JP2570279B2 - Packaging film - Google Patents

Packaging film

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JP2570279B2
JP2570279B2 JP62056674A JP5667487A JP2570279B2 JP 2570279 B2 JP2570279 B2 JP 2570279B2 JP 62056674 A JP62056674 A JP 62056674A JP 5667487 A JP5667487 A JP 5667487A JP 2570279 B2 JP2570279 B2 JP 2570279B2
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【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は包装用フィルムに関する。更に詳しくは、ガ
スバリア性と透明性に優れた包装用フィルムに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a packaging film. More specifically, it relates to a packaging film having excellent gas barrier properties and transparency.

[従来の技術] 従来、ガスバリア性の優れた包装用フィルムとして、
プラスチックフィルムの少なくとも片面に酸化硅素を蒸
着したものが知られている(特公昭53−12953)。酸化
硅素の蒸着フィルムは、ガスバリア性において、塩化ビ
ニリデン系やポリビニルアルコール系のコーティング層
を設けたプラスチックフィルムにより優れたガスバリア
性を有している。
[Prior art] Conventionally, as a packaging film having excellent gas barrier properties,
A plastic film obtained by depositing silicon oxide on at least one side of a plastic film is known (Japanese Patent Publication No. 53-12953). The silicon oxide vapor-deposited film has excellent gas barrier properties due to a plastic film provided with a vinylidene chloride-based or polyvinyl alcohol-based coating layer.

[発明が解決しようとする問題点] しかし、このような酸化硅素を蒸着した従来のガスバ
リア性包装用フィルムには、次のような問題があった。
すなわち、ガスバリア性を向上させるため蒸着膜圧を厚
くしたり、蒸着フィルムが吸湿により寸法変化すると酸
化硅素層に亀裂やひび割れが発生し、ガスバリア性が著
しく低下する。また、可撓性が十分でなく、蒸着フィル
ムを折り曲げたり、延ばしたり、成型したりすると亀裂
が発生しガスバリア性が低下する問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the conventional gas barrier packaging film on which silicon oxide is deposited has the following problems.
That is, if the vapor deposition film thickness is increased to improve the gas barrier properties, or if the vapor deposition film changes its dimensions due to moisture absorption, cracks and cracks are generated in the silicon oxide layer, and the gas barrier properties are significantly reduced. In addition, there is a problem that the flexibility is not sufficient, and when the deposited film is bent, extended, or molded, cracks are generated and the gas barrier property is reduced.

かかる欠点を改良するため、本発明者らは、透明プラ
スチックフィルム基体上に、非結晶性の酸化アルムニウ
ム薄層を設けたことを特徴とする包装用フィルムを既に
提案した(特願60−242070)。
In order to improve such disadvantages, the present inventors have already proposed a packaging film characterized by providing a non-crystalline aluminum oxide thin layer on a transparent plastic film substrate (Japanese Patent Application No. 60-242070). .

しかし、酸化アルミニウム薄層は、の形成時の条件の
コントロールが容易ではないために、多孔質な構造とな
りやすく、このために酸化アルミニウム薄層の膜圧が薄
い場合にガスバリア性が低下し、特に水蒸気バリア性の
低下が著しいという問題点があることがわかった。
However, the aluminum oxide thin layer is likely to have a porous structure because it is not easy to control the conditions at the time of formation, and therefore, when the film pressure of the aluminum oxide thin layer is low, the gas barrier property is reduced. It was found that there was a problem that the water vapor barrier property was significantly reduced.

本発明は、上記欠点のないもの、すなわち透明で酸素
ガスバリア性、水蒸気ガスバリア性の共に優れた包装用
フィルムを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a packaging film free from the above-mentioned drawbacks, that is, a packaging film which is transparent and excellent in both oxygen gas barrier properties and water vapor gas barrier properties.

[問題点を解決するための手段] すなわち本発明は、透明プラスチックフィルム基体上
に、酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムより成る薄
層を設けたことを特徴とする包装用フィルムである。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention is a packaging film characterized in that a thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide is provided on a transparent plastic film substrate.

本発明で用いられる透明プラスチックフィルムの例と
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテンな
どのポリオレフィン、ポリエチレンテレフタート、ポリ
ブチレンテレフタート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ートなどのポリエステル、ナイロン6、ナイロン12など
のポリアミド、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、芳香族ポリアミド、
ポリイミドなどがある。また、これらの共重合体や他の
有機重合体との共重合体であっても良く、他の有機重合
体を含有するものであっても良い。これらの有機重合体
に公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、紫外線吸収剤、
可塑剤、滑剤、着色剤などが添加されていても良い。こ
れらの透明プラスチックフィルムは強度、伸度、熱特
性、寸法安定性などの点で延伸されていることが好まし
いが、未延伸であっても良い。
Examples of the transparent plastic film used in the present invention include polyethylene, polypropylene, polyolefins such as polybutene, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyesters such as polyethylene-2,6-naphthalate, polyamides such as nylon 6, nylon 12, and the like. , Polycarbonate, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, aromatic polyamide,
Examples include polyimide. Further, these copolymers and copolymers with other organic polymers may be used, or those containing other organic polymers may be used. Known additives to these organic polymers, for example, antistatic agents, ultraviolet absorbers,
Plasticizers, lubricants, coloring agents, and the like may be added. These transparent plastic films are preferably stretched in terms of strength, elongation, thermal properties, dimensional stability and the like, but may be unstretched.

本発明のプラスチックフィルムの光線透過率は白色光
線での前光線透過率が少なくとも40%以上、好ましくは
60%以上、更に好ましくは70%以上、最も好ましくは80
%以上であることが望ましい。着色剤など公知の添加剤
は、この範囲内で添加されるのが良い。
The light transmittance of the plastic film of the present invention is such that the front light transmittance in white light is at least 40% or more, preferably
60% or more, more preferably 70% or more, most preferably 80%
% Is desirable. Known additives such as coloring agents are preferably added within this range.

本発明の透明プラスチックフィルムは、酸化アルミニ
ウムと水酸化アルミニウムより成る薄層の形成に先だ
ち、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー
放電処理、粗面化処理などの表面処理や、公知のアンカ
ーコート処理が施されても良く、また他のプラスチック
フィルムと積層されていても良い。
The transparent plastic film of the present invention may have a surface treatment such as a corona discharge treatment, a flame treatment, a plasma treatment, a glow discharge treatment, a surface roughening treatment, or a known anchor, prior to the formation of a thin layer composed of aluminum oxide and aluminum hydroxide. It may be subjected to a coating treatment or may be laminated with another plastic film.

本発明の透明プラスチックフィルムの厚さは、時に制
限を受けないが、3〜400μmの範囲が望ましく、機械
強度と可撓性の点で更に好ましくは5〜200μmの範囲
であることが望ましい。
The thickness of the transparent plastic film of the present invention is not particularly limited, but is preferably in the range of 3 to 400 μm, and more preferably in the range of 5 to 200 μm in terms of mechanical strength and flexibility.

かかる透明プラスチックフィルム基体上に、酸化アル
ミニウムと水酸化アルミニウムにより成る薄層が形成さ
れる。
On such a transparent plastic film substrate, a thin layer composed of aluminum oxide and aluminum hydroxide is formed.

本発明でいう酸化アルミニウムとは、AlO,Al2O2,Al2O
3などのアルミニウムの酸化物であるが、本発明では、
中でも透明性の点でAl2O3であることが望ましい。水酸
化アルミニウムとは、Al(OH)3,AlO(OH)などの水酸
化物である。
The aluminum oxide referred to in the present invention is AlO, Al 2 O 2 , Al 2 O
Although it is an oxide of aluminum such as 3 , in the present invention,
Above all, Al 2 O 3 is desirable in terms of transparency. Aluminum hydroxide is a hydroxide such as Al (OH) 3 and AlO (OH).

また酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムより成る
薄層中に、透明性とガスバリア性を損わない範囲で、ア
ルミニウム,銅,鉄,タングステン,モリブデンなどの
金属や酸化ジルコニウム,酸化マグネシウム,酸化タン
グステン,酸化モリブデン,窒化硼素などの不純物が微
量に含まれることは許容される。
Metals such as aluminum, copper, iron, tungsten, molybdenum, zirconium oxide, magnesium oxide, tungsten oxide, and molybdenum oxide in a thin layer composed of aluminum oxide and aluminum hydroxide as long as transparency and gas barrier properties are not impaired. It is permissible to contain trace amounts of impurities such as boron and boron nitride.

酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムより成る薄層
の厚みは、使用する基体と目的に合せて選定されるが、
本発明においては30Å〜5000Åの範囲が望ましく、好ま
しくは50Å〜2000Å、更に好ましくは100Å〜1000Åが
望ましい。30Å未満ではガスバリア性が十分でなく、50
00Å以上では基体フィルムが15μm以下のように極めて
薄い場合にカールが発生するなど平面性を損う。
The thickness of the thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide is selected according to the substrate used and the purpose,
In the present invention, the angle is desirably in the range of 30 ° to 5000 °, preferably 50 ° to 2000 °, and more preferably 100 ° to 1000 °. If it is less than 30 mm, the gas barrier property is not sufficient,
If it is more than 00 °, flatness is impaired such as curling when the base film is extremely thin, such as 15 μm or less.

酸化アルムニウムと水酸化アルミニウムの比率は、重
量比で90:10から10:90の範囲が望ましく、更に好ましく
は80:20から20:80の範囲が望ましい。
The ratio of aluminum oxide to aluminum hydroxide is preferably in the range of 90:10 to 10:90 by weight, more preferably in the range of 80:20 to 20:80.

本発明で透明プラスチックフィルム基体上に酸化アル
ミニウムと水酸化アルミニウムより成る薄層を設ける方
法としては、次に示すような各種の方法が挙られるが、
必ずしもこれらに限定されない。
As a method of providing a thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide on a transparent plastic film substrate in the present invention, the following various methods can be mentioned.
It is not necessarily limited to these.

酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムの混合体を
原料とし電子ビーム蒸着などの真空蒸着、イオンプレー
ティングあるいは、高周波マグネトロンスパッタリング
などのスパッタリングにより酸化アルミニウムと水酸化
アルミニウムから成る膜を形成する方法。
A method of forming a film composed of aluminum oxide and aluminum hydroxide by using a mixture of aluminum oxide and aluminum hydroxide as a raw material and performing vacuum deposition such as electron beam deposition, ion plating, or sputtering such as high-frequency magnetron sputtering.

酸化アルミニウムを原料とし、電子ビーム蒸着など
の真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングな
どにより酸化アルミニウムから成る膜を形成したのち、
次いで高湿下での加熱処理などにより、酸化アルミニウ
ムの一部を水酸化アルミニウムに変成する方法。
Using aluminum oxide as a raw material, vacuum deposition such as electron beam evaporation, ion plating, forming a film made of aluminum oxide by sputtering, etc.,
Then, a method of transforming a part of the aluminum oxide into aluminum hydroxide by heat treatment under high humidity or the like.

アルミニウムを原料とし、酸素ガスを供給しながら
膜形成を行なういわゆる反応性蒸着、反応性イオンプレ
ーティング、反応性スパッタリングにより酸化アルミニ
ウムから成る膜を形成したのち、次いで、湿熱処理など
により、酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムの混合
膜とする方法。
Using aluminum as a raw material, a film made of aluminum oxide is formed by so-called reactive evaporation, reactive ion plating, and reactive sputtering in which a film is formed while supplying oxygen gas. A method of forming a mixed film of aluminum hydroxide.

アルミニウムを原料とし、真空蒸着、イオンプレー
ティング、スパッタリングなどによりアルミニウムの膜
を形成した後、これをプラズマ処理、加熱処理、陽極酸
化、湿熱処理などにより、酸化アルミニウムと水酸化ア
ルミニウムから成る膜に変成する方法。
Using aluminum as a raw material, an aluminum film is formed by vacuum deposition, ion plating, sputtering, etc., and transformed into a film consisting of aluminum oxide and aluminum hydroxide by plasma treatment, heat treatment, anodic oxidation, moist heat treatment, etc. how to.

これらのうちアルミニウムを原料とする方法は、膜形
成装置が比較的容易でかつ膜形成速度が大きく好まし
く、中でも反応性蒸着法により酸化アルミニウムの膜を
形成した後、後処理により酸化アルミニウムと水酸化ア
ルミニウムにより成る膜に変成する方法が更に好まし
い。
Among these, the method using aluminum as a raw material is preferable because the film forming apparatus is relatively easy and the film forming rate is large. Among them, after forming an aluminum oxide film by a reactive vapor deposition method, aluminum oxide and hydroxide are post-treated. Further preferred is a method of transforming into a film made of aluminum.

以下この方法の具体例を示す。 Hereinafter, a specific example of this method will be described.

図は、酸化アルミニウム膜を形成する反応性蒸着装置
の一例を示す概略図である。
The figure is a schematic view showing an example of a reactive vapor deposition device for forming an aluminum oxide film.

図において真空容器1内に設置された巻出し軸2よ
り、プラスチックフィルム5が送り出され、−30〜−5
゜Cに冷却された冷却ドラム3を経由して、巻取り軸4
に巻取られる。この間、冷却ドラム上にて、高周波誘導
加熱電源に接続された蒸発器6内のアルミニウムが蒸発
し、酸素ボンベ10から、ガス流量制御装置9を通してマ
スク7で囲まれたガス吹出口8から供給される酸素ガス
と反応して、プラスチックフィルム基体5の上に酸化ア
ルミニウム薄層が形成される。真空容器中の圧力は1×
10-5〜1×10-2トール、酸素ガスの供給量は、蒸発器6
からのアルミニウムの蒸発量に応じて調整される。酸化
アルミニウムの膜厚は蒸発器への供給電力とフィルム走
行速度により調整される。
In the figure, a plastic film 5 is sent out from an unwinding shaft 2 installed in a vacuum vessel 1, and -30 to -5
Winding shaft 4 via cooling drum 3 cooled to ゜ C
It is wound up. During this time, the aluminum in the evaporator 6 connected to the high-frequency induction heating power supply evaporates on the cooling drum and is supplied from the oxygen cylinder 10 through the gas flow control device 9 to the gas outlet 8 surrounded by the mask 7. By reacting with the oxygen gas, a thin aluminum oxide layer is formed on the plastic film substrate 5. The pressure in the vacuum vessel is 1 ×
10 -5 to 1 × 10 -2 Torr, the supply amount of oxygen gas is
It is adjusted according to the amount of aluminum evaporated from the aluminum. The thickness of the aluminum oxide is adjusted by the power supplied to the evaporator and the film traveling speed.

このようにして形成した酸化アルミニウム蒸着膜を後
処理により酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムより
成る膜に変成することができる。この後処理の条件とし
ては、水分と温度と時間が必要であり、例えば、60゜
C、80%RHの恒温恒湿層に24hr保管する方法、または20
゜C、60%RH中で1週間調湿した後、100゜Cの温風乾燥
機で30分熱処理する方法などが選択される。
The deposited aluminum oxide film thus formed can be transformed into a film composed of aluminum oxide and aluminum hydroxide by post-treatment. As conditions for this post-treatment, moisture, temperature and time are required.
C, stored in a constant temperature and humidity layer of 80% RH for 24 hours, or 20
A method of conditioning for one week in ゜ C, 60% RH and then heat-treating with a hot air drier at 100 ° C for 30 minutes is selected.

水酸化アルミニウム形成の熱処理条件としては、要求さ
れるガスバリア性や使用するプラスチックフィルム基体
の耐熱性などを考慮して適宜選択される。
The heat treatment conditions for forming aluminum hydroxide are appropriately selected in consideration of the required gas barrier properties and the heat resistance of the plastic film substrate used.

このようにして形成した酸化アルミニウムと水酸化ア
ルミニウムより成る薄層は、多孔質な膜構造となり易い
酸化アルミニウム薄層を水酸化アルミニウムが封孔して
いる構造となっている。このため特に水蒸気バリア性が
優れている。
The thus formed thin layer of aluminum oxide and aluminum hydroxide has a structure in which aluminum hydroxide seals a thin aluminum oxide layer which tends to have a porous film structure. For this reason, the water vapor barrier property is particularly excellent.

本発明の包装用フィルムは、酸化アルミニウムと水酸
化アルミニウムよりな成る薄層を設ける前、あるいは後
にプラスチックフィルム面および/または酸化アルミニ
ウムと水酸化アルミニウムより成る薄層面に、ヒートシ
ール性や耐摩耗性を与えるためのコーティング、押出し
ラミネーション、あるいは、他のフィルムとの積層や文
字、図柄などの印刷を適宜行なうことができる。
The packaging film of the present invention may have a heat-sealing property or abrasion resistance before or after providing a thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide on a plastic film surface and / or a thin layer surface made of aluminum oxide and aluminum hydroxide. Coating, extrusion lamination, or lamination with other films, printing of characters, patterns, etc. can be performed as appropriate.

本発明による包装用フィルムは、透明性が高く、酸素
ガスバリア性、水蒸気バリア性が共に優れているため、
内容物の変質を防ぐことができ、かつ透視性の良い包装
材料として食品,電気部品,繊維製品,プラスチック部
品などの包装に用いることができる。
The packaging film according to the present invention has high transparency, and has excellent oxygen gas barrier properties and water vapor barrier properties.
It can prevent deterioration of the contents and can be used for packaging foods, electric parts, textiles, plastic parts and the like as a packaging material with good transparency.

以下、実施例を用いて説明する。 Hereinafter, a description will be given using an example.

本発明における特性の測定は、次の方式を用いた。 The following method was used for measuring the characteristics in the present invention.

イ 酸素透過率 ASTM D−3985に準じて、酸素透過率測定装置(モダ
ンコントロールズ社製、OX−TRAN100)を用いて20゜C、
0%RHの条件にて測定した。
B) Oxygen permeability According to ASTM D-3985, using an oxygen permeability measuring device (OX-TRAN100, manufactured by Modern Controls) at 20 ° C,
It was measured under the condition of 0% RH.

ロ 水蒸気透過率 水蒸気透過率測定装置(ハネウェル(株)製、W825
型)を用いて40゜C、100%RHの条件にて測定した。
(B) Water vapor transmission rate Water vapor transmission rate measuring device (W825, manufactured by Honeywell Co., Ltd.)
Using a mold) under the conditions of 40 ° C. and 100% RH.

ハ 光線透過率 分光光度計(日立製作所(株)、自記分光光度形323
型)にて、分光透過率を測定し、波長550nmでの透過率
を光線透過率とした。
C Light transmittance spectrophotometer (Hitachi, Ltd., self-recording spectrophotometer 323
), The spectral transmittance was measured, and the transmittance at a wavelength of 550 nm was defined as the light transmittance.

[実施例] 実施例1〜3、比較例1 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ
20μm)を幅500mm、長さ10,000mのロール状とし、図に
示す反応性蒸着装置に装着した。純度99.98%のアルミ
ニウムを高周波誘導蒸発器に充填した後、真空容器を1
×10-4Torrに排気した。次いて高周波誘導加熱蒸発器を
加熱し、アルミニウムの蒸着を始めると同時にフィルム
の走行を始める。ガス流量制御装置によりガス吹出口か
ら酸素ガスを供給し、酸素ガスの供給量は真空容器の圧
力及び蒸着フィルムの光線透過率を見ながら調整して圧
力3.0×10-4Torrで蒸着を行ない、厚さ500Åの酸化アル
ミニウム蒸着膜を得た。
[Examples] Examples 1 to 3, Comparative Example 1 Biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness
20 μm) was formed into a roll shape having a width of 500 mm and a length of 10,000 m, and was mounted on a reactive vapor deposition apparatus shown in the figure. After filling the high frequency induction evaporator with 99.98% pure aluminum, the vacuum vessel is filled with 1
Evacuated to × 10 -4 Torr. Next, the high-frequency induction heating evaporator is heated, and the running of the film is started at the same time as the deposition of aluminum is started. Oxygen gas is supplied from the gas outlet by the gas flow control device, and the supply amount of the oxygen gas is adjusted at a pressure of 3.0 × 10 −4 Torr while adjusting the pressure of the vacuum vessel and the light transmittance of the deposition film, An aluminum oxide deposited film having a thickness of 500 mm was obtained.

次いで、この酸化アルムミニウムを形成したプラスチ
ックフィルムを40゜C、80%RHで1週間保管した後、100
゜Cの熱風乾燥機で30分間熱処理したものを実施例1、1
0分間熱処理したものを実施例2、1分間熱処理したも
のを実施例3とする。
Then, the plastic film on which aluminum oxide was formed was stored at 40 ° C. and 80% RH for one week,
Examples 1 and 1 were heat-treated with a で C hot air dryer for 30 minutes.
Example 2 was heat-treated for 0 minutes, and Example 3 was heat-treated for 1 minute.

熱処理を行なわなかったものを比較例1とする。 The case not subjected to the heat treatment is referred to as Comparative Example 1.

ESCA(VGサイエンティフィック製、ESCALAB−5)に
よる表面分析の結果、酸化アルミニウムの比率(重量
比)は、実施例1では65:35、実施例2では70:30、実施
例3では90:10、比較例1では100:0であった。
As a result of surface analysis using ESCA (manufactured by VG Scientific, ESCALAB-5), the ratio (weight ratio) of aluminum oxide was 65:35 in Example 1, 70:30 in Example 2, and 90:30 in Example 3. In Comparative Example 1, the ratio was 100: 0.

表1にそれぞれのガスバリア性を示す。 Table 1 shows each gas barrier property.

実施例4〜5、比較例2 二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ
50μm)上に、高周波マグネトロンスパッタリング装置
(日電アネルバ製)を用いて、酸化アルミニウムと水酸
化アルミニウムからなる膜をスパッタした。スパッタは
酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムを混合した(混
合比60:40(重量比))直径6インチの焼結体をターゲ
ットとし、Arと酸素の混合ガス(Ar:O2=95:5(体積
比))を導入し、1.56MHzの高周波電力を2KW投入しなが
ら行なった。スパッタ時間の調整により、膜厚を200Å
としたものを実施例4、膜厚を600Åとしたものを実施
例5、スパッタを行なっていない基体フィルムを比較例
2とする。
Examples 4 and 5, Comparative Example 2 Biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness
A film made of aluminum oxide and aluminum hydroxide was sputtered on the 50 μm) using a high-frequency magnetron sputtering device (manufactured by Nidec Anelva). The sputtering target was a 6-inch diameter sintered body obtained by mixing aluminum oxide and aluminum hydroxide (mixing ratio 60:40 (weight ratio)), and a mixed gas of Ar and oxygen (Ar: O 2 = 95: 5 (volume)). Ratio)) was introduced, and 1.56 MHz high frequency power was applied at 2 KW. Adjust the sputtering time to reduce the film thickness to 200Å
The film having a thickness of 600 ° is referred to as Example 4, the film having a thickness of 600 ° is referred to as Example 5, and the substrate film not subjected to sputtering is referred to as Comparative Example 2.

実施例4,5は、ESCAによる表面分析の結果、いずれも
酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムの比率は60:40
(重量比)であった。
Examples 4 and 5, the results of surface analysis by ESCA, the ratio of aluminum oxide and aluminum hydroxide are both 60:40
(Weight ratio).

表1にそれぞれガスバリア性を示す。 Table 1 shows the gas barrier properties.

[発明の効果] 本発明の包装用フィルムは透明プラスチックフィルム
基体上に、酸化アルミニウムと水酸化アルミニウムより
成る薄層を形成したので、透明で酸素ガスバリア性、水
蒸気バリア性が共に優れたものとみなすことができる。
[Effect of the Invention] Since the packaging film of the present invention has a thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide formed on a transparent plastic film substrate, it is regarded as being transparent and excellent in both oxygen gas barrier properties and water vapor barrier properties. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

図は本発明の包装用フィルムを製造するための装置の一
例を示すもので、反応性真空蒸着装置を例示したもので
ある。 1:真空容器、2:巻出し軸 3:冷却ドラム、4:巻取り軸 5:プラスチックフィルム 6:蒸発器、7:マスク 8:ガス吹出口
The figure shows an example of an apparatus for producing the packaging film of the present invention, and illustrates a reactive vacuum deposition apparatus. 1: vacuum container, 2: unwinding shaft 3: cooling drum, 4: winding shaft 5: plastic film 6: evaporator, 7: mask 8: gas outlet

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明プラスチックフィルム基体上に、酸化
アルミニウムと水酸化アルミニウムにより成る薄層を設
けたことを特徴とする包装用フィルム。
1. A packaging film comprising a transparent plastic film substrate provided with a thin layer made of aluminum oxide and aluminum hydroxide.
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JPH03100426U (en) * 1989-10-14 1991-10-21
JP3143969B2 (en) * 1991-08-13 2001-03-07 凸版印刷株式会社 Sheet and container having oxygen barrier properties
DE10002177A1 (en) * 2000-01-20 2001-07-26 Mitsubishi Polyester Film Gmbh Amorphous, clear, thermoformable oriented film, used for interior and exterior purposes, e.g. cladding, advertising, display and lighting, based on crystallizable thermoplastics, contains ultraviolet absorber and gas barrier layer
JP6547946B2 (en) * 2015-04-17 2019-07-24 凸版印刷株式会社 Gas barrier film, and method for producing gas barrier film
KR20200135828A (en) * 2018-03-22 2020-12-03 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Barrier laminated film and packaging material using the barrier laminated film
JP7110860B2 (en) * 2018-09-19 2022-08-02 大日本印刷株式会社 Gas-barrier deposited film, gas-barrier laminate, gas-barrier packaging material and gas-barrier package.
JP6863425B2 (en) * 2019-09-19 2021-04-21 大日本印刷株式会社 Barrier film, laminate using the barrier film, packaging product using the laminate
WO2022224797A1 (en) * 2021-04-19 2022-10-27 東レフィルム加工株式会社 Laminate and method for manufacturing laminate

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5224608U (en) * 1975-08-13 1977-02-21

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5224608U (en) * 1975-08-13 1977-02-21

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