルエチレン及び1,
1,1−トリクロルエタン、アルコール類例えばｎ−プロ
パノール、エーテル類例えばテトラヒドロフラン、アル
コールエーテル類例えばエチレングリコールモノアルキ
ルエーテル及びエステル類例えば酢酸ブチルである。特
別な用途のために、溶剤混合物は、付加的に、更に、溶
剤例えばアセトニトリル、ジオキサン又はジメチルホル
ムアミドをも含有しうる。原則的に、不可逆的に層成分
と反応しないすべての溶剤を使用することができる。グ
リコールの部分エーテル殊に、エチレングリコールモノ
メチルエーテル及びプロピレングリコールメチルエーテ
ル又は相応するモノアセテートが特に有利である。
溶剤又は溶剤混合物中に溶かす。溶剤の選択は、意図す
る被覆法、層厚及び乾燥条件に適合させるべきである。
好適な溶剤は、ケトン類例えばメチルエチルケトン、塩
素化された炭化水素類例えばトリクロルエチレン及び1,
1,1−トリクロルエタン、アルコール類例えばｎ−プロ
パノール、エーテル類例えばテトラヒドロフラン、アル
コールエーテル類例えばエチレングリコールモノアルキ
ルエーテル及びエステル類例えば酢酸ブチルである。特
別な用途のために、溶剤混合物は、付加的に、更に、溶
剤例えばアセトニトリル、ジオキサン又はジメチルホル
ムアミドをも含有しうる。原則的に、不可逆的に層成分
と反応しないすべての溶剤を使用することができる。グ
リコールの部分エーテル殊に、エチレングリコールモノ
メチルエーテル及びプロピレングリコールメチルエーテ
ル又は相応するモノアセテートが特に有利である。
約10μｍより薄い層厚に対して使用される支持体は、
大抵の場合に、金属である。オフセツト印刷版を得るた
めに、ブライトローラがけされ、機械的又は電気化学的
に粗面化され、場合によつては、陽極処理されたアルミ
ニウム（これは付加的に、例えばポリビニルホスホン
酸、珪酸塩、燐酸塩、ヘキサフルオロジルコネート又は
加水分解されたテトラエチルオルトシリケートで化学的
に前処理されていてもよい）を使用することができる。
大抵の場合に、金属である。オフセツト印刷版を得るた
めに、ブライトローラがけされ、機械的又は電気化学的
に粗面化され、場合によつては、陽極処理されたアルミ
ニウム（これは付加的に、例えばポリビニルホスホン
酸、珪酸塩、燐酸塩、ヘキサフルオロジルコネート又は
加水分解されたテトラエチルオルトシリケートで化学的
に前処理されていてもよい）を使用することができる。
この支持体のコーテイングは、公知方法で、ホワラー
コーテイング、スプレー、浸漬、スロツトダイを用いる
ローラがけ、ドクターブレード又はコーター適用により
実施される。露光は、工業的に慣用の光源を用いて実施
される。
コーテイング、スプレー、浸漬、スロツトダイを用いる
ローラがけ、ドクターブレード又はコーター適用により
実施される。露光は、工業的に慣用の光源を用いて実施
される。
現像のために、勾配性アルカリ度のアルカリ水溶液
（これは、10〜14の範囲のpHを有し、少量の有機溶剤又
は湿潤剤を含有していてもよい）を使用する。
（これは、10〜14の範囲のpHを有し、少量の有機溶剤又
は湿潤剤を含有していてもよい）を使用する。
印刷版の製造のために、この感光性材料をポジオリジ
ナルの下で画像に応じて露光し、次いで、水性アルカリ
現像剤を用いて現像する。画像露光のために、常用型の
複写装置例えば管球灯、パルスキセノン灯、ハロゲン化
金属ドーピング水銀蒸気灯又はカーボンアーク灯を使用
することができる。
ナルの下で画像に応じて露光し、次いで、水性アルカリ
現像剤を用いて現像する。画像露光のために、常用型の
複写装置例えば管球灯、パルスキセノン灯、ハロゲン化
金属ドーピング水銀蒸気灯又はカーボンアーク灯を使用
することができる。
この感光性組成物は、有利に、複写材料例えば印刷版
殊にオフセツト印刷版、オートタイプグラビア印刷版及
びスクリーン印刷版の製造に又はフオトレジスト及びい
わゆるドライレジスト中で使用される。
殊にオフセツト印刷版、オートタイプグラビア印刷版及
びスクリーン印刷版の製造に又はフオトレジスト及びい
わゆるドライレジスト中で使用される。
本発明による1,2−ナフトキノン−ジアジドを用いて
製造された印刷版は、実際に高い感光性及びアルカリ現
像液及び通例、複写作業の間又は印刷機上での印刷工程
の間に使用される有機溶剤に対して改良された抵抗を有
する。1,2−ナフトキノン−ジアジドそれ自体は、通常
の溶剤中の良好な溶解性、明白な親油性及び複写層の他
成分との良好な和合性に依り優れている。
製造された印刷版は、実際に高い感光性及びアルカリ現
像液及び通例、複写作業の間又は印刷機上での印刷工程
の間に使用される有機溶剤に対して改良された抵抗を有
する。1,2−ナフトキノン−ジアジドそれ自体は、通常
の溶剤中の良好な溶解性、明白な親油性及び複写層の他
成分との良好な和合性に依り優れている。
次の実施例につき本発明を詳述するが、ここで「重量
部」及び「容量部」は「ｇ」及び「ml」と同じ関係にあ
る。他に記載のないかぎり、「％」は「重量％」であ
る。
部」及び「容量部」は「ｇ」及び「ml」と同じ関係にあ
る。他に記載のないかぎり、「％」は「重量％」であ
る。
例 １ 電気化学的に粗面化され、陽極処理された、酸化物重
量3g/m2を有するアルミニウム板に、 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキ
シベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフ
トキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド６モ
ルとから得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中に溶かした溶液を塗布した。
量3g/m2を有するアルミニウム板に、 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキ
シベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフ
トキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド６モ
ルとから得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 を エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中に溶かした溶液を塗布した。
この感光層の施与の前に、陽極処理されたアルミニウ
ム支持体を、西ドイツ特許（DE−Ｃ）第1621478号（米
国特許US−Ａ第4153461号に相当）明細書中に記載のよ
うにポリビニルホスホン酸の水溶液で処理した。
ム支持体を、西ドイツ特許（DE−Ｃ）第1621478号（米
国特許US−Ａ第4153461号に相当）明細書中に記載のよ
うにポリビニルホスホン酸の水溶液で処理した。
こうして得られた感光層の重量約2.3g/m2を有する感
光性材料を透明ポジオリジナルの下で画像に応じて露光
し、４％メタ珪酸ナトリウム水溶液で現像した。
光性材料を透明ポジオリジナルの下で画像に応じて露光
し、４％メタ珪酸ナトリウム水溶液で現像した。
複写層の光の当つた部分は、現像により除去され、露
光されなかつた像部分は支持体上に残つて、オリジナル
に相応する印刷ステンシルが得られた。こうして得られ
た印刷版は、オフセツト印刷工程で約150000部の完全な
印刷を生じた。この印刷ステンシルは、顕著な現像剤抵
抗性及び支持体上への付着性で優れていた。
光されなかつた像部分は支持体上に残つて、オリジナル
に相応する印刷ステンシルが得られた。こうして得られ
た印刷版は、オフセツト印刷工程で約150000部の完全な
印刷を生じた。この印刷ステンシルは、顕著な現像剤抵
抗性及び支持体上への付着性で優れていた。
印刷数を増し、印刷ステンシルを強化するために、こ
うして得られた印刷版を熱処理することもできる。この
目的のために、現像後に乾燥された印刷版を焼成炉内で
230℃に５分間加熱した。
うして得られた印刷版を熱処理することもできる。この
目的のために、現像後に乾燥された印刷版を焼成炉内で
230℃に５分間加熱した。
この印刷版の加熱により、印刷ステンシルは強化さ
れ、層は、耐化学品性になり、従つて、有機溶剤例えば
アセトン、アルコール、ジメチルホルムアミド、トルエ
ン又はキシレン中に不溶になつた。オフセツト印刷法で
約400000部の完全な印刷が得られた。
れ、層は、耐化学品性になり、従つて、有機溶剤例えば
アセトン、アルコール、ジメチルホルムアミド、トルエ
ン又はキシレン中に不溶になつた。オフセツト印刷法で
約400000部の完全な印刷が得られた。
使用1,2−ナフトキノン−ジアジドは、有利に、層内
で増感剤としても使用でき、例えば、実際に、充分離フ
イルムをチエツクするためのカラーテスト法に使用され
る。適当な感光性被覆溶液の典型的な組成は、例えば、
欧州特許（EP−Ａ）第0179274号（米国特許US−Ａ第465
9642号に相当）に記載されている。
で増感剤としても使用でき、例えば、実際に、充分離フ
イルムをチエツクするためのカラーテスト法に使用され
る。適当な感光性被覆溶液の典型的な組成は、例えば、
欧州特許（EP−Ａ）第0179274号（米国特許US−Ａ第465
9642号に相当）に記載されている。
次の例で、更に、この例で得られるものと同様な結果
をもたらすコーテイング溶液を示す。他に記載のないか
ぎり、支持体、印刷版の製造及びこれら溶液での処理
は、前記のデータに相当する。
をもたらすコーテイング溶液を示す。他に記載のないか
ぎり、支持体、印刷版の製造及びこれら溶液での処理
は、前記のデータに相当する。
例 ２ コーテイング溶液： エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−オクタノイル−2,3,4−トリヒドロ
キシベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド６
モルとから得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ３ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキ
シベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド６モ
ルとから得られたエステル化生成物 1.80重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ４ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−アセチル−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸６モルとからの
エステル化生成物 1.80重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.20重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ５ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,4−ジヒドロキシベ
ンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホン酸６クロリドモルと
から得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 6.80重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 クリスタルバイオレツト 0.07重量部
キシベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナ
フトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリド６
モルとから得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ３ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,3,4−トリヒドロキ
シベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフ
トキノン−２−ジアジド−４−スルホン酸クロリド６モ
ルとから得られたエステル化生成物 1.80重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.00重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 及び クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ４ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−アセチル−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフト
キノン−２−ジアジド−５−スルホン酸６モルとからの
エステル化生成物 1.80重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 7.20重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 クリスタルバイオレツト 0.07重量部 例 ５ エチレングリコールモノメチルエーテル 40 重量部 及び テトラヒドロフラン 60 重量部 中の 4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−2,4−ジヒドロキシベ
ンジル）−ジフエニルエーテル１モルと1,2−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−５−スルホン酸６クロリドモルと
から得られたエステル化生成物 1.60重量部 融点範囲127〜145℃を有するクレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラツク 6.80重量部 2,4−ビス−（トリクロロメチル）−６−ｐ−スチルベ
ニル−ｓ−トリアジン 0.06重量部 クリスタルバイオレツト 0.07重量部
Claims (7)
- 【請求項１】主として1,2−ナフトキノン−２−ジアジ
ド−４−又は−５−スルホン酸エステル及び水中に不溶
で、水性アルカリ溶液中に可溶又は少なくとも膨潤可能
である樹脂状結合剤を含有する感光性組成物において、
これは、式I: 〔式中Ｄは1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホニル又は1,2−ナフトキノン−２−ジアシド−５−
スルホニル基を表わし、R1は水素又は−OD基を表わし、
R2はアルキル基又は置換又は非置換のアリール基を表わ
す〕のナフトキノン−ジアジド−スルホン酸エステルを
含有することを特徴とする、感光性組成物。 - 【請求項２】Ｉ式中のR2は炭素原子１〜10を有するアル
キル又は置換又は非置換のフエニルである、請求項１記
載の組成物。 - 【請求項３】1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−スル
ホン酸エステルは、4,4′−ビス−（５−ベンゾイル−
2,3,4−トリヒドロキシベンジル）−ジフエニルエーテ
ル１モルと1,2−ナフトキノン−２−ジアジド−５−ス
ルホン酸クロリド６モルとからのエステル化生成物であ
る、請求項１記載の組成物。 - 【請求項４】不揮発性成分の含量に対してＩ式の化合物
３〜50重量％を含有する、請求項１記載の組成物。 - 【請求項５】結合剤は、ノボラツク縮合樹脂である、請
求項１記載の組成物。 - 【請求項６】結合剤は、多価フエノールでエステル化さ
れたアクリル酸及び／又はメタクリル酸のポリマー又は
コポリマーである、請求項１記載の組成物。 - 【請求項７】支持体及び請求項１から６までのいずれか
１項記載の組成物を含有する感光性層より成ることを特
徴とする、感光性複写材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3729034.7 | 1987-08-31 | ||
| DE19873729034 DE3729034A1 (de) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | Lichtempfindliches gemisch auf basis von 1,2-naphthochinondiaziden und hiermit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6484246A JPS6484246A (en) | 1989-03-29 |
| JP2579535B2 true JP2579535B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=6334874
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63213862A Expired - Lifetime JP2579535B2 (ja) | 1987-08-31 | 1988-08-30 | 感光性組成物及び感光性複写材料 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5143815A (ja) |
| EP (1) | EP0305828B1 (ja) |
| JP (1) | JP2579535B2 (ja) |
| KR (1) | KR960016308B1 (ja) |
| BR (1) | BR8804424A (ja) |
| DE (2) | DE3729034A1 (ja) |
| HK (1) | HK32396A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0643636A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
| DE69423858T2 (de) * | 1993-12-17 | 2000-07-27 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positiv-arbeitende Fotolackzusammensetzung |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE510563A (ja) * | 1949-07-23 | |||
| BE526866A (ja) * | 1953-03-11 | |||
| NL130248C (ja) * | 1959-01-21 | |||
| US3802885A (en) * | 1967-08-15 | 1974-04-09 | Algraphy Ltd | Photosensitive lithographic naphthoquinone diazide printing plate with aluminum base |
| ZA6807938B (ja) * | 1967-12-04 | |||
| US3687663A (en) * | 1970-05-19 | 1972-08-29 | Ind Dyestuff Co | Diazo-oxides of sulfonic acid amides and/or esters and photographic element and use thereof |
| DE3043967A1 (de) * | 1980-11-21 | 1982-06-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-naphthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| DE3100077A1 (de) * | 1981-01-03 | 1982-08-05 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch, das einen naphthochinondiazidsulfonsaeureester enthaelt, und verfahren zur herstellung des naphthochinondiazidsulfonsaeureesters |
| DE3100856A1 (de) * | 1981-01-14 | 1982-08-12 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis von o-napthochinondiaziden und daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| US4659642A (en) * | 1984-10-22 | 1987-04-21 | American Hoechst Corporation | Positive working naphthoquinone diazide color proofing transfer process |
| US4588670A (en) * | 1985-02-28 | 1986-05-13 | American Hoechst Corporation | Light-sensitive trisester of O-quinone diazide containing composition for the preparation of a positive-acting photoresist |
-
1987
- 1987-08-31 DE DE19873729034 patent/DE3729034A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-08-20 EP EP88113540A patent/EP0305828B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-08-20 DE DE88113540T patent/DE3887798D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-24 US US07/235,628 patent/US5143815A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-08-30 BR BR8804424A patent/BR8804424A/pt not_active Application Discontinuation
- 1988-08-30 KR KR1019880011025A patent/KR960016308B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-08-30 JP JP63213862A patent/JP2579535B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-02-22 HK HK32396A patent/HK32396A/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3887798D1 (de) | 1994-03-24 |
| KR960016308B1 (ko) | 1996-12-09 |
| KR890004206A (ko) | 1989-04-20 |
| JPS6484246A (en) | 1989-03-29 |
| EP0305828A2 (de) | 1989-03-08 |
| HK32396A (en) | 1996-03-01 |
| US5143815A (en) | 1992-09-01 |
| EP0305828B1 (de) | 1994-02-16 |
| BR8804424A (pt) | 1989-03-28 |
| EP0305828A3 (en) | 1990-07-04 |
| DE3729034A1 (de) | 1989-03-09 |
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