JP2575958B2 - ポリヒドロキシスチレンの製造方法 - Google Patents
ポリヒドロキシスチレンの製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なリビングピポリマ
ーの製造方法に関し、特に機能性高分子として有用なポ
リヒドロキシスチレンの製造方法に関する。
ーの製造方法に関し、特に機能性高分子として有用なポ
リヒドロキシスチレンの製造方法に関する。
【０００２】
【従来技術】従来から、機能性高分子はＬＳＩ用として
使用する高解像度のリソグラフィー用レジスト材料とし
て多用されている。特に今日は高密度化が進むにつれて
レジスト材料について高解像度、高現像性を要求するよ
うになっている。そのために、従来のタイプのレジスト
材料であるノボラック樹脂の場合には、分別という手法
を用いて分子量の制御を行い、解像度及び現像性を高め
ている（特開昭６２─１２１７５４２号）。しかしなが
ら、分別という手法は操作が複雑で時間がかかるという
欠点がある。
使用する高解像度のリソグラフィー用レジスト材料とし
て多用されている。特に今日は高密度化が進むにつれて
レジスト材料について高解像度、高現像性を要求するよ
うになっている。そのために、従来のタイプのレジスト
材料であるノボラック樹脂の場合には、分別という手法
を用いて分子量の制御を行い、解像度及び現像性を高め
ている（特開昭６２─１２１７５４２号）。しかしなが
ら、分別という手法は操作が複雑で時間がかかるという
欠点がある。
【０００３】所で、高解像度のレジスト材料として分子
量分布の狭い（狭分散性の）レジスト材料が好ましいと
いうことが理論的に知られている。又、任意の分子量に
制御することができるという性質は、ポリマーブレンド
剤として他のポリマーと相溶させる場合や、ミクロ相分
離構造を形成する共重合体の前駆体として極めて有効で
ある。
量分布の狭い（狭分散性の）レジスト材料が好ましいと
いうことが理論的に知られている。又、任意の分子量に
制御することができるという性質は、ポリマーブレンド
剤として他のポリマーと相溶させる場合や、ミクロ相分
離構造を形成する共重合体の前駆体として極めて有効で
ある。
【０００４】そこで、今後のレジスト材料として、比較
的分子量の制御のし易いスチレン誘導体が有望であると
され、現像性及び耐プラズマ性の優れているポリヒドロ
キシスチレンが検討され始めているが、工業的にはまだ
使用されるに至っておらず、厳しくなる要求性能に対し
て十分に追随することのできるものは未だ知られていな
い。
的分子量の制御のし易いスチレン誘導体が有望であると
され、現像性及び耐プラズマ性の優れているポリヒドロ
キシスチレンが検討され始めているが、工業的にはまだ
使用されるに至っておらず、厳しくなる要求性能に対し
て十分に追随することのできるものは未だ知られていな
い。
【０００５】上記ポリヒドロキシスチレンは、従来、ラ
ジカル重合により合成され（ジャーナル・オブ・ポリマ
ーサイエンス（パート１）、第７巻、２１７５頁〜２１
８４頁（１９６９））、狭分散のポリヒドロキシスチレ
ンについては特開昭５９─１９９７０５号及び高分子学
会予稿集、３１巻、１１４９頁に報告されている。
ジカル重合により合成され（ジャーナル・オブ・ポリマ
ーサイエンス（パート１）、第７巻、２１７５頁〜２１
８４頁（１９６９））、狭分散のポリヒドロキシスチレ
ンについては特開昭５９─１９９７０５号及び高分子学
会予稿集、３１巻、１１４９頁に報告されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】これらの従来の方法に
よっても狭分散のポリヒドロキシスチレンのポリマーが
得られるが、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンやｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシロキシスチレンを使用するため、
不純物を取り除く操作が複雑である上重合反応がエーテ
ルの酸素によって影響を受けるという欠点があった。更
に、Ｐ−ビニルフェノキシジメチルカルビニルジメチル
シランを前駆体として狭分散のポリヒドロキシスチレン
を合成する方法は知られていない。
よっても狭分散のポリヒドロキシスチレンのポリマーが
得られるが、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンやｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシロキシスチレンを使用するため、
不純物を取り除く操作が複雑である上重合反応がエーテ
ルの酸素によって影響を受けるという欠点があった。更
に、Ｐ−ビニルフェノキシジメチルカルビニルジメチル
シランを前駆体として狭分散のポリヒドロキシスチレン
を合成する方法は知られていない。
【０００７】そこで本発明者等は、より高解像度を実現
し得るレジスト材料について鋭意検討した結果、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基やｔｅｒｔ−ジメチルシリル基に比較して
よりかさ高く、立体障害の大きいジメチルフェニルカル
ビニルジメチルシリル基を有する、下記構造式：
し得るレジスト材料について鋭意検討した結果、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基やｔｅｒｔ−ジメチルシリル基に比較して
よりかさ高く、立体障害の大きいジメチルフェニルカル
ビニルジメチルシリル基を有する、下記構造式：
【化２】
【０００８】で表されるモノマーを、所望の分子量を有
するようにアニオン重合した後ジメチルフェニルカルビ
ニルジメチルシリル基のエーテル結合を切断することに
よって、ポリヒドロキシスチレンを合成することができ
ることを見出すと共に、得られたポリヒドロキシスチレ
ンが単分散の分子量を有することを見出し本発明に到達
した。従って本発明の目的は、単分散で所望の分子量を
有するポリヒドロキシスチレンの新規な製造方法を提供
することにある。
するようにアニオン重合した後ジメチルフェニルカルビ
ニルジメチルシリル基のエーテル結合を切断することに
よって、ポリヒドロキシスチレンを合成することができ
ることを見出すと共に、得られたポリヒドロキシスチレ
ンが単分散の分子量を有することを見出し本発明に到達
した。従って本発明の目的は、単分散で所望の分子量を
有するポリヒドロキシスチレンの新規な製造方法を提供
することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の目的は下
記構造式
記構造式
【化３】 で表されるモノマーをアニオン重合した後、ジメチルフ
ェニルカルビニルジメチルシリル基を離脱させることを
特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法によって
達成された。
ェニルカルビニルジメチルシリル基を離脱させることを
特徴とするポリヒドロキシスチレンの製造方法によって
達成された。
【００１０】本発明で使用する上記モノマーの製造方法
及びその精製方法については公知の方法を適宜使用する
ことができる。本発明においては上記モノマーをアニオ
ン重合させることにより、所望の重合度を有するポリマ
ーを調整する。上記アニオン重合に際しては公知のリビ
ングアニオン重合開始剤を用いることができるが、特に
有機金属化合物が好ましい。リビングアニオン重合開始
剤として用いられる有機金属化合物としては、例えばｎ
−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ
−ブチルリチウム、ナトリウムナフタレン、アントラセ
ンナトリウム、ナフタレンカリウム、α−メチルスチレ
ンテトラマ−ジナトリウム、クミルカリウム、クミルセ
シウム等が挙げられる。
及びその精製方法については公知の方法を適宜使用する
ことができる。本発明においては上記モノマーをアニオ
ン重合させることにより、所望の重合度を有するポリマ
ーを調整する。上記アニオン重合に際しては公知のリビ
ングアニオン重合開始剤を用いることができるが、特に
有機金属化合物が好ましい。リビングアニオン重合開始
剤として用いられる有機金属化合物としては、例えばｎ
−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ
−ブチルリチウム、ナトリウムナフタレン、アントラセ
ンナトリウム、ナフタレンカリウム、α−メチルスチレ
ンテトラマ−ジナトリウム、クミルカリウム、クミルセ
シウム等が挙げられる。
【００１１】本発明におけるアニオン重合は、一般に有
機溶媒中で行われる。この場合に用いられる有機溶媒は
芳香族炭化水素、環状エーテル、脂肪族炭化水素等の溶
媒であり、これらの具体例としては、例えばベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒ
ドロピラン、ジメトキシエタン、ｎ−ヘキサン、シクロ
ヘキサン等が挙げられる。これらの有機溶媒は単独で使
用しても混合して使用しても良いが、特にテトラヒドロ
フランを使用することが好ましい。
機溶媒中で行われる。この場合に用いられる有機溶媒は
芳香族炭化水素、環状エーテル、脂肪族炭化水素等の溶
媒であり、これらの具体例としては、例えばベンゼン、
トルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、テトラヒ
ドロピラン、ジメトキシエタン、ｎ−ヘキサン、シクロ
ヘキサン等が挙げられる。これらの有機溶媒は単独で使
用しても混合して使用しても良いが、特にテトラヒドロ
フランを使用することが好ましい。
【００１２】重合に際するモノマーの濃度は１〜３０重
量％が適切であり、反応は高真空下又はアルゴン、窒素
等の不活性ガス雰囲気下で攪拌して行う。反応温度は−
７８℃乃至使用した有機溶媒の沸点温度までの範囲で任
意に選択することができるが、特にテトラヒドロフラン
溶媒を使用した場合には−７８℃〜０℃、ベンゼン溶媒
を使用した場合には室温で反応させることが好ましい。
量％が適切であり、反応は高真空下又はアルゴン、窒素
等の不活性ガス雰囲気下で攪拌して行う。反応温度は−
７８℃乃至使用した有機溶媒の沸点温度までの範囲で任
意に選択することができるが、特にテトラヒドロフラン
溶媒を使用した場合には−７８℃〜０℃、ベンゼン溶媒
を使用した場合には室温で反応させることが好ましい。
【００１３】上記の如き条件で約１０分〜７時間反応を
行うことによりビニル基のみが選択的に反応して重合す
る。所望の重合度に達した時点で、例えばメタノール、
水、メチルブロマイド等の重合反応停止剤を反応系に添
加して該反応を停止させることにより、下記構造式を有
し所望の分子量を有するポリ（ｐ−ビニルフェノキシジ
メチルフェニルカルビニルジメチルシラン）のリビング
ポリマーを得ることができる。
行うことによりビニル基のみが選択的に反応して重合す
る。所望の重合度に達した時点で、例えばメタノール、
水、メチルブロマイド等の重合反応停止剤を反応系に添
加して該反応を停止させることにより、下記構造式を有
し所望の分子量を有するポリ（ｐ−ビニルフェノキシジ
メチルフェニルカルビニルジメチルシラン）のリビング
ポリマーを得ることができる。
【化４】
【００１４】更に、得られた反応混合物を適当な溶剤、
例えばメタノールを用いて沈澱せしめ、洗浄・乾燥する
ことによりポリ（ｐ−ビニルフェノキシジメチルフェニ
ルカルビニルジメチルシラン）のリビングポリマーを精
製単離することもできる。
例えばメタノールを用いて沈澱せしめ、洗浄・乾燥する
ことによりポリ（ｐ−ビニルフェノキシジメチルフェニ
ルカルビニルジメチルシラン）のリビングポリマーを精
製単離することもできる。
【００１５】本発明の重合反応はモノマーが１００％反
応するので生成するリビングポリマーの収量は略１００
％である。従って、モノマーの使用量と反応開始剤のモ
ル数を調整することにより、得られるリビングポリマー
の分子量を適宜調整することができる。この様にして得
られたポリ（ｐ−ビニルフェノキシジメチルフェニルカ
ルビニルジメチルシラン）の分子量分布は単分散（Ｍｗ
／Ｍｎ＝１．０５〜１．５０）である。
応するので生成するリビングポリマーの収量は略１００
％である。従って、モノマーの使用量と反応開始剤のモ
ル数を調整することにより、得られるリビングポリマー
の分子量を適宜調整することができる。この様にして得
られたポリ（ｐ−ビニルフェノキシジメチルフェニルカ
ルビニルジメチルシラン）の分子量分布は単分散（Ｍｗ
／Ｍｎ＝１．０５〜１．５０）である。
【００１６】ここで、数平均分子量Ｍｎは膜浸透圧計を
用いて測定することができる。得られたリビングポリマ
ーの分子構造は赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）及び1 Ｈ
−ＮＭＲスペクトルによって容易に確認することがで
き、分子量分布の評価はゲルパーミエーションクロマト
グラフィ（ＧＰＣ）によって行うことができる。
用いて測定することができる。得られたリビングポリマ
ーの分子構造は赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）及び1 Ｈ
−ＮＭＲスペクトルによって容易に確認することがで
き、分子量分布の評価はゲルパーミエーションクロマト
グラフィ（ＧＰＣ）によって行うことができる。
【００１７】更に、前記のポリ（ｐ−ビニルフェノキシ
ジメチルフェニルカルビニルジメチルシラン）のジメチ
ルフェニルカルビニルジメチルシリル基のエーテル結合
を切断し、下記構造式
ジメチルフェニルカルビニルジメチルシラン）のジメチ
ルフェニルカルビニルジメチルシリル基のエーテル結合
を切断し、下記構造式
【化５】 で表されるフェノール残基構造単位を有するポリヒドロ
キシスチレンを得ることができる。
キシスチレンを得ることができる。
【００１８】エーテル結合の切断反応は、ジオキサン、
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン等の混合溶媒中で
塩酸、臭化水素酸等の酸を滴下することによって容易に
行うことができる。
アセトン、アセトニトリル、ベンゼン等の混合溶媒中で
塩酸、臭化水素酸等の酸を滴下することによって容易に
行うことができる。
【００１９】上記の切断反応においては、高分子の主鎖
が切断されたり、分子間で架橋反応が起きるということ
がないので、容易に分子量分布の狭い単分散のポリヒド
ロキシスチレンを得ることができる。
が切断されたり、分子間で架橋反応が起きるということ
がないので、容易に分子量分布の狭い単分散のポリヒド
ロキシスチレンを得ることができる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によれば、適宜設計した分子量を
有する分子量分布の狭いポリマーを得ることができる
上、得られたポリマーはポリヒドロキシスチレンである
ので高解像度のレジスト用ポリマーとして極めて有用で
ある。
有する分子量分布の狭いポリマーを得ることができる
上、得られたポリマーはポリヒドロキシスチレンである
ので高解像度のレジスト用ポリマーとして極めて有用で
ある。
【００２１】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【実施例１】
【００２２】反応器にｐ−ビニルフェノールに対して等
モルの（ＣＨ３）２Ｃ（Ｐｈ）（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ
（但し、Ｐｈはフェニル基を表す）をいれイミダゾール
の存在下、ジメチルホルムアミド溶媒中、室温下で６時
間反応させた。生成物を減圧蒸留してｐ−ビニルフェノ
キシジメチルフェニルカルビニルジメチルシランを７０
％の収率で得た。このｐ−ビニルフェノキシジメチルフ
ェニルカルビニルジメチルシランは１３０℃／０．１ｍ
ｍＨｇの沸点を有していた。
モルの（ＣＨ３）２Ｃ（Ｐｈ）（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ
（但し、Ｐｈはフェニル基を表す）をいれイミダゾール
の存在下、ジメチルホルムアミド溶媒中、室温下で６時
間反応させた。生成物を減圧蒸留してｐ−ビニルフェノ
キシジメチルフェニルカルビニルジメチルシランを７０
％の収率で得た。このｐ−ビニルフェノキシジメチルフ
ェニルカルビニルジメチルシランは１３０℃／０．１ｍ
ｍＨｇの沸点を有していた。
【００２３】上記モノマーから水分等の不純物を取り除
くためにＣａＨ2 、ベンゾフェノンナトリウム等の精製
剤を用いて精製し蒸留を行った。１リットルのフラスコ
に、溶媒としてテトラヒドロフランを５５０ｍｌ、重合
開始剤としてｎ−ブチルリチウムを４×１０-4モル仕込
んだ後、この混合溶液に−７８℃で５０ｍｌのテトラヒ
ドロフランで希釈したｐ−ビニルフェノキシジメチルフ
ェニルカルビニルジメチルシランを２５ｇ添加して１時
間重合したところ、溶液は赤色を呈した。所望の重合度
に達したことを確認した後、反応溶液にメタノールを添
加して重合反応を終了させた。
くためにＣａＨ2 、ベンゾフェノンナトリウム等の精製
剤を用いて精製し蒸留を行った。１リットルのフラスコ
に、溶媒としてテトラヒドロフランを５５０ｍｌ、重合
開始剤としてｎ−ブチルリチウムを４×１０-4モル仕込
んだ後、この混合溶液に−７８℃で５０ｍｌのテトラヒ
ドロフランで希釈したｐ−ビニルフェノキシジメチルフ
ェニルカルビニルジメチルシランを２５ｇ添加して１時
間重合したところ、溶液は赤色を呈した。所望の重合度
に達したことを確認した後、反応溶液にメタノールを添
加して重合反応を終了させた。
【００２４】次に反応混合物をメタノール中に注ぎ、得
られた重合体の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、
られた重合体の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、
【表１】1 Ｈ ＮＭＲ； ０．０ｐｐｍ：基準（Ｓ、６Ｈ、Ｏ−Ｓｉ−ＣＨ3 ） １〜２ｐｐｍ： （ブロード、６Ｈ、Ｓｉ−Ｃ−ＣＨ
3 ） １〜２ｐｐｍ： （ブロード、３Ｈ、ＣＨ2 、−Ｃ
Ｈ） ６〜７ｐｐｍ： （ブロード、５Ｈ、Ｓｉ−Ｃ−Ｃ6
Ｈ5 ） ６〜７ｐｐｍ： （ブロード、４Ｈ、Ｃ6 Ｈ5 ）
3 ） １〜２ｐｐｍ： （ブロード、３Ｈ、ＣＨ2 、−Ｃ
Ｈ） ６〜７ｐｐｍ： （ブロード、５Ｈ、Ｓｉ−Ｃ−Ｃ6
Ｈ5 ） ６〜７ｐｐｍ： （ブロード、４Ｈ、Ｃ6 Ｈ5 ）
【００２５】表１の様であり、またＧＰＣ溶出曲線は図
１に示す通りであった。1 Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、
エーテルに結合しているジメチルフェニルカルビニルジ
メチルシリル基に活性末端が反応せずに残存すると共
に、スチレン部分のビニル基のみが反応していることが
確認された。
１に示す通りであった。1 Ｈ−ＮＭＲの測定結果から、
エーテルに結合しているジメチルフェニルカルビニルジ
メチルシリル基に活性末端が反応せずに残存すると共
に、スチレン部分のビニル基のみが反応していることが
確認された。
【００２６】次に、得られたポリ（ｐ−ビニルフェノキ
シジメチルフェニルカルビニルジメチルシラン）１２ｇ
をアセトン２５０ｍｌに溶解し、少量の塩酸を加えて６
０℃で６時間攪拌を行った後該混合溶液をエチルエーテ
ルに注いでポリマーを沈澱させ、洗浄・乾燥して８ｇの
ポリマーを得た。得られたポリマーの数平均分子量は
２．０×１０4 ｇ／モルであった。ＧＰＣ溶出曲線は図
２に示す通りであり、極めて単分散性の高い重合体であ
ることが確認された
シジメチルフェニルカルビニルジメチルシラン）１２ｇ
をアセトン２５０ｍｌに溶解し、少量の塩酸を加えて６
０℃で６時間攪拌を行った後該混合溶液をエチルエーテ
ルに注いでポリマーを沈澱させ、洗浄・乾燥して８ｇの
ポリマーを得た。得られたポリマーの数平均分子量は
２．０×１０4 ｇ／モルであった。ＧＰＣ溶出曲線は図
２に示す通りであり、極めて単分散性の高い重合体であ
ることが確認された
【００２７】更に、1 Ｈ−ＮＭＲにはジメチルフェニル
カルビニルジメチルシリル基に由来するピークが観測さ
れない上、ＩＲスペクトルにおいてはポリヒドロキシス
チレンに由来する特性吸収バンドが現れたことから、得
られたポリマーが分子量分布の狭いポリヒドロキシスチ
レンであることが確認された。
カルビニルジメチルシリル基に由来するピークが観測さ
れない上、ＩＲスペクトルにおいてはポリヒドロキシス
チレンに由来する特性吸収バンドが現れたことから、得
られたポリマーが分子量分布の狭いポリヒドロキシスチ
レンであることが確認された。
【実施例２】
【００２８】２リットルのフラスコに、溶媒としてテト
ラヒドロフラン１リットルを入れ、重合開始剤としてナ
フタレンカリウム２×１０-3モルを仕込んだ。次いでこ
の溶液に、実施例１と同様に精製し、−７８℃で１００
ｍｌのテトラヒドロフランで希釈したｐ−ビニルフェノ
キシジメチルフェニルカルビニルジメチルシランを３５
ｇ添加して３時間重合したところ、溶液は赤色を呈し
た。
ラヒドロフラン１リットルを入れ、重合開始剤としてナ
フタレンカリウム２×１０-3モルを仕込んだ。次いでこ
の溶液に、実施例１と同様に精製し、−７８℃で１００
ｍｌのテトラヒドロフランで希釈したｐ−ビニルフェノ
キシジメチルフェニルカルビニルジメチルシランを３５
ｇ添加して３時間重合したところ、溶液は赤色を呈し
た。
【００２９】重合反応は、反応溶液にメタノールを添加
して終了させた。次に反応混合物をメタノール中に注
ぎ、得られた重合体を沈澱させた後分離し、乾燥して２
４．５ｇの白色重合体を得た。
して終了させた。次に反応混合物をメタノール中に注
ぎ、得られた重合体を沈澱させた後分離し、乾燥して２
４．５ｇの白色重合体を得た。
【００３０】得られた重合体のＩＲスペクトル及び1 Ｈ
−ＮＭＲを測定したところ実施例１と同様な特性吸収が
示された。又、ＧＰＣ溶出曲線は図３に示す通りであっ
た。又、膜浸透圧法により数平均分子量を測定したとこ
ろ２×１０4 ｇ／モルであった。
−ＮＭＲを測定したところ実施例１と同様な特性吸収が
示された。又、ＧＰＣ溶出曲線は図３に示す通りであっ
た。又、膜浸透圧法により数平均分子量を測定したとこ
ろ２×１０4 ｇ／モルであった。
【００３１】得られたポリ（ｐ−ビニルフェノキシジメ
チルフェニルカルビニルジメチルシラン）５ｇをアセト
ン１００ｍｌに溶解し、等モルの濃塩酸を加えて６０℃
で５時間攪拌した後エチルエーテルに注いでポリマーを
沈澱し、洗浄・乾燥を行った。
チルフェニルカルビニルジメチルシラン）５ｇをアセト
ン１００ｍｌに溶解し、等モルの濃塩酸を加えて６０℃
で５時間攪拌した後エチルエーテルに注いでポリマーを
沈澱し、洗浄・乾燥を行った。
【００３２】得られたポリマーの重量は３．１ｇで、数
平均分子量は８×１０3 ｇ／モルであった。ＧＰＣ溶出
曲線は図６に示した通りであり、得られたポリマーは非
常に単分散性の高い重合体であることが確認された。
平均分子量は８×１０3 ｇ／モルであった。ＧＰＣ溶出
曲線は図６に示した通りであり、得られたポリマーは非
常に単分散性の高い重合体であることが確認された。
【００３３】又、1 Ｈ−ＮＭＲスペクトルにはジメチル
フェニルカルビニルジメチルシリル基に由来するピーク
が観測されない上、ＩＲスペクトルにおいてはポリヒド
ロキシスチレンに由来する特性吸収バンドが現れたこと
から、得られたポリマーが分子量分布の狭いポリヒドロ
キシスチレンであることが確認された。
フェニルカルビニルジメチルシリル基に由来するピーク
が観測されない上、ＩＲスペクトルにおいてはポリヒド
ロキシスチレンに由来する特性吸収バンドが現れたこと
から、得られたポリマーが分子量分布の狭いポリヒドロ
キシスチレンであることが確認された。
【図１】実施例１で得られた重合体のＧＰＣ溶出曲線を
表す。
表す。
【図２】実施例１で得られた本発明のポリマーのＧＰＣ
溶出曲線を表す。
溶出曲線を表す。
【図３】実施例２で得られた重合体のＧＰＣ溶出曲線を
表す。
表す。
【図４】実施例２で得られた本発明のポリマーのＧＰＣ
溶出曲線を表す。
溶出曲線を表す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 素行 神奈川県川崎市高津区坂戸100−１ か ながわサイエンスパーク アールアンド デービル エー12エフ 信越化学工業株 式会社コーポレートリサーチセンター 内 (72)発明者 八木橋 不二夫 神奈川県川崎市高津区坂戸100−１ か ながわサイエンスパーク アールアンド デービル エー12エフ 信越化学工業株 式会社コーポレートリサーチセンター 内 (72)発明者 高見沢 稔 神奈川県川崎市高津区坂戸100−１ か ながわサイエンスパーク アールアンド デービル エー12エフ 信越化学工業株 式会社コーポレートリサーチセンター 内 (56)参考文献 特開 昭59−53506（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】 下記構造式 【化１】 で表されるモノマーをアニオン重合した後ジメチルフェ
ニルカルビニルジメチルシリル基を離脱させることを特
徴するポリヒドロキシスチレンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3031787A JP2575958B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ポリヒドロキシスチレンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3031787A JP2575958B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ポリヒドロキシスチレンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04356505A JPH04356505A (ja) | 1992-12-10 |
| JP2575958B2 true JP2575958B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=12340774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3031787A Expired - Lifetime JP2575958B2 (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ポリヒドロキシスチレンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2575958B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115260348B (zh) * | 2022-09-30 | 2023-08-15 | 上海八亿时空先进材料有限公司 | 一种高分子量且窄分布phs树脂及其制备方法与应用 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5953506A (ja) * | 1982-09-22 | 1984-03-28 | Tounen Sekiyu Kagaku Kk | スチレン誘導体の重合体の製造方法 |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP3031787A patent/JP2575958B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04356505A (ja) | 1992-12-10 |
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