JP2505006Y2 - Electrochromic device - Google Patents
Electrochromic deviceInfo
- Publication number
- JP2505006Y2 JP2505006Y2 JP1989078407U JP7840789U JP2505006Y2 JP 2505006 Y2 JP2505006 Y2 JP 2505006Y2 JP 1989078407 U JP1989078407 U JP 1989078407U JP 7840789 U JP7840789 U JP 7840789U JP 2505006 Y2 JP2505006 Y2 JP 2505006Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- thin film
- lens
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、エレクトロクロミック素子の改良に関する
ものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial application] The present invention relates to an improvement of an electrochromic device.
電圧を印加すると可逆的に電解酸化または還元反応が
起こり可逆的に着色する現象をエレクトロクロミズムと
言う。このような現象を示すエレクトロクロミック（以
下、ECと略称する）物質を用いて、電圧操作により着消
色するEC素子を作り、このEC素子を光量制御素子（例え
ば、防眩ミラーあるいは調光レンズ）や７セグメントを
利用した数字表示素子に利用しようとする試みは、20年
以上前から行われている。例えば、ガラス基板の上に透
明電極膜（陰極）、三酸化タングステン薄膜、二酸化ケ
イ素のような絶縁膜、電極膜（陽極）を順次積層してな
るEC素子（特公昭52−46098公報参照）が全固体型EC素
子として知られている。このEC素子に電圧を印加すると
三酸化タングステン（WO3）薄膜が青色に着色する。そ
の後、このEC素子に逆の電圧を印加すると、WO3薄膜の
青色が消えて無色になる。この着色・消色する機構は詳
しくは解明さていないが、WO3薄膜および絶縁膜（イオ
ン導電層）中に含まれる少量の水分がWO3薄膜の着色・
消色を支配していると理解されている。The phenomenon in which a reversible electrolytic oxidation or reduction reaction occurs when a voltage is applied to cause reversible coloring is called electrochromism. By using an electrochromic (hereinafter abbreviated as EC) substance that exhibits such a phenomenon, an EC element that is colored and decolored by voltage operation is made, and this EC element is used as a light amount control element (for example, an antiglare mirror or a dimming lens). ) And 7 segments have been used for more than 20 years. For example, there is an EC element (see Japanese Patent Publication No. 52-46098) in which a transparent electrode film (cathode), a tungsten trioxide thin film, an insulating film such as silicon dioxide, and an electrode film (anode) are sequentially laminated on a glass substrate. It is known as an all-solid-state EC device. When a voltage is applied to this EC element, the tungsten trioxide (WO 3 ) thin film is colored blue. After that, when a reverse voltage is applied to this EC element, the blue color of the WO 3 thin film disappears and becomes colorless. Although the mechanism of coloring / decoloring has not been clarified in detail, a small amount of water contained in the WO 3 thin film and the insulating film (ion conductive layer) causes the coloring / discoloration of the WO 3 thin film.
It is understood that it controls erasing.
ところで、EC層を直接又は間接的に挟む一対の電極層
は、EC層の着消色を外部に見せるために少なくとも一方
は透明でなければならない。特に透過型のEC素子の場合
には両方とも透明でなければならない。透明な電極材料
としては、現在のところSnO2、In2O3、ITO（SnO2とIn2O
3との混合物）、ZnOなどが知られているが、これらの材
料は比較的透明度が悪いために薄くせねばならず、この
理由及びその他の理由からEC素子は基板例えばガラス板
やプラスチック板の上に形成するのが普通である。By the way, at least one of the pair of electrode layers sandwiching the EC layer directly or indirectly must be transparent in order to show the color of the EC layer to the outside. Both must be transparent, especially for transmissive EC devices. Currently, transparent electrode materials include SnO 2 , In 2 O 3 and ITO (SnO 2 and In 2 O
3 ), ZnO, etc. are known, but these materials have to be thin due to their relatively poor transparency, and for this reason and other reasons, EC devices are used for substrates such as glass plates and plastic plates. It is usually formed on top.
このようなEC素子に外部電源を供給するには、前記一
対の電極層からそれぞれ取出し電極部が必要であり、EC
素子の表示面積を広げる必要から上述の取出し電極部を
基板の両端面に設けEC素子が特開昭61−270735公報によ
り開示されている。In order to supply an external power source to such an EC element, it is necessary to take out an electrode portion from each of the pair of electrode layers.
Since it is necessary to increase the display area of the element, the above-mentioned extraction electrode portion is provided on both end surfaces of the substrate, and an EC element is disclosed in JP-A-61-270735.
しかし、この公報によればEC素子の取出し電極部は、
透明電極材料（ITO）で作られており、この材料は電気
抵抗が高いため、これに外部配線をハンダ付けその他の
手段により接続し、この外部配線を通して取出し電極部
に電荷又は電子を供給・取出しを行なうと、取出し電極
部の近くから着消色が起こり、そのために見苦しいとい
う問題点がある。However, according to this publication, the extraction electrode portion of the EC element is
It is made of transparent electrode material (ITO), and this material has high electrical resistance, so external wiring is connected to this by soldering or other means. However, there is a problem in that the coloring and decoloring occurs near the extraction electrode portion, which is unsightly.
その後、上記問題点を解決するための改良発明が行わ
れ、前記基板の端面に位置する取出し電極部に低抵抗の
導電性薄膜を付着して、この導電性薄膜に外部配線を接
続させ、上述の低抵抗により電荷又は電子の供給速度を
速めて着消色の応答性を向上させるようにしたEC素子
が、特開昭63−38923公報により提案された。After that, an improved invention for solving the above problems was made, a low resistance conductive thin film was attached to the extraction electrode portion located at the end face of the substrate, and external wiring was connected to this conductive thin film, JP-A-63-38923 has proposed an EC device in which the charge or electron supply speed is increased by the low resistance of the above to improve the responsiveness of coloration / decoloration.
この公報の一例を第２図に示し、構成について以下説
明する。An example of this publication is shown in FIG. 2, and the configuration will be described below.
第２図中のレンズ基板１の凹面には第１の透明電極層
２（ITO）、可逆的電解酸化層３（例えば酸化又は水酸
化イリジウム）、イオン導電層４、還元着色性EC層５
（例えばWO3）、および第２の透明電極層６（ITO）から
なるEC素子が設けられている。この素子は、封止樹脂７
（例えばエポキシ樹脂）を介してレンズ封止基板８によ
って封止されている。レンズ基板１の両端面1a、1bに
は、前記電極層２、６の各取出し電極部2a、6aが形成さ
れており、これらの取出し電極部2a、6aには銅／アルミ
ニウムの２層膜からなる低抵抗の導電性薄膜9a、9bが付
着されている。この導電性薄膜9a、9bに外部配線La、Lb
を接続させ、この外部配線La、Lbを介して外部電源Ｓか
らの電荷又は電子を供給させると、前記薄膜9a、9bは前
述の通り低抵抗であるために、供給が速くなり、着消色
の応答性が向上することができる。On the concave surface of the lens substrate 1 in FIG. 2, a first transparent electrode layer 2 (ITO), a reversible electrolytic oxidation layer 3 (for example, iridium oxide or iridium hydroxide), an ion conductive layer 4, a reduction coloring EC layer 5 are formed.
An EC element including (for example, WO 3 ) and the second transparent electrode layer 6 (ITO) is provided. This element has a sealing resin 7
It is sealed by the lens sealing substrate 8 via (for example, epoxy resin). The lead-out electrode portions 2a and 6a of the electrode layers 2 and 6 are formed on both end faces 1a and 1b of the lens substrate 1, and these lead-out electrode portions 2a and 6a are made of a copper / aluminum two-layer film. The low resistance conductive thin films 9a and 9b are attached. External wiring La, Lb is formed on the conductive thin films 9a, 9b.
When the electric charges or electrons from the external power source S are supplied through the external wirings La and Lb, the thin films 9a and 9b have low resistance as described above, and thus the supply becomes faster and the coloration / erasing The responsiveness can be improved.
ところが、基板１は実用上、比較的薄いために、第２
図図示の略縦方向に沿う端面1a、1bの幅が狭く、かかる
端面に形成された導電性薄膜9a、9bの領域も幅が狭くな
る。そのため、外部配線La、Lbが幅の狭い導電性薄膜9
a、9bに接続しにくくなるという問題点がある。However, since the substrate 1 is relatively thin in practice, the second
The widths of the end faces 1a, 1b along the substantially vertical direction shown in the figure are narrow, and the regions of the conductive thin films 9a, 9b formed on the end faces are also narrow. Therefore, the external wiring La, Lb is a conductive thin film 9 with a narrow width.
There is a problem that it becomes difficult to connect to a and 9b.
そこで、本願考案は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、外部配線の接続を容易にできるようにしたEC素子を
提供することを目的とする。Therefore, the invention of the present application has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide an EC element in which external wiring can be easily connected.
上記問題点の解決の為に、本考案は第１図により、 素子基板（１）上に形成されたエレクトロクロミック
素子（２〜６）を封止樹脂（７）を介して封止基板
（８）で封止し、素子基板（１）の両端面に前記素子
（２〜６）の取出し電極部（2a、6a）を設けたエレクト
ロクロミック素子に於いて、 前記封止樹脂（７）を介して前記両端面の取出し電極
部（2a、6a）からそれぞれ封止基板（８）の端面にかけ
て低抵抗の導電性薄膜（10a、10b）を付着したことを技
術的要点としている。In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, the electrochromic device (2-6) formed on the device substrate (1) is sealed with a sealing substrate (8) through a sealing resin (7) according to FIG. ), And an electrochromic element in which the extraction electrode portions (2a, 6a) of the elements (2 to 6) are provided on both end surfaces of the element substrate (1), the sealing resin (7) is used. It is a technical point that low resistance conductive thin films (10a, 10b) are attached from the extraction electrode portions (2a, 6a) on both end surfaces to the end surfaces of the sealing substrate (8).
従って、導電性薄膜（10a、10b）の領域が拡がるため
に、該薄膜（10a、10b）への外部配線（La、Lb）の接続
が容易にできた。Therefore, since the region of the conductive thin film (10a, 10b) is expanded, the external wiring (La, Lb) can be easily connected to the thin film (10a, 10b).
更に封止樹脂（７）は水分により劣化し易いが、この
樹脂（７）を介して素子基板（１）の端面から封止基板
（８）の端面までに連続して導電性薄膜（10a、10b）を
付着したために、温水浸漬試験および塩水噴霧試験によ
っても前記薄膜（10a、10b）が封止樹脂（７）を保護す
ることになり、そのために封止樹脂（７）が劣化してし
まうことはない。Further, the sealing resin (7) is easily deteriorated by moisture, but the conductive thin film (10a, 10a, The thin film (10a, 10b) protects the encapsulating resin (7) even in the hot water immersion test and the salt spray test because the 10b) is attached, and the encapsulating resin (7) is deteriorated. There is no such thing.
上述の如く外部配線（La、Lb）に接続される領域を拡
げる構成としては、実開昭63−4524公報に開示されるよ
うに、封止樹脂と接続する部分を高くした導電性クリッ
プを用い、素子基板の表面上の端部に設けた取出し電極
部に当接状態で、導電性クリップを前記端部に取り付け
るという一例もあるが、上記クリップには弾性力がある
ために、取出し電極部を破損させることがないように、
基板端部への取り付けを慎重にしなければならず、また
上記クリップの一部が基板の表面に接続するために、表
示面積が狭くなってしまうという欠点がある。それに対
して本考案では、導電性薄膜（10a、10b）を基板（１）
の端面側に付着させたために、上記クリップの弾性力に
よる取出し電極部（2a、6a）の破損が生じることはな
く、基板（１）上の表示面積が広くなるという利点も得
られる。As described above, as a configuration for expanding the region connected to the external wiring (La, Lb), as disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 63-4524, a conductive clip having a high portion connected to the sealing resin is used. There is also an example in which a conductive clip is attached to the end electrode portion provided on the end portion on the surface of the element substrate while the conductive clip is attached to the end portion. So as not to damage
There is a drawback that the display area is reduced because the attachment to the edge of the substrate must be done carefully and a part of the clip is connected to the surface of the substrate. On the other hand, in the present invention, the conductive thin film (10a, 10b) is provided on the substrate (1).
Since it is attached to the end face side of the substrate, the extraction electrode portions (2a, 6a) are not damaged by the elastic force of the clip, and there is an advantage that the display area on the substrate (1) is wide.
本考案に於けるECDの積層構造は、特にどれと限定さ
れるものではないが、固体型EC素子の構造としては、例
えば電極層/EC層／イオン導電層／電極層のような４
層構造、電極層／還元着色型EC層／イオン導電層／可
逆的電解酸化層ないし酸化着色型EC層／電極層のような
５層構造があげられる。The laminated structure of the ECD in the present invention is not particularly limited, but the structure of the solid-state EC element is, for example, 4 layers such as electrode layer / EC layer / ion conductive layer / electrode layer.
A five-layer structure such as a layer structure, electrode layer / reducing coloring type EC layer / ion conductive layer / reversible electrolytic oxidation layer or oxidation coloring type EC layer / electrode layer can be mentioned.
透明電極の材料としては、例えばSnO2、In2O3、ITOな
どが使用される。このような電極層は、一般には真空蒸
着、イオンプレーティング、スパッタリングなどの真空
薄膜形成技術で形成される。（還元着色性）EC層として
は一般にWO3、WoO3などが使用される。As the material of the transparent electrode, for example, SnO 2 , In 2 O 3 , ITO or the like is used. Such an electrode layer is generally formed by a vacuum thin film forming technique such as vacuum deposition, ion plating or sputtering. (Reducing colorability) As the EC layer, WO 3 , WoO 3 or the like is generally used.
イオン導電層としては、例えば酸化ケイ素、酸化タン
タル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニオブ、酸
化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタン、フッ
化マグネシウムなどが使用される。これらの物質薄膜は
製造方法により電子に対して絶縁体であるが、プロトン
（H+）およびヒドロキシイオン（OH-）に対しては良導
体となる。As the ion conductive layer, for example, silicon oxide, tantalum oxide, titanium oxide, aluminum oxide, niobium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide, magnesium fluoride or the like is used. These material thin film is an insulator for electrons by the production method, a proton (H +) and hydroxy ions - a good conductor for (OH).
EC層の着色消色反応にはカチオンが必要とされ、H+イオ
ンやLi+イオンをEC層その他に含有させる必要がある。H
+イオンは初めからイオンである必要はなく、電圧が印
加されたときにH+イオンが生じればよく、従ってH+イオ
ンの代わりに水を含有させてもよい。この水は非常に少
なくて十分であり、しばしば、大気中から自然に侵入す
る水分でも着消色する。Cations are required for the color-erasing reaction of the EC layer, and H + ions and Li + ions must be contained in the EC layer and others. H
The + ion does not have to be an ion from the beginning, and H + ion may be generated when a voltage is applied, and thus water may be contained instead of the H + ion. This water is very small and sufficient, and often water that naturally enters from the atmosphere will also fade.
EC層とイオン導電層とは、どちらを上にしても下にし
てもよい。さらにEC層に対して間にイオン導電層を挟ん
で可逆的電解酸化層（ないし酸化着色型EC層）又は触媒
層を配設してもよい。このような層としては、例えば酸
化ないし水酸化イリジウム、同じくニッケル、同じくク
ロム、同じくバナジウム、同じくルテニウム、同じくロ
ジウムなどがあげられる。これらの物質は、イオン導電
層又は透明電極中に分散されていても良いし、それらを
分散していてもよい。不透明な電極層は、反射層と兼用
していてもよく、例えば金、銀、アルミニウム、クロ
ム、スズ、亜鉛、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、ス
テンレスなどの金属が使用される。Either of the EC layer and the ion conductive layer may be on the upper side or the lower side. Further, a reversible electrolytic oxidation layer (or an oxidation coloring type EC layer) or a catalyst layer may be arranged with an ion conductive layer interposed between the EC layers. Examples of such a layer include iridium oxide or hydroxide, nickel, chromium, vanadium, ruthenium, rhodium and the like. These substances may be dispersed in the ion conductive layer or the transparent electrode, or may be dispersed therein. The opaque electrode layer may also serve as the reflection layer, and for example, a metal such as gold, silver, aluminum, chromium, tin, zinc, nickel, ruthenium, rhodium, stainless steel is used.
以下、本考案の実施例を第１図により説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
第１図は本考案の実施例で、EC素子を形成した調光レ
ンズの断面図である。まず図中のレンズ基板１上におい
て、一部（図示では右方）を除いた基板１上の他部に真
空蒸着法またはイオンプレーティング法により、厚さ20
0nmのITO電極層２を形成した。このとき、回り込み現象
により基板１上の他部から続いて図示の左端面にも電極
層２の取出し電極部2aが形成された。FIG. 1 is a sectional view of a photochromic lens having an EC element according to an embodiment of the present invention. First, on the lens substrate 1 in the figure, a thickness of 20 is formed on the other part of the substrate 1 excluding a part (on the right side in the drawing) by a vacuum deposition method or an ion plating method.
The ITO electrode layer 2 of 0 nm was formed. At this time, due to the wraparound phenomenon, the extraction electrode portion 2a of the electrode layer 2 was also formed on the left end surface shown in the figure from the other portion on the substrate 1.
その後、酸化イリジウム（酸化スズとの混合物の形
で）層３、酸化タンタル層４およびWO3層５を順次形成
した。各層３〜５の厚さは、形成順に約150、500、500n
mであった。次にWO3層５の上面からその端面および基板
１上の前記一部を経て図示の右端面までに、取出し電極
部6aを含む厚さ200nmのITO電極層６を形成した。After that, an iridium oxide (in the form of a mixture with tin oxide) layer 3, a tantalum oxide layer 4 and a WO 3 layer 5 were sequentially formed. The thickness of each layer 3-5 is about 150, 500, 500n in the order of formation.
m. Next, an ITO electrode layer 6 having a thickness of 200 nm including the extraction electrode portion 6a was formed from the upper surface of the WO 3 layer 5 to the right end surface of the figure through the end surface and the part of the substrate 1.
エポキシ樹脂７で上面を封止すると共に、レンズより
なる封止基板８を接着して封止し、ついでレンズ基板１
の凸面（図示では下面）、封止基板８に凹面（図示では
上面）に不図示のマスク剤をマスキングし、その後にエ
ポキシ樹脂７を介して取出し電極部2a,6aからそれぞれ
封止基板８の端面にかけて湿式法により厚さ50μｍのア
ルミニウムおよび100μｍの銅を順次付着し、この付着
ににより２層構造の導電性薄膜10a、10bを形成した。
尚、銅／アルミニウムの２層膜の電気抵抗は無視し得る
ほどに小さかった。The upper surface is sealed with epoxy resin 7, and a sealing substrate 8 made of a lens is adhered and sealed, and then the lens substrate 1
Masking agent (not shown) on the convex surface (the lower surface in the figure) and the concave surface (the upper surface in the figure) of the sealing substrate 8, and then removing the electrodes 2a and 6a from the electrode portions 2a and 6a via the epoxy resin 7 respectively. Aluminum having a thickness of 50 μm and copper having a thickness of 100 μm were sequentially deposited on the end faces by a wet method, and the conductive thin films 10a and 10b having a two-layer structure were formed by the deposition.
The electric resistance of the copper / aluminum two-layer film was so small that it could be ignored.
前記マスク剤の上に取り付けられ、不要となった前記
薄膜の部分を取り除くために、レンズ基板１の凸面およ
び封止基板８の凹面からマスク剤を剥離し、これによっ
て第１図に示すEC素子が完成された。In order to remove the unnecessary portion of the thin film attached on the mask agent, the mask agent is peeled off from the convex surface of the lens substrate 1 and the concave surface of the sealing substrate 8, whereby the EC device shown in FIG. Was completed.
レンズ基板１の端面側に形成された導電性薄膜10a、1
0bのそれぞれに外部配線La、Lbをハンダ付けして、駆動
電源（Ｓ）から着色電圧（＋1.35V）を印加すると、レ
ンズ基板１側から入射させて波長633nmの光に対し透過
率が20％に減少し（10秒後）、この透過率は電圧印加を
止めても、しばらく保たれた。今度は、消色電圧（−1.
35V）を印加すると、同じく透過率は70％に回復した（1
0秒後）。Conductive thin films 10a, 1 formed on the end surface side of the lens substrate 1.
When the external wiring La and Lb are soldered to each of 0b and the coloring voltage (+ 1.35V) is applied from the driving power source (S), the transmittance is 20 with respect to the light with the wavelength of 633 nm when it is incident from the lens substrate 1 side. % (After 10 seconds), the transmittance was maintained for a while even when the voltage application was stopped. This time, the erasing voltage (-1.
Applying 35V), the transmittance also recovered to 70% (1
0 seconds later).
以上の本実施例によれば、素子基板１および封止基板
８として眼鏡のレンズを用いたが、これに限らず、上記
レンズの代わりにガラス基板を用いて第１図と同様に構
成しても良く、これにより前記目的が得られるのはいう
までもない。According to the present embodiment described above, the lens of the spectacles is used as the element substrate 1 and the sealing substrate 8, but the present invention is not limited to this, and a glass substrate is used instead of the above lens to form the same as in FIG. Needless to say, the above-mentioned object can be obtained by this.
以上の本考案によれば導電性薄膜の領域が拡がるた
め、外部配線との接続が容易にでき、さらに前記薄膜が
封止樹脂を保護するために、温水浸漬および塩水噴霧試
験によっても、封止樹脂が劣化してしまうことはない。According to the present invention, since the area of the conductive thin film is expanded, it can be easily connected to the external wiring, and since the thin film protects the sealing resin, it can be sealed by hot water immersion and salt spray test. The resin does not deteriorate.
さらにまた、本考案は導電性クリップを用いることが
ないために、クリップの弾性力による取出し電極部の破
損が生じることはなく、基板上の表示面積が広くなると
いう効果も得られる。Furthermore, since the present invention does not use the conductive clip, the extraction electrode portion is not damaged by the elastic force of the clip, and the display area on the substrate is widened.
第１図は本考案の実施例に係り、EC素子を形成した調光
レンズの断面図である。 第２図は従来に係り、EC素子を形成した調光レンズの断
面図である。 １……素子基板（眼鏡のレンズ） ２、６……透明電極層 2a、6a……取出し電極部 ３……可逆的電解酸化層 ４……イオン導電層 ５……還元着色性EC層 ７……封止樹脂 ８……封止基板（眼鏡のレンズ） 9a、9b、10a、10b……低抵抗の導電性薄膜 La、Lb……外部配線 Ｓ……外部電源FIG. 1 is a sectional view of a photochromic lens having an EC element according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a photochromic lens in which an EC element is formed according to the related art. 1 ... Element substrate (lens of spectacles) 2, 6 ... Transparent electrode layers 2a, 6a ... Extraction electrode part 3 ... Reversible electrolytic oxidation layer 4 ... Ion conductive layer 5 ... Reduction coloring EC layer 7 ... Encapsulation resin 8 Encapsulation substrate (glass lens) 9a, 9b, 10a, 10b ... Low resistance conductive thin film La, Lb ... External wiring S ... External power supply
Claims (1)
ック素子を封止樹脂を介して封止基板で封止し、素子基
板の両端面に前記素子の取出し電極部を設けたエレクト
ロクロミック素子に於いて、 前記封止樹脂を介して前記両端面の取出し電極部から封
止基板の両端面にかけて低抵抗の導電性薄膜をそれぞれ
付着したことを特徴とするエレクトロクロミック素子。1. An electrochromic device in which an electrochromic device formed on a device substrate is sealed by a sealing substrate with a sealing resin interposed therebetween, and lead-out electrode portions of the device are provided on both end faces of the device substrate. An electrochromic device is characterized in that low resistance conductive thin films are respectively attached from the extraction electrode portions on both end faces to both end faces of the sealing substrate via the sealing resin.
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989078407U JP2505006Y2 (en) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Electrochromic device |
| US07/491,053 US5187607A (en) | 1989-03-13 | 1990-03-09 | Electrochromic device with low resistance electrical connections |
| DE4007991A DE4007991A1 (en) | 1989-03-13 | 1990-03-13 | ELECTROCHROMIC COMPONENT |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989078407U JP2505006Y2 (en) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | Electrochromic device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0318515U JPH0318515U (en) | 1991-02-22 |
| JP2505006Y2 true JP2505006Y2 (en) | 1996-07-24 |
Family
ID=31621654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989078407U Expired - Lifetime JP2505006Y2 (en) | 1989-03-13 | 1989-07-03 | Electrochromic device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2505006Y2 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6338923A (en) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Nikon Corp | Ec element provided with leading-out electrode part on end face |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1989078407U patent/JP2505006Y2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6338923A (en) * | 1986-08-04 | 1988-02-19 | Nikon Corp | Ec element provided with leading-out electrode part on end face |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0318515U (en) | 1991-02-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2512880B2 (en) | EC element with electrodes taken out from the third electrode layer | |
| JP3534288B2 (en) | Light control glass and manufacturing method thereof | |
| JPH06167724A (en) | Production of light control glass | |
| JP2505006Y2 (en) | Electrochromic device | |
| JP2567786Y2 (en) | Electrochromic device | |
| JPH0820648B2 (en) | EC device with extraction electrodes on the end face | |
| JP2701578B2 (en) | Manufacturing method of resin sealing element | |
| JPH04107427A (en) | Production of transmission type electrochromic element | |
| JP2725352B2 (en) | Electrochromic device | |
| JP2827247B2 (en) | Electrochromic element that uniformly colors | |
| JPH055536Y2 (en) | ||
| JPH0522919Y2 (en) | ||
| JP2510894Y2 (en) | EC device with SUS clip | |
| JPS6150120A (en) | Production of dazzle preventing mirror | |
| JPH07175090A (en) | Electrochromic ophthalmic lens | |
| JP2600830B2 (en) | Electrochromic element with increased weather resistance | |
| JP2936185B2 (en) | Method for manufacturing electrochromic device | |
| JP2936186B2 (en) | Method for manufacturing electrochromic device | |
| JPH07104529B2 (en) | Encapsulated electrochromic device and method of manufacturing the same | |
| JPS63294537A (en) | Ec element which decrease leak current | |
| JPH0578806B2 (en) | ||
| JP2722505B2 (en) | Method for manufacturing sealed electrochromic device | |
| JPH10197907A (en) | Electrochromic element | |
| JPH06289435A (en) | Electrochromic element | |
| JPH11242246A (en) | Electrochromic element and its production |