JP2522025B2 - 電子ビ―ム描画装置の補正方法 - Google Patents
電子ビ―ム描画装置の補正方法Info
- Publication number
- JP2522025B2 JP2522025B2 JP63228464A JP22846488A JP2522025B2 JP 2522025 B2 JP2522025 B2 JP 2522025B2 JP 63228464 A JP63228464 A JP 63228464A JP 22846488 A JP22846488 A JP 22846488A JP 2522025 B2 JP2522025 B2 JP 2522025B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- pattern
- code plate
- rotary stepper
- deflection direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、ロタリーステッパを用いた電子ビーム描画
装置に係わり、特に、電子ビームの偏向方向を補正して
電子ビームとロータリーステッパの軸合せをし、高精度
でコード板を作成するようにした電子ビーム描画装置の
補正方法に関するものである。
装置に係わり、特に、電子ビームの偏向方向を補正して
電子ビームとロータリーステッパの軸合せをし、高精度
でコード板を作成するようにした電子ビーム描画装置の
補正方法に関するものである。
＜従来の技術＞ 従来、この種の電子ビーム描画装置としては、第７図
のロータリステッパを用いた電子ビーム描画装置の概要
構成図に示すように、電子ビーム描画装置が、電子ビー
ム１及び空気軸受（空気ベアリング）２をパルスモータ
（図省略）とエンコーダ３で分割した方式をとるロータ
リーステッパを用いて構成され、前記電子ビーム１でロ
ータリーステッパ上のコード板４に所定のパターンエッ
ジ５（光を透過する透光スリット）を描画する。コード
板４は、電子ビームで描画された範囲が焼き切られ、透
光スリットが形成される。「電子ビーム直接描画による
エンコーダのコード板の作成」技術が知られている（例
えばSICE'88Aug.2−4Narashino,JS13−５参照）。
のロータリステッパを用いた電子ビーム描画装置の概要
構成図に示すように、電子ビーム描画装置が、電子ビー
ム１及び空気軸受（空気ベアリング）２をパルスモータ
（図省略）とエンコーダ３で分割した方式をとるロータ
リーステッパを用いて構成され、前記電子ビーム１でロ
ータリーステッパ上のコード板４に所定のパターンエッ
ジ５（光を透過する透光スリット）を描画する。コード
板４は、電子ビームで描画された範囲が焼き切られ、透
光スリットが形成される。「電子ビーム直接描画による
エンコーダのコード板の作成」技術が知られている（例
えばSICE'88Aug.2−4Narashino,JS13−５参照）。
このようにして作製されたエンコーダのコード板は、
例えばモータの軸に取り付けられて、回転検出に用いら
れる。
例えばモータの軸に取り付けられて、回転検出に用いら
れる。
円周上に一定ピッチで透光スリットが形成されたコー
ド板は、透光スリットを挟んで発光手段と受光手段とが
対向配置され、受光手段で検出された透光スリットの通
過光に基づいて回転検出が行われる。
ド板は、透光スリットを挟んで発光手段と受光手段とが
対向配置され、受光手段で検出された透光スリットの通
過光に基づいて回転検出が行われる。
尚、このようなエンコーダについては、例えば本出願
人により特公平７−6810号（特願昭63−33626号）に詳
しく記載されている。
人により特公平７−6810号（特願昭63−33626号）に詳
しく記載されている。
＜発明が解決しようとする課題＞ ところで、この従来の電子ビーム描画装置でコード板
４のパターンを描画する場合、第８図の従来の技術の問
題点の説明に供する図に示すように、電子ビームの偏向
方向（以下「ビーム偏向方向」という）Ｆとロータリス
テッパの回転中心Ｏがずれていると、ロータリーステッ
パに設置されるコード板４に描画される所定のパターン
エッジ５の描画結果に角度誤差αが発生する。そして従
来はこの角度誤差αを精度良く測定することができなか
ったために、ビーム偏向方向Ｆを精度よく補正すること
ができず、この結果、作成されたコード板４の精度が初
期に計画した値よりも低い、という問題点があった。
４のパターンを描画する場合、第８図の従来の技術の問
題点の説明に供する図に示すように、電子ビームの偏向
方向（以下「ビーム偏向方向」という）Ｆとロータリス
テッパの回転中心Ｏがずれていると、ロータリーステッ
パに設置されるコード板４に描画される所定のパターン
エッジ５の描画結果に角度誤差αが発生する。そして従
来はこの角度誤差αを精度良く測定することができなか
ったために、ビーム偏向方向Ｆを精度よく補正すること
ができず、この結果、作成されたコード板４の精度が初
期に計画した値よりも低い、という問題点があった。
本発明は、従来の技術の有するこのような問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的とするところは、ビ
ーム偏向方向とロータリーステッパの回転中心の角度誤
差を精度良く求めて、得た角度誤差からビーム偏向方向
を補正し、高精度でコード板の描画を行うようにする電
子ビーム描画装置の補正方法を提供するものである。
みてなされたものであり、その目的とするところは、ビ
ーム偏向方向とロータリーステッパの回転中心の角度誤
差を精度良く求めて、得た角度誤差からビーム偏向方向
を補正し、高精度でコード板の描画を行うようにする電
子ビーム描画装置の補正方法を提供するものである。
＜課題を解決するための手段＞ 上記目的を達成するために、本発明における電子ビー
ム描画装置の補正方法は、ロータリーステッパを用いた
電子ビーム描画装置において、前記ロータリーステッパ
上に試料となるコード板がのせられ、該コード板上に、
バーニア目盛か描かれた第１パターン及び第２パターン
が所定の角度ずらせてバーニア目盛どうしが互いに隣接
して前記電子ビームで描画され、前記第１パターンと第
２パターンの隣接するバーニア目盛からビーム偏向方向
と前記ロータリーステッパの回転中心との角度誤差を求
めて、該角度誤差から前記ビーム偏向方向を補正するよ
うにしたものである。
ム描画装置の補正方法は、ロータリーステッパを用いた
電子ビーム描画装置において、前記ロータリーステッパ
上に試料となるコード板がのせられ、該コード板上に、
バーニア目盛か描かれた第１パターン及び第２パターン
が所定の角度ずらせてバーニア目盛どうしが互いに隣接
して前記電子ビームで描画され、前記第１パターンと第
２パターンの隣接するバーニア目盛からビーム偏向方向
と前記ロータリーステッパの回転中心との角度誤差を求
めて、該角度誤差から前記ビーム偏向方向を補正するよ
うにしたものである。
＜実施例＞ 実施例について図面を参照して説明する。
尚、以下の図面において、第７図及び第８図と重複す
る部分は同一番号を付してその説明は省略する。
る部分は同一番号を付してその説明は省略する。
第１図乃至第６図は本発明の具体的実施例の説明に供
する図である。
する図である。
第１図乃至第６図において、６はロータリーステッパ
上にのせられた試料となるコード板（以下「試料コード
板」という）である。７はこの試料コード板６上に電子
ビーム１を用いて描画される、バーニア目盛7aが描かれ
た第１パターンである。このパターンの拡大図を第２図
に示す。第２図において目盛AA´及びBB´はビーム偏向
方向ｙに対して対称となっている。この時、Ａ−Ｂの幅
はl,A−Ｂの中央（A,Bからl/2）はロータリーステッパ
回転中心Ｏからγ,A´−Ｂ´の幅はδ,AA´及びBB´の
延長線はロータリーステッパ回転中心Ｏとなっている。
そして装置の描画分解能を使えば0.2μｍとすると、AA
´が２μｍピッチでバーニヤ目盛（第１パターン７につ
いては7a1とする）が、BB´が1.8μｍピッチでバーニヤ
目盛（第１パターン７については7a2とする）が夫々描
画されている。８は第２パターンである。この第２パタ
ーン８は、試料コード板６上に、第１パターン７のバー
ニア目盛7aにバーニア目盛8aが隣接して再び描画される
ように、第１パターン７に対してロータリーステッパを
所定角度β｛＝2tan-1（l/2r）｝の角度だけ回転させ
て、即ち、所定の角度βだけずらせて電子ビームを用い
て描画される。この時、ビーム偏向方向ｙとロータリー
ステッパの回転中心Ｏとが一致している場合は、この第
３図のように、最初に描画した第１パターン７のBB´の
バーニア目盛7a2と次に描画する第２パターン８のAA´
のバーニア目盛8a1とが一致する。ところが第４図に示
すように、ビーム偏向方向yaとロータリーステッパの回
転中心Ｏとが角度誤差γが発生している不一致の場合
は、第５図及び第６図（但し第６図は第５図のバーニア
目盛の拡大図）に示すように、描画された第１パターン
70のBB´のバーニア目盛70a2と２パターン80のAA´のバ
ーニア目盛80a1との間にｈ（＝lsinγ）のずれが発生す
る。ところで角度誤差γが存在する場合、第1,第２パタ
ーンの隣接するバーニア目盛による描画結果からこのｈ
を測定することにより、ビーム偏向方向yaとロータリー
ステッパの回転中心Ｏとの角度誤差γを簡単に求めるこ
とができるが、第1,2パターンの隣接するバーニア目盛
を利用して、実際はｈを測定するのではなくバーニア目
盛の測定点Ｐを例えば光学顕微鏡等で読取り測定するこ
とで、この場合0.2μｍの分解能で精度良くｈの値を知
ることができる。尚、直接ｈの値を読取ると１μｍ程度
の値しか得られないが、バーニア法により上記したよう
に数倍の精度でｈの値を読取ることができる。ここでｌ
＝1mmとすると角度誤差γは0.2mradの精度で求めること
が可能となる。このようにして精度良く得た角度誤差γ
からビーム偏向方向を補正して電子ビームとロータリー
ステッパの軸合せをする。このビーム偏向方向を補正し
た上で、高精度でエンコーダのコード板を作成すること
ができる。
上にのせられた試料となるコード板（以下「試料コード
板」という）である。７はこの試料コード板６上に電子
ビーム１を用いて描画される、バーニア目盛7aが描かれ
た第１パターンである。このパターンの拡大図を第２図
に示す。第２図において目盛AA´及びBB´はビーム偏向
方向ｙに対して対称となっている。この時、Ａ−Ｂの幅
はl,A−Ｂの中央（A,Bからl/2）はロータリーステッパ
回転中心Ｏからγ,A´−Ｂ´の幅はδ,AA´及びBB´の
延長線はロータリーステッパ回転中心Ｏとなっている。
そして装置の描画分解能を使えば0.2μｍとすると、AA
´が２μｍピッチでバーニヤ目盛（第１パターン７につ
いては7a1とする）が、BB´が1.8μｍピッチでバーニヤ
目盛（第１パターン７については7a2とする）が夫々描
画されている。８は第２パターンである。この第２パタ
ーン８は、試料コード板６上に、第１パターン７のバー
ニア目盛7aにバーニア目盛8aが隣接して再び描画される
ように、第１パターン７に対してロータリーステッパを
所定角度β｛＝2tan-1（l/2r）｝の角度だけ回転させ
て、即ち、所定の角度βだけずらせて電子ビームを用い
て描画される。この時、ビーム偏向方向ｙとロータリー
ステッパの回転中心Ｏとが一致している場合は、この第
３図のように、最初に描画した第１パターン７のBB´の
バーニア目盛7a2と次に描画する第２パターン８のAA´
のバーニア目盛8a1とが一致する。ところが第４図に示
すように、ビーム偏向方向yaとロータリーステッパの回
転中心Ｏとが角度誤差γが発生している不一致の場合
は、第５図及び第６図（但し第６図は第５図のバーニア
目盛の拡大図）に示すように、描画された第１パターン
70のBB´のバーニア目盛70a2と２パターン80のAA´のバ
ーニア目盛80a1との間にｈ（＝lsinγ）のずれが発生す
る。ところで角度誤差γが存在する場合、第1,第２パタ
ーンの隣接するバーニア目盛による描画結果からこのｈ
を測定することにより、ビーム偏向方向yaとロータリー
ステッパの回転中心Ｏとの角度誤差γを簡単に求めるこ
とができるが、第1,2パターンの隣接するバーニア目盛
を利用して、実際はｈを測定するのではなくバーニア目
盛の測定点Ｐを例えば光学顕微鏡等で読取り測定するこ
とで、この場合0.2μｍの分解能で精度良くｈの値を知
ることができる。尚、直接ｈの値を読取ると１μｍ程度
の値しか得られないが、バーニア法により上記したよう
に数倍の精度でｈの値を読取ることができる。ここでｌ
＝1mmとすると角度誤差γは0.2mradの精度で求めること
が可能となる。このようにして精度良く得た角度誤差γ
からビーム偏向方向を補正して電子ビームとロータリー
ステッパの軸合せをする。このビーム偏向方向を補正し
た上で、高精度でエンコーダのコード板を作成すること
ができる。
＜発明の効果＞ 本発明は、以上説明したように構成されているので、
次に記載するような効果を奏する。
次に記載するような効果を奏する。
ビーム偏向方向とロータリーステッパの回転中心との
角度誤差を精度良く求めることができるので、ビーム偏
向方向の補正を精度よく与えることができる。この結果
として高精度のエンコーダのコード板を作成することが
できる。
角度誤差を精度良く求めることができるので、ビーム偏
向方向の補正を精度よく与えることができる。この結果
として高精度のエンコーダのコード板を作成することが
できる。
第１図乃至第６図は本発明の具体的実施例の説明に供す
る図、第７図はロータリステッパを用いた電子ビーム描
画装置の概要構成図、第８図は従来の技術の問題点の説
明に供する図である。 １……電子ビーム、４……コード板、５……パターンエ
ッジ、６……試料となるコード板（試料コード板）、7,
70……第１パターン、8,80……第２パターン。
る図、第７図はロータリステッパを用いた電子ビーム描
画装置の概要構成図、第８図は従来の技術の問題点の説
明に供する図である。 １……電子ビーム、４……コード板、５……パターンエ
ッジ、６……試料となるコード板（試料コード板）、7,
70……第１パターン、8,80……第２パターン。
Claims (1)
- 【請求項１】ロータリーステッパを用いた電子ビーム描
画装置において、前記ロータリーステッパ上に試料とな
るコード板がのせられ、該コード板上に、バーニア目盛
が描かれた第１パターン及び第２パターンが所定の角度
ずらせてバーニア目盛どうしが互いに隣接して前記電子
ビームで描画され、前記第１パターンと第２パターンの
隣接するバーニア目盛から前記電子ビームの偏向方向と
前記ロータリーステッパの回転中心との角度誤差を求め
て、該角度誤差から前記電子ビームの偏向方向を補正す
るようにしたことを特徴とする電子ビーム描画装置の補
正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228464A JP2522025B2 (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 電子ビ―ム描画装置の補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63228464A JP2522025B2 (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 電子ビ―ム描画装置の補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0278145A JPH0278145A (ja) | 1990-03-19 |
| JP2522025B2 true JP2522025B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=16876895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63228464A Expired - Fee Related JP2522025B2 (ja) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | 電子ビ―ム描画装置の補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2522025B2 (ja) |
-
1988
- 1988-09-14 JP JP63228464A patent/JP2522025B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0278145A (ja) | 1990-03-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4938265B2 (ja) | 回転角を正確に測定する方法及び装置 | |
| US3745358A (en) | Alignment method and apparatus for electron projection systems | |
| US4163157A (en) | Data medium scanning process and apparatus | |
| US4654524A (en) | Method and apparatus for measuring a displacement of one member relative to another using a vernier with an even numbered difference of elements | |
| KR950015553A (ko) | 솼 패턴들의 회전이 용이하고 이득 보정이 가능한 ulsi 리쏘그라피를 위한 전자 빔 직접 기록 시스템과 이를 위한 전자 빔 직접 기록 방법 | |
| US3982837A (en) | Method and apparatus for calibrating Reseau grids | |
| GB2116313A (en) | Sine wave generator for position encoder | |
| US4751383A (en) | Method and apparatus for detection of position with correction of errors caused by errors in scale pitch | |
| JPH02129518A (ja) | 光電位置測定装置 | |
| JP2522025B2 (ja) | 電子ビ―ム描画装置の補正方法 | |
| US5038491A (en) | Scale for use for measurement of the displacement of an object to be examined, and displacement measuring apparatus | |
| US6337473B2 (en) | Beam position detector having a photodetection unit | |
| JP2705712B2 (ja) | 測長または測角装置 | |
| JPH04101114A (ja) | 画像走査装置 | |
| JPH05109609A (ja) | 電子線描画方法 | |
| JPH05203429A (ja) | 偏心測定方法 | |
| JPH0641855B2 (ja) | アブソリユ−トエンコ−ダ | |
| JPH0612488Y2 (ja) | 角度測定装置 | |
| US3325901A (en) | Process for eliminating errors of ec- centricity and for reducing er- rors of graduation in topographic instruments | |
| JPH0282515A (ja) | 電子ビーム描画方法 | |
| JPH09318394A (ja) | 光学式エンコーダ装置 | |
| JPH04259Y2 (ja) | ||
| SU1689754A1 (ru) | Компенсационный способ измерени перемещений фотоэлектрическим преобразователем | |
| SU1515047A1 (ru) | Спектральна зонна марка | |
| JPS6143203Y2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |