JP2551994B2 - 光磁気ディスクの製造方法 - Google Patents
光磁気ディスクの製造方法Info
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B13/00—Machines and apparatus for drying fabrics, fibres, yarns, or other materials in long lengths, with progressive movement
- F26B13/10—Arrangements for feeding, heating or supporting materials; Controlling movement, tension or position of materials
- F26B13/101—Supporting materials without tension, e.g. on or between foraminous belts
- F26B13/103—Supporting materials without tension, e.g. on or between foraminous belts with mechanical supporting means, e.g. belts, rollers, and fluid impingement arrangement having a displacing effect on the materials
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
- G11B11/10—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field
- G11B11/105—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing
- G11B11/10582—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form
- G11B11/10584—Record carriers characterised by the selection of the material or by the structure or form characterised by the form, e.g. comprising mechanical protection elements
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光磁気ディスクの製造方法に関するもので
ある。
ある。
近年、情報の書換えが可能な光メモリ素子としての光
磁気ディスクの開発が活発に進められている。第５図に
示すように、この光磁気ディスクは、基本的には、透光
性の基板１上に光磁気記録膜２を成膜してなり、光磁気
記録膜２上の所望の記録領域にレーザ光等を照射して昇
温させながら、磁気的に記録・消去を行うものである。
磁気ディスクの開発が活発に進められている。第５図に
示すように、この光磁気ディスクは、基本的には、透光
性の基板１上に光磁気記録膜２を成膜してなり、光磁気
記録膜２上の所望の記録領域にレーザ光等を照射して昇
温させながら、磁気的に記録・消去を行うものである。
ところで、光磁気記録膜２は、一般に希土類遷移金属
非晶質合金からなっているので、空気、水分等に接する
ことにより容易に劣化するものであるから、第５図の如
く通常、光磁気記録膜２上に樹脂製の保護膜３を形成
し、光磁気記録膜２を保護するようにしている。その場
合、光磁気記録膜２の外周縁部2aが保護膜３から露出し
ていると、光磁気記録膜２が外周縁部2aから劣化する恐
れがある。
非晶質合金からなっているので、空気、水分等に接する
ことにより容易に劣化するものであるから、第５図の如
く通常、光磁気記録膜２上に樹脂製の保護膜３を形成
し、光磁気記録膜２を保護するようにしている。その場
合、光磁気記録膜２の外周縁部2aが保護膜３から露出し
ていると、光磁気記録膜２が外周縁部2aから劣化する恐
れがある。
そこで、従来、光磁気記録膜２の外周縁部2aを基板１
の外周縁部1aより内周側に位置させ、保護膜３により光
磁気記録膜２の外周縁部2aをも被覆するようにしてい
る。
の外周縁部1aより内周側に位置させ、保護膜３により光
磁気記録膜２の外周縁部2aをも被覆するようにしてい
る。
このように、光磁気記録膜２の外周縁部2aを保護膜３
により被覆する場合、光磁気記録膜２の成膜は、従来、
第６図に示すように、基板１の外周部を環状のホルダ４
により支持し、矢印Ａの如く、下方から蒸着、スパッタ
リング等により行い、基板１におけるホルダ４で支持さ
れた以外の領域に光磁気記録膜２を形成するようにして
いる。
により被覆する場合、光磁気記録膜２の成膜は、従来、
第６図に示すように、基板１の外周部を環状のホルダ４
により支持し、矢印Ａの如く、下方から蒸着、スパッタ
リング等により行い、基板１におけるホルダ４で支持さ
れた以外の領域に光磁気記録膜２を形成するようにして
いる。
しかしながら、上記のように光磁気記録膜２を成膜す
る場合、ホルダ４による基板１の支持代ｌが４〜5mm程
度は必要となるため、光磁気記録膜２の外周縁部2aは基
板１の外周縁部1aより４〜5mm程度内周側に位置するこ
ととなる。したがって、従来の方法で作製された光磁気
ディスクは、基板１の外周縁部1a近傍のかなり広い領域
（半径方向に４〜5mm程度）に光磁気記録膜２が形成さ
れないため、記憶容量を増大させる上で不利になるとい
う問題を有している。
る場合、ホルダ４による基板１の支持代ｌが４〜5mm程
度は必要となるため、光磁気記録膜２の外周縁部2aは基
板１の外周縁部1aより４〜5mm程度内周側に位置するこ
ととなる。したがって、従来の方法で作製された光磁気
ディスクは、基板１の外周縁部1a近傍のかなり広い領域
（半径方向に４〜5mm程度）に光磁気記録膜２が形成さ
れないため、記憶容量を増大させる上で不利になるとい
う問題を有している。
〔課題を解決するための手段〕 本発明は上記の課題を解決して、光磁気記録膜を可能
な限り基板の外周縁部近くまで延長して形成し、しか
も、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜により被覆できる
ようにした光磁気ディスクの製造方法を提供することを
目的としている。
な限り基板の外周縁部近くまで延長して形成し、しか
も、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜により被覆できる
ようにした光磁気ディスクの製造方法を提供することを
目的としている。
そのため、本明細書の特許請求の範囲の欄における請
求項第１項記載の光磁気ディスクの製造方法は、少なく
とも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜
を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの
製造方法において、基板の片面全域に光磁気記録膜を成
膜した後、基板の外周縁部近傍の外周縁部より内側の部
位に、光磁気記録膜が形成されている側から、光磁気記
録膜を通過して基板に到達する深さを有する環状溝を設
け、続いて、上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に
前記保護膜を形成するようにしたことを特徴とするもの
である。
求項第１項記載の光磁気ディスクの製造方法は、少なく
とも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜
を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの
製造方法において、基板の片面全域に光磁気記録膜を成
膜した後、基板の外周縁部近傍の外周縁部より内側の部
位に、光磁気記録膜が形成されている側から、光磁気記
録膜を通過して基板に到達する深さを有する環状溝を設
け、続いて、上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に
前記保護膜を形成するようにしたことを特徴とするもの
である。
又、請求項第２項に記載の光磁気ディスクの製造方法
は、請求項第１項の方法とは若干異なる方法で請求項第
１項のものと同等の機能を有する光磁気ディスクの製造
を行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、光
磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜
とを備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の
片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外周縁部
の角部及びその表面の光磁気記録膜を除去して基板の外
周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続いて、上記基板
のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形
成するようにしたことを特徴としている。
は、請求項第１項の方法とは若干異なる方法で請求項第
１項のものと同等の機能を有する光磁気ディスクの製造
を行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、光
磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜
とを備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の
片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外周縁部
の角部及びその表面の光磁気記録膜を除去して基板の外
周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続いて、上記基板
のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形
成するようにしたことを特徴としている。
請求項第３項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、
更に若干異なる方法で上記と同様の光磁気ディスクの製
造を行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、
光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護
膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法において、予
め、基板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成した後、
基板上に光磁気記録膜を成膜し、続いて、上記テーパ状
部を含む光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成するよ
うにしたことを特徴としている。
更に若干異なる方法で上記と同様の光磁気ディスクの製
造を行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、
光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護
膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法において、予
め、基板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成した後、
基板上に光磁気記録膜を成膜し、続いて、上記テーパ状
部を含む光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成するよ
うにしたことを特徴としている。
請求項第４項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、
更に他の方法で上記と類似した光磁気ディスクの製造を
行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、光磁
気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜と
を備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の片
面全域に光磁気記録膜を成膜した後、その内径が基板の
外径より大きく、その深さが基板の厚みと同等又はそれ
以上である有底筒状のホルダ内に基板を挿入し、続い
て、光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の
外周縁部とホルダの内周面との間の間隙に樹脂を充填す
ることにより光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及
び基板の外周縁部に前記保護膜を形成するようにしたこ
とを特徴としている。
更に他の方法で上記と類似した光磁気ディスクの製造を
行うものであって、少なくとも、透光性の基板と、光磁
気記録膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜と
を備えた光磁気ディスクの製造方法において、基板の片
面全域に光磁気記録膜を成膜した後、その内径が基板の
外径より大きく、その深さが基板の厚みと同等又はそれ
以上である有底筒状のホルダ内に基板を挿入し、続い
て、光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の
外周縁部とホルダの内周面との間の間隙に樹脂を充填す
ることにより光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及
び基板の外周縁部に前記保護膜を形成するようにしたこ
とを特徴としている。
〔作 用〕 上記請求項第１項の製造方法では、予め基板の片面全
域に光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外周
縁部近傍の外周縁部より内側の部位に、光磁気記録膜が
形成されている側から、光磁気記録膜を通過して基板に
到達する環状溝を設け、この環状溝内を含む光磁気記録
膜の表面に保護膜を形成するようにしている。この場
合、環状溝より内周側の光磁気記録膜が記録に使用され
るが、この範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された
保護膜によりその外周縁部を被覆されることになる。そ
して、この場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に
近接した位置に設けること、具体的には、例えば、環状
溝が基板の外周縁部から1mm以内程度の狭い領域に含ま
れるようにすることが可能であるので、光磁気記録膜を
基板の外周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、
記憶容量の増加を図ることが可能になる。
域に光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外周
縁部近傍の外周縁部より内側の部位に、光磁気記録膜が
形成されている側から、光磁気記録膜を通過して基板に
到達する環状溝を設け、この環状溝内を含む光磁気記録
膜の表面に保護膜を形成するようにしている。この場
合、環状溝より内周側の光磁気記録膜が記録に使用され
るが、この範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された
保護膜によりその外周縁部を被覆されることになる。そ
して、この場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に
近接した位置に設けること、具体的には、例えば、環状
溝が基板の外周縁部から1mm以内程度の狭い領域に含ま
れるようにすることが可能であるので、光磁気記録膜を
基板の外周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、
記憶容量の増加を図ることが可能になる。
又、請求項第２項の製造方法では、予め、基板の片面
全域に光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外
周縁部の角部をその表面の光磁気記録膜とともに切り欠
いて基板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続い
て、上記基板のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に保
護膜を形成するようにしている。この場合は、上記基板
のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存すること
になるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ状
部上の保護膜により被覆されることになる。そして、こ
の場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁部
から1mm以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記録膜を
基板の外周縁部の極く近傍まで延長することができる。
全域に光磁気記録膜を成膜しておき、その後、基板の外
周縁部の角部をその表面の光磁気記録膜とともに切り欠
いて基板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続い
て、上記基板のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に保
護膜を形成するようにしている。この場合は、上記基板
のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存すること
になるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テーパ状
部上の保護膜により被覆されることになる。そして、こ
の場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外周縁部
から1mm以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記録膜を
基板の外周縁部の極く近傍まで延長することができる。
次に、請求項第３項の製造方法では、外周縁部の角部
にテーパ状部を形成した基板上に光磁気記録膜を成膜し
た後、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に保護
膜を形成するようにしている。この場合、保護膜の形成
時に、保護膜を構成する樹脂が基板のテーパ状部に沿っ
て自重により流下するので、光磁気記録膜の外周縁部が
保護膜により被覆される。そして、この場合も、テーパ
状部は基板の外周縁部の極く近傍の領域のみに設ければ
良いので、光磁気記録膜を基板の外周縁部の極く近傍ま
で延長して形成することが可能になる。
にテーパ状部を形成した基板上に光磁気記録膜を成膜し
た後、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表面に保護
膜を形成するようにしている。この場合、保護膜の形成
時に、保護膜を構成する樹脂が基板のテーパ状部に沿っ
て自重により流下するので、光磁気記録膜の外周縁部が
保護膜により被覆される。そして、この場合も、テーパ
状部は基板の外周縁部の極く近傍の領域のみに設ければ
良いので、光磁気記録膜を基板の外周縁部の極く近傍ま
で延長して形成することが可能になる。
又、請求項第４項に記載の製造方法は、まず、基板の
片面全域に光磁気記録膜を成膜し、続いて、基板を有底
筒状のホルダ内に挿入して、光磁気記録膜の表面並びに
光磁気記録膜及び基板とホルダ間の空間に樹脂を充填す
ることにより、光磁気記録膜の表面並びに基板及び光磁
気記録膜の外周縁部に保護膜を形成するようにしてい
る。この方法によれば、基板の片面全域に光磁気記録膜
を形成し、しかも、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜で
覆うことができる。
片面全域に光磁気記録膜を成膜し、続いて、基板を有底
筒状のホルダ内に挿入して、光磁気記録膜の表面並びに
光磁気記録膜及び基板とホルダ間の空間に樹脂を充填す
ることにより、光磁気記録膜の表面並びに基板及び光磁
気記録膜の外周縁部に保護膜を形成するようにしてい
る。この方法によれば、基板の片面全域に光磁気記録膜
を形成し、しかも、光磁気記録膜の外周縁部を保護膜で
覆うことができる。
〔実施例１〕 本明細書の特許請求の範囲の欄における請求項第１項
に関連する一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以
下の通りである。
に関連する一実施例を第１図に基づいて説明すれば、以
下の通りである。
第１図（ｃ）に示すように、本実施例に係る光磁気デ
ィスク10は、透光性の基板11と、膜面と垂直な方向に磁
化容易軸を有する光磁気記録膜12と、光磁気記録膜12を
覆う樹脂製の保護膜13とを備えている。基板11の外周縁
部11a近傍には、光磁気記録膜12を通過して基板11に到
る断面ほぼＶ字形の環状溝14が設けられ、環状溝14内に
は保護膜13を構成する樹脂が充填されている。
ィスク10は、透光性の基板11と、膜面と垂直な方向に磁
化容易軸を有する光磁気記録膜12と、光磁気記録膜12を
覆う樹脂製の保護膜13とを備えている。基板11の外周縁
部11a近傍には、光磁気記録膜12を通過して基板11に到
る断面ほぼＶ字形の環状溝14が設けられ、環状溝14内に
は保護膜13を構成する樹脂が充填されている。
以下、光磁気ディスク10の製造手順を説明する。
まず、第１図（ａ）に示すように、ガラス、ポリカー
ボネイトあるいはPMMA（ポリメタクリル酸メチル）等の
樹脂又は金属等からなる透光性の基板11の表面の全域に
蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜12を形成す
る。ここで、基板11の材料として、ポリカーボネイト等
の外周縁部近傍で複屈折等の影響で再生信号品質C/Nの
低下するものを使用する場合、予め基板11を製品サイズ
より若干大きめに形成しておいて、外周縁部近傍を裁断
して除去するのが好ましい。例えば、直径120mmの基板1
1を使用する場合、予め直径130mm程度に形成しておい
て、C/Nの低下する外周縁部近傍を裁断すれば、基板11
をポリカーボネイト等で形成する場合でも外周縁部近傍
でのC/Nを確保することができるようになる。なお、第
１図（ａ）には中央部に円形孔を設けた基板11を示した
が、この円形孔は必ずしも設けなくて良い。
ボネイトあるいはPMMA（ポリメタクリル酸メチル）等の
樹脂又は金属等からなる透光性の基板11の表面の全域に
蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜12を形成す
る。ここで、基板11の材料として、ポリカーボネイト等
の外周縁部近傍で複屈折等の影響で再生信号品質C/Nの
低下するものを使用する場合、予め基板11を製品サイズ
より若干大きめに形成しておいて、外周縁部近傍を裁断
して除去するのが好ましい。例えば、直径120mmの基板1
1を使用する場合、予め直径130mm程度に形成しておい
て、C/Nの低下する外周縁部近傍を裁断すれば、基板11
をポリカーボネイト等で形成する場合でも外周縁部近傍
でのC/Nを確保することができるようになる。なお、第
１図（ａ）には中央部に円形孔を設けた基板11を示した
が、この円形孔は必ずしも設けなくて良い。
光磁気記録膜12が成膜されれば、続いて、第１図
（ｂ）に示すように、基板11の外周縁部近傍の外周縁部
より内側の部位に、光磁気記録膜12の側から、光磁気記
録膜12を通過して基板11に到達する断面ほぼＶ字状の幅
の狭い環状溝14を形成する。例えば、基板11の直径が12
0mmの場合、基板11の外周縁部11aと環状溝14の内周端部
との間の半径方向の間隔l1は1mm以内程度となるように
する。
（ｂ）に示すように、基板11の外周縁部近傍の外周縁部
より内側の部位に、光磁気記録膜12の側から、光磁気記
録膜12を通過して基板11に到達する断面ほぼＶ字状の幅
の狭い環状溝14を形成する。例えば、基板11の直径が12
0mmの場合、基板11の外周縁部11aと環状溝14の内周端部
との間の半径方向の間隔l1は1mm以内程度となるように
する。
次に、第１図（ｃ）の如く、環状溝14内を含む光磁気
記録膜12の表面にスピンコーディング、つまり、基板11
を回転させながら樹脂を滴下させるコーティング法等に
より保護膜13を塗布し、続いて、この保護膜13を硬化さ
せる。保護膜13の材料としては熱硬化型樹脂、紫外線硬
化型樹脂等適宜の樹脂を使用でき、加熱又は紫外線の照
射等により硬化が行われる。
記録膜12の表面にスピンコーディング、つまり、基板11
を回転させながら樹脂を滴下させるコーティング法等に
より保護膜13を塗布し、続いて、この保護膜13を硬化さ
せる。保護膜13の材料としては熱硬化型樹脂、紫外線硬
化型樹脂等適宜の樹脂を使用でき、加熱又は紫外線の照
射等により硬化が行われる。
上記の手順で製造された光磁気ディスク10は、環状溝
14より内周側の光磁気記録膜12が記録領域として利用さ
れる。そして、この領域の光磁気記録膜12の外周縁部12
aは、環状溝14内に充填された保護膜13により被覆さ
れ、外周縁部12aからの光磁気記録膜12の劣化が防止さ
れる。しかも、基板11の外周縁部11aと光磁気記録膜12
の外周縁部12aとの間の間隔l1は、1mm以下程度と極めて
短いので、光磁気ディスク10の記憶容量を増加させる上
で有利となる。
14より内周側の光磁気記録膜12が記録領域として利用さ
れる。そして、この領域の光磁気記録膜12の外周縁部12
aは、環状溝14内に充填された保護膜13により被覆さ
れ、外周縁部12aからの光磁気記録膜12の劣化が防止さ
れる。しかも、基板11の外周縁部11aと光磁気記録膜12
の外周縁部12aとの間の間隔l1は、1mm以下程度と極めて
短いので、光磁気ディスク10の記憶容量を増加させる上
で有利となる。
〔実施例２〕 次に、第２図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求項
第２項に関連する第２実施例を説明する。
第２項に関連する第２実施例を説明する。
第２図（ｃ）に示すよう、光磁気ディスク20は基板21
を備え、基板21の外周縁部21aにおける角部にはテーパ
状部21bが形成されている。基板21のテーパ状部21bを除
く表面には光磁気記録膜22が形成され、テーパ状部21b
及び光磁気記録膜22の表面は保護膜23により被覆されて
いる。
を備え、基板21の外周縁部21aにおける角部にはテーパ
状部21bが形成されている。基板21のテーパ状部21bを除
く表面には光磁気記録膜22が形成され、テーパ状部21b
及び光磁気記録膜22の表面は保護膜23により被覆されて
いる。
以下、光磁気ディスク20の製造手順を説明する。
まず、第２図（ａ）に示すように、基板21の表面の全
域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜22を形
成する。
域に蒸着、スパッタリング等により光磁気記録膜22を形
成する。
続いて、基板21の外周縁部21aにおける角部を斜めに
裁断し、第２図（ｂ）に示すように、基板21の角部にテ
ーパ状部21bを形成する。この際、基板21の角部上の光
磁気記録膜22は除去される。なおテーパ状部21bを形成
した後の光磁気記録膜22の外周縁部22aと基板21の外周
縁部21aとの間の間隔l2は1mm以下程度とされる。
裁断し、第２図（ｂ）に示すように、基板21の角部にテ
ーパ状部21bを形成する。この際、基板21の角部上の光
磁気記録膜22は除去される。なおテーパ状部21bを形成
した後の光磁気記録膜22の外周縁部22aと基板21の外周
縁部21aとの間の間隔l2は1mm以下程度とされる。
次に、光磁気記録膜22の表面上と基板21のテーパ状部
21b上に適宜の樹脂を上述のスピンコーティング等によ
り塗布することにより保護膜23を形成し、硬化させる。
この状態で、光磁気記録膜22の外周縁部22aはテーパ状
部21b上に保護膜23により被覆される。
21b上に適宜の樹脂を上述のスピンコーティング等によ
り塗布することにより保護膜23を形成し、硬化させる。
この状態で、光磁気記録膜22の外周縁部22aはテーパ状
部21b上に保護膜23により被覆される。
〔実施例３〕 続いて、第３図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求
項第３項に関連する第３実施例を説明する。
項第３項に関連する第３実施例を説明する。
第３図（ｃ）に示すように、光磁気ディスク30は基板
31を備え、基板31の外周縁部31aにおける角部にはテー
パ状部31bが設けられている。このテーパ状部31bを含む
基板31の表面には光磁気記録膜32が形成されている。更
に、光磁気記録膜32の外周縁部32aを含む表面は保護膜3
3により被覆されている。
31を備え、基板31の外周縁部31aにおける角部にはテー
パ状部31bが設けられている。このテーパ状部31bを含む
基板31の表面には光磁気記録膜32が形成されている。更
に、光磁気記録膜32の外周縁部32aを含む表面は保護膜3
3により被覆されている。
以下、光磁気ディスク30の製造手順を説明する。
まず、第３図（ａ）に示すように、基板31の外周縁部
31aにおける角部にテーパ状部31bを形成する。ここで、
テーパ状部31bの内周端と外周縁部31aとの間の半径方向
の間隔l3は1mm以下程度とする。
31aにおける角部にテーパ状部31bを形成する。ここで、
テーパ状部31bの内周端と外周縁部31aとの間の半径方向
の間隔l3は1mm以下程度とする。
次に、第３図（ｂ）に示すように、テーパ状部31bを
含む基板31の表面に光磁気記録膜32を形成する。
含む基板31の表面に光磁気記録膜32を形成する。
続いて、第３図（ｃ）に示すように、光磁気記録膜32
の表面に保護膜33をスピンコーティング等により塗布
し、硬化させる。上記の塗布時に保護膜33を構成する樹
脂はテーパ状部31b上の光磁気記録膜32に沿って自重に
より流下し、光磁気記録膜32の外周縁部32aをも被覆す
るものである。
の表面に保護膜33をスピンコーティング等により塗布
し、硬化させる。上記の塗布時に保護膜33を構成する樹
脂はテーパ状部31b上の光磁気記録膜32に沿って自重に
より流下し、光磁気記録膜32の外周縁部32aをも被覆す
るものである。
なお、本実施例の光磁気ディスク30において、基板31
のテーパ部31b上に形成された光磁気記録膜32は、記録
に使用しても、使用しなくても、いずれでも良い。仮
に、テーパ状部31b上の光磁気記録膜32を記録に使用し
ない場合でも、テーパ状部31bは半径方向に高々1mm程度
の幅を有するのみでるから、充分な記憶容量を確保でき
る。
のテーパ部31b上に形成された光磁気記録膜32は、記録
に使用しても、使用しなくても、いずれでも良い。仮
に、テーパ状部31b上の光磁気記録膜32を記録に使用し
ない場合でも、テーパ状部31bは半径方向に高々1mm程度
の幅を有するのみでるから、充分な記憶容量を確保でき
る。
〔実施例４〕 次に、第４図に基づいて特許請求の範囲の欄の請求項
第４項に関連する第４実施例を説明する。
第４項に関連する第４実施例を説明する。
第４図（ｃ）に示すように、光磁気ディスク40は基板
41と、基板41の表面の全域に形成された光磁気記録膜42
とを備え、光磁気記録膜42の表面並びに光磁気記録膜42
及び基板41の外周縁部42a・41aは樹脂製の保護膜43によ
り被覆されている。
41と、基板41の表面の全域に形成された光磁気記録膜42
とを備え、光磁気記録膜42の表面並びに光磁気記録膜42
及び基板41の外周縁部42a・41aは樹脂製の保護膜43によ
り被覆されている。
以下、光磁気ディスク40の製造手順を説明する。
まず、第４図（ａ）に示すように、基板41の表面の全
域に光磁気記録膜42を形成する。
域に光磁気記録膜42を形成する。
次に、第４図（ｂ）に示すように、基板41を、その内
径が基板41の外径よりやや大きく、その深さが基板41の
厚さと同等又はそれ以上である有底筒状のホルダ44内に
同芯となるように位置決めして挿入する。
径が基板41の外径よりやや大きく、その深さが基板41の
厚さと同等又はそれ以上である有底筒状のホルダ44内に
同芯となるように位置決めして挿入する。
続いて、光磁気記録膜42上に保護膜43を構成する樹脂
をスピンコーティング法等により滴下すると、この樹脂
は光磁気記録膜42の表面を被覆し、更に、光磁気記録膜
42及び基板41の外周縁部42a・41aとホルダ44の内周面と
の間の間隙にも流入する。この状態で、樹脂を硬化させ
ると、光磁気記録膜42の表面並びに光磁気記録膜42及び
基板41の外周縁部42a・41aに保護膜43が形成される。そ
の後、第４図（ｃ）の如く、光磁気ディスク40がホルダ
44から取り出される。
をスピンコーティング法等により滴下すると、この樹脂
は光磁気記録膜42の表面を被覆し、更に、光磁気記録膜
42及び基板41の外周縁部42a・41aとホルダ44の内周面と
の間の間隙にも流入する。この状態で、樹脂を硬化させ
ると、光磁気記録膜42の表面並びに光磁気記録膜42及び
基板41の外周縁部42a・41aに保護膜43が形成される。そ
の後、第４図（ｃ）の如く、光磁気ディスク40がホルダ
44から取り出される。
なお、ホルダ44における底面及び内周面に４フッ化エ
チレン樹脂（商品名：テフロン）等の離型性の良好な材
料からなる離型層44aを形成しておくと、ホルダ44から
の光磁気ディスク40の取出しが容易に行える。
チレン樹脂（商品名：テフロン）等の離型性の良好な材
料からなる離型層44aを形成しておくと、ホルダ44から
の光磁気ディスク40の取出しが容易に行える。
上記の各実施例では、片面記録型の光磁気ディスクに
ついて述べたが、両面記録型の光磁気ディスクを製造す
る場合は、上記のいずれかの方法で製造された２枚の光
磁気ディスクを接着剤等で貼り合わせれば良い。
ついて述べたが、両面記録型の光磁気ディスクを製造す
る場合は、上記のいずれかの方法で製造された２枚の光
磁気ディスクを接着剤等で貼り合わせれば良い。
以上のように、本発明は光磁気ディスクの製造方法に
関するものであって、その内、特許請求の範囲の欄にお
ける請求項第１項記載の製造方法は、少なくとも、透光
性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する
樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法に
おいて、基板の片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、
基板の外周縁部近傍の外周縁部より内側の部位に、光磁
気記録膜が形成されている側から、光磁気記録膜を通過
して基板に到達する深さを有する環状溝を設け、続い
て、上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に前記保護
膜を形成するようにしたものである。
関するものであって、その内、特許請求の範囲の欄にお
ける請求項第１項記載の製造方法は、少なくとも、透光
性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気記録膜を保護する
樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディスクの製造方法に
おいて、基板の片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、
基板の外周縁部近傍の外周縁部より内側の部位に、光磁
気記録膜が形成されている側から、光磁気記録膜を通過
して基板に到達する深さを有する環状溝を設け、続い
て、上記環状溝内を含む光磁気記録膜の表面に前記保護
膜を形成するようにしたものである。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、環状
溝より内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、こ
の範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜に
よりその外周縁部を被覆されることになる。そして、こ
の場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した
位置に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板
の外周縁部から1mm以内程度の狭い領域に含まれるよう
にすることが可能であるので、光磁気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図ることが可能になる。
溝より内周側の光磁気記録膜が記録に使用されるが、こ
の範囲の光磁気記録膜は環状溝内に充填された保護膜に
よりその外周縁部を被覆されることになる。そして、こ
の場合、上記環状溝を基板の外周縁部に充分に近接した
位置に設けること、具体的には、例えば、環状溝が基板
の外周縁部から1mm以内程度の狭い領域に含まれるよう
にすることが可能であるので、光磁気記録膜を基板の外
周縁部に極めて近い位置まで延長して形成し、記憶容量
の増加を図ることが可能になる。
又、請求項第２項に記載の光磁気ディスクの製造方法
は、少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光
磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気
ディスクの製造方法において、基板の片面全域に光磁気
記録膜を成膜した後、基板の外周縁部の角部及びその表
面の光磁気記録膜を除去して基板の外周縁部の角部にテ
ーパ状部を形成し、続いて、上記基板のテーパ状部及び
光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成するようにした
ものである。
は、少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光
磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気
ディスクの製造方法において、基板の片面全域に光磁気
記録膜を成膜した後、基板の外周縁部の角部及びその表
面の光磁気記録膜を除去して基板の外周縁部の角部にテ
ーパ状部を形成し、続いて、上記基板のテーパ状部及び
光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成するようにした
ものである。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、上記
基板のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存する
ことになるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テー
パ状部上の保護膜により被覆されることになる。そし
て、この場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外
周縁部から1mm以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記
録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで形成することがで
きる。
基板のテーパ状部より内周側に光磁気記録膜が残存する
ことになるが、この光磁気記録膜の外周縁部は上記テー
パ状部上の保護膜により被覆されることになる。そし
て、この場合も、上記テーパ状部を、例えば、基板の外
周縁部から1mm以内程度の狭い範囲に設けて、光磁気記
録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで形成することがで
きる。
請求項第３項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、
少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、予め、基板の外周縁部の角部
にテーパ状部を形成した後、基板上に光磁気記録膜を成
膜し、続いて、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表
面に前記保護膜を形成するようにしたものである。
少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、予め、基板の外周縁部の角部
にテーパ状部を形成した後、基板上に光磁気記録膜を成
膜し、続いて、上記テーパ状部を含む光磁気記録膜の表
面に前記保護膜を形成するようにしたものである。
この製造方法では、保護膜の形成時に、保護膜を構成
する樹脂が基板のテーパ状部に沿って自重により流下す
るので、光磁気記録膜の外周縁部が保護膜により被覆さ
れる。そして、この場合も、テーパ状部は基板の外周縁
部の極く近傍の領域のみに設ければ良いので、光磁気記
録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで延長して形成する
ことが可能になる。
する樹脂が基板のテーパ状部に沿って自重により流下す
るので、光磁気記録膜の外周縁部が保護膜により被覆さ
れる。そして、この場合も、テーパ状部は基板の外周縁
部の極く近傍の領域のみに設ければ良いので、光磁気記
録膜を基板の外周縁部の極く近傍まで延長して形成する
ことが可能になる。
請求項第４項に記載の光磁気ディスクの製造方法は、
少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、基板の片面全域に光磁気記録
膜を成膜した後、その内径が基板の外径より大きく、そ
の深さが基板の厚みと同等又はそれ以上である有底筒状
のホルダ内に基板を挿入し、続いて、光磁気記録膜の表
面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部とホルダの内
周面との間の間隙に樹脂を充填することにより光磁気記
録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部に前
記保護膜を形成するようにしたものである。
少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録膜と、光磁気
記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備えた光磁気ディ
スクの製造方法において、基板の片面全域に光磁気記録
膜を成膜した後、その内径が基板の外径より大きく、そ
の深さが基板の厚みと同等又はそれ以上である有底筒状
のホルダ内に基板を挿入し、続いて、光磁気記録膜の表
面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部とホルダの内
周面との間の間隙に樹脂を充填することにより光磁気記
録膜の表面並びに光磁気記録膜及び基板の外周縁部に前
記保護膜を形成するようにしたものである。
この方法により製造された光磁気ディスクでは、光磁
気記録膜の外周縁部を保護膜で被覆して光磁気記録膜の
劣化を確実に防止できるばかりでなく、基板の全域に光
磁気記録膜が形成されるので、記憶容量を一層増大させ
ることができる。
気記録膜の外周縁部を保護膜で被覆して光磁気記録膜の
劣化を確実に防止できるばかりでなく、基板の全域に光
磁気記録膜が形成されるので、記憶容量を一層増大させ
ることができる。
第１図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の一実施例にお
ける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図であ
る。 第２図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の他の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第３図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の更に別の実施
例における光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面
図である。 第４図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の別の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第５図乃至第６図は従来例を示すものである。 第５図は従来の光磁気ディスクを示す概略縦断面図であ
る。 第６図は従来の光磁気ディスクにおける光磁気記録膜の
成膜工程を示す概略縦断面図である。 10・20・30・40は光磁気ディスク、11・21・31・41は基
板、11a・21a・31a・41aは外周縁部、12・22・32・42は
光磁気記録膜、13・23・33・43は保護膜、14は環状溝、
21b・31bはテーパ状部、44はホルダである。
ける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図であ
る。 第２図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の他の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第３図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の更に別の実施
例における光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面
図である。 第４図（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ本発明の別の実施例に
おける光磁気ディスクの製造手順を示す概略縦断面図で
ある。 第５図乃至第６図は従来例を示すものである。 第５図は従来の光磁気ディスクを示す概略縦断面図であ
る。 第６図は従来の光磁気ディスクにおける光磁気記録膜の
成膜工程を示す概略縦断面図である。 10・20・30・40は光磁気ディスク、11・21・31・41は基
板、11a・21a・31a・41aは外周縁部、12・22・32・42は
光磁気記録膜、13・23・33・43は保護膜、14は環状溝、
21b・31bはテーパ状部、44はホルダである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 善照 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (72)発明者 太田 賢司 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シャープ株式会社内 (56)参考文献 特開 昭63−122037（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−139961（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−86342（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−128346（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録
膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備え
た光磁気ディスクの製造方法において、 基板の片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外
周縁部近傍の外周縁部より内側の部位に、光磁気記録膜
が形成されている側から、光磁気記録膜を通過して基板
に到達する深さを有する環状溝を設け、続いて、上記環
状溝内を含む光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成す
るようにしたことを特徴とする光磁気ディスクの製造方
法。 - 【請求項２】少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録
膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備え
た光磁気ディスクの製造方法において、 基板の片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、基板の外
周縁部の角部及びその表面の光磁気記録膜を除去して基
板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成し、続いて、上
記基板のテーパ状部及び光磁気記録膜の表面に前記保護
膜を形成するようにしたことを特徴とする光磁気ディス
クの製造方法。 - 【請求項３】少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録
膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備え
た光磁気ディスクの製造方法において、 予め、基板の外周縁部の角部にテーパ状部を形成した
後、基板上に光磁気記録膜を成膜し、続いて、上記テー
パ状部を含む光磁気記録膜の表面に前記保護膜を形成す
るようにしたことを特徴とする光磁気ディスクの製造方
法。 - 【請求項４】少なくとも、透光性の基板と、光磁気記録
膜と、光磁気記録膜を保護する樹脂製の保護膜とを備え
た光磁気ディスクの製造方法において、 基板の片面全域に光磁気記録膜を成膜した後、その内径
が基板の外径より大きく、その深さが基板の厚みと同等
又はそれ以上である有底筒状のホルダ内に基板を挿入
し、続いて、光磁気記録膜の表面並びに光磁気記録膜及
び基板の外周縁部とホルダの内周面との間の間隙に樹脂
を充填することにより光磁気記録膜の表面並びに光磁気
記録膜及び基板の外周縁部に前記保護膜を形成するよう
にしたことを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121816A JP2551994B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 光磁気ディスクの製造方法 |
| CA002016815A CA2016815C (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc |
| US07/523,756 US5082690A (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc |
| EP90305243A EP0398662B1 (en) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Process for manufacturing a magneto-optic disc, and a magneto-optic disc manufactured by such a process |
| DE69020799T DE69020799T2 (de) | 1989-05-15 | 1990-05-15 | Verfahren zur Herstellung einer magnetooptischen Scheibe und magnetooptische Scheibe, hergestellt mit diesem Verfahren. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1121816A JP2551994B2 (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 光磁気ディスクの製造方法 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP454096A Division JP2889523B2 (ja) | 1996-01-16 | 1996-01-16 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP2551994B2 true JP2551994B2 (ja) | 1996-11-06 |
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ID=14820643
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| US (1) | US5082690A (ja) |
| EP (1) | EP0398662B1 (ja) |
| JP (1) | JP2551994B2 (ja) |
| CA (1) | CA2016815C (ja) |
| DE (1) | DE69020799T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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