JP2514255B2 - 静電チャック - Google Patents
静電チャックInfo
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- JP2514255B2 JP2514255B2 JP1240724A JP24072489A JP2514255B2 JP 2514255 B2 JP2514255 B2 JP 2514255B2 JP 1240724 A JP1240724 A JP 1240724A JP 24072489 A JP24072489 A JP 24072489A JP 2514255 B2 JP2514255 B2 JP 2514255B2
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Description
吸着し、プラズマエッチング時にウェハーを冷却する静
電チャックに関し、 ウェハーを冷却する冷却性能の向上を目的とし、 半導体装置の基板となるウェハーを静電気を利用して
吸着する静電チャックにおいて、プラス電極とマイナス
電極をそれぞれ複数個の扇状に形成し、該プラス電極と
マイナス電極を放射状に且つ交互に配置するように構成
する。
利用して吸着し、プラズマエッチング時にウェハーを冷
却する静電チャックに関する。
ウェハーのハンドリングやプラズマ処理時の真空中での
ウェハーの冷却に用いられている。特にドライエッチン
グにおいて、ウェハーの温度が微細エッチング時のエッ
チング形状、選択比、分布等に大きな影響があるため、
ウェハーを冷却するための冷却性能の向上が求められて
いる。
来の静電チャックを示す図である。この静電チャックは
Al基板1の上に絶縁膜2が形成され、その上に同心円状
に配置した1対の電極3,3′が設けられ、さらにその上
に絶縁膜4が設けられている。そして一方の電極3(又
は3′)に+1KV、他方の電極3′(又は3)に−1KV程
度の電圧を印加しウェハー5を静電吸着し、静電チャッ
ク上面の絶縁膜4とウェハー5との間の熱接触を高め、
ドライエッチング時のプラズマからの熱を水冷等により
冷却された冷却ジャケット部6に逃がしウェハー5の温
度を該ウェハー上にパターン形成されているレジスト
(図示なし)の変質温度(約120℃)以下の温度に抑え
るようになっている。また電極3,3′に印加する電圧は
極性を一定にしておくと電極上の絶縁膜4が分極状態と
なり吸着力が低下するためウェハー5を取り替える毎に
極性を反転して印加している。
に高周波イオンエッチングの場合、高周波印加時にウェ
ハーの電位が−1KV程度になるため、第4図(同図は第
3図(a)のb−b断面に相当する)の如く、チャック
電圧+1KVの時で且つプラズマをかけない時の単位面積
当りの吸着力をF(但し絶縁膜4の厚さをd、印加電圧
をV、Sを面積αを定数とした場合 となる)とした場合、プラス電位の電極部分の吸着力は
4Fとなるが、マイナス電位の電極部分は0となる。この
ため第4図(a)の如く最外側の電極がプラスの場合と
第4図(b)の如く最外側の電極がマイナスの場合には
吸着力の有効径に差が生じ(b)図の場合は(a)図の
場合より小さくなる。このため、もともとやや凹状に反
っているウェハー5は(b)図の場合静電チャックとの
密着が悪くなり従って冷却も悪く温度分布が悪くなる。
このためエッチング形状(パターンサイドの傾斜が温度
によって変る)及び選択比(例えばSiとSiO2のエッチン
グ速度の比が温度によって変る)のバラツキが大きくな
り品質が不安定になるという問題が生ずる。
圧の極性を変えても吸着力の変化がない静電チャックを
提供することを目的とする。
は、半導体装置の基板となるウェハーを静電気を利用し
て吸着する静電チャックにおいて、プラス電極とマイナ
ス電極をそれぞれ少なくとも6対扇状に形成し、且つ各
々の該プラス電極は互いに実質等間隔で配置され、且つ
各々の該マイナス電極を互いに実質等間隔で配置され、
該プラス電極12とマイナス電極13とは放射状に且つ交互
に配置されてなることを特徴とする。
配置したことにより、半径方向には唯1個の電極が配置
されていることになるため、両電極12,13に印加する電
圧の極性を切り替えても半径方向の吸着力に変化はな
い。従って全体としての吸着力にも変化は生じない。
極部の上面図、(b)は断面図である。
11を挾んでプラス電極12及びマイナス電極13が形成さ
れ、さらにその上に絶縁膜14が形成されていることは第
3図で説明した従来例と同様であり、本実施例の要点
は、電極12及び13をそれぞれ複数個(図では各6個)の
扇状に形成し、この電極12,13を放射状に且つ交互に配
置し、全てのプラス電極21及び全てのマイナス電極13は
それぞれ中心部又は外周部で電気的に接続している。こ
の、各電極間を接続している線は、図においては電極と
一体に画かれているが、電極と一体である必要はなく、
個々の電極を形成後、他の線で別途接続しても良いこと
は勿論である。また各電極12,13の2辺の挾角θは全て
等しく、また電極と電極との間には適当なギャップ15を
設けている。なお16は冷却ジャケット、17はウェハーで
ある。
はマイナス)電位に、電極13はマイナス(又はプラス)
電位となるように電圧を印加することにより、静電的に
ウェハー17を吸着することができる。また各電極12,13
に印加する電圧の極性を逆にしても、各電極12,13が放
射状に並んでいるため吸着力は変化しない。従って静電
チャックとウェハー17との熱的接触は変わらないため、
ドライエッチング時の部分的な冷却のバラツキがなくな
り、安定したエッチングができ、安定した品質が得られ
る。
例が前実施例と異なるところは、電極数が前実施例で
は、12であったのを本実施例では20としたことである。
用・効果が得られる。
示したが、吸着力のバラツキが少なく且つ作り易さの点
で電極数は8乃至20程度が好ましい。
加する電圧の極性を変えても吸着力の変化がなく、ドラ
イエッチング時のウェハーの温度を安定化することが可
能となり、エッチング時のエッチング形状及び選択比を
安定に保ち、VLSIの歩留りの向上、品質の安定化が可能
となり、VLSIの生産に大きく寄与することができる。
図である。 図において、 10はAl基板、 11,14は絶縁膜、 12はプラス電極、 13はマイナス電極、 15はギャップ、 16は冷却ジャケット を示す。
Claims (1)
- 【請求項1】半導体装置の基板となるウェハーを静電気
を利用して吸着する静電チャックにおいて、 プラス電極とマイナス電極をそれぞれ少なくとも6対扇
状に形成し、且つ各々の該プラス電極は互いに実質等間
隔で配置され、且つ各々の該マイナス電極は互いに実質
等間隔で配置され、該プラス電極(12)とマイナス電極
(13)とは放射状に且つ交互に配置されてなることを特
徴とする静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240724A JP2514255B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1240724A JP2514255B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 静電チャック |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03104529A JPH03104529A (ja) | 1991-05-01 |
JP2514255B2 true JP2514255B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=17063760
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1240724A Expired - Fee Related JP2514255B2 (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 静電チャック |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2514255B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09223729A (ja) * | 1996-02-19 | 1997-08-26 | Kyocera Corp | 静電チャック |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5764950A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-20 | Fujitsu Ltd | Electrostatically attracting device and method therefor |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP1240724A patent/JP2514255B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03104529A (ja) | 1991-05-01 |
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