JP2503485B2 - 焦点板及びその製造方法 - Google Patents
焦点板及びその製造方法Info
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- JP2503485B2 JP2503485B2 JP5600587A JP5600587A JP2503485B2 JP 2503485 B2 JP2503485 B2 JP 2503485B2 JP 5600587 A JP5600587 A JP 5600587A JP 5600587 A JP5600587 A JP 5600587A JP 2503485 B2 JP2503485 B2 JP 2503485B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はカメラ等のピント合わせ用の焦点板及び焦点
板の製造方法に関する。
板の製造方法に関する。
従来の一眼レフカメラ用の焦点板としてはガラス等の
母材を砂掛けにより粗面とし、これから金型をとってプ
ラスチック材料の上にＹの凸凹を転写し、これを焦点板
として使用するものが公知である。又砂掛け粗面をエッ
チング等により加工して鋭角な部分をなくし、拡散特性
を改善としたものが特開昭58−60642により提案されて
いる。
母材を砂掛けにより粗面とし、これから金型をとってプ
ラスチック材料の上にＹの凸凹を転写し、これを焦点板
として使用するものが公知である。又砂掛け粗面をエッ
チング等により加工して鋭角な部分をなくし、拡散特性
を改善としたものが特開昭58−60642により提案されて
いる。
しかしこれらの焦点板は、ボケ味が自然の点に関して
は評価が高い反面、暗いレンズや明るいレンズでも絞り
を絞り込んだ時にスクリーン面に細かい砂をまいたよう
な粒状性が認められ、見えを悪くするという欠点があっ
た。
は評価が高い反面、暗いレンズや明るいレンズでも絞り
を絞り込んだ時にスクリーン面に細かい砂をまいたよう
な粒状性が認められ、見えを悪くするという欠点があっ
た。
この様な効果は砂掛け面あるいはこれをもとに加工し
た面のミクロな凸凹がその形状（粒径、高さ）、配置に
おいて非常にランダム性が高い為に生じるものである。
た面のミクロな凸凹がその形状（粒径、高さ）、配置に
おいて非常にランダム性が高い為に生じるものである。
他方ミクロな凸凹の形状（粒径、高さ）、配置を完全
にそろえ、マイクロレンズを周期的に配列した構造の焦
点板が特開昭55−90931等により提案されている。
にそろえ、マイクロレンズを周期的に配列した構造の焦
点板が特開昭55−90931等により提案されている。
この様の焦点板は絞りを絞り込んでもスクリーン上に
細かい砂をまいたような粒状性が現われる事がないとい
う優れた特徴を有する反面、その周期構造のゆえ回折光
の方向が回折の次数に対応した特定方向に限定される
為、多線ボケを生じる等ボケ味が自然でなくきたないと
いう重大な欠点を生じていた。
細かい砂をまいたような粒状性が現われる事がないとい
う優れた特徴を有する反面、その周期構造のゆえ回折光
の方向が回折の次数に対応した特定方向に限定される
為、多線ボケを生じる等ボケ味が自然でなくきたないと
いう重大な欠点を生じていた。
上記両タイプの焦点板の欠点を解決するために半規則
的な図形を点在させたレチクルパターンをステップアン
ドリピート法により繰返しながら大面積化してマスク原
板を作り、該マスクパターンを感光材になめらかな凹凸
として記録する方法が特開昭59−208536により開示され
ている。
的な図形を点在させたレチクルパターンをステップアン
ドリピート法により繰返しながら大面積化してマスク原
板を作り、該マスクパターンを感光材になめらかな凹凸
として記録する方法が特開昭59−208536により開示され
ている。
この従来例ではレチクルパターンを形成する各ドット
について、その円の直径・中心位置・中心間隔を乱数を
用いて決定している。しかしこうして作成した原画では
レチクルの継ぎ目が不自然となることを指摘しており、
ステップアンドリピート法によっても境界が目立たない
ようにする方法として、次のような４つの実施例を述べ
ている。
について、その円の直径・中心位置・中心間隔を乱数を
用いて決定している。しかしこうして作成した原画では
レチクルの継ぎ目が不自然となることを指摘しており、
ステップアンドリピート法によっても境界が目立たない
ようにする方法として、次のような４つの実施例を述べ
ている。
第１例は第11図に示すように、レチクルを正方形のマ
スに区分けし、境界で切断されても隣のレチクルと合成
すれば、１つの継がった開口部ができるように構成した
ものであり、第２例は第12図に示すように第１例をもと
にこの正方形をその中心と面積が等しい円で置き換えた
ものであり、第３例は第13図に示すように第２例とその
中心において等しく、直径が20μ、24μ、28μの３種の
円形開口とし、境界線上で隣接する円の切り口を一致さ
せたものである。
スに区分けし、境界で切断されても隣のレチクルと合成
すれば、１つの継がった開口部ができるように構成した
ものであり、第２例は第12図に示すように第１例をもと
にこの正方形をその中心と面積が等しい円で置き換えた
ものであり、第３例は第13図に示すように第２例とその
中心において等しく、直径が20μ、24μ、28μの３種の
円形開口とし、境界線上で隣接する円の切り口を一致さ
せたものである。
又第４例では計算機で発生させた単位パターンを機械
的に並べた第14図の境界領域に存在する不完全円につい
て第15図のように手を加え、境界線を変形させたもので
ある。
的に並べた第14図の境界領域に存在する不完全円につい
て第15図のように手を加え、境界線を変形させたもので
ある。
上述のごとき従来の例においては境界線上での切り口
を一致させる為に手のこんだ処置を行わねばならない欠
点があった。又このようにしたとしても第１、２、３例
においては開口が境界線上で切断されている為に、ステ
ップアンドリピートの際に１μオーダーの不一致は避け
られず、これが不完全円を形成して境界を目立たせる効
果が避け難いものであった。
を一致させる為に手のこんだ処置を行わねばならない欠
点があった。又このようにしたとしても第１、２、３例
においては開口が境界線上で切断されている為に、ステ
ップアンドリピートの際に１μオーダーの不一致は避け
られず、これが不完全円を形成して境界を目立たせる効
果が避け難いものであった。
さらにこの従来例では最初からランダムな分布を仮定
しているので、ランダム性が強く現われすぎて、前記絞
り込みによる砂をまいたような粒状性が洗われやすいと
いう欠点も有している。
しているので、ランダム性が強く現われすぎて、前記絞
り込みによる砂をまいたような粒状性が洗われやすいと
いう欠点も有している。
本発明はこの様な従来の問題点に鑑みてなされたもの
で、境界の目立たないかつ粒状性とボケ味のバランスの
とれた焦点板を提供する事を目的としており、その際の
最適なランダムさに対して数値限定を与えるものであ
る。
で、境界の目立たないかつ粒状性とボケ味のバランスの
とれた焦点板を提供する事を目的としており、その際の
最適なランダムさに対して数値限定を与えるものであ
る。
上記問題点を解決する為に、本発明では２次元的周期
構造を与える格子点を決定し、この格子点の近傍でわず
かのバラツキを持たせた点を決定し、この点を中心にし
て所定の大きさの開口部を形成している。
構造を与える格子点を決定し、この格子点の近傍でわず
かのバラツキを持たせた点を決定し、この点を中心にし
て所定の大きさの開口部を形成している。
これにより従来例のごとき継ぎ目の問題は全く考慮す
る必要が生じなくなり、２次元的周期構造を前提にその
近傍でわずかに周期性を乱しているだけなので砂をまい
た様な粒状性はほとんど現われず、又高次の回折光に関
してはほとんど指向性を消失させる事ができるので、完
全周期の拡散板に対してボケ味の改善された拡散板を得
る事ができる。
る必要が生じなくなり、２次元的周期構造を前提にその
近傍でわずかに周期性を乱しているだけなので砂をまい
た様な粒状性はほとんど現われず、又高次の回折光に関
してはほとんど指向性を消失させる事ができるので、完
全周期の拡散板に対してボケ味の改善された拡散板を得
る事ができる。
第６図〜第10図を用いて、本発明の基本となる構造を
説明する。本発明の原理及び作用を明確にする為にまず
２次元周期構造状にマイクロレンズが並んだ焦点板につ
いて説明する。ここでマイクロレンズとはその曲面が第
６図（ａ）の球状の場合のみでなく、サイン状（ｂ）や
円錐状（ｃ）及びこれらを類似した形状の微小起状を総
称するものである。
説明する。本発明の原理及び作用を明確にする為にまず
２次元周期構造状にマイクロレンズが並んだ焦点板につ
いて説明する。ここでマイクロレンズとはその曲面が第
６図（ａ）の球状の場合のみでなく、サイン状（ｂ）や
円錐状（ｃ）及びこれらを類似した形状の微小起状を総
称するものである。
感光材に形成された濃度分布を表面凸凹に変更する方
法としては感光材としてフォトレジストを使う場合やゼ
ラチン乾板のブリーチ処理による方法が公知であり、こ
こでは詳述しない。
法としては感光材としてフォトレジストを使う場合やゼ
ラチン乾板のブリーチ処理による方法が公知であり、こ
こでは詳述しない。
感光材の濃淡分布形成はマスク原板の転写により行な
うが、その方法としては等倍のマスクを密着して露光し
ても、原板と感光材の間に200μ程度以下の間隙を設
け、回折効果や光源の広がりによりボケを利用して露光
してもよいし、縮小投影露光しても良い。以下では本発
明の論点であるマスク原板の構造を主に話をすすめる。
うが、その方法としては等倍のマスクを密着して露光し
ても、原板と感光材の間に200μ程度以下の間隙を設
け、回折効果や光源の広がりによりボケを利用して露光
してもよいし、縮小投影露光しても良い。以下では本発
明の論点であるマスク原板の構造を主に話をすすめる。
マイクロレンズが周期的に配置された焦点板を作るた
めのマスク原板の例を第７図に示す。第８図は、第７図
のマスク原板により作成された焦点板のマット面の起伏
を示す等高線図を示している。第７図はピッチP0で直径
P0/2程度の開口部が六方格子状に配列された場合を図示
したもので、各開口部の中心座標（Ｘ′,Y′）は次式で
与えられる。
めのマスク原板の例を第７図に示す。第８図は、第７図
のマスク原板により作成された焦点板のマット面の起伏
を示す等高線図を示している。第７図はピッチP0で直径
P0/2程度の開口部が六方格子状に配列された場合を図示
したもので、各開口部の中心座標（Ｘ′,Y′）は次式で
与えられる。
第７図ではＩ＝１、２、３、4;J＝１、２、３、４の
場合を図示している。
場合を図示している。
この様な周期格子におる回折像は第９図のようにな
る。従って点像がボケた場合にはこの様な多点ボケとな
り、線像がボケた場合には多線ボケとなってボケ味が悪
く嫌われる。
る。従って点像がボケた場合にはこの様な多点ボケとな
り、線像がボケた場合には多線ボケとなってボケ味が悪
く嫌われる。
この場合回折光の各次数のなす角Δθ（第９図）は入
射光の波長をλとして となる。第９図でθｘ〜θ30までの角度領域の回折光強
度分布を計算してみたものが第10図である。この様に各
回折次数の間にはほとんど光が来ない。
射光の波長をλとして となる。第９図でθｘ〜θ30までの角度領域の回折光強
度分布を計算してみたものが第10図である。この様に各
回折次数の間にはほとんど光が来ない。
本発明に於いては各開口部の中心座標を式で与えら
れる完全に周期からわずかにずらしている為、第９図や
第10図で示した各回折次数の所以外にも光が散乱され、
ボケ味の見苦しさが大巾に緩和される。
れる完全に周期からわずかにずらしている為、第９図や
第10図で示した各回折次数の所以外にも光が散乱され、
ボケ味の見苦しさが大巾に緩和される。
次に本発明の内容を第１図〜第５図に示す実施例を即
して説明する。第２図は第７図の周期的開口部の中心座
標（Ｘ′,Y′）をプロットしたものである。次にこの座
標点（Ｘ′,Y′）を中心に巾Δの領域（片側Δ/2の広が
り）を設定しこの領域の中で適当にバラツキをもたせて
新しい中心座標点（Ｘ、Ｙ）を決定する。（第３図
（ａ）、（ｂ））。
して説明する。第２図は第７図の周期的開口部の中心座
標（Ｘ′,Y′）をプロットしたものである。次にこの座
標点（Ｘ′,Y′）を中心に巾Δの領域（片側Δ/2の広が
り）を設定しこの領域の中で適当にバラツキをもたせて
新しい中心座標点（Ｘ、Ｙ）を決定する。（第３図
（ａ）、（ｂ））。
適当なバラツキを持たせ方はどのようなものでも良い
が、例えばこの領域内で全くランダムに値を発生させれ
ば良い。
が、例えばこの領域内で全くランダムに値を発生させれ
ば良い。
第１図はΔ/P0＝Ｋとして、Ｋ＝0.25とした場合の例
であり、これに対応するθｘ〜θ30゜までの角度領域に
おける回折光強度分布を計算したものが第４図である。
第10図と第４図を見比べれば、わずかのランダムさを導
入した事により、回折光の指向性が弱まり、ボケ味の悪
さが緩和される本発明の効果が明らかである。
であり、これに対応するθｘ〜θ30゜までの角度領域に
おける回折光強度分布を計算したものが第４図である。
第10図と第４図を見比べれば、わずかのランダムさを導
入した事により、回折光の指向性が弱まり、ボケ味の悪
さが緩和される本発明の効果が明らかである。
次に、ランダムさの最適範囲について述べる。
当然な事ながらＫの値が大きい程ランダムさを導入し
た効果は大きい。しかしＫ0.5ともなると、山と山の
間隔が平均的ピッチＰの半分から1.5倍以上の巾でバラ
ツクことになり、最終的に得られるマット面の起伏は等
高線で表現すると第５図のごとくなる。このような場合
平坦部が増して０次光が増大し拡散性が悪くなると同時
に、深い傾斜部ができで大きな角度の散乱光を増し、絞
り込み時にマット面に砂をまいたようなザラツキ感が現
われやすくなる。
た効果は大きい。しかしＫ0.5ともなると、山と山の
間隔が平均的ピッチＰの半分から1.5倍以上の巾でバラ
ツクことになり、最終的に得られるマット面の起伏は等
高線で表現すると第５図のごとくなる。このような場合
平坦部が増して０次光が増大し拡散性が悪くなると同時
に、深い傾斜部ができで大きな角度の散乱光を増し、絞
り込み時にマット面に砂をまいたようなザラツキ感が現
われやすくなる。
従って本発明の効果が認められる範囲としては 0.1Ｋ0.5 …… である事が必要であり、 0.1Ｋ0.4 …… 程度が好ましい。ザラツキ感が目立たず、ボケ味が改善
される効果が認められる為には 0.2Ｋ0.3 …… 程度である事が最も好ましい。
される効果が認められる為には 0.2Ｋ0.3 …… 程度である事が最も好ましい。
次に焦点板上でのピッチＰの違いによる効果の差につ
いて述べる。
いて述べる。
マスク原板と１対１の縮尺で露光する場合には焦点板
上でのピッチＰは原板のそれP0に等しいが、縮小投影の
場合には両者は等しくない。そこで両者を区別する為焦
点板上でのマイクロレンズのピッチはＰで表わすものと
する。
上でのピッチＰは原板のそれP0に等しいが、縮小投影の
場合には両者は等しくない。そこで両者を区別する為焦
点板上でのマイクロレンズのピッチはＰで表わすものと
する。
前記Ｋ程度のランダムさを導入する事により、ｎ次回
折光における位相差のバラツキの巾ΔφはΔφ＝ｎλ・
Ｋとなる。従って高次の回折光ほどランダムさの影響を
うけて回折のピークが消失してくる。位相差のバラツキ
Δφがλ/2程度以上になるとかなり効果が認められ、Δ
φλでは回折ピークはほとんど消失すると考えられる
ので、Ｋ程度のランダムさの導入でかなり効果が認めら
れるのは ｎ1/（2K） …… 以上の回折次数であり効果が完全となるのは ｎ1/K …… 程度以上の回折次数である。
折光における位相差のバラツキの巾ΔφはΔφ＝ｎλ・
Ｋとなる。従って高次の回折光ほどランダムさの影響を
うけて回折のピークが消失してくる。位相差のバラツキ
Δφがλ/2程度以上になるとかなり効果が認められ、Δ
φλでは回折ピークはほとんど消失すると考えられる
ので、Ｋ程度のランダムさの導入でかなり効果が認めら
れるのは ｎ1/（2K） …… 以上の回折次数であり効果が完全となるのは ｎ1/K …… 程度以上の回折次数である。
Ｋ＝0.25の場合について式を適用するとｎ２とな
る。実際第10図（Ｋ＝０）と第４図（Ｋ＝0.25）を見比
べると、第４図ではｎ２のピークはかなり小さくな
り、それに反比例に第10図ではピークのなかった中間的
な角度領域にも山が現われており回折の指向性が弱まっ
ている。
る。実際第10図（Ｋ＝０）と第４図（Ｋ＝0.25）を見比
べると、第４図ではｎ２のピークはかなり小さくな
り、それに反比例に第10図ではピークのなかった中間的
な角度領域にも山が現われており回折の指向性が弱まっ
ている。
さて開放Ｆ値が４であるような撮影レンズの場合、入
射光束のうち光軸に対して最大の入射角のものは約７゜
である。
射光束のうち光軸に対して最大の入射角のものは約７゜
である。
１次回折光が７゜の方向になるのは、λ＝0.5μの場
合はＰ＝４μとなり従ってＰ＜４μでは本発明のランダ
ム性の効果は全く認められない事になる。Ｆ＝４、Ｋ＝
0.25で本発明の効果が現われ始めるのは２次回折光が７
゜以内に入るＰ＝８μ程度のピッチにおいてであると言
える。
合はＰ＝４μとなり従ってＰ＜４μでは本発明のランダ
ム性の効果は全く認められない事になる。Ｆ＝４、Ｋ＝
0.25で本発明の効果が現われ始めるのは２次回折光が７
゜以内に入るＰ＝８μ程度のピッチにおいてであると言
える。
焦点板の最適な拡散特性は厳密には撮影レンズの開放
Ｆ値で変化するが、はん用性を考えるとＦ値にして2.8
〜４程度の範囲に散乱光が分布するように設計する事が
多い。従って本発明の効果が現われる範囲としてはほぼ
Ｐ＞８μで場合のあり、この２倍程度以上のピッチＰ
15μで相当効果があると言う事ができる。ピッチの上限
に関しては上の議論からの制限は生じないが、通常の一
眼レフのファインダーにおいては焦点板上で30μ程度以
上になるとその構造が目に見えてくるので、マイクロレ
ンズのピッチはこれ以下である事が好ましい。
Ｆ値で変化するが、はん用性を考えるとＦ値にして2.8
〜４程度の範囲に散乱光が分布するように設計する事が
多い。従って本発明の効果が現われる範囲としてはほぼ
Ｐ＞８μで場合のあり、この２倍程度以上のピッチＰ
15μで相当効果があると言う事ができる。ピッチの上限
に関しては上の議論からの制限は生じないが、通常の一
眼レフのファインダーにおいては焦点板上で30μ程度以
上になるとその構造が目に見えてくるので、マイクロレ
ンズのピッチはこれ以下である事が好ましい。
次のこのような条件を有するマスク原板の作成方法に
ついて述べる。
ついて述べる。
マスク原板の作成法としては公知例として特開昭59−
208536記載のものがある。これにおいてはレンズパター
ンをステップアンドリピート法によって拡げて記録した
原板を作成しており、その場合のレチクル境界部の継ぎ
目が目立たないようにする為の手法が述べられている。
208536記載のものがある。これにおいてはレンズパター
ンをステップアンドリピート法によって拡げて記録した
原板を作成しており、その場合のレチクル境界部の継ぎ
目が目立たないようにする為の手法が述べられている。
即わちこの公知例ではパターンをランダムに発生させ
ているので、どうしてもレチクル境界部で円形開口パタ
ーンが切断されるといった問題が生じ、公知例で延べら
れているような対策が必要となっていた。しかしながら
本発明においては周期構造を前提とし、そのまわりでわ
ずかに開口部の中心をふらせているだけなので公知例の
ように複雑な配慮を行なう必要でなく、周期構造の場合
と全く同様の手順でパターンを拡げていくことが可能で
ある。
ているので、どうしてもレチクル境界部で円形開口パタ
ーンが切断されるといった問題が生じ、公知例で延べら
れているような対策が必要となっていた。しかしながら
本発明においては周期構造を前提とし、そのまわりでわ
ずかに開口部の中心をふらせているだけなので公知例の
ように複雑な配慮を行なう必要でなく、周期構造の場合
と全く同様の手順でパターンを拡げていくことが可能で
ある。
即わち第７図の周期構造の場合、Ｘ方向には４つＹ方
向には４つの開口部を並べているが、より一般的にＸ方
向にはImax個、Ｙ方向にはJmax個の開口部を式に従っ
て並べたとし、開口中心のピッチをP0とすると、ステッ
プアンドリピートの際に移動する量はＸ方向でP0×
Imax、Ｙ方向で となる。
向には４つの開口部を並べているが、より一般的にＸ方
向にはImax個、Ｙ方向にはJmax個の開口部を式に従っ
て並べたとし、開口中心のピッチをP0とすると、ステッ
プアンドリピートの際に移動する量はＸ方向でP0×
Imax、Ｙ方向で となる。
このようにすれば、第７図の点線で示した開口位置に
次の始まりが自然的に決定され、公知例のごとく境界の
心配をする必要がない。又本発明のように周期構造のわ
ずかのランダムさを導入した第１図の場合では、その前
提となった周期構造からきまるImax、Jmax、P0の値を用
いて、 Ｘ方向にはP0×Imax、 Ｙ方向には だけくり返し移動させれば自動的に目的のパターンの原
板が得られる。第１図の点線で示した円形開口はこのよ
うにして決定された次のステップの始まりの位置を示し
ている。
次の始まりが自然的に決定され、公知例のごとく境界の
心配をする必要がない。又本発明のように周期構造のわ
ずかのランダムさを導入した第１図の場合では、その前
提となった周期構造からきまるImax、Jmax、P0の値を用
いて、 Ｘ方向にはP0×Imax、 Ｙ方向には だけくり返し移動させれば自動的に目的のパターンの原
板が得られる。第１図の点線で示した円形開口はこのよ
うにして決定された次のステップの始まりの位置を示し
ている。
以上のように本発明の方法では周期構造を前提にその
まわりでわずかにバラツキを持たせているので、公知例
のごとくステップアイドリピートの際の継ぎ目に関して
特に配慮を必要としないというメリットがある。
まわりでわずかにバラツキを持たせているので、公知例
のごとくステップアイドリピートの際の継ぎ目に関して
特に配慮を必要としないというメリットがある。
そして基本となる周期構造としては正方格子状でもよ
いが、細密充填でありかつ等方性の高い第７図のごとき
六方格子状である事が好ましい。又開口部の直径は第７
図ではピッチP0の半分としたが、これ以外の値でもよ
い。
いが、細密充填でありかつ等方性の高い第７図のごとき
六方格子状である事が好ましい。又開口部の直径は第７
図ではピッチP0の半分としたが、これ以外の値でもよ
い。
以上では公知例と同様にレチクルパターンをステップ
アンドリーピト法によりくり返して、目的の原板を作成
する場合について述べたが、開口部が境界で切断される
等の根本的な欠陥がなくても、ステップアンドリピート
の際に間隔がわずかでもあいたり、つまったりすると、
こうして作成された原板上にはやはりそれがぼんやり認
知できる程度の模様が生じてしまう。これを無くす為に
はステップアンドリピートの量を非常に微妙に調整しな
ければならない。
アンドリーピト法によりくり返して、目的の原板を作成
する場合について述べたが、開口部が境界で切断される
等の根本的な欠陥がなくても、ステップアンドリピート
の際に間隔がわずかでもあいたり、つまったりすると、
こうして作成された原板上にはやはりそれがぼんやり認
知できる程度の模様が生じてしまう。これを無くす為に
はステップアンドリピートの量を非常に微妙に調整しな
ければならない。
この様な問題をなくす為にはエレクトロンビーム露光
により、一気にマット面全体に相当する面積（24mm×36
mm）に対して開口を描画してしまうのが最も好ましい。
実際エレクトロビーム露光では50mm×50mm以上の領域を
一気に描画する事が可能である。
により、一気にマット面全体に相当する面積（24mm×36
mm）に対して開口を描画してしまうのが最も好ましい。
実際エレクトロビーム露光では50mm×50mm以上の領域を
一気に描画する事が可能である。
又このような原板を用いて作成した焦点板又はその金
型あるいはその前段階の凸凹が形成された乳材面に、さ
らに蒸着法やメッキ法により微小な凸凹を付加し、これ
から金型をおこして焦点板を作ることで、さらに拡散性
が一様で、ボケ味の自然な焦点板を作ることもできる。
型あるいはその前段階の凸凹が形成された乳材面に、さ
らに蒸着法やメッキ法により微小な凸凹を付加し、これ
から金型をおこして焦点板を作ることで、さらに拡散性
が一様で、ボケ味の自然な焦点板を作ることもできる。
以上の説明ではランダム性を導入しやすいマスク露光
法を前提として、マイクロレンズ配置のランダム性の範
囲について述べたが、他のマット作成法による場合に対
してもこのことは適用可能である。即ち圧子によるマッ
ト母型上に前記ランダム性をもつ配置でマイクロレンズ
を形成し、この母型から公知の転写技術によりファイン
ダーマットを量産することもできる。従って上記ランダ
ム性の適用はマイクロレンズの形成法には依存しない。
法を前提として、マイクロレンズ配置のランダム性の範
囲について述べたが、他のマット作成法による場合に対
してもこのことは適用可能である。即ち圧子によるマッ
ト母型上に前記ランダム性をもつ配置でマイクロレンズ
を形成し、この母型から公知の転写技術によりファイン
ダーマットを量産することもできる。従って上記ランダ
ム性の適用はマイクロレンズの形成法には依存しない。
以上のように本発明によれば、焦点板上のマイクロレ
ンズの配置に関して、周期構造を前提にその近傍でわず
かにランダムさを持たせた配置をさせているので、絞り
込みによるザラツキ感の目立たない、かつボケ味の不自
然さの目立たない良好な特性の焦点板を得る事ができ
る。
ンズの配置に関して、周期構造を前提にその近傍でわず
かにランダムさを持たせた配置をさせているので、絞り
込みによるザラツキ感の目立たない、かつボケ味の不自
然さの目立たない良好な特性の焦点板を得る事ができ
る。
又本発明では周期構造を前提としているのでマスク原
板を作成する際に公知例で問題とされたレチクルの継ぎ
目に関する問題を生じないという効果もある。
板を作成する際に公知例で問題とされたレチクルの継ぎ
目に関する問題を生じないという効果もある。
第１図〜第５図は、本発明の実施例の焦点板の構造及び
構造方法を説明する為の説明図であり、 第１図は、第２図及び第３図においてΔ/P＝Ｋ（＝0.2
5）とした場合の焦点板のマスク原板を表す説明図を示
し、 第２図は、第７図のマスク原板の周期的開口部の中心座
標を表す説明図を示し、 第３図（ａ），（ｂ）は、第２図の中心座標を幅Δの領
域でバラツキをもたせた新しい中心座標を表す説明図を
示し、 第４図は、第１図のマスク原板により作られた焦点板に
よる回折像の回折強度分布を表す説明図を示し、 第５図は、第１図のマスク原板により作られた焦点板の
マット面の起伏を示す等高線図を示す。 第６図〜第10図は、本発明の基本となる焦点板の構造及
び製造方法を説明する為の説明図であり、 第６図（ａ）〜（ｃ）は、本発明の焦点板のマイクロレ
ンズの曲面を表す説明図を示し、 第７図は、本発明の焦点板のマスク原板を表す説明図を
示し、 第８図は、第７図のマスク原板により作られた焦点板の
マット面の起伏を示す等高線図を示し、 第９図は、本発明の焦点板の周期格子による回折像の説
明図を示し、 第10図は、第９図で示した回折像の回折強度分布を表す
説明図を示す。 第11図〜第15図は、従来の焦点板の構造及び製造方法を
説明する為の説明図を示す。
構造方法を説明する為の説明図であり、 第１図は、第２図及び第３図においてΔ/P＝Ｋ（＝0.2
5）とした場合の焦点板のマスク原板を表す説明図を示
し、 第２図は、第７図のマスク原板の周期的開口部の中心座
標を表す説明図を示し、 第３図（ａ），（ｂ）は、第２図の中心座標を幅Δの領
域でバラツキをもたせた新しい中心座標を表す説明図を
示し、 第４図は、第１図のマスク原板により作られた焦点板に
よる回折像の回折強度分布を表す説明図を示し、 第５図は、第１図のマスク原板により作られた焦点板の
マット面の起伏を示す等高線図を示す。 第６図〜第10図は、本発明の基本となる焦点板の構造及
び製造方法を説明する為の説明図であり、 第６図（ａ）〜（ｃ）は、本発明の焦点板のマイクロレ
ンズの曲面を表す説明図を示し、 第７図は、本発明の焦点板のマスク原板を表す説明図を
示し、 第８図は、第７図のマスク原板により作られた焦点板の
マット面の起伏を示す等高線図を示し、 第９図は、本発明の焦点板の周期格子による回折像の説
明図を示し、 第10図は、第９図で示した回折像の回折強度分布を表す
説明図を示す。 第11図〜第15図は、従来の焦点板の構造及び製造方法を
説明する為の説明図を示す。
Claims (6)
- 【請求項１】ほぼ同一形状のマイクロレンズ状曲面が２
次元的に配置されてなる拡散板において、 前記マイクロレンズの平均的ピッチＰが８μ＜Ｐ＜30μ
であり、 前記マイクロレンズの中心座標（X,Y）は、前記平均的
ピッチＰと整数の組（I,J）とから決まる次の周期的格
子点（Ｘ′,Y′） に対して、所定距離範囲内のバラツキをもって決定され
ており、 前記所定距離範囲は、0.1＜Ｋ＜0.4なる定数Ｋを用いて
周期的格子点を中心に幅Ｋ×Ｐの範囲に限界づけられる
ことを特徴とする焦点板。 - 【請求項２】前記所定距離範囲は、0.2＜Ｋ＜0.3なる定
数を用いて周期的格子点を中心に幅Ｋ×Ｐの範囲に限界
づけられることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の焦点板。 - 【請求項３】前記所定距離範囲内におけるバラツキは、 前記整数の組（I,J）に関してランダムであることを特
徴とする特許請求の範囲第（１）項の焦点板。 - 【請求項４】ピッチP0の周期構造に所定距離範囲内にバ
ラツキをもたせた濃淡分布を有するマスク原板を用い、
これを感光材料に近接させて露光するかあるいは縮小投
影露光するかにより、感光材料上に露光量に応じた平均
ピッチ８μ〜30μの凹凸を形成する焦点板の製造方法で
あり、 前記マスク原板の濃淡分布の構造は、 （ａ）濃度（又は淡部）の中心座量（X,Y）は、整数の
組（I,J）から決まる次の周期的格子点（Ｘ′（I,J）,
Y′（I,J）） 但し、Ｉ＝1,2,・・・IM;J＝1,2,・・・JM に対して所定距離範囲内のバラツキを持って形成され、 （ｂ）前記所定距離範囲は、0.1＜Ｋ＜0.5なる定数Ｋを
用いて幅にしてＫ×Ｐの範囲であり、 （ｃ）前記IM×JM個の基本格子を周期的に複数回繰り返
すことにより前記マスク原板の濃淡分布構造を形成する
ことを特徴とする焦点板の製造方法。 - 【請求項５】前記所定距離範囲は、0.2＜Ｋ＜0.3なる定
数を用いて周期的格子点を中心に幅Ｋ×Ｐの範囲に限界
づけられることを特徴とする特許請求の範囲第（３）項
記載の焦点板の製造方法。 - 【請求項６】前記所定距離範囲内におけるバラツキは、 前記整数の組（I,J）に関してランダムであることを特
徴とする特許請求の範囲第（４）項の焦点板の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5600587A JP2503485B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 焦点板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5600587A JP2503485B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 焦点板及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63221329A JPS63221329A (ja) | 1988-09-14 |
| JP2503485B2 true JP2503485B2 (ja) | 1996-06-05 |
Family
ID=13014941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5600587A Expired - Lifetime JP2503485B2 (ja) | 1987-03-11 | 1987-03-11 | 焦点板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2503485B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6836619B2 (en) | 2001-06-20 | 2004-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Microlens array, optical apparatus, single lens reflex camera and optical finder |
| US9696461B2 (en) | 2015-06-19 | 2017-07-04 | Yazaki Corporation | Lens array and image display device |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5119235A (en) * | 1989-12-21 | 1992-06-02 | Nikon Corporation | Focusing screen and method of manufacturing same |
| US5177637A (en) * | 1990-09-11 | 1993-01-05 | Nikon Corporation | Focusing screen including different height microlenses arranged in a cyclical pattern |
| US5733710A (en) * | 1991-12-03 | 1998-03-31 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a master die for a diffusion plate and diffusion plate manufactured by said method |
| US5965327A (en) | 1991-12-03 | 1999-10-12 | Asahi Kogaku Kogyo Kaisha | Method for manufacturing a master die for a diffusion plate and diffusion manufactured by said method |
| US6835535B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-12-28 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
| US7092165B2 (en) | 2000-07-31 | 2006-08-15 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
| US7033736B2 (en) | 2000-07-31 | 2006-04-25 | Corning Incorporated | Structured screens for controlled spreading of light |
| TWI526720B (zh) | 2013-06-21 | 2016-03-21 | 佳能股份有限公司 | 漫射板 |
| JP6221480B2 (ja) | 2013-08-07 | 2017-11-01 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および電子機器 |
| DE112015002502T5 (de) | 2014-05-27 | 2017-04-27 | Nalux Co., Ltd. | Mikrolinsensystem und optisches system, das dieses aufweist |
| JP6684994B2 (ja) | 2015-04-06 | 2020-04-22 | ナルックス株式会社 | 拡散素子、拡散素子用金型及び拡散素子の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-11 JP JP5600587A patent/JP2503485B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6836619B2 (en) | 2001-06-20 | 2004-12-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Microlens array, optical apparatus, single lens reflex camera and optical finder |
| US9696461B2 (en) | 2015-06-19 | 2017-07-04 | Yazaki Corporation | Lens array and image display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63221329A (ja) | 1988-09-14 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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