JP2504839B2 - Magnetic recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気記録媒体（磁性膜）膜厚方向の磁化に
よって記録を行う、いわゆる垂直記録に用いる磁気記録
媒体およびその製造方法に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a magnetic recording medium used for so-called perpendicular recording, in which recording is performed by magnetization in the film thickness direction of a magnetic recording medium (magnetic film), and a method for manufacturing the same. is there.

（従来の技術） 従来、一般の磁気ディスク装置、磁気テープ装置など
の磁気記録装置においては、磁気記録媒体の長手方向に
磁化することにより記録を行ってきたが、記録密度の増
加に従って媒体内の反磁界が増大して残留磁化の減衰と
回転を生じ、再生出力が著しく減少するという欠点が存
在する。このため記録密度が増加するほど反磁界が小さ
くなる性質をもつ垂直記録方式が提案され、この垂直記
録に適した磁気記録媒体として膜厚に垂直な方向に磁化
容易なCoCrスパッタ膜が提案されている（特開昭52−13
4706号公報）。その後このような垂直記録媒体として、
CoCrスパッタ膜のほかに、スパッタ、蒸着などの乾式成
膜法によるCoM、CoCrM（Ｍは第３元素）などのCo合金
膜、Fe合金膜、Os添加フェライト膜、Baフェライト膜な
どが開発されてきたが、これらの膜を乾式成膜法によっ
て作製する場合、真空系内で行うため量産性に問題があ
る。(Prior Art) Conventionally, in a magnetic recording device such as a general magnetic disk device or a magnetic tape device, recording has been performed by magnetizing in the longitudinal direction of the magnetic recording medium. There is a drawback that the demagnetizing field is increased to cause the decay and rotation of the residual magnetization, and the reproduction output is significantly reduced. Therefore, a perpendicular recording method has been proposed in which the demagnetizing field decreases as the recording density increases, and a CoCr sputtered film that is easy to magnetize in the direction perpendicular to the film thickness has been proposed as a magnetic recording medium suitable for this perpendicular recording. (Japanese Patent Laid-Open No. 52-13
4706 publication). After that, as such a perpendicular recording medium,
Besides CoCr sputtered films, Co alloy films such as CoM and CoCrM (M is the third element), Fe alloy films, Os-added ferrite films, Ba ferrite films, etc. have been developed by dry film forming methods such as sputtering and vapor deposition. However, when these films are formed by the dry film forming method, there is a problem in mass productivity because they are performed in a vacuum system.

このためこの様な製造上の問題点を改善して量産性に
優れた無電解めっき法により、垂直記録媒体を作製する
方法が開発されている。この方法に用いるめっき浴に
は、無電解CoWPめっき浴（特開昭56−142867号公報）、
無電解CoMnPめっき浴（特開昭57−140869号公報）、無
電解CoNiMnPめっき浴（特開昭58−058267号公報）、無
電解CoNiMnRePめっき浴（特開昭60−103181号公報）、
無電解CoNiRePめっき浴（特開昭61003316号公報）が見
出されている。コバルト合金磁性膜において垂直異方性
を有するためには、hcpCo（六方晶）のｃ軸を主として
基板に垂直配向させることが必要条件であるが、これら
の浴ではCoPあるいはCoNiPのめっき浴にＷ、Mnあるいは
Reなどの可溶性塩を添加し、CoWP、CoMnP、CoNiMnP、Co
NiMnReP、CoNiRePなどの合金膜とすることによって良好
な垂直配向性か得られている。Therefore, there has been developed a method of manufacturing a perpendicular recording medium by an electroless plating method which is excellent in mass productivity by improving such manufacturing problems. The plating bath used in this method includes an electroless CoWP plating bath (JP-A-56-142867).
Electroless CoMnP plating bath (JP-A-57-140869), electroless CoNiMnP plating bath (JP-A-58-058267), electroless CoNiMnReP plating bath (JP-A-60-103181),
An electroless CoNiReP plating bath (Japanese Patent Laid-Open No. 61003316) has been found. In order to have perpendicular anisotropy in a cobalt alloy magnetic film, it is necessary to orient the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) mainly vertically to the substrate, but in these baths, CoP or CoNiP plating baths with W , Mn or
Add soluble salts such as Re, CoWP, CoMnP, CoNiMnP, Co
Good vertical orientation was obtained by using an alloy film such as NiMnReP and CoNiReP.

一般に膜面に垂直な方向に磁化容易となる条件は、媒
体の異方性エネルギーをKu、膜固有の垂直異方性エネル
ギーをＫ⊥、形状異方性エネルギーを２пMs²（Msは飽
和磁化）としたとき、Ｋ⊥＞２пMs²あるいは、Ku＝Ｋ
⊥−２пMs²＞０の関係があることである。（これは、
媒体の垂直異方性磁界Hkと反磁界の最大値４пMsとの間
にHk＞４пMsの関係があるということと同様である。）
垂直記録媒体においては必ずしもこの条件を満たす必要
はないが、KuあるいはHkが大きな値をもつほど媒体特性
として好ましいといえる。高密度記録を得るためには、
通常2.0kOe程度以上のHk値であることが好ましい。Generally, the conditions that make the magnetization easy in the direction perpendicular to the film surface are as follows: the anisotropic energy of the medium is Ku, the perpendicular anisotropy energy of the film is K⊥, and the shape anisotropy energy is 2пMs ² (Ms is saturation magnetization). , Then K⊥> 2пMs ² or Ku = K
The relationship is ⊥-2п Ms ² > 0. (this is,
This is similar to the fact that there is a relationship of Hk> 4пMs between the perpendicular anisotropy magnetic field Hk of the medium and the maximum demagnetizing field of 4пMs. )
The perpendicular recording medium does not necessarily have to satisfy this condition, but it can be said that the larger the value of Ku or Hk, the better the medium characteristics. To obtain high density recording,
Usually, it is preferable that the Hk value is about 2.0 kOe or more.

一方、大きな再生出力を得るためにはMs値を大きくす
ることが望ましい。すなわちアイ・イー・イー・イート
ランザクションオンマグネチックス（IEEE Transaction
on Magnetics）等Mag−18巻、第２号、第769〜771頁に
よれば、Ms＜（3/4п）Hc（Hcは媒体の保磁力）の条件
下において再生出力値はMsに比例するとされている。On the other hand, in order to obtain a large reproduction output, it is desirable to increase the Ms value. In other words, IEE Transaction on Magnetics (IEEE Transaction
According to Mag-18, No. 2, pp. 769-771, the reproduction output value is proportional to Ms under the condition of Ms <(3 / 4п) Hc (Hc is the coercive force of the medium). Has been done.

また前記文献においてMs≧（3/4п）Hcの場合、再生
出力はHcに比例するとされている。再生出力を大きくす
るにはHcを大きくする必要があるが、Hcの値は使用する
磁気ヘッドの種類または記録条件よって制限を受ける。
従ってHcに関しては要求される記録密度および出力に応
じて適する値を選択しうることが望ましい。Further, in the above document, when Ms ≧ (3 / 4п) Hc, the reproduction output is said to be proportional to Hc. To increase the reproduction output, it is necessary to increase Hc, but the value of Hc is limited by the type of magnetic head used or recording conditions.
Therefore, it is desirable to select a suitable value for Hc according to the required recording density and output.

（発明が解決しようとする課題） 前記無電解CoMnPめっき浴や無電解CoNiMnPめっき浴を
用いることによりhcpCo六方晶のｃ軸が基板に垂直配向
したCoMnPやCoNiMnPの磁性膜が得られるが、このように
して得られた磁性膜はMsの低下が少なく４пMsの値が大
きくなり、垂直記録媒体として好ましくなかった。この
ためCoMnPやCoNiMnPにReを共析することによりMsの低下
が図られている。これらの垂直記録媒体として優れた特
性を有する磁性膜を作製するための無電解CoNiRePめっ
き浴や無電解CoNiMnRePめっき浴については、特開昭61
−00316号公報、特開昭61−054028号公報、特開昭60−1
03181号公報、特開昭60−149785号公報に見られるよう
に各種の浴組成が開発されている。しかし、媒体特性は
膜構造および膜組成と密接な関係があり、これらを制御
して媒体特性を再現性良く得るための安定な多元合金無
電解めっき浴を作製することは困難であった。特に浴中
のW,MnやReの制御が困難であるため、めっき浴の安定化
のためには浴中にW,MnやReを使用することなく、hcpCo
六方晶のｃ軸を基板に垂直配向させ、単純化された合金
系からなりかつ垂直記録媒体として優れた特性を得るこ
とが要望されていた。(Problems to be Solved by the Invention) By using the electroless CoMnP plating bath or the electroless CoNiMnP plating bath, a magnetic film of CoMnP or CoNiMnP in which the c-axis of hcpCo hexagonal crystal is vertically aligned with the substrate can be obtained. The magnetic film obtained in this way had a small decrease in Ms and a large value of 4Ms, which was not preferable as a perpendicular recording medium. Therefore, co-deposition of Re on CoMnP or CoNiMnP is intended to reduce Ms. For the electroless CoNiReP plating bath and the electroless CoNiMnReP plating bath for producing a magnetic film having excellent properties as these perpendicular recording media, see JP-A-61
-00316, JP 61-054028, JP 60-1
Various bath compositions have been developed as seen in JP 03181 and JP 60-149785. However, the medium properties are closely related to the film structure and the film composition, and it was difficult to control them to obtain a stable multi-component alloy electroless plating bath for obtaining the medium properties with good reproducibility. Since it is difficult to control W, Mn and Re in the bath, hcpCo is not used for stabilizing the plating bath without using W, Mn or Re in the bath.
It has been desired that the c-axis of the hexagonal crystal should be oriented vertically to the substrate so that it is made of a simplified alloy system and has excellent characteristics as a perpendicular recording medium.

本発明の目的は、従来の問題を改善して、単純化され
た合金系からなるため安定にそして容易に作製すること
ができかつ垂直記録媒体として優れた特性を有する磁気
記録媒体とその製造方法を提供することにある。An object of the present invention is to improve a conventional problem, and since it is made of a simplified alloy system, it can be stably and easily manufactured and has excellent characteristics as a perpendicular recording medium, and a method of manufacturing the same. To provide.

（課題を解決するための手段） 本発明による磁気記録媒体は、構成の主成分としてコ
バルト、ニッケルおよびリンを含有し、その結晶構造が
六方晶をなす磁性膜であって、六方晶のＣ軸が主として
膜面に垂直な方向に配向し、2.0kOe以上の垂直異方性磁
界Hkを有していることを特徴としている。(Means for Solving the Problems) A magnetic recording medium according to the present invention is a magnetic film containing cobalt, nickel and phosphorus as main constituents and having a hexagonal crystal structure, and having a hexagonal C-axis. Is mainly oriented in a direction perpendicular to the film surface and has a perpendicular anisotropic magnetic field Hk of 2.0 kOe or more.

本発明による磁気記録媒体の製造方法は、金属イオン
として少なくともコバルトイオンおよびニッケルイオン
を含み、添加剤として少なくともリンを含む前記金属イ
オンの還元剤を含み、前記金属イオンの錯化剤として少
なくともグリコール酸基およびリンゴ酸基を含む水溶液
（無電解めっき浴）を用いて無電解めっき法により磁性
膜を形成することを特徴としている。The method for producing a magnetic recording medium according to the present invention comprises at least a cobalt ion and a nickel ion as metal ions, and a reducing agent for the metal ion containing at least phosphorus as an additive, and at least glycolic acid as a complexing agent for the metal ion. It is characterized in that a magnetic film is formed by an electroless plating method using an aqueous solution (electroless plating bath) containing a group and a malic acid group.

本発明による磁気記録媒体は、少なくともコバルト、
ニッケルおよびリンを含有した磁性膜である。本発明に
おいて用いられる磁性膜のその他の成分としては、Be,M
g,Al,Re,Mn,W,Ru,Si,Fe,Sr,Y,Zr,Nb,Cd,In,Sb,Ta,Ir,H
g,Tl,Nb,Gd,Tb,Ti,V,Cr,Cu,Zn,Ga,Ge,Mo,Rh,Pd,Ag,Au,P
t,Sn,Te,Ga,Ce,Sm,Os,Pb,Bi等が本発明の効果に影響を
与えない範囲で含まれていてもよい。めっき膜中にはこ
れらの元素のほか、添加剤の種類によってはB,C,N,O,S,
As,Na,K,F,Cl,Ca等の非金属が含有されることがある。
磁性膜厚は0.005〜５μｍの範囲が用いられるが、高密
度記録用には0.5μｍ以下が好ましい。The magnetic recording medium according to the present invention comprises at least cobalt,
A magnetic film containing nickel and phosphorus. Other components of the magnetic film used in the present invention include Be, M
g, Al, Re, Mn, W, Ru, Si, Fe, Sr, Y, Zr, Nb, Cd, In, Sb, Ta, Ir, H
g, Tl, Nb, Gd, Tb, Ti, V, Cr, Cu, Zn, Ga, Ge, Mo, Rh, Pd, Ag, Au, P
t, Sn, Te, Ga, Ce, Sm, Os, Pb, Bi, etc. may be contained in a range that does not affect the effects of the present invention. In addition to these elements in the plating film, depending on the type of additive, B, C, N, O, S,
Non-metals such as As, Na, K, F, Cl, Ca may be contained.
The magnetic film thickness is used in the range of 0.005 to 5 μm, but 0.5 μm or less is preferable for high density recording.

磁性膜を形成する基体としては、通常アルミ合金、
銅、黄銅、リン青銅、鉄、チタン等の金属基板が用いら
れるが、適当な活性化処理によりガラス、樹脂等の非金
属基板ないしは金属と非金属の複合材料からなる基板に
も適用できる。The base material for forming the magnetic film is usually an aluminum alloy,
A metal substrate made of copper, brass, phosphor bronze, iron, titanium or the like is used, but it can also be applied to a non-metal substrate such as glass or resin by a suitable activation treatment or a substrate made of a composite material of metal and non-metal.

本発明の主要な目的は、優れた特性の垂直磁気記録媒
体を提供することにある。従って、種々の用途に用いる
ために磁性膜の上下の層について種々の材料の付加的層
を加えた構成の磁気記録体に対しても本発明を適用し得
ることは明らかである。この様な構成の磁気記録体とし
て例えば、良好な研磨性と極少欠陥面を得るため基体を
無電解めっき法、電気めっき法、蒸着法、スパッタ法等
によって作製されたニッケル−リン、ニッケル−銅−リ
ン、銅、スズ、銅−スズ等の層や陽極酸化法によって作
製されたアルマイト層などの中間層で被覆したもの、欠
陥減少の目的で中間層を多層化したもの、磁性膜の磁気
特性を制御する目的で磁性膜の下にクロム、モリブデ
ン、チタン、金、銀、白金、パラジウム等の下地層やパ
ラジウム、スズ−パラジウム、金等の前処理層を形成し
たもの、垂直磁気記録において記録再生感度や記録密度
を高めるため磁性膜の下にパーマロイ、ニッケル−鉄−
リンなどの軟磁性層やニッケル−タングステン−リン、
ニッケル−モリブデン−リンなとの薄膜を形成したも
の、耐候性、耐久性を与えるために磁性膜の上に保護
層、潤滑層を形成したものなどが挙げられる。The main object of the present invention is to provide a perpendicular magnetic recording medium having excellent characteristics. Therefore, it is clear that the present invention can be applied to a magnetic recording body having a structure in which additional layers of various materials are added to the layers above and below the magnetic film for use in various applications. As a magnetic recording medium having such a structure, for example, nickel-phosphorus, nickel-copper prepared by electroless plating, electroplating, vapor deposition, sputtering or the like as a substrate is used to obtain good polishability and minimal defect surface. -Phosphorus, copper, tin, copper-tin, etc. layers or those coated with an intermediate layer such as an alumite layer produced by anodization, multilayered intermediate layers for the purpose of reducing defects, magnetic properties of magnetic films Recording under perpendicular magnetic recording with an underlayer of chromium, molybdenum, titanium, gold, silver, platinum, palladium, etc. or a pretreatment layer of palladium, tin-palladium, gold etc. formed under the magnetic film for the purpose of controlling Permalloy, nickel-iron-under the magnetic film to increase the reproduction sensitivity and recording density
Soft magnetic layer such as phosphorus, nickel-tungsten-phosphorus,
Examples thereof include those in which a thin film of nickel-molybdenum-phosphorus is formed, those in which a protective layer and a lubricating layer are formed on the magnetic film in order to provide weather resistance and durability.

本発明において用いられる無電解めっき浴は、金属イ
オンとして少なくともコバルトイオンおよびニッケルイ
オンを含み、添加剤として少なくとも前記金属イオンの
還元剤を含む水溶液に、前記金属イオンの錯化剤として
少なくともグリコール酸基およびリンゴ酸基を含むこと
を特徴としている。The electroless plating bath used in the present invention contains at least a cobalt ion and a nickel ion as metal ions and an aqueous solution containing at least a reducing agent for the metal ion as an additive, and at least a glycolic acid group as a complexing agent for the metal ion. And containing a malic acid group.

本発明において用いられる無電解めっき浴の主要成分
としては、金属イオンとして少なくともコバルトイオン
およびニッケルイオンを含み、添加剤として少なくとも
前記金属イオンの還元剤、前記金属イオンの錯化剤を含
む水溶液において、前記金属イオンの錯化剤として少な
くともグリコール酸基およびリンゴ酸基を含むが、本発
明の目的、効果を損なわない範囲において、pH緩衝剤、
光沢剤、平滑剤、励起剤、ピンホール防止剤、界面活性
剤等の添加剤が用いられることがある。The main components of the electroless plating bath used in the present invention include at least cobalt ions and nickel ions as metal ions, in an aqueous solution containing at least the reducing agent of the metal ions as an additive, and a complexing agent of the metal ions, Although containing at least a glycolic acid group and a malic acid group as the metal ion complexing agent, the purpose of the present invention, in the range that does not impair the effect, a pH buffering agent,
Additives such as brighteners, leveling agents, stimulants, pinhole inhibitors, and surfactants may be used.

コバルトイオン、ニッケルイオンは、、コバルトまた
はニッケルの硫酸塩、塩化塩、酢酸塩などの可溶性塩を
無電解メッキ浴中に溶解することによって供給される。
コバルトイオンの濃度は、0.001〜1mol/lの範囲が用い
られるが、好ましくは0.01〜0.15mol/lの範囲である。
ニッケルイオンの濃度は、0.0005〜1mol/lの範囲が用い
られるが、好ましくは0.002〜0.2mol/lの範囲である。
本発明において用いられる金属イオンとしては、コバル
ト、ニッケルを主成分とするが、少量の、Be,Mg,Al,Ru,
Si,Fe,Sr,Y,Zr,Nb,Cd,In,Sb,Ta,Ir,Hg,Tl,Nb,Gd,Tb,Ti,
V,Cr,Cu,Zn,Ga,Ge,Mn,W,Mo,Rh,Pd,Ag,Au,Pt,Sn,Te,Ba,C
e,Sm,Os,Pb,Re,Bi等のイオンが含まれていてもよく、こ
れらのイオンはそれぞれの可溶性塩によって供給され
る。Cobalt ions and nickel ions are supplied by dissolving a soluble salt such as a sulfate salt, a chloride salt, or an acetate salt of cobalt or nickel in an electroless plating bath.
The cobalt ion concentration used is in the range of 0.001 to 1 mol / l, preferably 0.01 to 0.15 mol / l.
The concentration of nickel ions is used in the range of 0.0005 to 1 mol / l, preferably 0.002 to 0.2 mol / l.
The metal ions used in the present invention, cobalt, nickel as a main component, a small amount of Be, Mg, Al, Ru,
Si, Fe, Sr, Y, Zr, Nb, Cd, In, Sb, Ta, Ir, Hg, Tl, Nb, Gd, Tb, Ti,
V, Cr, Cu, Zn, Ga, Ge, Mn, W, Mo, Rh, Pd, Ag, Au, Pt, Sn, Te, Ba, C
Ions such as e, Sm, Os, Pb, Re and Bi may be contained, and these ions are supplied by the respective soluble salts.

還元剤としては、次亜リン酸または次亜リン酸塩、の
１種または２種以上が、0.005〜0.9mol/l、好ましくは
0.05〜0.3mol/lの範囲で用いられる。As the reducing agent, one or more of hypophosphorous acid or hypophosphite is 0.005 to 0.9 mol / l, preferably
It is used in the range of 0.05 to 0.3 mol / l.

錯化剤としては、グリコール酸やグリコール酸ナトリ
ウム、グリコール酸エチル、グリコール酸メチル、グリ
コール酸コバルト、グリコール酸ニッケルなどのグリコ
ール酸基およびリンゴ酸やリンゴ酸ナトリウム、リンゴ
酸カリウム、リンゴ酸ジエチルなとのリンゴ酸基が使用
される。リンゴ酸基は、グリコール酸またはグリコール
酸の可溶性塩が0.001〜3mol/lの範囲で用いられるが、
0.1〜1.75mol/lの範囲が好ましい。リンゴ酸基は、リン
ゴ酸またはリンゴ酸の可溶性塩が0.001〜1mol/lの範囲
で用いられるが、0.1〜0.75mol/lの範囲が好ましい。Examples of complexing agents include glycolic acid groups such as glycolic acid, sodium glycolate, ethyl glycolate, methyl glycolate, cobalt glycolate, nickel glycolate, malic acid, sodium malate, potassium malate, and diethyl malate. Malic acid groups are used. Malic acid group, glycolic acid or a soluble salt of glycolic acid is used in the range of 0.001 ~ 3 mol / l,
The range of 0.1 to 1.75 mol / l is preferred. As the malic acid group, malic acid or a soluble salt of malic acid is used in the range of 0.001 to 1 mol / l, preferably 0.1 to 0.75 mol / l.

また錯化剤としてほかに、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、シュウ酸、
グルタル酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イ
タン酸、トリカルバリ酸、コハク酸、マロン酸、酒石
酸、チオグリコール酸、乳酸、β−ヒドロキシプロピオ
ン酸、クエン酸、イソクエン酸、アロイサクエン酸、ピ
ルビン酸、オキサル酢酸、ジグリコール酸、チオジグリ
コール酸、メルカプトコハク酸、ジメルカプトコハク
酸、安息香酸、マンデル酸、フタル酸、サリチル酸、ア
スコルビン酸、スルホサリチル酸、トロポロン、３−メ
チルトロポロン、タイロン等のカルボン酸、エチンジア
ミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミ
ン、ピリジン等のアミンおよびその誘導体、イミノジ酢
酸、イミノジプロピオン酸、ニトリロトリ酢酸、ニトリ
ロトリプロピオン酸、エチレンジアミンジ酢酸、エチレ
ンジアミンジテトラ酢酸、エチレンジアミンジテトラプ
ロピオン酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸等のアミ
ノポリカルボン酸、アラニン、ザルコシン、バリン、ノ
ルロイシン、チロシン、システイン、グルタミン酸、グ
リシン、アスパラギン酸、アスパラギン、ヒスチジン等
のアミン酸、グルコン酸、アロン酸、イドン酸、ガラク
トン酸、グロン酸、タロン酸、マンノン酸等のヘキサン
酸、ピロリン酸などの無機酸またはそれらの可溶性塩の
１種または２種以上の組合せが用いられることがある。
これらの錯化剤の濃度は、0.0001〜3.0mol/lの範囲が用
いられ、0.1〜1.5mol/lの範囲か好ましい。In addition, as a complexing agent, formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isovaleric acid, oxalic acid,
Glutaric acid, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itanic acid, tricarbalic acid, succinic acid, malonic acid, tartaric acid, thioglycolic acid, lactic acid, β-hydroxypropionic acid, citric acid, isocitric acid, aloysacetic acid, pyruvic acid, Carboxylic acids such as oxalacetic acid, diglycolic acid, thiodiglycolic acid, mercaptosuccinic acid, dimercaptosuccinic acid, benzoic acid, mandelic acid, phthalic acid, salicylic acid, ascorbic acid, sulfosalicylic acid, tropolone, 3-methyltropolone and Tyrone. , Amines such as ethynediamine, diethylenetriamine, triethylenetetraamine and pyridine and derivatives thereof, iminodiacetic acid, iminodipropionic acid, nitrilotriacetic acid, nitrilotriepropionic acid, ethylenediaminediacetic acid, ethylenediamineditetravine , Ethylenediamineditetrapropionic acid, aminopolycarboxylic acids such as diethylenetriaminepentaacetic acid, alanine, sarcosine, valine, norleucine, tyrosine, cysteine, glutamic acid, glycine, aspartic acid, asparagine, histidine and other amine acids, gluconic acid, alloic acid, One or a combination of two or more of inorganic acids such as hexanoic acid such as idonic acid, galactonic acid, gulonic acid, taronic acid and mannonic acid, pyrophosphoric acid or their soluble salts may be used.
The concentration of these complexing agents is in the range of 0.0001 to 3.0 mol / l, preferably in the range of 0.1 to 1.5 mol / l.

pH緩衝剤としてはアンモニウム塩、炭酸塩、有機酸塩
などが使用され、硫酸アンモニウム、塩化アンモニウ
ム、ホウ酸等を用いることが好ましい。濃度範囲は0.01
〜3mol/l、好ましくは0.03〜1mol/lが用いられる。Ammonium salts, carbonates, organic acid salts and the like are used as the pH buffering agent, and ammonium sulfate, ammonium chloride, boric acid and the like are preferably used. Concentration range is 0.01
~ 3 mol / l, preferably 0.03 to 1 mol / l is used.

pH調節剤としては、アンモニアまたは苛性アルカリと
してNaOH,LiOH,KOH,RbOH,CsOH,FrOH,Be（OH）₂,Mg（O
H）₂,Ca（OH）₂,Sr（OH）₂,Ba（OH）₂,Re（OH）_２等の
金属の水酸化物が、１種または２種以上を組み合せて用
いられる。またアンモニアと苛性アルカリを併用するこ
とも行われる。As a pH adjuster, ammonia, caustic alkali as NaOH, LiOH, KOH, RbOH, CsOH, FrOH, Be (OH) ₂ , Mg (O
H) ₂ , Ca (OH) ₂ , Sr (OH) ₂ , Ba (OH) ₂ , Re (OH) _{2 and} other metal hydroxides are used alone or in combination of two or more. It is also possible to use ammonia and caustic together.

通常、pH調節剤を加えない建浴前のめっき液はほぼ液
は中性ないし酸性域にあり、前記水酸化物を加えてアル
カリ性にpH調節される。所要のpHを上回った場合、pH降
下には塩酸、硫酸、酢酸等の酸が用いられる。Usually, the plating solution before the bath without adding a pH adjusting agent is almost in the neutral or acidic range, and the pH is adjusted to alkaline by adding the hydroxide. Acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, and acetic acid are used to lower the pH when the pH exceeds the required level.

（作用） 垂直記録媒体を作製するためのめっき浴として、無電
解CoNiMnRePめっき浴よりも浴系の単純化された無電解C
oNiRePめっき浴のほうが好ましい。Mnを使用することな
く、hcpCo（六方晶）のｃ軸を基板に垂直配向させ、垂
直記録媒体として優れた特性を得るため従来はタルトロ
ン酸という特殊な錯化剤が使用されていた。これは、タ
ルトロン酸がCoのｃ軸垂直配向のための好ましい錯体状
態を維持する上で重要な役割を果たしていたと考えられ
ている。そこで適切な錯化剤の組合せによっては、Mnの
ほかにReを使用することも必要なくなるのではないかと
考えられた。しかし、錯化剤と析出合金膜の配向性の関
係が明らかとなっていないため、本発明に至るまで、実
験的に広範囲に鋭意検討した結果、各種の錯化剤の中で
グリコール酸基とリンゴ酸基の組合せがこの目的に適用
できることを見出した。現在のところ錯化剤と膜構造・
磁気特性との関係が理論的に解明されていないため、グ
リコール酸基およびリンゴ酸基の作用を十分説明するに
至らない。しかし、発明者等が好適浴を発見した後に結
果から考察してみると、グリコール酸HOCH₂COOHは、磁
性膜のCo結晶を垂直配向させる作用のあるタルトロン酸
CH（OH）（COOH）_２における１つのCOOHがＨに変わった
のみであって構造が近い。リンゴ酸も（CH）_２（OH）_２
（COOH）_２の構造をもち、タルトロン酸のCHとOHがもう
１つずつ増えたのみで構造が近い。また、いずれもOH基
とCOOH基をともに有するカルボン酸である。このような
錯化剤の構造的な特質が本作用に起因してるのではない
かと推察される。(Function) As a plating bath for producing a perpendicular recording medium, a simplified electroless C of a bath system is used as compared with an electroless CoNiMnReP plating bath.
oNiReP plating bath is preferred. Conventionally, a special complexing agent called tartronic acid has been used in order to orient the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) vertically to the substrate without using Mn and obtain excellent characteristics as a perpendicular recording medium. It is believed that this is because tartronic acid played an important role in maintaining a favorable complex state for the c-axis vertical orientation of Co. Therefore, it was thought that it would not be necessary to use Re in addition to Mn depending on the combination of appropriate complexing agents. However, since the relationship between the orientation of the complexing agent and the precipitated alloy film has not been clarified, until the present invention, as a result of extensive and extensive experimental studies, it was found that glycolic acid groups and It has been found that a combination of malic acid groups can be applied for this purpose. Currently complexing agents and membrane structures
Since the relationship with magnetic properties has not been theoretically elucidated, the effects of glycolic acid groups and malic acid groups cannot be fully explained. However, when the present inventors discovered a suitable bath and examined it from the results, glycolic acid HOCH ₂ COOH was tartronic acid, which has the action of vertically aligning the Co crystals of the magnetic film.
Only one COOH in CH (OH) (COOH) ₂ is changed to H and the structures are close. Malic acid is also (CH) ₂ (OH) ₂
It has a structure of (COOH) ₂ and the structure is similar only with one more CH and OH of tartronic acid. Further, both are carboxylic acids having both an OH group and a COOH group. It is speculated that such structural characteristics of the complexing agent may be due to this action.

本発明は、このような知見を得たことによりもたらさ
れたものである。The present invention has been made by obtaining such knowledge.

（実施例） 次に具体的に実施例および比較例により本発明を説明
する。(Example) Next, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

実施例１ アルミ合金基板上に非磁性Ni−Ｐ層をめっきし、表面
を鏡面研磨した後、その上に下記のめっき浴を用いて膜
圧0.05〜1.0μｍのCo−Ni−Ｐ合金磁性膜を形成した。Example 1 A non-magnetic Ni-P layer was plated on an aluminum alloy substrate, the surface was mirror-polished, and a Co-Ni-P alloy magnetic film having a film pressure of 0.05 to 1.0 μm was formed on the surface by mirror plating. Was formed.

めっき浴（１） 浴組成 硫酸コバルト 0.06mol/l 硫酸ニッケル 0.16mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.2mol/l 硫酸アンモニウム 0.5mol/l 酒石酸ナトリウム 0.2mol/l マロン酸ナトリウム 0.75mol/l リンゴ酸ナトリウム 0.01mol/l グリコール酸 1.5mol/l めっき条件 浴晶80℃ めっき浴のpH 8.7（室温にてアンモニウム水でpH調
節） こうして得られた酸化膜の磁気特性を振動試料型磁力
計および磁気トルク計を用いて測定した。この磁性膜の
MHループは、垂直ループが面内ループを囲んだ垂直磁気
異方性膜特有の形状であった。Hkは5.6kOeの大きな値を
有していた。磁気異方性エネルギー測定より得られたト
ルク曲線は、全て明瞭な一軸異方性を示し正の異方性エ
ネルギーKu値を有していた（例えば膜厚0.25μｍにおい
て7.0×10⁴erg/cc）。Plating bath (1) Bath composition Cobalt sulfate 0.06mol / l Nickel sulfate 0.16mol / l Sodium hypophosphite 0.2mol / l Ammonium sulfate 0.5mol / l Sodium tartrate 0.2mol / l Sodium malonate 0.75mol / l Sodium malate 0.01 mol / l Glycolic acid 1.5mol / l Plating condition Bath crystal 80 ℃ Plating bath pH 8.7 (pH adjustment with ammonium water at room temperature) Magnetic properties of the oxide film thus obtained were measured by a vibrating sample magnetometer and a magnetic torque meter. It was measured using. Of this magnetic film
The MH loop had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropic film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop. Hk had a large value of 5.6 kOe. The torque curves obtained from the magnetic anisotropy energy measurements all showed clear uniaxial anisotropy and had a positive anisotropy energy Ku value (eg, 7.0 × 10 ⁴ erg / cc at a film thickness of 0.25 μm). ).

次に、こうのような特性を示す原因と考えられる磁性
膜の構造について、Ｘ線回折および電子線回折より検討
した。Ｘ線回折では、hcpCo（六方晶）のｃ軸が基板面
に垂直配向していることを示す（002）面からの回折に
よる鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回折
に相当するピークは認められなかった。また、電子線回
折結果からもｃ軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造か
ら構成されており、膜厚0.05μｍという薄膜時より高い
配向性を示していることが明らかとなった。Next, the structure of the magnetic film, which is considered to be the cause of exhibiting such characteristics, was examined by X-ray diffraction and electron beam diffraction. In X-ray diffraction, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane, which indicates that the c-axis of hcpCo (hexagonal crystal) is oriented perpendicular to the substrate surface, are recognized, which corresponds to diffraction from other lattice planes. No peak was observed. The electron beam diffraction results also revealed that the hcpCo structure had a c-axis oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited a higher orientation than the thin film having a film thickness of 0.05 μm.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は垂直磁気異方性
を示し、垂直記録媒体として好ましい特性を有すること
が明かとなった。That is, it was revealed that the magnetic film obtained in this example has perpendicular magnetic anisotropy and has preferable characteristics as a perpendicular recording medium.

実施例２ 実施例１と同様の手順で磁性膜の作製を行ったが、本
実施例ではめっき浴（１）においてグリコール酸の濃度
を０〜2mol/lの範囲で変化させてCoNiP合金磁性膜を形
成した。Example 2 A magnetic film was produced by the same procedure as in Example 1, but in this example, the concentration of glycolic acid in the plating bath (1) was changed within the range of 0 to 2 mol / l, and the CoNiP alloy magnetic film was formed. Was formed.

こうして得られた磁性膜の磁気特性（飽和磁化Ms
（⊥）、異方性磁界Hk、保磁力Hc（）、保磁力Hc
（⊥））を測定した結果を表１に示す。Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (saturation magnetization Ms
(⊥), anisotropic magnetic field Hk, coercive force Hc (), coercive force Hc
The results of measuring (⊥)) are shown in Table 1.

グリコール酸濃度が0mol/lの場合は、Hkは0.8kOeであ
り、磁性膜のMHグループ、トルク測定からも面内に磁化
容易な膜であった。グリコール酸を0.05mol/l添加する
と、Hkは2.0kOeとなり、磁性膜のMHループ、トルク測定
からも垂直磁化容易な膜へ変化する傾向が認められた。
グリコール酸濃度の増加とともにHkはさらに増加した垂
直磁化膜へと進む。グリコール酸濃度が1.25mol/lでHk
が最大置6.0kOeに達し、それ以上の濃度はHkがやや減少
する。また、表に示すように、本発明のめっき浴では垂
直磁気異方性が増加してもMsが急減することなく、むし
ろやや増加する傾向にあり比較的大きな値を維持してい
る。Hc（⊥）、Hc（）については、Hkが2.0kOe以上の
膜において、かなり広い範囲で変化させることができ
る。グリコール酸濃度が0.3〜1.75mol/lの範囲におい
て、得られる磁性膜のMHグループは、垂直ループが面内
ループを囲んだ垂直磁気異方性膜特有の形状であった。
これらの磁性膜のＸ線回折では、（002）面からの回折
による鋭いピークのみが認められ、他の格子面からの回
折に相当するピークは認められなかった。また、電子線
回折結果からもｃ軸が基板面に垂直配向したhcpCo構造
から構成されており、高い結晶性と配向性を示している
ことが明らかとなった。 When the concentration of glycolic acid was 0 mol / l, Hk was 0.8 kOe, and the film was easy to in-plane magnetize from the MH group of the magnetic film and the torque measurement. When glycolic acid was added in an amount of 0.05 mol / l, Hk became 2.0 kOe, and it was confirmed that the MH loop of the magnetic film and the tendency to change to a film in which perpendicular magnetization was easy were observed from the torque measurement.
Hk proceeds to the perpendicularly magnetized film in which Hk is further increased as the concentration of glycolic acid increases. Hk at a glycolic acid concentration of 1.25 mol / l
Reaches a maximum of 6.0 kOe, and Hk decreases a little above that. Further, as shown in the table, in the plating bath of the present invention, even if the perpendicular magnetic anisotropy increases, Ms does not sharply decrease, but rather tends to slightly increase and maintains a relatively large value. Hc (⊥) and Hc () can be changed in a fairly wide range in the film where Hk is 2.0 kOe or more. When the concentration of glycolic acid was in the range of 0.3 to 1.75 mol / l, the MH group of the obtained magnetic film had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film in which the vertical loop surrounded the in-plane loop.
In X-ray diffraction of these magnetic films, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane were observed, and peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were not observed. The electron beam diffraction results also revealed that the c-axis was composed of the hcpCo structure oriented perpendicularly to the substrate surface and exhibited high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、垂直磁気異方
性を示し、垂直記録媒体として好ましい諸特性を有する
ほか、グリコール酸濃度を変化することによって磁気特
性を制御しうることが明らかとなった。That is, it was clarified that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy, has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium, and that the magnetic characteristics can be controlled by changing the concentration of glycolic acid. It was

実施例３ 実施例１と同様の手順で磁性膜の作製を行ったが、本
実施例ではめっき浴（１）においてグリコール酸を1mol
/lとし、リンゴ酸ナトリウムの濃度を０〜0.2mol/lの範
囲で変化させてはCoNiP合金磁性膜を形成した。Example 3 A magnetic film was prepared by the same procedure as in Example 1, but 1 mol of glycolic acid was added in the plating bath (1) in this example.
/ l and the concentration of sodium malate was changed in the range of 0 to 0.2 mol / l to form a CoNiP alloy magnetic film.

こうして得られた磁性膜の磁気特性（飽和磁化Ms
（⊥）、異方性磁界Hk、保磁力Hc（）、保磁力Hc
（⊥））測定した結果を表２に示す。Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (saturation magnetization Ms
(⊥), anisotropic magnetic field Hk, coercive force Hc (), coercive force Hc
(⊥)) The measured results are shown in Table 2.

リンゴ酸ナトリウム濃度が0mol/lの場合、Hkは0.7kOe
であり、磁性膜のMHループ、トルク測定からも面内に磁
化容易な膜であった。リンゴ酸ナトリウムを0.005mol/l
添加すると、Hkは2.0kOeとなり、磁性膜のMHループ、ト
ルク測定からも垂直磁化容易な膜へ変化する傾向が認め
られた。リンゴ酸ナトリウムの濃度の増加とともにHkは
さらに増加し垂直磁化膜へと進む。リンゴ酸ナトリウム
濃度が0.01mol/lでHkが最大値5.8kOeに達し、それ維持
用の濃度はHkが徐々に減少する。また、表に示すよう
に、本発明のめっき浴では垂直磁気異方性が増加しても
Mgが急減することがなく、比較的大きな値を維持してい
る。Hc（⊥）、Hc（）については、Hkが2.0kOe以上の
膜において、かなり広い範囲で変化させることができ
る。リンゴ酸ナトリウム濃度が0.01〜0.15mol/lの範囲
において、得られる磁性膜のMHループは、垂直ループが
面内ループを囲んだ垂直磁気異方性膜特有の形状であっ
た。これらの磁性膜のＸ線回折では、（002）面からの
回折による鋭いピークのみが認められ、他の格子面から
の回折に相当するピークは認められなかった。また、電
子線回折結果からもｃ軸が基板面に垂直配向したhcpCo
構造から構成されており、高い結晶性と配向性を示して
いることが明らかとなった。 When sodium malate concentration is 0 mol / l, Hk is 0.7 kOe
Therefore, the MH loop of the magnetic film and the film could be easily magnetized in-plane according to the torque measurement. 0.005 mol / l sodium malate
When added, Hk became 2.0 kOe, and it was confirmed that the MH loop of the magnetic film and the tendency to change to a film in which perpendicular magnetization was easy were observed by torque measurement. As the concentration of sodium malate increases, Hk further increases and progresses to the perpendicular magnetic film. When the sodium malate concentration is 0.01 mol / l, Hk reaches the maximum value of 5.8 kOe, and the Hk concentration is gradually decreased. Further, as shown in the table, even if the perpendicular magnetic anisotropy is increased in the plating bath of the present invention,
The Mg does not decrease sharply and remains relatively large. Hc (⊥) and Hc () can be changed in a fairly wide range in the film where Hk is 2.0 kOe or more. The MH loop of the obtained magnetic film had a shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film in which the in-plane loop was surrounded by the perpendicular loop when the sodium malate concentration was in the range of 0.01 to 0.15 mol / l. In X-ray diffraction of these magnetic films, only sharp peaks due to diffraction from the (002) plane were observed, and peaks corresponding to diffraction from other lattice planes were not observed. The electron diffraction results also show that hcpCo with the c-axis oriented vertically to the substrate surface.
It has been revealed that it is composed of a structure and exhibits high crystallinity and orientation.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は、垂直磁気異方
性を示し、垂直記録媒体として好ましい諸特性を有する
ほか、リンゴ酸濃度を変化することによって磁気特性を
制御しうることが明らかとなった 実施例４ 実施例１と同様の手順で磁性膜の作製を行ったが、本
実施例では下記のめっき浴を用いてCoNiP合金磁性膜を
形成した。That is, it was revealed that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy, has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium, and that the magnetic characteristics can be controlled by changing the malic acid concentration. Example 4 A magnetic film was prepared in the same procedure as in Example 1, but in this example, a CoNiP alloy magnetic film was formed using the following plating bath.

めっき浴（２） 浴組成 硫酸コバルト 0.05mol/l 硫酸ニッケル 0.05〜0.2mol/l 次亜リン酸ナトリウム 0.15mol/l 硫酸アンモニウム 0.45mol/l グルコン酸 0.1mol/l マロン酸ナトリウム 0.85mol/l リンゴ酸ナトリウム 0.01mol/l グリコール酸ナトリウム 1.1mol/l めっき条件 浴温 82℃ めっき浴のpH 8.9（室温にてアンモニア水でpH調節） こうして得られた磁性膜の磁気特性（飽和磁化Ms
（⊥）、異方性磁界Hk、保磁力Hc（⊥）、保磁力Hc
（）を測定した結果を表３に示す。Plating bath (2) Bath composition Cobalt sulfate 0.05mol / l Nickel sulfate 0.05-0.2mol / l Sodium hypophosphite 0.15mol / l Ammonium sulfate 0.45mol / l Gluconic acid 0.1mol / l Sodium malonate 0.85mol / l Malic acid Sodium 0.01mol / l Sodium glycolate 1.1mol / l Plating condition Bath temperature 82 ℃ Plating bath pH 8.9 (pH adjusted with ammonia water at room temperature) Magnetic properties of the magnetic film thus obtained (saturation magnetization Ms
(⊥), anisotropic magnetic field Hk, coercive force Hc (⊥), coercive force Hc
The results of measuring () are shown in Table 3.

本実施例においては、硫酸ニッケル濃度の増加により
垂直磁化容易な膜へ変化する傾向が認められた。硫酸ニ
ッケル0.1mol/l以上の濃度から2.0kOe以上のHk値が得ら
れた。硫酸ニッケル0.14mol/lの濃度から大きなHk値が
得られ、垂直ループが面内ループを囲んだ垂直磁気異方
性膜特有の形状を示した。本実施例では、Ms（⊥）、Hc
（⊥）、Hc（）値を硫酸ニッケル濃度によって変化さ
せることができた。また、Ｘ線回折、電子線回折結果か
ら、硫酸ニッケル0.1mol/l以上の濃度ではｃ軸が基板面
に垂直配向したhcpCo構造から構成されており、高い結
晶性と配向性を示していることが明らかとなった。 In this example, it was recognized that the film was changed to a film in which perpendicular magnetization was easy with an increase in the concentration of nickel sulfate. A Hk value of 2.0 kOe or more was obtained from a concentration of nickel sulfate of 0.1 mol / l or more. A large Hk value was obtained from the concentration of nickel sulfate 0.14 mol / l, and the perpendicular loop showed the shape peculiar to the perpendicular magnetic anisotropy film surrounding the in-plane loop. In this embodiment, Ms (⊥), Hc
(⊥) and Hc () values could be changed by the nickel sulfate concentration. In addition, from the results of X-ray diffraction and electron diffraction, at a concentration of 0.1 mol / l or more of nickel sulfate, the c-axis is composed of an hcpCo structure that is vertically aligned with the substrate surface, and exhibits high crystallinity and orientation. Became clear.

すなわち本実施例で得られた磁性膜は垂直磁気異方性
を示し、垂直記録媒体として好ましい諸特性を有するほ
か、硫酸ニッケル濃度によってMs値を変化しうることが
明らかとなった。That is, it has been clarified that the magnetic film obtained in this example exhibits perpendicular magnetic anisotropy, has various characteristics preferable as a perpendicular recording medium, and can change the Ms value depending on the nickel sulfate concentration.

また、以上の実施例で用いた無電解めっき浴は、従来
のW,MnないしはReを含む４元あるいは５元の多元合金無
電解めっき浴に比較して浴管理が容易で著しく安定性に
優れ、垂直記録媒体として優れた特性を有する磁性膜を
再現性良く作製することができた。同一容量のめっき浴
から多数の媒体を作製する場合、2.0kOe以上の異方性磁
界Hk値が得られるめっき当初から2.0kOe以下の値になる
までのめっき処理量を浴寿命すると、本発明により無電
解めっき浴の浴寿命は従来の多元合金無電解めっき浴に
比較して10倍以上に増加していた。Further, the electroless plating bath used in the above examples is easier to manage and has excellent stability as compared with the conventional four-element or five-element multi-element alloy electroless plating bath containing W, Mn or Re. A magnetic film having excellent characteristics as a perpendicular recording medium could be produced with good reproducibility. When producing a large number of media from a plating bath of the same capacity, when the plating treatment amount from the initial plating at which an anisotropic magnetic field Hk value of 2.0 kOe or more is obtained to a value of 2.0 kOe or less, the bath life, according to the present invention, The life of the electroless plating bath was 10 times longer than that of the conventional multi-component alloy electroless plating bath.

（発明の効果） 以上、実施例で示されたように、本発明によれば、構
成成分として少なくともコバルト、ニッケルおよびリン
を含有し、その結晶構造が六方晶をなす磁性膜におい
て、六方晶のＣ軸が主として膜面に垂直な方向に配向
し、2.0kOe以上の垂直異方性磁界Hkを有している垂直磁
気記録に適する磁気記録媒体が得られる。また、本発明
による磁気記録媒体の製造方法によれば、金属イオンと
して少なくともコバルトイオンおよびニッケルイオンを
含み、添加剤として少なくとも前記金属イオンの還元剤
を含み、前記金属イオンの錯化剤として少なくともグリ
コール酸基およびリンゴ酸基を含む無電解めっき浴を用
いることにより、めっき浴の維持管理が容易となり、垂
直記録媒体として優れた特性を有する磁性膜を安定に多
数作製することができる。(Effects of the Invention) As described above in the embodiments, according to the present invention, in a magnetic film containing at least cobalt, nickel and phosphorus as constituents and having a hexagonal crystal structure, a hexagonal crystal is used. It is possible to obtain a magnetic recording medium suitable for perpendicular magnetic recording in which the C-axis is oriented mainly in the direction perpendicular to the film surface and has a perpendicular anisotropic magnetic field Hk of 2.0 kOe or more. According to the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, at least cobalt ions and nickel ions are contained as metal ions, at least a reducing agent for the metal ions is contained as an additive, and at least glycol is used as a complexing agent for the metal ions. By using an electroless plating bath containing an acid group and a malic acid group, maintenance of the plating bath becomes easy, and a large number of magnetic films having excellent characteristics as a perpendicular recording medium can be stably produced.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項１】主成分としてコバルト、ニッケルおよびリ
ンを含有し、その結晶構造が六方晶をなす磁性膜であっ
て、六方晶のＣ軸が主として膜面に垂直な方向に配向
し、2.0kOe以上の垂直異方性磁界Hkを有していることを
特徴とする磁気記録媒体。1. A magnetic film containing cobalt, nickel and phosphorus as main components and having a crystal structure of hexagonal crystal, in which the C-axis of the hexagonal crystal is oriented mainly in a direction perpendicular to the film surface, and 2.0 kOe A magnetic recording medium having the above perpendicular anisotropy magnetic field Hk. 【請求項２】金属イオンとして少なくともコバルトイオ
ンおよびニッケルイオンを含み、添加剤として少なくと
もリンを含む前記金属イオンの還元剤を含み、前記金属
イオンの錯化剤として少なくともグリコール酸基および
リンゴ酸基を含む水溶液を用いて無電解めっき法により
磁性膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。2. A metal ion containing at least cobalt ion and nickel ion, and an additive containing at least phosphorus reducing agent for the metal ion, and a complexing agent for the metal ion containing at least a glycolic acid group and a malic acid group. A method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that a magnetic film is formed by an electroless plating method using an aqueous solution containing the magnetic film.