JP2505911Y2 - プラズマ溶射装置 - Google Patents
プラズマ溶射装置Info
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- JP2505911Y2 JP2505911Y2 JP1521790U JP1521790U JP2505911Y2 JP 2505911 Y2 JP2505911 Y2 JP 2505911Y2 JP 1521790 U JP1521790 U JP 1521790U JP 1521790 U JP1521790 U JP 1521790U JP 2505911 Y2 JP2505911 Y2 JP 2505911Y2
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- Japan
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- powder
- thermal spray
- plasma spraying
- supply
- thermal
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Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案はプラズマ溶射装置、特に、使用される原料の
使用量の低減をはかることのできるプラズマ溶射装置に
関する。
使用量の低減をはかることのできるプラズマ溶射装置に
関する。
［従来の技術］ 従来、プラズマ溶射装置としては、例えば、第３図に
示すようなものが知られている。
示すようなものが知られている。
かかるプラズマ溶射装置は、高周波発生器10により与
えられる高電圧でもって電極間に放電を起こし、窒素ガ
スやヘリウムガスなどの供給の下に、およそ３万度のプ
ラズマ炎を発生する溶射ガン20、およびこの溶射ガン20
に溶射粉末を供給する溶射粉末供給装置30を備えてい
る。そして、酸化マグネシウムなどの溶射粉末は、溶射
粉末供給装置30からアルゴンガスなどのキャリアガスの
供給管路に供給され、溶射ガン20のノズル先端部に導か
れる。
えられる高電圧でもって電極間に放電を起こし、窒素ガ
スやヘリウムガスなどの供給の下に、およそ３万度のプ
ラズマ炎を発生する溶射ガン20、およびこの溶射ガン20
に溶射粉末を供給する溶射粉末供給装置30を備えてい
る。そして、酸化マグネシウムなどの溶射粉末は、溶射
粉末供給装置30からアルゴンガスなどのキャリアガスの
供給管路に供給され、溶射ガン20のノズル先端部に導か
れる。
しかして、かかるプラズマ溶射装置を用いて、製品へ
の溶射加工を連続的に行なう場合、製品の装置への投入
および取出し時における溶射粉末の無駄な消費を避ける
ために、溶射粉末供給装置30を一時的に停止する、いわ
ゆる、断続運転が行なわれている。
の溶射加工を連続的に行なう場合、製品の装置への投入
および取出し時における溶射粉末の無駄な消費を避ける
ために、溶射粉末供給装置30を一時的に停止する、いわ
ゆる、断続運転が行なわれている。
［考案が解決しようとする課題］ しかしながら、このような従来のプラズマ溶射装置に
あっては、溶射粉末供給装置30と溶射ガン20とは、それ
らの構造上それほど近接させて設けることができないの
で、溶射粉末が供給される供給管路をある程度長く設定
せざるを得ないものであった。
あっては、溶射粉末供給装置30と溶射ガン20とは、それ
らの構造上それほど近接させて設けることができないの
で、溶射粉末が供給される供給管路をある程度長く設定
せざるを得ないものであった。
この結果、断続運転により溶射粉末供給装置30が停止
され、また運転が再開されたとき、溶射粉末が安定的に
供給される迄に相当の時間を要し、製品への溶射皮膜重
量がバラツク原因となる。従って、溶射粉末の供給を停
止できる時間は極めて短時間に制限され、実質的な溶射
粉末の使用量低減効果が得られないという問題があっ
た。
され、また運転が再開されたとき、溶射粉末が安定的に
供給される迄に相当の時間を要し、製品への溶射皮膜重
量がバラツク原因となる。従って、溶射粉末の供給を停
止できる時間は極めて短時間に制限され、実質的な溶射
粉末の使用量低減効果が得られないという問題があっ
た。
本考案の目的は、かかる従来の問題を解消し、製品へ
の溶射皮膜重量のバラツキを生ずることなく溶射粉末の
無駄な使用を防止することのできるプラズマ溶射装置を
提供することにある。
の溶射皮膜重量のバラツキを生ずることなく溶射粉末の
無駄な使用を防止することのできるプラズマ溶射装置を
提供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、本考案は、キャリアガス
とともに溶射粉末を溶射ガンに供給する管路にリターン
管路を分岐形成し、その分岐部後流の両管路に、該両管
路の連通を選択的に遮断する選択遮断手段を設けたこと
を特徴とする。
とともに溶射粉末を溶射ガンに供給する管路にリターン
管路を分岐形成し、その分岐部後流の両管路に、該両管
路の連通を選択的に遮断する選択遮断手段を設けたこと
を特徴とする。
［作用］ 本考案によれば、分岐部後流の両管路の途中に設けら
れた選択遮断手段のうち供給管路側を遮断操作すると、
溶射粉末の溶射ガンへの供給は停止され溶射粉末供給装
置から供給された溶射粉末はリターン管路に導かれる。
そして、この状態から選択遮断手段を切替えてリターン
管路側を遮断操作すると、リターン動作が停止され溶射
粉末の溶射ガンへの供給が再開される。しかして、この
選択遮断手段は溶射ガンに近接させて設けることが可能
であり、しかも、溶射粉末供給装置は連続運転が可能で
あることから、溶射粉末の供給は常に安定しており、使
用量の無駄およびバラツキを生ずることなくプラズマ溶
射加工を行なうことができる。
れた選択遮断手段のうち供給管路側を遮断操作すると、
溶射粉末の溶射ガンへの供給は停止され溶射粉末供給装
置から供給された溶射粉末はリターン管路に導かれる。
そして、この状態から選択遮断手段を切替えてリターン
管路側を遮断操作すると、リターン動作が停止され溶射
粉末の溶射ガンへの供給が再開される。しかして、この
選択遮断手段は溶射ガンに近接させて設けることが可能
であり、しかも、溶射粉末供給装置は連続運転が可能で
あることから、溶射粉末の供給は常に安定しており、使
用量の無駄およびバラツキを生ずることなくプラズマ溶
射加工を行なうことができる。
［実施例］ 以下、本考案の実施例を添附図面を参照しつつ説明す
る。
る。
第１図および第２図に、本考案の一実施例を示す。
図において、プラズマ溶射装置は従来と同様に、高周
波発生器10、窒素ガスおよびヘリウムガスの供給管路21
および22、および冷却水の供給管路23が接続された溶射
ガン20、およびこの溶射ガン20に溶射粉末を供給する溶
射粉末供給装置30を備えている。そして、酸化マグネシ
ウムなどの溶射粉末は、溶射粉末供給装置30からアルゴ
ンガスなどのキャリアガスの供給管路31に供給され、溶
射ガン20のノズル先端部に導かれる。
波発生器10、窒素ガスおよびヘリウムガスの供給管路21
および22、および冷却水の供給管路23が接続された溶射
ガン20、およびこの溶射ガン20に溶射粉末を供給する溶
射粉末供給装置30を備えている。そして、酸化マグネシ
ウムなどの溶射粉末は、溶射粉末供給装置30からアルゴ
ンガスなどのキャリアガスの供給管路31に供給され、溶
射ガン20のノズル先端部に導かれる。
40は供給管路31において溶射ガン20に近接されて設け
られた選択遮断装置であり、第２図に詳細に示すよう
に、供給管路31と、この供給管路31に分岐して形成され
たリターン管路32との途中に、選択遮断手段として、そ
れぞれ設けられた軟質ゴム材などからなる弾性体管41、
42と、これら弾性体管41および42の間に設けられ両者の
内のいずれか一方を圧接可能な棒部材43と、この棒部材
43を切替え操作する不図示の操作機構とを備えている。
この切替え動作を容易とするため、分岐部後流の供給管
路31とリターン管路32、および弾性体管41および42と
は、平行に配置されている。そして、リターン管路32は
さらに溶射粉末の捕集容器50に接続されている。
られた選択遮断装置であり、第２図に詳細に示すよう
に、供給管路31と、この供給管路31に分岐して形成され
たリターン管路32との途中に、選択遮断手段として、そ
れぞれ設けられた軟質ゴム材などからなる弾性体管41、
42と、これら弾性体管41および42の間に設けられ両者の
内のいずれか一方を圧接可能な棒部材43と、この棒部材
43を切替え操作する不図示の操作機構とを備えている。
この切替え動作を容易とするため、分岐部後流の供給管
路31とリターン管路32、および弾性体管41および42と
は、平行に配置されている。そして、リターン管路32は
さらに溶射粉末の捕集容器50に接続されている。
上記構成になる本実施例においては、前述の如く、製
品に対しプラズマ溶射加工を行なう場合には、選択遮断
装置40の棒部材43を操作して弾性体管42を圧接しリター
ン管路32を遮断する。すると、酸化マグネシウムなどの
溶射粉末は連続運転状態にある溶射粉末供給装置30から
キャリアガスとともに供給管路31を介して溶射ガン20の
ノズル先端部におけるプラズマ炎へ供給され、溶射され
る。一方、製品の取出しなどにともない溶射を停止させ
る場合には、選択遮断装置40の棒部材43を切替え操作し
て弾性体管41を圧接し供給管路31を遮断するとともに、
リターン管路32を連通させる。すると、溶射粉末は連続
運転状態にある溶射粉末供給装置30からキャリアガスと
ともにリターン管路32を介して捕集容器50に供給され、
ここで捕集されることになる。なお、溶射を再開させる
場合には、再度、選択遮断装置40の棒部材43を切替え操
作すればよいことはいうまでもない。この場合には溶射
粉末供給装置30は連続運転を行なっており選択遮断装置
40から溶射ガン20に至る供給管路31は短いので、時間遅
れをともなわずに溶射粉末の安定供給が可能である。
品に対しプラズマ溶射加工を行なう場合には、選択遮断
装置40の棒部材43を操作して弾性体管42を圧接しリター
ン管路32を遮断する。すると、酸化マグネシウムなどの
溶射粉末は連続運転状態にある溶射粉末供給装置30から
キャリアガスとともに供給管路31を介して溶射ガン20の
ノズル先端部におけるプラズマ炎へ供給され、溶射され
る。一方、製品の取出しなどにともない溶射を停止させ
る場合には、選択遮断装置40の棒部材43を切替え操作し
て弾性体管41を圧接し供給管路31を遮断するとともに、
リターン管路32を連通させる。すると、溶射粉末は連続
運転状態にある溶射粉末供給装置30からキャリアガスと
ともにリターン管路32を介して捕集容器50に供給され、
ここで捕集されることになる。なお、溶射を再開させる
場合には、再度、選択遮断装置40の棒部材43を切替え操
作すればよいことはいうまでもない。この場合には溶射
粉末供給装置30は連続運転を行なっており選択遮断装置
40から溶射ガン20に至る供給管路31は短いので、時間遅
れをともなわずに溶射粉末の安定供給が可能である。
本実施例によれば、遮断手段として、弾性体管41、42
と、これら弾性体管41および42の間に設けられ両者の内
のいずれか一方を圧接可能な棒部材43とを備え、この棒
部材43を切替え操作するようにしたので、溶射粉末の噛
み込みなどの惧れがなく、長期的に安定した使用が可能
である。
と、これら弾性体管41および42の間に設けられ両者の内
のいずれか一方を圧接可能な棒部材43とを備え、この棒
部材43を切替え操作するようにしたので、溶射粉末の噛
み込みなどの惧れがなく、長期的に安定した使用が可能
である。
なお、上述の実施例においては捕集容器を設けるよう
にしたが、キャリアガスの除去を適切に行なえば、溶射
粉末供給装置に直接リターンさせるようにしてもよいこ
とは言うまでもない。
にしたが、キャリアガスの除去を適切に行なえば、溶射
粉末供給装置に直接リターンさせるようにしてもよいこ
とは言うまでもない。
［考案の効果］ 以上の説明から明らかなように、本考案によれば、溶
射粉末の供給管路にリターン管路を分岐形成し、その分
岐部後流の両管路に両管路の連通を選択的に遮断する選
択遮断手段を設けたので、溶射粉末供給装置の連続運転
が可能で、溶射粉末の供給を短時間で安定化でき、溶射
粉末の使用量の無駄および皮膜重量のバラツキを生ずる
ことなくプラズマ溶射加工を行なうことができる。
射粉末の供給管路にリターン管路を分岐形成し、その分
岐部後流の両管路に両管路の連通を選択的に遮断する選
択遮断手段を設けたので、溶射粉末供給装置の連続運転
が可能で、溶射粉末の供給を短時間で安定化でき、溶射
粉末の使用量の無駄および皮膜重量のバラツキを生ずる
ことなくプラズマ溶射加工を行なうことができる。
第１図は本考案の一実施例を示すブロック線図、 第２図は本考案一実施例の選択遮断装置を示す断面図、 第３図は従来例を示すブロック線図である。 10……高周波発生器、20……溶射ガン、3022……溶射粉
末供給装置、31……供給管路。32……リターン管路、40
……選択遮断装置、41、42……弾性体管、43……棒部
材。
末供給装置、31……供給管路。32……リターン管路、40
……選択遮断装置、41、42……弾性体管、43……棒部
材。
Claims (2)
- 【請求項１】キャリアガスとともに溶射粉末を溶射ガン
に供給する管路にリターン管路を分岐形成し、その分岐
部後流の両管路に、該両管路の連通を選択的に遮断する
選択遮断手段を設けたことを特徴とするプラズマ溶射装
置。 - 【請求項２】前記選択遮断手段は前記両管路の途中に設
けられた弾性体管と、該弾性体管を圧接する棒部材とで
構成され、該棒部材を前記弾性体管のいずれか一方を圧
接すべく切替え可能に配置したことを特徴とする請求項
１に記載のプラズマ溶射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1521790U JP2505911Y2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | プラズマ溶射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1521790U JP2505911Y2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | プラズマ溶射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03106353U JPH03106353U (ja) | 1991-11-01 |
| JP2505911Y2 true JP2505911Y2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=31518536
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1521790U Expired - Lifetime JP2505911Y2 (ja) | 1990-02-20 | 1990-02-20 | プラズマ溶射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2505911Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015200442A1 (de) | 2015-01-14 | 2016-07-14 | Robert Bosch Gmbh | Einschaltverzögerung für eigensichere Batteriezellen |
-
1990
- 1990-02-20 JP JP1521790U patent/JP2505911Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03106353U (ja) | 1991-11-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |